JPH0778926A - 樹脂封止型半導体装置 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【目的】ボンディングワイヤ長が長くなるとたるみ,曲
がりが発生し接触不良になる為、あるサイズ以下の半導
体素子は組立できない。又、半導体素子の小型化により
現れた狭パッドピッチの千鳥状のワイヤボンディングが
困難になって来る為、リレーボンディングと隣接ワイヤ
に高低差を設けることにより解決しボンディングワイヤ
の接触不良を防止し半導体素子の小型化に対応する。 【構成】半導体素子8を搭載したアイランド2の周囲に
セラミックスに導電メタライズした上層セラミックス4
と下層セラミックス5の二層の凸状のセラミック中継基
板を置きこのセラミック中継基板を中継地点として電極
パッド7とインナリード1を結線する。この時、電極パ
ッド7と中継地点までの金属ワイヤ3で隣接する金属ワ
イヤ3に高低差を設けることにより、長ワイヤ及び千鳥
状狭パッドピッチのワイヤボンディングが可能になる。
がりが発生し接触不良になる為、あるサイズ以下の半導
体素子は組立できない。又、半導体素子の小型化により
現れた狭パッドピッチの千鳥状のワイヤボンディングが
困難になって来る為、リレーボンディングと隣接ワイヤ
に高低差を設けることにより解決しボンディングワイヤ
の接触不良を防止し半導体素子の小型化に対応する。 【構成】半導体素子8を搭載したアイランド2の周囲に
セラミックスに導電メタライズした上層セラミックス4
と下層セラミックス5の二層の凸状のセラミック中継基
板を置きこのセラミック中継基板を中継地点として電極
パッド7とインナリード1を結線する。この時、電極パ
ッド7と中継地点までの金属ワイヤ3で隣接する金属ワ
イヤ3に高低差を設けることにより、長ワイヤ及び千鳥
状狭パッドピッチのワイヤボンディングが可能になる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は樹脂封止型半導体装置に
関し、特に中継基板使用によるワイヤ結線構造を有する
樹脂封止型半導体装置に関する。
関し、特に中継基板使用によるワイヤ結線構造を有する
樹脂封止型半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の樹脂封止型半導体装置は、図3に
示すように、リードフレームのアイランド2に半導体素
子8が搭載され、このアイランド2の外側にはインナリ
ード1が放射状に配置された構成になっている。半導体
素子8は、その電極パッド7が金属ワイヤ3によってイ
ンナーリード1の先端部付近と結線され、このとき金属
ワイヤ3の高さは全て同じ高さになっているという構成
を有している。
示すように、リードフレームのアイランド2に半導体素
子8が搭載され、このアイランド2の外側にはインナリ
ード1が放射状に配置された構成になっている。半導体
素子8は、その電極パッド7が金属ワイヤ3によってイ
ンナーリード1の先端部付近と結線され、このとき金属
ワイヤ3の高さは全て同じ高さになっているという構成
を有している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】この従来の樹脂封止型
半導体装置では、金属ワイヤが長過ぎるとたるみ不良,
曲がり不良が発生する為、長さの制約があり小さい半導
体素子を搭載できないという問題点があった。
半導体装置では、金属ワイヤが長過ぎるとたるみ不良,
曲がり不良が発生する為、長さの制約があり小さい半導
体素子を搭載できないという問題点があった。
【0004】又、半導体素子の小型化により電極パッド
間隔が狭くなり尚かつ千鳥状配置になることにより金属
ワイヤ結線が困難になるという問題点もあった。
間隔が狭くなり尚かつ千鳥状配置になることにより金属
ワイヤ結線が困難になるという問題点もあった。
【0005】本発明の目的は、金属ワイヤの結線が容易
で半導体素子の小型化に対応できる樹脂封止型半導体装
置を提供することにある。
で半導体素子の小型化に対応できる樹脂封止型半導体装
置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の樹脂封止型半導
体装置は、リードフレームのアイランドと、このアイラ
ンド上に搭載された半導体素子と、この半導体素子を囲
みそれぞれの表面に導電層が施された凸状の上層と下層
の二層構造のセラミック中継基板と、前記半導体素子の
隣接するパッドをそれぞれ互い違いに前記導電層の上層
と下層に接続し互いに高低差を有する金属ワイヤとを有
する。
体装置は、リードフレームのアイランドと、このアイラ
ンド上に搭載された半導体素子と、この半導体素子を囲
みそれぞれの表面に導電層が施された凸状の上層と下層
の二層構造のセラミック中継基板と、前記半導体素子の
隣接するパッドをそれぞれ互い違いに前記導電層の上層
と下層に接続し互いに高低差を有する金属ワイヤとを有
する。
【0007】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
て説明する。
【0008】図1(a),(b)は本発明の第1の実施
例の要部平面図とその断面図である。本発明の第1の実
施例は、図1(a),(b)に示すように、まず、リー
ドフレームのアイランド2に半導体素子8と上層セラミ
ックス4と下層セラミックス5によって構成されるセラ
ミック中継基板を搭載し千鳥状に配置された半導体素子
8の電極パッド7から上層セラミックス4,下層セラミ
ックス5のそれぞれのメタライズ部6に金属ワイヤ3で
結線する。この時、隣接する金属ワイヤ3の高さに高低
差を設け上層セラミックス4,下層セラミックス5の各
メタライズ部6に交互に結線する。次に、各セラミック
層のメタライズ部6とインナリード1とを金属ワイヤ3
で結線し半導体素子8をインナリード1に電気的に接続
する。
例の要部平面図とその断面図である。本発明の第1の実
施例は、図1(a),(b)に示すように、まず、リー
ドフレームのアイランド2に半導体素子8と上層セラミ
ックス4と下層セラミックス5によって構成されるセラ
ミック中継基板を搭載し千鳥状に配置された半導体素子
8の電極パッド7から上層セラミックス4,下層セラミ
ックス5のそれぞれのメタライズ部6に金属ワイヤ3で
結線する。この時、隣接する金属ワイヤ3の高さに高低
差を設け上層セラミックス4,下層セラミックス5の各
メタライズ部6に交互に結線する。次に、各セラミック
層のメタライズ部6とインナリード1とを金属ワイヤ3
で結線し半導体素子8をインナリード1に電気的に接続
する。
【0009】図2(a),(b)は本発明の第2の実施
例の要部平面図とその断面図である。本発明の第2の実
施例は、図2(a),(b)に示すように、まず、アイ
ランド2上に半導体素子8と上層セラミックス(VC
C)4,下層セラミックス(GND)5の組合されたセ
ラミック中継基板を搭載する。次に、半導体素子8の電
源ピン(VCC)用電極パッド7と上層セラミックス
(VCC)4を金属ワイヤ3で結線する。又、GNDピ
ン用電極パッド7と下層セラミックス(GND)5を金
属ワイヤ3で結線する。次に、半導体素子8のその他の
信号用電極パッド7をインナリード1の先端部へ直接金
属ワイヤ3で結線し半導体素子8をインナリード1に電
気的に接続する。
例の要部平面図とその断面図である。本発明の第2の実
施例は、図2(a),(b)に示すように、まず、アイ
ランド2上に半導体素子8と上層セラミックス(VC
C)4,下層セラミックス(GND)5の組合されたセ
ラミック中継基板を搭載する。次に、半導体素子8の電
源ピン(VCC)用電極パッド7と上層セラミックス
(VCC)4を金属ワイヤ3で結線する。又、GNDピ
ン用電極パッド7と下層セラミックス(GND)5を金
属ワイヤ3で結線する。次に、半導体素子8のその他の
信号用電極パッド7をインナリード1の先端部へ直接金
属ワイヤ3で結線し半導体素子8をインナリード1に電
気的に接続する。
【0010】この実施例による効果としては、各電位を
統合できる為、電源,GND信号によるノイズを防止す
ることができる固有の効果がある。
統合できる為、電源,GND信号によるノイズを防止す
ることができる固有の効果がある。
【0011】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、リードフ
レームのアイランド上に半導体素子を搭載してその周囲
上に上下二層構造で凸状になっているセラミック中継基
板を配置し、このセラミック中継基板を中継地点として
半導体素子の電極パッドとセラミック中継基板,セラミ
ック中継基板とインナリードを金属ワイヤで結線する。
この時、金属ワイヤに高低差を設けることにより電極パ
ッドピッチがある程度狭く、かつ千鳥状配置の半導体素
子の金属ワイヤ結線が可能になるので、半導体素子の小
型化に対応できるという効果がある。
レームのアイランド上に半導体素子を搭載してその周囲
上に上下二層構造で凸状になっているセラミック中継基
板を配置し、このセラミック中継基板を中継地点として
半導体素子の電極パッドとセラミック中継基板,セラミ
ック中継基板とインナリードを金属ワイヤで結線する。
この時、金属ワイヤに高低差を設けることにより電極パ
ッドピッチがある程度狭く、かつ千鳥状配置の半導体素
子の金属ワイヤ結線が可能になるので、半導体素子の小
型化に対応できるという効果がある。
【図1】(a),(b)は本発明の第1の実施例の要部
平面図とその断面図である。
平面図とその断面図である。
【図2】(a),(b)は本発明の第2の実施例の要部
平面図とその断面図である。
平面図とその断面図である。
【図3】(a),(b)は従来の樹脂封止型半導体装置
の一例の要部平面図とその断面図である。
の一例の要部平面図とその断面図である。
1 インナーリード 2 アイランド 3 金属ワイヤ 4 上層セラミックス 5 下層セラミックス 6 メタライズ部 7 電極パッド 8 半導体素子
Claims (1)
- 【請求項1】 リードフレームのアイランドと、このア
イランド上に搭載された半導体素子と、この半導体素子
を囲みそれぞれの表面に導電層が施された凸状の上層と
下層の二層構造のセラミック中継基板と、前記半導体素
子の隣接するパッドをそれぞれ互い違いに前記導電層の
上層と下層に接続し互いに高低差を有する金属ワイヤと
を有することを特徴とする樹脂封止型半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22158593A JPH0778926A (ja) | 1993-09-07 | 1993-09-07 | 樹脂封止型半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22158593A JPH0778926A (ja) | 1993-09-07 | 1993-09-07 | 樹脂封止型半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0778926A true JPH0778926A (ja) | 1995-03-20 |
Family
ID=16769056
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22158593A Pending JPH0778926A (ja) | 1993-09-07 | 1993-09-07 | 樹脂封止型半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0778926A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09129810A (ja) * | 1995-10-31 | 1997-05-16 | Nec Kyushu Ltd | セラミック複合リードフレーム及びそれを用いた半導体 装置 |
JPH09139458A (ja) * | 1995-11-14 | 1997-05-27 | Nec Corp | 半導体装置 |
US6303948B1 (en) | 1996-02-29 | 2001-10-16 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Pad layout and lead layout in semiconductor device |
DE10247075A1 (de) * | 2002-10-09 | 2004-04-22 | Micronas Gmbh | Trägereinrichtung für monolithisch integrierte Schaltungen |
KR100773842B1 (ko) * | 2005-07-20 | 2007-11-06 | 후지쯔 가부시끼가이샤 | 중계 기판 및 이 중계 기판을 구비한 반도체 장치 |
JP2013201238A (ja) * | 2012-03-23 | 2013-10-03 | Yamaha Corp | 半導体装置 |
-
1993
- 1993-09-07 JP JP22158593A patent/JPH0778926A/ja active Pending
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---|---|---|---|---|
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