JPH0772407A - 半導体レーザ光源装置 - Google Patents

半導体レーザ光源装置

Info

Publication number
JPH0772407A
JPH0772407A JP21680093A JP21680093A JPH0772407A JP H0772407 A JPH0772407 A JP H0772407A JP 21680093 A JP21680093 A JP 21680093A JP 21680093 A JP21680093 A JP 21680093A JP H0772407 A JPH0772407 A JP H0772407A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor laser
light source
source device
beams
laser light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP21680093A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2937700B2 (ja
Inventor
Tomohiro Nakajima
智宏 中島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=16694086&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JPH0772407(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP21680093A priority Critical patent/JP2937700B2/ja
Publication of JPH0772407A publication Critical patent/JPH0772407A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2937700B2 publication Critical patent/JP2937700B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Laser Beam Printer (AREA)
  • Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 半導体レーザ光源装置に関し、装置の小型化
を実現することができるとともに、光源装置交換後の光
軸合わせ作業等を不用にして作業性を著しく向上させる
ことができることを目的とする。 【構成】 2個の半導体レーザと該半導体レーザからの
光ビームを各々平行光束にするコリメータレンズと、こ
れらの光ビームを重ね合せて出射するビーム合成手段と
を有し、かつ2本の光ビームを同時に繰返して走査を行
う光走査装置の半導体レーザ光源装置において、該2個
の半導体レーザと該コリメータレンズと該ビーム合成手
段とは、実質的に一体的に形成してなるとともに、光走
査装置筐体に対して着脱自在に形成してなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体レーザ光源装置
に係り、詳しくは、デジタル複写機及びレーザプリンタ
等に用いられる光走査装置の光源装置に適用することが
でき、特に、装置の小型化を実現することができるとと
もに、光源装置交換後の光軸合わせ作業等を不用にして
作業性を著しく向上させることができる半導体レーザ光
源装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の光走査装置では、感光体上を1本
の光ビームで走査するのが一般的であるが、一本の光ビ
ームで走査する場合よりも記録速度を速くするために複
数の光ビームを同時に走査させるように構成したマルチ
ビーム型の光走査装置が実用化されている。このような
マルチビーム型光走査装置においては、例えば特公昭6
0−53857号公報や実開昭61−106917号公
報に開示されているような、偏光ビームスプリッタを用
いた光ビームの合成が行われている。なお、前者の特公
昭60−53857号公報で報告されたものでは、2個
の半導体レーザと、これらの半導体レーザからの光を重
ね合せて出射する偏光ビームスプリッタと、これらの半
導体レーザのうち何れか一方と前記偏光ビームスプリッ
タとの間に配された偏光面を90度回転させる手段とか
らなり、前記2個の半導体レーザを、前記偏光ビームス
プリッタで重ね合された夫々の光の断面形状の長手方向
が一致するように配置して構成した半導体レーザ光源装
置が記載されており、また、後者の実開昭61−106
917号公報で報告されたものでは、複数の光源からの
ビームを走査面の副走査方向に間隔をおいて同時に集光
させて走査するマルチビーム走査装置において、複数本
のビームを入射させて1本の光軸近傍に合成するための
回転可能な合成手段と、上記走査方向に走査ビームを所
定距離隔てさせるべく上記合成手段を回転させる手段と
を有するように構成したマルチビーム走査装置の光学系
が記載されている。
【0003】また、例えば実開昭62−109134号
公報で報告された従来のマルチビーム型光走査装置で
は、半導体レーザとコリメータレンズとが一体的に支持
されるシングルビームの光源装置を複数個用い、光走査
装置筐体に配備した偏光ビームスプリッタに各々直行す
る方向から入射させてビーム合成を行っていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た実開昭62−109134号公報で報告された従来の
マルチビーム型光走査装置では、半導体レーザとコリメ
ータレンズとが一体的に支持されるシングルビームの光
源装置を複数個用い、光走査装置筐体に配備した偏光ビ
ームスプリッタに各々直行する方向から入射させてビー
ム合成を行っていたため、該シングルビームの光源装置
を複数個用意しなければならない等装置が大型化すると
いう問題があった。また、半導体レーザ光源装置が各々
別の壁面に支持された状態で光軸を一致させる調整を行
っていたため、半導体レーザ光源装置の交換時には再
度、光軸を一致させる調整作業等を行わなければなら
ず、面倒で作業性が悪いという問題があった。
【0005】そこで、本発明は、装置の小型化を実現す
ることができるとともに、光源装置交換後の光軸合わせ
作業等を不用にして作業性を著しく向上させることがで
きる光走査装置を提供することを目的としている。
【0006】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
2個の半導体レーザと該半導体レーザからの光ビームを
各々平行光束にするコリメータレンズと、これらの光ビ
ームを重ね合せて出射するビーム合成手段とを有し、か
つ2本の光ビームを同時に繰返して走査を行う光走査装
置の半導体レーザ光源装置において、該2個の半導体レ
ーザと該コリメータレンズと該ビーム合成手段とは、実
質的に一体的に形成してなるとともに、光走査装置筐体
に対して着脱自在に形成してなることを特徴とするもの
である。
【0007】請求項2記載の発明は、上記請求項1記載
の発明において、前記2個のコリメータレンズは、同一
基体上に配列してなるとともに、光ビームの出射方向が
一致するように配置してなることを特徴とするものであ
る。請求項3記載の発明は、上記請求項1,2記載の発
明において、前記ビーム合成手段は、何れか一方の光ビ
ームを基準となるもう一方の光軸方向に導光するプリズ
ム部と各々の光ビームを合成する偏光ビームスプリッタ
部とが一体的に形成してなるものであることを特徴とす
るものである。
【0008】請求項4記載の発明は、上記請求項1乃至
3記載の発明において、前記コリメータレンズからの出
射ビームを整形するアパーチャを各々設けるとともに、
該2個のアパーチャは、一体的に形成してなることを特
徴とするものである。請求項5記載の発明は、上記請求
項1乃至4記載の発明において、前記半導体レーザと前
記ビーム合成手段との相対位置を変換することにより、
各ビームの副走査方向の光軸を一致させる光軸調整手段
を一体的に形成してなることを特徴とするものである。
【0009】請求項6記載の発明は、上記請求項2乃至
5記載の発明において、前記2個の半導体レーザは、主
走査方向に所定距離隔てて配列してなることを特徴とす
るものである。
【0010】
【作用】請求項1記載の発明では、2個の半導体レーザ
と該半導体レーザからの光ビームを各々平行光束にする
コリメータレンズと、これらの光ビームを重ね合せて出
射するビーム合成手段とを有し、かつ2本の光ビームを
同時に繰返して走査を行う光走査装置の半導体レーザ光
源装置において、該2個の半導体レーザと該コリメータ
レンズと該ビーム合成手段とは、実質的に一体的に形成
してなるとともに、光走査装置筐体に対して着脱自在に
形成してなるように構成する。このため、複数の半導体
レーザとコリメータレンズと各ビームを合成する合成手
段とを一体的に支持することができるとともに、半導体
レーザ光源装置として各ビームの配置関係を適宜決定す
ることができるので、装置の小型化を実現することがで
きるとともに、光源装置交換後の光軸合せ作業を不用に
して作業性を著しく向上させることができる。
【0011】請求項2記載の発明では、上記請求項1記
載の発明において、該2個のコリメータレンズを同一基
体上に配列してなるとともに、光ビームの出射方向を一
致するように配置してなるように構成する。このため、
コリメータレンズを同一基体上に出射方向と一致させて
支持することができるので、各半導体レーザの相対位置
を維持し易くすることができるとともに、同一方向での
調整固定で済ませることができ、この結果、組立効率が
良好で、経時的にも安定した性能を得ることができる。
【0012】請求項3記載の発明では、上記請求項1,
2記載の発明において、前記ビーム合成手段を、何れか
一方の光ビームを基準となるもう一方の光軸方向に導光
するプリズム部と各々の光ビームを合成する偏光ビーム
スプリッタ部とが一体的に形成してなるもので構成す
る。このため、ビーム合成手段を一部材により構成する
ことができるので、各ビームの光軸ずれを生じ難くする
ことができ、経時的に安定した性能を得ることができ
る。
【0013】請求項4記載の発明では、上記請求項1乃
至3記載の発明において、前記コリメータレンズからの
出射ビームを整形するアパーチャを各々設けるととも
に、該2個のアパーチャを、一体的に形成してなるよう
に構成する。このため、ビーム整形手段を一部材により
構成することができるので、各ビームの相対位置を維持
することができ、経時的に安定した性能を得ることがで
きる。
【0014】請求項5記載の発明では、上記請求項1乃
至4記載の発明において、前記半導体レーザと前記ビー
ム合成手段との相対位置を変換することにより、各ビー
ムの副走査方向の光軸を一致させる光軸調整手段を一体
的に形成してなるように構成する。このため、半導体レ
ーザ光源装置として光軸を一致させる光軸調整手段を一
体的に具備して構成することができるので、光走査装置
への取り付け後の調整を不用にすることができ、作業性
を著しく向上させることができる。
【0015】請求項6記載の発明では、上記請求項1乃
至5記載の発明において、前記2個の半導体レーザを主
走査方向に所定距離隔てて配列してなるように構成す
る。このため、主走査方向に所定距離隔ててビーム位置
を適宜設定することができるので、光走査時に書き込み
開始のタイミング信号を検出する際、一つの検出器にて
時分割でビーム検出することができる。
【0016】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。まず、光走査装置の半導体レーザ光源装置におけ
るビーム合成の原理を説明する。図1は本発明の一実施
例に則した半導体レーザ光源装置におけるビーム合成の
原理を示す図である。図1に示す如く、2個の半導体レ
ーザは、同一平面上に配列されて半導体レーザ10、半導
体レーザ11共にP−n接合面に垂直な方向をX 0 ,X1
軸方向に一致させて、コリメータレンズ12,13により各
々平行光束14,15に変換され、アパーチャ16,17により
所定のビーム径に整形される。これらの光束の内平行光
束15は、1/2波長板18により偏光面を90度回転させ
てビーム合成手段19に入射され、斜面19aで内面反射
し、偏光ビームスプリッタ面19bで反射して、基準とな
る平行光束14の光軸近傍に合成される。この際、主走査
方向に所定距離a隔てて出射されるように半導体レーザ
をY方向にずらして配置している。
【0017】なお、本実施例では、1/2波長板18を用
いて構成する場合を説明したが、本発明はこれのみに限
定されるものではなく、半導体レーザ11のP−n接合面
に垂直な方向をY1 方向として構成してもよく、この場
合も同様に90度ずれた偏光面を得ることができる。次
に、図1の具体例を説明する。図2は本発明の一実施例
に則した半導体レーザ光源装置の構成を示す図である。
図2に示す如く、半導体レーザ21,22は各々支持体23,
24に固定され、基体25の裏面に後述するコリメータレン
ズ26,27との光軸を一致させてネジ32,33及びネジ34,
35を用いて接合される。コリメータレンズ26,27は、鏡
筒に収められ、基体25の嵌合穴25a,25bに各々半導体
レーザ21,22との位置を合せて、係合、接着される。ア
パーチャ28は、半導体レーザ21用の整形スリット28aと
2用のスリット28bとが一体的に形成され、1/2波長
板がスリット28b上に保持され、フランジ部29の裏面よ
りビーム合成手段30を挟むように固定される。このよう
に構成した支持体23,24、基体25、フランジ部29及び半
導体レーザの駆動回路が形成される基板31を一体的に結
合することにより、半導体レーザ光源装置は構成され、
フランジ部29の円筒状突起29aを光走査装置の後述する
図3に示す筐体36に係合し、ネジを穴29b,29c、25
c,25dを貫通して固定される。
【0018】次に、図2の半導体レーザ光源装置の副走
査方向での動作を説明する。図3は図2の半導体レーザ
光源装置の副走査方向(矢印17)での構成を示す断面図
である。図3において、図2と同一符号は同一又は相当
部分を示す。図3に示す如く、上記ビーム合成手段30
は、ネジ38により副走査方向での光軸39を一致させて接
着固定しており、半導体レーザ光源装置自体を光軸回り
に回転調整して筐体36に固定することにより、各ビーム
の走査ビーム間隔の設定を行っている。
【0019】このように本実施例(請求項1)では、2
個の半導体レーザとコリメータレンズとビーム合成手段
とを、実質的に一体的に形成してなるとともに、光走査
装置筐体に対して着脱自在に形成してなるように構成し
ている。このため、複数の半導体レーザとコリメータレ
ンズと各ビームを合成する合成手段とを一体的に支持す
ることができるとともに、半導体レーザ光源装置として
各ビームの配置関係を適宜決定することができるので、
装置の小型化を実現することができるとともに、光源装
置交換後の光軸合せ作業を不用にして作業性を著しく向
上させることができる。
【0020】また、本実施例(請求項2)では、2個の
コリメータレンズを同一基体上に配列してなるととも
に、光ビームの出射方向を一致するように配置してなる
ように構成する。このため、コリメータレンズを同一基
体上に出射方向と一致させて支持することができるの
で、各半導体レーザの相対位置を維持し易くすることが
できるとともに、同一方向での調整固定で済ませること
ができ、この結果、組立効率が良好で、経時的にも安定
した性能を得ることができる。
【0021】また、本実施例(請求項3)では、ビーム
合成手段を、何れか一方の光ビームを基準となるもう一
方の光軸方向に導光するプリズム部と各々の光ビームを
合成する偏光ビームスプリッタ部とが一体的に形成して
なるもので構成している。このため、ビーム合成手段を
一部材により構成することができるので、各ビームの光
軸ずれを生じ難くすることができ、経時的に安定した性
能を得ることができる。
【0022】また、本実施例(請求項4)では、コリメ
ータレンズからの出射ビームを整形するアパーチャを各
々設けるとともに、2個のアパーチャを、一体的に形成
してなるように構成している。このため、ビーム整形手
段を一部材により構成することができるので、各ビーム
の相対位置を維持することができ、経時的に安定した性
能を得ることができる。
【0023】また、本実施例(請求項5)では、半導体
レーザとビーム合成手段との相対位置を変換することに
より、各ビームの副走査方向の光軸を一致させる光軸調
整手段を一体的に形成してなるように構成している。こ
のため、半導体レーザ光源装置として光軸を一致させる
光軸調整手段を一体的に具備して構成することができる
ので、光走査装置への取り付け後の調整を不用にするこ
とができ、作業性を著しく向上させることができる。
【0024】また、本実施例(請求項6)では、2個の
半導体レーザを主走査方向に所定距離隔てて配列してな
るように構成している。このため、主走査方向に所定距
離隔ててビーム位置を適宜設定することができるので、
光走査時に書き込み開始のタイミング信号を検出する
際、一つの検出器にて時分割でビーム検出することがで
きる。
【0025】
【発明の効果】本発明によれば、装置の小型化を実現す
ることができるとともに、光源装置交換後の光軸合わせ
作業等を不用にして作業性を著しく向上させることがで
きるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例に則した半導体レーザ光源装
置におけるビーム合成の原理を示す図である。
【図2】本発明の一実施例に則した半導体レーザ光源装
置の構成を示す斜視図である。
【図3】本発明の一実施例に則した半導体レーザ光源装
置の構成を示す断面図である。
【符号の説明】
10,11,21,22 半導体レーザ 12,13,26,27 コリメータレンズ 14,15 平行光束 16,17,28 アパーチャ 18 1/2波長板 19,30 ビーム合成手段 19a 斜面 19b 偏光ビームスプリッタ面 23,24 支持体 25 基体 25a,25b,25c,25d,29b,29c 穴 28a,28b スリット 29 フランジ部 29a 突起 31 基板 32,33,34,35,38 ネジ 36 筐体 37 矢印 39 光軸

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】2個の半導体レーザと該半導体レーザから
    の光ビームを各々平行光束にするコリメータレンズと、
    これらの光ビームを重ね合せて出射するビーム合成手段
    とを有し、かつ2本の光ビームを同時に繰返して走査を
    行う光走査装置の半導体レーザ光源装置において、該2
    個の半導体レーザと該コリメータレンズと該ビーム合成
    手段とは、実質的に一体的に形成してなるとともに、光
    走査装置筐体に対して着脱自在に形成してなることを特
    徴とする半導体レーザ光源装置。
  2. 【請求項2】前記2個のコリメータレンズは、同一基体
    上に配列してなるとともに、光ビームの出射方向が一致
    するように配置してなることを特徴とする請求項1記載
    の半導体レーザ光源装置。
  3. 【請求項3】前記ビーム合成手段は、何れか一方の光ビ
    ームを基準となるもう一方の光軸方向に導光するプリズ
    ム部と各々の光ビームを合成する偏光ビームスプリッタ
    部とが一体的に形成してなるものであることを特徴とす
    る請求項1,2記載の半導体レーザ光源装置。
  4. 【請求項4】前記コリメータレンズからの出射ビームを
    整形するアパーチャを各々設けるとともに、該2個のア
    パーチャは、一体的に形成してなることを特徴とする請
    求項1乃至3記載の半導体レーザ光源装置。
  5. 【請求項5】前記半導体レーザと前記ビーム合成手段と
    の相対位置を変換することにより、各ビームの副走査方
    向の光軸を一致させる光軸調整手段を一体的に形成して
    なることを特徴とする請求項1乃至4記載の半導体レー
    ザ光源装置。
  6. 【請求項6】前記2個の半導体レーザは、主走査方向に
    所定距離隔てて配列してなることを特徴とする請求項1
    乃至5記載の半導体レーザ光源装置。
JP21680093A 1993-09-01 1993-09-01 光源装置 Expired - Lifetime JP2937700B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21680093A JP2937700B2 (ja) 1993-09-01 1993-09-01 光源装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21680093A JP2937700B2 (ja) 1993-09-01 1993-09-01 光源装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0772407A true JPH0772407A (ja) 1995-03-17
JP2937700B2 JP2937700B2 (ja) 1999-08-23

Family

ID=16694086

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21680093A Expired - Lifetime JP2937700B2 (ja) 1993-09-01 1993-09-01 光源装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2937700B2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19621138A1 (de) * 1995-05-24 1996-11-28 Ricoh Kk Optische Scanvorrichtung bzw. Abtastvorrichtung
US7321378B2 (en) 2004-02-03 2008-01-22 Kabushiki Kaisha Toshiba Optical multi-beam scanning device and image forming apparatus
JP2008546001A (ja) * 2005-05-20 2008-12-18 シンボル テクノロジーズ, インコーポレイテッド 特に画像投影装置に対し画質を改善する装置と方法
US7643191B2 (en) 2006-10-18 2010-01-05 Ricoh Company, Ltd. Optical scanner and image forming apparatus
DE19815620B4 (de) * 1997-04-07 2012-12-06 Ricoh Co., Ltd. Lichtquellenvorrichtung

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19621138A1 (de) * 1995-05-24 1996-11-28 Ricoh Kk Optische Scanvorrichtung bzw. Abtastvorrichtung
DE19621138C2 (de) * 1995-05-24 2000-11-16 Ricoh Kk Mehrstrahlscanvorrichtung
DE19815620B4 (de) * 1997-04-07 2012-12-06 Ricoh Co., Ltd. Lichtquellenvorrichtung
US7321378B2 (en) 2004-02-03 2008-01-22 Kabushiki Kaisha Toshiba Optical multi-beam scanning device and image forming apparatus
JP2008546001A (ja) * 2005-05-20 2008-12-18 シンボル テクノロジーズ, インコーポレイテッド 特に画像投影装置に対し画質を改善する装置と方法
US7643191B2 (en) 2006-10-18 2010-01-05 Ricoh Company, Ltd. Optical scanner and image forming apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP2937700B2 (ja) 1999-08-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6181363B1 (en) Light-source device of a multi-beam scanning apparatus
JPH1184283A (ja) マルチビーム走査装置及び光源装置
JP2000105347A (ja) マルチビ―ム光源装置、マルチビ―ム走査装置および画像形成装置
JPH0772407A (ja) 半導体レーザ光源装置
JPH1123988A (ja) マルチビーム光源装置
JP2005115999A (ja) 光ピックアップ装置
JP2004258173A (ja) 光学走査装置
JPH10214016A (ja) 光源装置及び光ビーム走査光学装置
JP3648388B2 (ja) マルチビーム走査装置およびその光源ユニット
JP4157647B2 (ja) マルチビーム走査装置及びその光源装置
JP2004341292A (ja) レーザ走査装置
JPH11242170A (ja) マルチビーム光偏向走査装置
JP3520151B2 (ja) マルチビーム走査装置
JP3441577B2 (ja) マルチビーム走査装置
JP3547595B2 (ja) マルチビーム走査装置およびマルチビーム走査装置の光源装置および光源ユニット
JPS63316819A (ja) 光ビ−ム走査装置
JP2007037075A (ja) スキャン装置の光学読込ヘッド
JP2001174731A (ja) マルチビーム光源装置及びマルチビーム走査装置
JP2000039574A (ja) マルチビーム光走査装置の光源装置
JP2001042238A (ja) マルチビーム走査装置
JPH10142547A (ja) 光走査装置
JP3689746B2 (ja) ビーム合成装置、マルチビーム光源装置及びマルチビーム走査装置
JP3650263B2 (ja) マルチビーム光源装置、光走査装置、デジタル複写機、及びレーザプリンタ
JPH11271653A (ja) マルチビーム光走査装置
JP2000292725A (ja) 光源装置

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080611

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090611

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090611

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 11

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100611

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110611

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 12

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110611

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120611

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130611

Year of fee payment: 14