JPH0772407A - 半導体レーザ光源装置 - Google Patents
半導体レーザ光源装置Info
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- JPH0772407A JPH0772407A JP21680093A JP21680093A JPH0772407A JP H0772407 A JPH0772407 A JP H0772407A JP 21680093 A JP21680093 A JP 21680093A JP 21680093 A JP21680093 A JP 21680093A JP H0772407 A JPH0772407 A JP H0772407A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 半導体レーザ光源装置に関し、装置の小型化
を実現することができるとともに、光源装置交換後の光
軸合わせ作業等を不用にして作業性を著しく向上させる
ことができることを目的とする。 【構成】 ２個の半導体レーザと該半導体レーザからの
光ビームを各々平行光束にするコリメータレンズと、こ
れらの光ビームを重ね合せて出射するビーム合成手段と
を有し、かつ２本の光ビームを同時に繰返して走査を行
う光走査装置の半導体レーザ光源装置において、該２個
の半導体レーザと該コリメータレンズと該ビーム合成手
段とは、実質的に一体的に形成してなるとともに、光走
査装置筐体に対して着脱自在に形成してなる。
を実現することができるとともに、光源装置交換後の光
軸合わせ作業等を不用にして作業性を著しく向上させる
ことができることを目的とする。 【構成】 ２個の半導体レーザと該半導体レーザからの
光ビームを各々平行光束にするコリメータレンズと、こ
れらの光ビームを重ね合せて出射するビーム合成手段と
を有し、かつ２本の光ビームを同時に繰返して走査を行
う光走査装置の半導体レーザ光源装置において、該２個
の半導体レーザと該コリメータレンズと該ビーム合成手
段とは、実質的に一体的に形成してなるとともに、光走
査装置筐体に対して着脱自在に形成してなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体レーザ光源装置
に係り、詳しくは、デジタル複写機及びレーザプリンタ
等に用いられる光走査装置の光源装置に適用することが
でき、特に、装置の小型化を実現することができるとと
もに、光源装置交換後の光軸合わせ作業等を不用にして
作業性を著しく向上させることができる半導体レーザ光
源装置に関する。
に係り、詳しくは、デジタル複写機及びレーザプリンタ
等に用いられる光走査装置の光源装置に適用することが
でき、特に、装置の小型化を実現することができるとと
もに、光源装置交換後の光軸合わせ作業等を不用にして
作業性を著しく向上させることができる半導体レーザ光
源装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の光走査装置では、感光体上を１本
の光ビームで走査するのが一般的であるが、一本の光ビ
ームで走査する場合よりも記録速度を速くするために複
数の光ビームを同時に走査させるように構成したマルチ
ビーム型の光走査装置が実用化されている。このような
マルチビーム型光走査装置においては、例えば特公昭６
０−５３８５７号公報や実開昭６１−１０６９１７号公
報に開示されているような、偏光ビームスプリッタを用
いた光ビームの合成が行われている。なお、前者の特公
昭６０−５３８５７号公報で報告されたものでは、２個
の半導体レーザと、これらの半導体レーザからの光を重
ね合せて出射する偏光ビームスプリッタと、これらの半
導体レーザのうち何れか一方と前記偏光ビームスプリッ
タとの間に配された偏光面を９０度回転させる手段とか
らなり、前記２個の半導体レーザを、前記偏光ビームス
プリッタで重ね合された夫々の光の断面形状の長手方向
が一致するように配置して構成した半導体レーザ光源装
置が記載されており、また、後者の実開昭６１−１０６
９１７号公報で報告されたものでは、複数の光源からの
ビームを走査面の副走査方向に間隔をおいて同時に集光
させて走査するマルチビーム走査装置において、複数本
のビームを入射させて１本の光軸近傍に合成するための
回転可能な合成手段と、上記走査方向に走査ビームを所
定距離隔てさせるべく上記合成手段を回転させる手段と
を有するように構成したマルチビーム走査装置の光学系
が記載されている。
の光ビームで走査するのが一般的であるが、一本の光ビ
ームで走査する場合よりも記録速度を速くするために複
数の光ビームを同時に走査させるように構成したマルチ
ビーム型の光走査装置が実用化されている。このような
マルチビーム型光走査装置においては、例えば特公昭６
０−５３８５７号公報や実開昭６１−１０６９１７号公
報に開示されているような、偏光ビームスプリッタを用
いた光ビームの合成が行われている。なお、前者の特公
昭６０−５３８５７号公報で報告されたものでは、２個
の半導体レーザと、これらの半導体レーザからの光を重
ね合せて出射する偏光ビームスプリッタと、これらの半
導体レーザのうち何れか一方と前記偏光ビームスプリッ
タとの間に配された偏光面を９０度回転させる手段とか
らなり、前記２個の半導体レーザを、前記偏光ビームス
プリッタで重ね合された夫々の光の断面形状の長手方向
が一致するように配置して構成した半導体レーザ光源装
置が記載されており、また、後者の実開昭６１−１０６
９１７号公報で報告されたものでは、複数の光源からの
ビームを走査面の副走査方向に間隔をおいて同時に集光
させて走査するマルチビーム走査装置において、複数本
のビームを入射させて１本の光軸近傍に合成するための
回転可能な合成手段と、上記走査方向に走査ビームを所
定距離隔てさせるべく上記合成手段を回転させる手段と
を有するように構成したマルチビーム走査装置の光学系
が記載されている。
【０００３】また、例えば実開昭６２−１０９１３４号
公報で報告された従来のマルチビーム型光走査装置で
は、半導体レーザとコリメータレンズとが一体的に支持
されるシングルビームの光源装置を複数個用い、光走査
装置筐体に配備した偏光ビームスプリッタに各々直行す
る方向から入射させてビーム合成を行っていた。
公報で報告された従来のマルチビーム型光走査装置で
は、半導体レーザとコリメータレンズとが一体的に支持
されるシングルビームの光源装置を複数個用い、光走査
装置筐体に配備した偏光ビームスプリッタに各々直行す
る方向から入射させてビーム合成を行っていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た実開昭６２−１０９１３４号公報で報告された従来の
マルチビーム型光走査装置では、半導体レーザとコリメ
ータレンズとが一体的に支持されるシングルビームの光
源装置を複数個用い、光走査装置筐体に配備した偏光ビ
ームスプリッタに各々直行する方向から入射させてビー
ム合成を行っていたため、該シングルビームの光源装置
を複数個用意しなければならない等装置が大型化すると
いう問題があった。また、半導体レーザ光源装置が各々
別の壁面に支持された状態で光軸を一致させる調整を行
っていたため、半導体レーザ光源装置の交換時には再
度、光軸を一致させる調整作業等を行わなければなら
ず、面倒で作業性が悪いという問題があった。
た実開昭６２−１０９１３４号公報で報告された従来の
マルチビーム型光走査装置では、半導体レーザとコリメ
ータレンズとが一体的に支持されるシングルビームの光
源装置を複数個用い、光走査装置筐体に配備した偏光ビ
ームスプリッタに各々直行する方向から入射させてビー
ム合成を行っていたため、該シングルビームの光源装置
を複数個用意しなければならない等装置が大型化すると
いう問題があった。また、半導体レーザ光源装置が各々
別の壁面に支持された状態で光軸を一致させる調整を行
っていたため、半導体レーザ光源装置の交換時には再
度、光軸を一致させる調整作業等を行わなければなら
ず、面倒で作業性が悪いという問題があった。
【０００５】そこで、本発明は、装置の小型化を実現す
ることができるとともに、光源装置交換後の光軸合わせ
作業等を不用にして作業性を著しく向上させることがで
きる光走査装置を提供することを目的としている。
ることができるとともに、光源装置交換後の光軸合わせ
作業等を不用にして作業性を著しく向上させることがで
きる光走査装置を提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
２個の半導体レーザと該半導体レーザからの光ビームを
各々平行光束にするコリメータレンズと、これらの光ビ
ームを重ね合せて出射するビーム合成手段とを有し、か
つ２本の光ビームを同時に繰返して走査を行う光走査装
置の半導体レーザ光源装置において、該２個の半導体レ
ーザと該コリメータレンズと該ビーム合成手段とは、実
質的に一体的に形成してなるとともに、光走査装置筐体
に対して着脱自在に形成してなることを特徴とするもの
である。
２個の半導体レーザと該半導体レーザからの光ビームを
各々平行光束にするコリメータレンズと、これらの光ビ
ームを重ね合せて出射するビーム合成手段とを有し、か
つ２本の光ビームを同時に繰返して走査を行う光走査装
置の半導体レーザ光源装置において、該２個の半導体レ
ーザと該コリメータレンズと該ビーム合成手段とは、実
質的に一体的に形成してなるとともに、光走査装置筐体
に対して着脱自在に形成してなることを特徴とするもの
である。
【０００７】請求項２記載の発明は、上記請求項１記載
の発明において、前記２個のコリメータレンズは、同一
基体上に配列してなるとともに、光ビームの出射方向が
一致するように配置してなることを特徴とするものであ
る。請求項３記載の発明は、上記請求項１，２記載の発
明において、前記ビーム合成手段は、何れか一方の光ビ
ームを基準となるもう一方の光軸方向に導光するプリズ
ム部と各々の光ビームを合成する偏光ビームスプリッタ
部とが一体的に形成してなるものであることを特徴とす
るものである。
の発明において、前記２個のコリメータレンズは、同一
基体上に配列してなるとともに、光ビームの出射方向が
一致するように配置してなることを特徴とするものであ
る。請求項３記載の発明は、上記請求項１，２記載の発
明において、前記ビーム合成手段は、何れか一方の光ビ
ームを基準となるもう一方の光軸方向に導光するプリズ
ム部と各々の光ビームを合成する偏光ビームスプリッタ
部とが一体的に形成してなるものであることを特徴とす
るものである。
【０００８】請求項４記載の発明は、上記請求項１乃至
３記載の発明において、前記コリメータレンズからの出
射ビームを整形するアパーチャを各々設けるとともに、
該２個のアパーチャは、一体的に形成してなることを特
徴とするものである。請求項５記載の発明は、上記請求
項１乃至４記載の発明において、前記半導体レーザと前
記ビーム合成手段との相対位置を変換することにより、
各ビームの副走査方向の光軸を一致させる光軸調整手段
を一体的に形成してなることを特徴とするものである。
３記載の発明において、前記コリメータレンズからの出
射ビームを整形するアパーチャを各々設けるとともに、
該２個のアパーチャは、一体的に形成してなることを特
徴とするものである。請求項５記載の発明は、上記請求
項１乃至４記載の発明において、前記半導体レーザと前
記ビーム合成手段との相対位置を変換することにより、
各ビームの副走査方向の光軸を一致させる光軸調整手段
を一体的に形成してなることを特徴とするものである。
【０００９】請求項６記載の発明は、上記請求項２乃至
５記載の発明において、前記２個の半導体レーザは、主
走査方向に所定距離隔てて配列してなることを特徴とす
るものである。
５記載の発明において、前記２個の半導体レーザは、主
走査方向に所定距離隔てて配列してなることを特徴とす
るものである。
【００１０】
【作用】請求項１記載の発明では、２個の半導体レーザ
と該半導体レーザからの光ビームを各々平行光束にする
コリメータレンズと、これらの光ビームを重ね合せて出
射するビーム合成手段とを有し、かつ２本の光ビームを
同時に繰返して走査を行う光走査装置の半導体レーザ光
源装置において、該２個の半導体レーザと該コリメータ
レンズと該ビーム合成手段とは、実質的に一体的に形成
してなるとともに、光走査装置筐体に対して着脱自在に
形成してなるように構成する。このため、複数の半導体
レーザとコリメータレンズと各ビームを合成する合成手
段とを一体的に支持することができるとともに、半導体
レーザ光源装置として各ビームの配置関係を適宜決定す
ることができるので、装置の小型化を実現することがで
きるとともに、光源装置交換後の光軸合せ作業を不用に
して作業性を著しく向上させることができる。
と該半導体レーザからの光ビームを各々平行光束にする
コリメータレンズと、これらの光ビームを重ね合せて出
射するビーム合成手段とを有し、かつ２本の光ビームを
同時に繰返して走査を行う光走査装置の半導体レーザ光
源装置において、該２個の半導体レーザと該コリメータ
レンズと該ビーム合成手段とは、実質的に一体的に形成
してなるとともに、光走査装置筐体に対して着脱自在に
形成してなるように構成する。このため、複数の半導体
レーザとコリメータレンズと各ビームを合成する合成手
段とを一体的に支持することができるとともに、半導体
レーザ光源装置として各ビームの配置関係を適宜決定す
ることができるので、装置の小型化を実現することがで
きるとともに、光源装置交換後の光軸合せ作業を不用に
して作業性を著しく向上させることができる。
【００１１】請求項２記載の発明では、上記請求項１記
載の発明において、該２個のコリメータレンズを同一基
体上に配列してなるとともに、光ビームの出射方向を一
致するように配置してなるように構成する。このため、
コリメータレンズを同一基体上に出射方向と一致させて
支持することができるので、各半導体レーザの相対位置
を維持し易くすることができるとともに、同一方向での
調整固定で済ませることができ、この結果、組立効率が
良好で、経時的にも安定した性能を得ることができる。
載の発明において、該２個のコリメータレンズを同一基
体上に配列してなるとともに、光ビームの出射方向を一
致するように配置してなるように構成する。このため、
コリメータレンズを同一基体上に出射方向と一致させて
支持することができるので、各半導体レーザの相対位置
を維持し易くすることができるとともに、同一方向での
調整固定で済ませることができ、この結果、組立効率が
良好で、経時的にも安定した性能を得ることができる。
【００１２】請求項３記載の発明では、上記請求項１，
２記載の発明において、前記ビーム合成手段を、何れか
一方の光ビームを基準となるもう一方の光軸方向に導光
するプリズム部と各々の光ビームを合成する偏光ビーム
スプリッタ部とが一体的に形成してなるもので構成す
る。このため、ビーム合成手段を一部材により構成する
ことができるので、各ビームの光軸ずれを生じ難くする
ことができ、経時的に安定した性能を得ることができ
る。
２記載の発明において、前記ビーム合成手段を、何れか
一方の光ビームを基準となるもう一方の光軸方向に導光
するプリズム部と各々の光ビームを合成する偏光ビーム
スプリッタ部とが一体的に形成してなるもので構成す
る。このため、ビーム合成手段を一部材により構成する
ことができるので、各ビームの光軸ずれを生じ難くする
ことができ、経時的に安定した性能を得ることができ
る。
【００１３】請求項４記載の発明では、上記請求項１乃
至３記載の発明において、前記コリメータレンズからの
出射ビームを整形するアパーチャを各々設けるととも
に、該２個のアパーチャを、一体的に形成してなるよう
に構成する。このため、ビーム整形手段を一部材により
構成することができるので、各ビームの相対位置を維持
することができ、経時的に安定した性能を得ることがで
きる。
至３記載の発明において、前記コリメータレンズからの
出射ビームを整形するアパーチャを各々設けるととも
に、該２個のアパーチャを、一体的に形成してなるよう
に構成する。このため、ビーム整形手段を一部材により
構成することができるので、各ビームの相対位置を維持
することができ、経時的に安定した性能を得ることがで
きる。
【００１４】請求項５記載の発明では、上記請求項１乃
至４記載の発明において、前記半導体レーザと前記ビー
ム合成手段との相対位置を変換することにより、各ビー
ムの副走査方向の光軸を一致させる光軸調整手段を一体
的に形成してなるように構成する。このため、半導体レ
ーザ光源装置として光軸を一致させる光軸調整手段を一
体的に具備して構成することができるので、光走査装置
への取り付け後の調整を不用にすることができ、作業性
を著しく向上させることができる。
至４記載の発明において、前記半導体レーザと前記ビー
ム合成手段との相対位置を変換することにより、各ビー
ムの副走査方向の光軸を一致させる光軸調整手段を一体
的に形成してなるように構成する。このため、半導体レ
ーザ光源装置として光軸を一致させる光軸調整手段を一
体的に具備して構成することができるので、光走査装置
への取り付け後の調整を不用にすることができ、作業性
を著しく向上させることができる。
【００１５】請求項６記載の発明では、上記請求項１乃
至５記載の発明において、前記２個の半導体レーザを主
走査方向に所定距離隔てて配列してなるように構成す
る。このため、主走査方向に所定距離隔ててビーム位置
を適宜設定することができるので、光走査時に書き込み
開始のタイミング信号を検出する際、一つの検出器にて
時分割でビーム検出することができる。
至５記載の発明において、前記２個の半導体レーザを主
走査方向に所定距離隔てて配列してなるように構成す
る。このため、主走査方向に所定距離隔ててビーム位置
を適宜設定することができるので、光走査時に書き込み
開始のタイミング信号を検出する際、一つの検出器にて
時分割でビーム検出することができる。
【００１６】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。まず、光走査装置の半導体レーザ光源装置におけ
るビーム合成の原理を説明する。図１は本発明の一実施
例に則した半導体レーザ光源装置におけるビーム合成の
原理を示す図である。図１に示す如く、２個の半導体レ
ーザは、同一平面上に配列されて半導体レーザ10、半導
体レーザ11共にＰ−ｎ接合面に垂直な方向をＸ 0 ，Ｘ1
軸方向に一致させて、コリメータレンズ12，13により各
々平行光束14，15に変換され、アパーチャ16，17により
所定のビーム径に整形される。これらの光束の内平行光
束15は、１／２波長板18により偏光面を９０度回転させ
てビーム合成手段19に入射され、斜面19ａで内面反射
し、偏光ビームスプリッタ面19ｂで反射して、基準とな
る平行光束14の光軸近傍に合成される。この際、主走査
方向に所定距離ａ隔てて出射されるように半導体レーザ
をＹ方向にずらして配置している。
する。まず、光走査装置の半導体レーザ光源装置におけ
るビーム合成の原理を説明する。図１は本発明の一実施
例に則した半導体レーザ光源装置におけるビーム合成の
原理を示す図である。図１に示す如く、２個の半導体レ
ーザは、同一平面上に配列されて半導体レーザ10、半導
体レーザ11共にＰ−ｎ接合面に垂直な方向をＸ 0 ，Ｘ1
軸方向に一致させて、コリメータレンズ12，13により各
々平行光束14，15に変換され、アパーチャ16，17により
所定のビーム径に整形される。これらの光束の内平行光
束15は、１／２波長板18により偏光面を９０度回転させ
てビーム合成手段19に入射され、斜面19ａで内面反射
し、偏光ビームスプリッタ面19ｂで反射して、基準とな
る平行光束14の光軸近傍に合成される。この際、主走査
方向に所定距離ａ隔てて出射されるように半導体レーザ
をＹ方向にずらして配置している。
【００１７】なお、本実施例では、１／２波長板18を用
いて構成する場合を説明したが、本発明はこれのみに限
定されるものではなく、半導体レーザ11のＰ−ｎ接合面
に垂直な方向をＹ1 方向として構成してもよく、この場
合も同様に９０度ずれた偏光面を得ることができる。次
に、図１の具体例を説明する。図２は本発明の一実施例
に則した半導体レーザ光源装置の構成を示す図である。
図２に示す如く、半導体レーザ21，22は各々支持体23，
24に固定され、基体25の裏面に後述するコリメータレン
ズ26，27との光軸を一致させてネジ32，33及びネジ34，
35を用いて接合される。コリメータレンズ26，27は、鏡
筒に収められ、基体25の嵌合穴25ａ，25ｂに各々半導体
レーザ21，22との位置を合せて、係合、接着される。ア
パーチャ28は、半導体レーザ21用の整形スリット28ａと
２用のスリット28ｂとが一体的に形成され、１／２波長
板がスリット28ｂ上に保持され、フランジ部29の裏面よ
りビーム合成手段30を挟むように固定される。このよう
に構成した支持体23，24、基体25、フランジ部29及び半
導体レーザの駆動回路が形成される基板31を一体的に結
合することにより、半導体レーザ光源装置は構成され、
フランジ部29の円筒状突起29ａを光走査装置の後述する
図３に示す筐体36に係合し、ネジを穴29ｂ，29ｃ、25
ｃ，25ｄを貫通して固定される。
いて構成する場合を説明したが、本発明はこれのみに限
定されるものではなく、半導体レーザ11のＰ−ｎ接合面
に垂直な方向をＹ1 方向として構成してもよく、この場
合も同様に９０度ずれた偏光面を得ることができる。次
に、図１の具体例を説明する。図２は本発明の一実施例
に則した半導体レーザ光源装置の構成を示す図である。
図２に示す如く、半導体レーザ21，22は各々支持体23，
24に固定され、基体25の裏面に後述するコリメータレン
ズ26，27との光軸を一致させてネジ32，33及びネジ34，
35を用いて接合される。コリメータレンズ26，27は、鏡
筒に収められ、基体25の嵌合穴25ａ，25ｂに各々半導体
レーザ21，22との位置を合せて、係合、接着される。ア
パーチャ28は、半導体レーザ21用の整形スリット28ａと
２用のスリット28ｂとが一体的に形成され、１／２波長
板がスリット28ｂ上に保持され、フランジ部29の裏面よ
りビーム合成手段30を挟むように固定される。このよう
に構成した支持体23，24、基体25、フランジ部29及び半
導体レーザの駆動回路が形成される基板31を一体的に結
合することにより、半導体レーザ光源装置は構成され、
フランジ部29の円筒状突起29ａを光走査装置の後述する
図３に示す筐体36に係合し、ネジを穴29ｂ，29ｃ、25
ｃ，25ｄを貫通して固定される。
【００１８】次に、図２の半導体レーザ光源装置の副走
査方向での動作を説明する。図３は図２の半導体レーザ
光源装置の副走査方向（矢印17）での構成を示す断面図
である。図３において、図２と同一符号は同一又は相当
部分を示す。図３に示す如く、上記ビーム合成手段30
は、ネジ38により副走査方向での光軸39を一致させて接
着固定しており、半導体レーザ光源装置自体を光軸回り
に回転調整して筐体36に固定することにより、各ビーム
の走査ビーム間隔の設定を行っている。
査方向での動作を説明する。図３は図２の半導体レーザ
光源装置の副走査方向（矢印17）での構成を示す断面図
である。図３において、図２と同一符号は同一又は相当
部分を示す。図３に示す如く、上記ビーム合成手段30
は、ネジ38により副走査方向での光軸39を一致させて接
着固定しており、半導体レーザ光源装置自体を光軸回り
に回転調整して筐体36に固定することにより、各ビーム
の走査ビーム間隔の設定を行っている。
【００１９】このように本実施例（請求項１）では、２
個の半導体レーザとコリメータレンズとビーム合成手段
とを、実質的に一体的に形成してなるとともに、光走査
装置筐体に対して着脱自在に形成してなるように構成し
ている。このため、複数の半導体レーザとコリメータレ
ンズと各ビームを合成する合成手段とを一体的に支持す
ることができるとともに、半導体レーザ光源装置として
各ビームの配置関係を適宜決定することができるので、
装置の小型化を実現することができるとともに、光源装
置交換後の光軸合せ作業を不用にして作業性を著しく向
上させることができる。
個の半導体レーザとコリメータレンズとビーム合成手段
とを、実質的に一体的に形成してなるとともに、光走査
装置筐体に対して着脱自在に形成してなるように構成し
ている。このため、複数の半導体レーザとコリメータレ
ンズと各ビームを合成する合成手段とを一体的に支持す
ることができるとともに、半導体レーザ光源装置として
各ビームの配置関係を適宜決定することができるので、
装置の小型化を実現することができるとともに、光源装
置交換後の光軸合せ作業を不用にして作業性を著しく向
上させることができる。
【００２０】また、本実施例（請求項２）では、２個の
コリメータレンズを同一基体上に配列してなるととも
に、光ビームの出射方向を一致するように配置してなる
ように構成する。このため、コリメータレンズを同一基
体上に出射方向と一致させて支持することができるの
で、各半導体レーザの相対位置を維持し易くすることが
できるとともに、同一方向での調整固定で済ませること
ができ、この結果、組立効率が良好で、経時的にも安定
した性能を得ることができる。
コリメータレンズを同一基体上に配列してなるととも
に、光ビームの出射方向を一致するように配置してなる
ように構成する。このため、コリメータレンズを同一基
体上に出射方向と一致させて支持することができるの
で、各半導体レーザの相対位置を維持し易くすることが
できるとともに、同一方向での調整固定で済ませること
ができ、この結果、組立効率が良好で、経時的にも安定
した性能を得ることができる。
【００２１】また、本実施例（請求項３）では、ビーム
合成手段を、何れか一方の光ビームを基準となるもう一
方の光軸方向に導光するプリズム部と各々の光ビームを
合成する偏光ビームスプリッタ部とが一体的に形成して
なるもので構成している。このため、ビーム合成手段を
一部材により構成することができるので、各ビームの光
軸ずれを生じ難くすることができ、経時的に安定した性
能を得ることができる。
合成手段を、何れか一方の光ビームを基準となるもう一
方の光軸方向に導光するプリズム部と各々の光ビームを
合成する偏光ビームスプリッタ部とが一体的に形成して
なるもので構成している。このため、ビーム合成手段を
一部材により構成することができるので、各ビームの光
軸ずれを生じ難くすることができ、経時的に安定した性
能を得ることができる。
【００２２】また、本実施例（請求項４）では、コリメ
ータレンズからの出射ビームを整形するアパーチャを各
々設けるとともに、２個のアパーチャを、一体的に形成
してなるように構成している。このため、ビーム整形手
段を一部材により構成することができるので、各ビーム
の相対位置を維持することができ、経時的に安定した性
能を得ることができる。
ータレンズからの出射ビームを整形するアパーチャを各
々設けるとともに、２個のアパーチャを、一体的に形成
してなるように構成している。このため、ビーム整形手
段を一部材により構成することができるので、各ビーム
の相対位置を維持することができ、経時的に安定した性
能を得ることができる。
【００２３】また、本実施例（請求項５）では、半導体
レーザとビーム合成手段との相対位置を変換することに
より、各ビームの副走査方向の光軸を一致させる光軸調
整手段を一体的に形成してなるように構成している。こ
のため、半導体レーザ光源装置として光軸を一致させる
光軸調整手段を一体的に具備して構成することができる
ので、光走査装置への取り付け後の調整を不用にするこ
とができ、作業性を著しく向上させることができる。
レーザとビーム合成手段との相対位置を変換することに
より、各ビームの副走査方向の光軸を一致させる光軸調
整手段を一体的に形成してなるように構成している。こ
のため、半導体レーザ光源装置として光軸を一致させる
光軸調整手段を一体的に具備して構成することができる
ので、光走査装置への取り付け後の調整を不用にするこ
とができ、作業性を著しく向上させることができる。
【００２４】また、本実施例（請求項６）では、２個の
半導体レーザを主走査方向に所定距離隔てて配列してな
るように構成している。このため、主走査方向に所定距
離隔ててビーム位置を適宜設定することができるので、
光走査時に書き込み開始のタイミング信号を検出する
際、一つの検出器にて時分割でビーム検出することがで
きる。
半導体レーザを主走査方向に所定距離隔てて配列してな
るように構成している。このため、主走査方向に所定距
離隔ててビーム位置を適宜設定することができるので、
光走査時に書き込み開始のタイミング信号を検出する
際、一つの検出器にて時分割でビーム検出することがで
きる。
【００２５】
【発明の効果】本発明によれば、装置の小型化を実現す
ることができるとともに、光源装置交換後の光軸合わせ
作業等を不用にして作業性を著しく向上させることがで
きるという効果がある。
ることができるとともに、光源装置交換後の光軸合わせ
作業等を不用にして作業性を著しく向上させることがで
きるという効果がある。
【図１】本発明の一実施例に則した半導体レーザ光源装
置におけるビーム合成の原理を示す図である。
置におけるビーム合成の原理を示す図である。
【図２】本発明の一実施例に則した半導体レーザ光源装
置の構成を示す斜視図である。
置の構成を示す斜視図である。
【図３】本発明の一実施例に則した半導体レーザ光源装
置の構成を示す断面図である。
置の構成を示す断面図である。
10，11，21，22 半導体レーザ 12，13，26，27 コリメータレンズ 14，15 平行光束 16，17，28 アパーチャ 18 １／２波長板 19，30 ビーム合成手段 19ａ 斜面 19ｂ 偏光ビームスプリッタ面 23，24 支持体 25 基体 25ａ，25ｂ，25ｃ，25ｄ，29ｂ，29ｃ 穴 28ａ，28ｂ スリット 29 フランジ部 29ａ 突起 31 基板 32，33，34，35，38 ネジ 36 筐体 37 矢印 39 光軸
Claims (6)
- 【請求項１】２個の半導体レーザと該半導体レーザから
の光ビームを各々平行光束にするコリメータレンズと、
これらの光ビームを重ね合せて出射するビーム合成手段
とを有し、かつ２本の光ビームを同時に繰返して走査を
行う光走査装置の半導体レーザ光源装置において、該２
個の半導体レーザと該コリメータレンズと該ビーム合成
手段とは、実質的に一体的に形成してなるとともに、光
走査装置筐体に対して着脱自在に形成してなることを特
徴とする半導体レーザ光源装置。 - 【請求項２】前記２個のコリメータレンズは、同一基体
上に配列してなるとともに、光ビームの出射方向が一致
するように配置してなることを特徴とする請求項１記載
の半導体レーザ光源装置。 - 【請求項３】前記ビーム合成手段は、何れか一方の光ビ
ームを基準となるもう一方の光軸方向に導光するプリズ
ム部と各々の光ビームを合成する偏光ビームスプリッタ
部とが一体的に形成してなるものであることを特徴とす
る請求項１，２記載の半導体レーザ光源装置。 - 【請求項４】前記コリメータレンズからの出射ビームを
整形するアパーチャを各々設けるとともに、該２個のア
パーチャは、一体的に形成してなることを特徴とする請
求項１乃至３記載の半導体レーザ光源装置。 - 【請求項５】前記半導体レーザと前記ビーム合成手段と
の相対位置を変換することにより、各ビームの副走査方
向の光軸を一致させる光軸調整手段を一体的に形成して
なることを特徴とする請求項１乃至４記載の半導体レー
ザ光源装置。 - 【請求項６】前記２個の半導体レーザは、主走査方向に
所定距離隔てて配列してなることを特徴とする請求項１
乃至５記載の半導体レーザ光源装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21680093A JP2937700B2 (ja) | 1993-09-01 | 1993-09-01 | 光源装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21680093A JP2937700B2 (ja) | 1993-09-01 | 1993-09-01 | 光源装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0772407A true JPH0772407A (ja) | 1995-03-17 |
| JP2937700B2 JP2937700B2 (ja) | 1999-08-23 |
Family
ID=16694086
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21680093A Expired - Lifetime JP2937700B2 (ja) | 1993-09-01 | 1993-09-01 | 光源装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2937700B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19621138A1 (de) * | 1995-05-24 | 1996-11-28 | Ricoh Kk | Optische Scanvorrichtung bzw. Abtastvorrichtung |
| US7321378B2 (en) | 2004-02-03 | 2008-01-22 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Optical multi-beam scanning device and image forming apparatus |
| JP2008546001A (ja) * | 2005-05-20 | 2008-12-18 | シンボル テクノロジーズ， インコーポレイテッド | 特に画像投影装置に対し画質を改善する装置と方法 |
| US7643191B2 (en) | 2006-10-18 | 2010-01-05 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanner and image forming apparatus |
| DE19815620B4 (de) * | 1997-04-07 | 2012-12-06 | Ricoh Co., Ltd. | Lichtquellenvorrichtung |
-
1993
- 1993-09-01 JP JP21680093A patent/JP2937700B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19621138A1 (de) * | 1995-05-24 | 1996-11-28 | Ricoh Kk | Optische Scanvorrichtung bzw. Abtastvorrichtung |
| DE19621138C2 (de) * | 1995-05-24 | 2000-11-16 | Ricoh Kk | Mehrstrahlscanvorrichtung |
| DE19815620B4 (de) * | 1997-04-07 | 2012-12-06 | Ricoh Co., Ltd. | Lichtquellenvorrichtung |
| US7321378B2 (en) | 2004-02-03 | 2008-01-22 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Optical multi-beam scanning device and image forming apparatus |
| JP2008546001A (ja) * | 2005-05-20 | 2008-12-18 | シンボル テクノロジーズ， インコーポレイテッド | 特に画像投影装置に対し画質を改善する装置と方法 |
| US7643191B2 (en) | 2006-10-18 | 2010-01-05 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanner and image forming apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2937700B2 (ja) | 1999-08-23 |
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