JP2001042238A - マルチビーム走査装置 - Google Patents
マルチビーム走査装置Info
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- JP2001042238A JP2001042238A JP11215377A JP21537799A JP2001042238A JP 2001042238 A JP2001042238 A JP 2001042238A JP 11215377 A JP11215377 A JP 11215377A JP 21537799 A JP21537799 A JP 21537799A JP 2001042238 A JP2001042238 A JP 2001042238A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 複数の光ビームの副走査方向のビームピッチ
の微調整する場合に、常に平行光にして収差を防止し、
半導体レーザ及びコリメートレンズが高い取り付け精度
が要求されることなく安価に構成し、外部振動による位
置ずれを防止する。 【解決手段】 ビーム合成素子７はベース１１に固定さ
れ、ベース１１はＺ方向に配置された少なくとも２本の
調整ネジ８ａ、８ｂにより副走査方向に移動可能に、か
つＸＺ面に対して傾動可能に支持されるとともに、圧縮
バネ９により副走査方向に付勢されている。２本の調整
ネジ８ａ、８ｂを同じ距離だけ移動することにより、ビ
ーム合成素子７を透過、反射した２つのビームの副走査
方向の間隔（ビームピッチ）ｄを調整し、また、２本の
調整ネジ８ａ、８ｂを異なる距離だけ移動することによ
り、ビーム合成素子７を透過、反射した２つのビームの
角度θを調整する。
の微調整する場合に、常に平行光にして収差を防止し、
半導体レーザ及びコリメートレンズが高い取り付け精度
が要求されることなく安価に構成し、外部振動による位
置ずれを防止する。 【解決手段】 ビーム合成素子７はベース１１に固定さ
れ、ベース１１はＺ方向に配置された少なくとも２本の
調整ネジ８ａ、８ｂにより副走査方向に移動可能に、か
つＸＺ面に対して傾動可能に支持されるとともに、圧縮
バネ９により副走査方向に付勢されている。２本の調整
ネジ８ａ、８ｂを同じ距離だけ移動することにより、ビ
ーム合成素子７を透過、反射した２つのビームの副走査
方向の間隔（ビームピッチ）ｄを調整し、また、２本の
調整ネジ８ａ、８ｂを異なる距離だけ移動することによ
り、ビーム合成素子７を透過、反射した２つのビームの
角度θを調整する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、副走査方向に隣接
する平行な複数の光ビームにより記録媒体上を同時に主
走査方向に走査するマルチビーム走査装置に関し、特に
複数の光ビームの副走査方向の間隔（ビームピッチ）の
微調整機構に関する。
する平行な複数の光ビームにより記録媒体上を同時に主
走査方向に走査するマルチビーム走査装置に関し、特に
複数の光ビームの副走査方向の間隔（ビームピッチ）の
微調整機構に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、レーザプリンタなどにおける走査
光学装置は、画質の高密度化・高速化に伴い、感光体ド
ラムなどの記録媒体に対する書き込み速度の高速化が要
求されている。この要求を満たす方法としては、回転多
面鏡（ポリゴンスキャナ）の回転速度を高速化する方法
が一般的であるが、この方法では、モータの耐久性や回
転軸の軸受機構が問題となり、記録速度に限界がある。
光学装置は、画質の高密度化・高速化に伴い、感光体ド
ラムなどの記録媒体に対する書き込み速度の高速化が要
求されている。この要求を満たす方法としては、回転多
面鏡（ポリゴンスキャナ）の回転速度を高速化する方法
が一般的であるが、この方法では、モータの耐久性や回
転軸の軸受機構が問題となり、記録速度に限界がある。
【０００３】そこで、副走査方向に平行な複数の光ビー
ムを同時に平行に走査する方法が知られ、この方法とし
て、複数個の半導体レーザからの各光束をビームスプリ
ッタなどのビーム合成素子により合成する光源方式が提
案されている。しかしながら、この光源方式では、装置
フレームに対して光源部を取り付ける際の取り付け誤差
や光学素子の加工誤差などにより、所望の副走査方向の
ビームピッチを得ることができないので、その調整が必
須である。この場合、所望のビームピッチを得るために
は、光ビームの距離間隔を精密に調整する必要があり、
さらに、この走査位置が外部の環境変化に伴って変動す
るので、発光部の配列方向の角度制御を精密に行う必要
があり、そのためには高精度の調整機構が不可欠であ
る。
ムを同時に平行に走査する方法が知られ、この方法とし
て、複数個の半導体レーザからの各光束をビームスプリ
ッタなどのビーム合成素子により合成する光源方式が提
案されている。しかしながら、この光源方式では、装置
フレームに対して光源部を取り付ける際の取り付け誤差
や光学素子の加工誤差などにより、所望の副走査方向の
ビームピッチを得ることができないので、その調整が必
須である。この場合、所望のビームピッチを得るために
は、光ビームの距離間隔を精密に調整する必要があり、
さらに、この走査位置が外部の環境変化に伴って変動す
るので、発光部の配列方向の角度制御を精密に行う必要
があり、そのためには高精度の調整機構が不可欠であ
る。
【０００４】この種の従来例としては、（１）特開平９
−１３１９２０号公報、（２）特開平９−４３５２３号
公報、（３）特開平１０−１１５８９９号公報が提案さ
れている。上記（１）特開平９−１３１９２０号公報に
は、２組の半導体レーザ及びコリメートレンズを各光軸
が直交するように配置して、一方に対して主走査方向調
整用のプリズムセットを設けるとともに他方に対して副
走査方向調整用のプリズムセットを設け、各プリズムセ
ットにより調整された２ビームをビーム合成プリズムに
より合成する機構が提案されている。
−１３１９２０号公報、（２）特開平９−４３５２３号
公報、（３）特開平１０−１１５８９９号公報が提案さ
れている。上記（１）特開平９−１３１９２０号公報に
は、２組の半導体レーザ及びコリメートレンズを各光軸
が直交するように配置して、一方に対して主走査方向調
整用のプリズムセットを設けるとともに他方に対して副
走査方向調整用のプリズムセットを設け、各プリズムセ
ットにより調整された２ビームをビーム合成プリズムに
より合成する機構が提案されている。
【０００５】上記（２）特開平９−４３５２３号公報に
は、各光軸が平行になるように配置された２組の半導体
レーザ及びコリメートレンズと、この各光軸の間隔が小
さくなるように一方を反射して合成する１つのビーム合
成プリズムを一体化した光源部を光軸に対して傾ける機
構が提案されている。上記（３）特開平１０−１１５８
９９号公報には、各光軸が平行になるように配置された
２組の半導体レーザ及びコリメートレンズを固定し、こ
の各光軸の間隔が小さくなるように一方を反射して合成
する１つのビーム合成プリズムのみをカムにより光軸に
対して傾ける機構が提案されている。
は、各光軸が平行になるように配置された２組の半導体
レーザ及びコリメートレンズと、この各光軸の間隔が小
さくなるように一方を反射して合成する１つのビーム合
成プリズムを一体化した光源部を光軸に対して傾ける機
構が提案されている。上記（３）特開平１０−１１５８
９９号公報には、各光軸が平行になるように配置された
２組の半導体レーザ及びコリメートレンズを固定し、こ
の各光軸の間隔が小さくなるように一方を反射して合成
する１つのビーム合成プリズムのみをカムにより光軸に
対して傾ける機構が提案されている。
【０００６】また、他の従来例として、（４）特公平８
−１２３３５号公報、（５）特開平１０−９０６１３号
公報、（６）特開平７−１８１４１０号公報、（７）特
開平７−３５９９３号公報などが提案されている。上記
（４）特公平８−１２３３５号公報の第１２図には、直
交する２群のビームの内の１群を偏光ビームスプリッタ
（ビーム合成器）の方向に反射する反射ミラーを、プッ
シュプル・ソレノイドなどの往復移動可能なアクチュエ
ータにより半ピッチ分だけ往復移動させる機構が提案さ
れている。
−１２３３５号公報、（５）特開平１０−９０６１３号
公報、（６）特開平７−１８１４１０号公報、（７）特
開平７−３５９９３号公報などが提案されている。上記
（４）特公平８−１２３３５号公報の第１２図には、直
交する２群のビームの内の１群を偏光ビームスプリッタ
（ビーム合成器）の方向に反射する反射ミラーを、プッ
シュプル・ソレノイドなどの往復移動可能なアクチュエ
ータにより半ピッチ分だけ往復移動させる機構が提案さ
れている。
【０００７】上記（５）特開平１０−９０６１３号公報
には、上記（１）と同様に２組の半導体レーザ及びコリ
メートレンズを各光軸が直交するように配置して２つの
コリメートレンズを独立して光軸に対して傾ける機構が
提案されている。上記（６）特開平７−１８１４１０号
公報には、上記（４）と同様に直交する２つのビームの
内の１つを偏光ビームスプリッタ（ビーム合成器）の方
向に反射するミラーを光軸に対して傾ける機構が提案さ
れている。上記（７）特開平７−３５９９３号公報に
は、上記（３）と同様に直交する２群のビームの内の１
群を平行光に合成する偏光ビームスプリッタ（ビーム合
成器）をマイクロメータによりＹ方向のみにスライド調
整する機構が提案されている。
には、上記（１）と同様に２組の半導体レーザ及びコリ
メートレンズを各光軸が直交するように配置して２つの
コリメートレンズを独立して光軸に対して傾ける機構が
提案されている。上記（６）特開平７−１８１４１０号
公報には、上記（４）と同様に直交する２つのビームの
内の１つを偏光ビームスプリッタ（ビーム合成器）の方
向に反射するミラーを光軸に対して傾ける機構が提案さ
れている。上記（７）特開平７−３５９９３号公報に
は、上記（３）と同様に直交する２群のビームの内の１
群を平行光に合成する偏光ビームスプリッタ（ビーム合
成器）をマイクロメータによりＹ方向のみにスライド調
整する機構が提案されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記
（１）（５）では、主走査方向調整用と副走査方向調整
用の各プリズムセットによりそれぞれ各方向を調整する
ので、部品点数が増加して調整機構が複雑になり、ま
た、調整が面倒になるという問題点がある。さらに、副
走査方向を調整するために一方のビームの方向のみを傾
けるので、２つのビームが平行光にならずに理想光軸の
中心と外れた光路を形成し、このため収差が大きくなる
という問題点がある。また、上記（４）（６）のように
反射ミラーを傾けると、同様に平行光にならずに収差が
大きくなる。
（１）（５）では、主走査方向調整用と副走査方向調整
用の各プリズムセットによりそれぞれ各方向を調整する
ので、部品点数が増加して調整機構が複雑になり、ま
た、調整が面倒になるという問題点がある。さらに、副
走査方向を調整するために一方のビームの方向のみを傾
けるので、２つのビームが平行光にならずに理想光軸の
中心と外れた光路を形成し、このため収差が大きくなる
という問題点がある。また、上記（４）（６）のように
反射ミラーを傾けると、同様に平行光にならずに収差が
大きくなる。
【０００９】上記（２）では、２組の半導体レーザ及び
コリメートレンズと１つのビーム合成プリズムを一体化
した光源部を傾けるので、常に平行光となり収差が大き
くならないが、光源部とポリゴンミラーなどの書き込み
ユニットとの取り付け精度を高くする必要があり、この
ためコストアップとなる。また、各ビーム毎に設けられ
るアパーチャやコリメートレンズなども一体化して回転
する必要があるので光源部が大型化し、このため回転時
に主走査方向のビーム位置がずれるという問題点があ
る。
コリメートレンズと１つのビーム合成プリズムを一体化
した光源部を傾けるので、常に平行光となり収差が大き
くならないが、光源部とポリゴンミラーなどの書き込み
ユニットとの取り付け精度を高くする必要があり、この
ためコストアップとなる。また、各ビーム毎に設けられ
るアパーチャやコリメートレンズなども一体化して回転
する必要があるので光源部が大型化し、このため回転時
に主走査方向のビーム位置がずれるという問題点があ
る。
【００１０】上記（３）では、２組の平行な光軸の間隔
が小さくなるように一方を反射して合成するビーム合成
プリズムのみを傾け、また、上記（７）では、直交する
２群のビームの内の１群を平行光に合成する偏光ビーム
スプリッタ（ビーム合成器）をマイクロメータによりＹ
方向のみにスライド調整するので、上記（１）（２）の
問題は解決することができるが、半導体レーザ及びコリ
メートレンズが傾いている場合には調整手段がなく、こ
のため、半導体レーザ及びコリメートレンズは、高い取
り付け精度が要求され、このためコストアップとなる。
が小さくなるように一方を反射して合成するビーム合成
プリズムのみを傾け、また、上記（７）では、直交する
２群のビームの内の１群を平行光に合成する偏光ビーム
スプリッタ（ビーム合成器）をマイクロメータによりＹ
方向のみにスライド調整するので、上記（１）（２）の
問題は解決することができるが、半導体レーザ及びコリ
メートレンズが傾いている場合には調整手段がなく、こ
のため、半導体レーザ及びコリメートレンズは、高い取
り付け精度が要求され、このためコストアップとなる。
【００１１】さらに、光源部が書き込みユニットのポリ
ゴンモータやプリンタ等のモータから発生する振動によ
り、調整機構がその影響を受けて振動し、このためライ
ン間隔が一定にならず、特にハーフトーン画像を印字す
る際に画像の濃度ムラが発生して画質が大きく低下す
る。
ゴンモータやプリンタ等のモータから発生する振動によ
り、調整機構がその影響を受けて振動し、このためライ
ン間隔が一定にならず、特にハーフトーン画像を印字す
る際に画像の濃度ムラが発生して画質が大きく低下す
る。
【００１２】本発明は上記従来例の問題点に鑑み、複数
の光ビームの副走査方向のビームピッチの微調整する場
合に、常に平行光にして収差を防止することができ、ま
た、半導体レーザ及びコリメートレンズが高い取り付け
精度が要求されることなく安価に構成することができ、
さらに外部振動による位置ずれを防止することができる
マルチビーム走査装置を提供することを目的とする。
の光ビームの副走査方向のビームピッチの微調整する場
合に、常に平行光にして収差を防止することができ、ま
た、半導体レーザ及びコリメートレンズが高い取り付け
精度が要求されることなく安価に構成することができ、
さらに外部振動による位置ずれを防止することができる
マルチビーム走査装置を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、複数の半導体レーザと、前記半導体レー
ザの各出射ビームをそれぞれ平行化する複数のコリメー
トレンズとを備え、前記複数の半導体レーザ及びコリメ
ートレンズの各光軸が直交するように配置されたマルチ
ビーム走査装置において、前記複数の半導体レーザ及び
コリメートレンズの各光軸が直交する位置に配置されて
各光軸が平行になるように各ビームを合成するビーム合
成素子と、前記ビーム合成素子により合成される複数の
ビームの間隔を調整する方向と前記複数のビームの角度
を調整する方向に前記ビーム合成素子を調整する調整ネ
ジと、前記調整ネジがビーム間隔を調整する方向に前記
ビーム合成素子を付勢する付勢部材とを備えた構成とし
た。
に、本発明は、複数の半導体レーザと、前記半導体レー
ザの各出射ビームをそれぞれ平行化する複数のコリメー
トレンズとを備え、前記複数の半導体レーザ及びコリメ
ートレンズの各光軸が直交するように配置されたマルチ
ビーム走査装置において、前記複数の半導体レーザ及び
コリメートレンズの各光軸が直交する位置に配置されて
各光軸が平行になるように各ビームを合成するビーム合
成素子と、前記ビーム合成素子により合成される複数の
ビームの間隔を調整する方向と前記複数のビームの角度
を調整する方向に前記ビーム合成素子を調整する調整ネ
ジと、前記調整ネジがビーム間隔を調整する方向に前記
ビーム合成素子を付勢する付勢部材とを備えた構成とし
た。
【００１４】この場合、少なくとも２つの調整ネジがビ
ーム角度を調整する方向に配列され、前記付勢部材は外
乱の振動数と異なる固有振動数を有する圧縮バネから構
成するとよい。
ーム角度を調整する方向に配列され、前記付勢部材は外
乱の振動数と異なる固有振動数を有する圧縮バネから構
成するとよい。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図１は本発明に係るマルチビーム
走査装置の一実施形態を示す構成図、図２は図１のビー
ム合成素子のビームピッチ調整時を示す説明図、図３は
図１のビーム合成素子のビーム傾き調整時を示す説明図
である。
施の形態を説明する。図１は本発明に係るマルチビーム
走査装置の一実施形態を示す構成図、図２は図１のビー
ム合成素子のビームピッチ調整時を示す説明図、図３は
図１のビーム合成素子のビーム傾き調整時を示す説明図
である。
【００１６】図１において、光源部１、２はそれぞれ半
導体レーザ３、４と、半導体レーザ３、４の出射光を平
行化するコリメートレンズ５、６を有し、半導体レーザ
３、４とコリメートレンズ５、６は、それぞれ光源部
１、２の各鏡筒に固定されている。この各鏡筒は光源部
１がそのレーザ光をＺ方向に出射し、光源部２がそのレ
ーザ光を副（Ｙ）走査方向に出射して直交するように固
定されている。
導体レーザ３、４と、半導体レーザ３、４の出射光を平
行化するコリメートレンズ５、６を有し、半導体レーザ
３、４とコリメートレンズ５、６は、それぞれ光源部
１、２の各鏡筒に固定されている。この各鏡筒は光源部
１がそのレーザ光をＺ方向に出射し、光源部２がそのレ
ーザ光を副（Ｙ）走査方向に出射して直交するように固
定されている。
【００１７】光源部１、２の各光軸が直交する位置に
は、光源部１からのレーザ光を透過するとともに光源部
２からのレーザ光を反射して、各レーザ光を平行光に合
成するするビーム合成素子７が配置されている。ビーム
合成素子７を透過及び反射した２つのレーザ光は、アパ
ーチャ１０により所定のスポット光にされ、次いでシリ
ンドリカルレンズ１２を介して回転多面鏡１３の各反射
面に入射して主（Ｘ）走査方向に偏向される。
は、光源部１からのレーザ光を透過するとともに光源部
２からのレーザ光を反射して、各レーザ光を平行光に合
成するするビーム合成素子７が配置されている。ビーム
合成素子７を透過及び反射した２つのレーザ光は、アパ
ーチャ１０により所定のスポット光にされ、次いでシリ
ンドリカルレンズ１２を介して回転多面鏡１３の各反射
面に入射して主（Ｘ）走査方向に偏向される。
【００１８】ビーム合成素子７はベース１１に固定さ
れ、ベース１１はＺ方向に配置された少なくとも２本の
調整ネジ８ａ、８ｂにより副走査方向に移動可能に、か
つＸＺ面に対して傾動可能に支持されるとともに、圧縮
バネ９により副走査方向に付勢されている。ビーム合成
素子７としては、伝達効率が比較的優れたビームスプリ
ッタに対して偏光板である１／２波長板を備えた構成
や、それより安価なハーフミラーを用いることができ
る。調整ネジ８ａ、８ｂはできるだけ微調整可能にする
ために細目ねじが望ましい。圧縮バネ９は回転多面鏡１
３を回転するポリゴンモータやプリンタのモータ等から
発生する振動を吸収するために、これらの振動数と異な
る固有振動数と比較的大きなバネ定数を有するものが用
いられる。
れ、ベース１１はＺ方向に配置された少なくとも２本の
調整ネジ８ａ、８ｂにより副走査方向に移動可能に、か
つＸＺ面に対して傾動可能に支持されるとともに、圧縮
バネ９により副走査方向に付勢されている。ビーム合成
素子７としては、伝達効率が比較的優れたビームスプリ
ッタに対して偏光板である１／２波長板を備えた構成
や、それより安価なハーフミラーを用いることができ
る。調整ネジ８ａ、８ｂはできるだけ微調整可能にする
ために細目ねじが望ましい。圧縮バネ９は回転多面鏡１
３を回転するポリゴンモータやプリンタのモータ等から
発生する振動を吸収するために、これらの振動数と異な
る固有振動数と比較的大きなバネ定数を有するものが用
いられる。
【００１９】上記構成において、図２に示すように２本
の調整ネジ８ａ、８ｂを同じ距離だけ移動することによ
り、ビーム合成素子７を透過及び反射した２つのビーム
の副走査方向の間隔（ビームピッチ）ｄを調整すること
ができる。また、図３に示すように２本の調整ネジ８
ａ、８ｂを異なる距離だけ移動することにより、ビーム
合成素子７を透過及び反射した２つのビームの角度θを
調整することができるので、光源部１、２の各光軸が正
確に直交していなくても直交するように調整することが
できる。
の調整ネジ８ａ、８ｂを同じ距離だけ移動することによ
り、ビーム合成素子７を透過及び反射した２つのビーム
の副走査方向の間隔（ビームピッチ）ｄを調整すること
ができる。また、図３に示すように２本の調整ネジ８
ａ、８ｂを異なる距離だけ移動することにより、ビーム
合成素子７を透過及び反射した２つのビームの角度θを
調整することができるので、光源部１、２の各光軸が正
確に直交していなくても直交するように調整することが
できる。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように請求項１記載の発明
によれば、複数のビーム間隔を調整する方向と複数のビ
ーム角度を調整する方向にビーム合成素子を調整ネジに
より調整するともに、調整ネジがビーム間隔を調整する
方向にビーム合成素子を付勢するようにしたので、複数
の光ビームの副走査方向のビームピッチの微調整する場
合に、常に平行光にして収差を防止することができ、ま
た、半導体レーザ及びコリメートレンズが高い取り付け
精度が要求されることなく安価に構成することができ、
さらに外部振動による位置ずれを防止することができ
る。
によれば、複数のビーム間隔を調整する方向と複数のビ
ーム角度を調整する方向にビーム合成素子を調整ネジに
より調整するともに、調整ネジがビーム間隔を調整する
方向にビーム合成素子を付勢するようにしたので、複数
の光ビームの副走査方向のビームピッチの微調整する場
合に、常に平行光にして収差を防止することができ、ま
た、半導体レーザ及びコリメートレンズが高い取り付け
精度が要求されることなく安価に構成することができ、
さらに外部振動による位置ずれを防止することができ
る。
【００２１】請求項２記載の発明によれば、少なくとも
２つの調整ネジがビーム角度を調整する方向に配列され
ているので、半導体レーザ及びコリメートレンズが高い
取り付け精度が要求されることなく安価に構成すること
ができる。
２つの調整ネジがビーム角度を調整する方向に配列され
ているので、半導体レーザ及びコリメートレンズが高い
取り付け精度が要求されることなく安価に構成すること
ができる。
【００２２】請求項３記載の発明によれば、振動数と異
なる固有振動数を有する圧縮バネにより、調整ネジがビ
ーム間隔を調整する方向にビーム合成素子を付勢するよ
うにしたので、安価な構成で外部振動による位置ずれを
防止することができる。
なる固有振動数を有する圧縮バネにより、調整ネジがビ
ーム間隔を調整する方向にビーム合成素子を付勢するよ
うにしたので、安価な構成で外部振動による位置ずれを
防止することができる。
【図１】本発明に係るマルチビーム走査装置の一実施形
態を示す構成図である。
態を示す構成図である。
【図２】図１のビーム合成素子のビームピッチ調整時を
示す説明図である。
示す説明図である。
【図３】図１のビーム合成素子のビーム傾き調整時を示
す説明図である。
す説明図である。
３，４ 半導体レーザ ５，６ コリメートレンズ ７ ビーム合成素子 ８ａ，８ｂ 調整ネジ ９ 圧縮バネ
フロントページの続き Ｆターム(参考） 2C362 AA48 AA49 BA58 BA61 BA85 BA90 DA03 DA09 DA17 2H045 AA01 BA22 BA33 CA01 CA33 CA53 DA02 DA04 DA44 5C072 AA03 CA06 DA02 DA04 DA21 DA23 HA02 HA06 HA10 HA13 JA07 XA05
Claims (3)
- 【請求項１】 複数の半導体レーザと、前記半導体レー
ザの各出射ビームをそれぞれ平行化する複数のコリメー
トレンズとを備え、前記複数の半導体レーザ及びコリメ
ートレンズの各光軸が直交するように配置されたマルチ
ビーム走査装置において、 前記複数の半導体レーザ及びコリメートレンズの各光軸
が直交する位置に配置されて各光軸が平行になるように
各ビームを合成するビーム合成素子と、 前記ビーム合成素子により合成される複数のビームの間
隔を調整する方向と前記複数のビームの角度を調整する
方向に前記ビーム合成素子を調整する調整ネジと、 前記調整ネジがビーム間隔を調整する方向に前記ビーム
合成素子を付勢する付勢部材と、を備えたことを特徴と
するマルチビーム走査装置。 - 【請求項２】 前記調整ネジは、少なくとも２つの調整
ネジがビーム角度を調整する方向に配列されていること
を特徴とする請求項１記載のマルチビーム走査装置。 - 【請求項３】 前記付勢部材は、外乱の振動数と異なる
固有振動数を有する圧縮バネであることを特徴とする請
求項１または２記載のマルチビーム走査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11215377A JP2001042238A (ja) | 1999-07-29 | 1999-07-29 | マルチビーム走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11215377A JP2001042238A (ja) | 1999-07-29 | 1999-07-29 | マルチビーム走査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001042238A true JP2001042238A (ja) | 2001-02-16 |
Family
ID=16671300
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11215377A Pending JP2001042238A (ja) | 1999-07-29 | 1999-07-29 | マルチビーム走査装置 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001042238A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006184500A (ja) * | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Ricoh Co Ltd | マルチビーム光源装置、マルチビーム光走査装置、画像形成装置 |
| JP2008139343A (ja) * | 2006-11-29 | 2008-06-19 | Konica Minolta Business Technologies Inc | 光走査光学装置 |
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| CN106526776A (zh) * | 2016-12-07 | 2017-03-22 | 南通斯派特激光科技有限公司 | 二氧化碳激光管可见光合束装置及安装方法 |
-
1999
- 1999-07-29 JP JP11215377A patent/JP2001042238A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006184500A (ja) * | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Ricoh Co Ltd | マルチビーム光源装置、マルチビーム光走査装置、画像形成装置 |
| JP2008139343A (ja) * | 2006-11-29 | 2008-06-19 | Konica Minolta Business Technologies Inc | 光走査光学装置 |
| WO2016189627A1 (ja) * | 2015-05-25 | 2016-12-01 | オリンパス株式会社 | 光ファイバスキャナ、照明装置および観察装置 |
| JPWO2016189627A1 (ja) * | 2015-05-25 | 2018-03-08 | オリンパス株式会社 | 光ファイバスキャナ、照明装置および観察装置 |
| CN106526776A (zh) * | 2016-12-07 | 2017-03-22 | 南通斯派特激光科技有限公司 | 二氧化碳激光管可见光合束装置及安装方法 |
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