JPS63316819A - 光ビ−ム走査装置 - Google Patents

光ビ−ム走査装置

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JPS63316819A
JPS63316819A JP62153740A JP15374087A JPS63316819A JP S63316819 A JPS63316819 A JP S63316819A JP 62153740 A JP62153740 A JP 62153740A JP 15374087 A JP15374087 A JP 15374087A JP S63316819 A JPS63316819 A JP S63316819A
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lens
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Katsuto Sumi
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は光ビーム走査装置に関し、一層詳細には、被走
査体に対し走査光学系を用いて光ビームを走査させる光
ビーム走査装置において、前記走査光学系を構成する光
学素子の光軸を所定方向に傾動させることにより、走査
光学系の組付誤差あるいは製造誤差等に起因して被走査
体上に生じる非点収差を容易に補正可能とした光ビーム
走査装置に関する。
[発明の背景] 例えば、印刷製版の分野において、作業工程の合理化、
画像品質の向上等を目的として、原稿に担持された画像
情報を電気的に処理し、フィルム原版を作成する画像走
査読取記録システムが広汎に用いられている。
このシステムでは、例えば、画像読取部において、副走
査搬送される原稿の画像情報がレーザビームあるいは光
電変換素子等によって主走査され、電気信号に変換され
る。次いで、光電変換された画像情報は画像記録部にお
いて製版条件に応じた階調補正、輪郭強調等の演算処理
が施された後、レーザビーム等の光信号に変換されフィ
ルム等の感光材料からなる記録担体上に記録再生される
。なお、この記録担体は所定の現像装置によって現像処
理され、フィルム原版として印刷等に供されることにな
る。
ところで、前記画像記録部では、フィルム等の記録担体
に対してレーザビーム等の光ビームを主走査させるため
走査光学系が用いられている。例えば、レーザ光源から
出力されたレーザビームはビーム整形光学系によって所
定のビーム形状に整形された後、高速振動するミラー振
動型光偏向器によって主走査方向に偏向され、走査レン
ズを介して記録担体上に照射される。
この場合、前記走査光学系に組付上の誤差あるいは製造
上の誤差があると正確な画像形成が不可能となる。すな
わち、走査光学系の組付状態あるいは製造上の誤差等に
より非点収差が生じ、レーザビームが記録担体上に正確
に集光されなくなる。この結果、画像情報の正確な記録
が不可能となってしまう、従って、このような非点収差
を可及的に低減させるには当該システムに対して走査光
学系を出来るだけ高精度に組み付けることが必要である
。また、走査光学系を構成する各光学素子自体も出来る
限り高精度に製作しておかなければならない、あるいは
、走査レンズ等の光学素子の性能を向上させ焦点深度が
深くなるよう構成することにより、記録担体上における
非点収差の影響を可能な限り低減させることが考えられ
る。
然しなから、光学素子の精度あるいは性能等を向上させ
た場合、当該システムが極めて高価となる不都合が生じ
る。また、光学素子を当該システムに対して高精度に組
み付けることは一般には極めて困難であり、しかも、特
別な位置決め装置等が必要となるため、設備コストも増
大することが懸念される。
[発明の目的] 本発明は前記の不都合を克服するためになされたもので
あって、被走査体に対し走査光学系を用いて光ビームを
走査させる光ビーム走査装置において、走査光学系を構
成する光学素子の光軸を所定方向に傾動可能とすること
により、走査光学系の組付誤差あるいは製造誤差等に起
因する非点収差の影響を安価に且つ容易°に補正するこ
との出来る光ビーム走査装置を提供することを目的とす
る。
[目的を達成するための手段] 前記の目的を達成するために、本発明は被走査体に対し
走査光学系を用いて光ビームを走査させる光ビーム走査
装置において、前記走査光学系を構成する少なくとも1
つの光学素子の光軸を所定方向に傾動可能とすることを
特徴とする。
[実施態様] 次に、本発明に係る光ビーム走査装置について好適な実
施態様を挙げ、添付の図面を参照しながら以下詳細に説
明する。
第1図において、参照符号lOは本発明に係る光ビーム
走査装置の本体部を示し、この本体部IOはレーザプリ
ンタ等に適用されるものである。
本体部10はレーザビームLを出力するレーザダイオー
ド12を有し、前記レーザビームLの光路上にはコリメ
ータレンズ14、ビームエキスバンドレンズ16.18
、ガルバノメータミラー20、走査レンズ22および反
射ミラー24からなる走査光学系が配列される。そして
、前記走査レンズ22の焦点位置にはドラム26が配設
される。
レーザビームしはレーザダイオード12の接合面28か
ら所定の広がりを持った発散光として射出されコリメー
タレンズ14に入射する。コリメータレンズ14はレー
ザビームLを平行光束とするものであり、第2図に示す
保持機構30によって支持される。
すなわち、保持機構30は本体部10に固定される固定
台32と、前記固定台32の上面部にビン34を中心と
して矢印A方向に回動可能に装着される回転台36とを
含む0回転台36にはピン34を中心とする円弧状のガ
イド孔38が穿設される。ガイド孔38には回転台36
の上面部に係合するフランジ40aを有したガイドピン
40が挿通され、このガイドピン40は前記固定台32
に螺合する。また、回転台36の上面部には支持部材4
2a、42bが植設され、これらの支持部材42a、4
2bの上端部にはホルダ部材44を介してコリメータレ
ンズ14が矢印B方向に回動可能な状態で枢支される。
なお、固定台32の上面部にはL字状に形成された一対
のブラケッl−46a、46bが取着され、これらのブ
ラケット46a、46bには前記回転台36の両側面部
に指向して変位可能な押し螺子48a、48bが夫々螺
着する。
一方、ビームエキスバンドレンズ16および18はコリ
メータレンズ14によって平行光束とされたレーザビー
ムLのビーム径を調整する作用をなす。ガルバノメータ
ミラー20は矢印C方向に高速振動するように構成され
ており、前記レーザビームLを等遠回運動で走査するレ
ーザビームしに変換する。また、走査レンズ22はfθ
レンズから構成され、前記ガルバノメータミラー20に
よって等遠回運動に変換されたレーザビームLを等速直
線運動で走査するレーザビームしに変換する。なお、こ
のレーザビームしは反射ミラー24を介してドラム26
上に照射される。
本実節B様に係る光ビーム走査装置は基本的には以上の
ように構成されるものであり、次にその作用並びに効果
について説明する。
そこで、画像情報に応じて変調されレーザダイオード1
2の接合面28より射出されたレーザビームしはコリメ
ータレンズ14によって平行光束とされた後、ビームエ
キスバンドレンズ16.18により所定のビーム径に整
形されてガルバノメータミラー20に入射する。この場
合、ガルバノメータミラー20は矢印C方向に高速振動
しており、前記レーザビームLを走査レンズ22に対し
て偏向走査させる。ガルバノメータミラー20によって
反射され走査レンズ22に入射したレーザビームLは等
速直線運動に変換され、次いで、反射ミラー24を介し
て矢印り方向に回動するドラム26上に巻装された記録
材料に照射され、この記録材料上を矢印E方向に主走査
する。この結果、前記記録材料上に画像情報が記録され
る。
ここで、本体部10を構成する走査光学系に組付上の誤
差あるいは製造上の誤差がある場合、記録材料上にレー
ザビームLが正確に集光されないことが懸念される。例
えば、第3図において、前記走査光学系を構成する光学
素子50が光軸52に対して矢印F方向(X軸廻り)に
傾斜して組み付けられていると、ドラム26上において
非点収差が発生する。すなわち、X−7面(3面)にお
けるレーザビームLの集光点ZtをXYZ座標系の原点
とした場合、Y−7面(M面)におけるレーザビームL
は前記集光点Z、からZ軸の負方向にδだけ変位した集
光点ZHに集光されることになる。
そこで、保持機構30によって支持されたコリメータレ
ンズ14をピン34を中心として矢印A方向に所定量回
動させれば、コリメータレンズ14の非点収差特性によ
り集光点ZMが集光点Z。
側に変位する。この結果、前記δの値(非点隔差)を零
とすることが出来る。なお、非点隔差δを補正した回転
台36は押し螺子48a、48bを用いて固定台32に
対し固定させることが出来る。
一方、光学素子50が光軸52に対して矢印G方向(X
軸廻り)に傾斜して組み付けられている場合、Y−7面
(M面)における集光点Z、4はX−7面(3面)にお
ける集光点Z、よりもZ軸の正方向に非点隔差δだけ変
位した集光点(図示せず)に集光される。この場合、コ
リメータレンズ14を支持部材42a、42bに対して
矢印B方向に所定量回動させれば、当該集光点が集光点
Z1側に変位し、前記非点隔差δを零とすることが出来
る。なお、非点隔差δを補正したコリメータレンズ14
は支持部材42a、42bに対して接着剤等を用いて固
定することが可能である。
ここで、上記光学素子50の傾斜は、ビームエキスバン
ドレンズ16.18、走査レンズ22)fθレンズ等の
レンズ全体の組付誤差による傾斜や、また、これらのレ
ンズが複数枚の単レンズで構成されている場合の傾斜に
相当する。また、上述した非点隔差δはビームエキスバ
ンドレンズ16.18、走査レンズ22等のレンズ系以
外の走査光学系、例えば、ガルバノメータミラー20、
反射ミラー24等の反射面が湾曲している場合にも生じ
る。この場合、コリメータレンズ14を保持機構30に
対して所定方向に回動させることで同様に非点隔差δを
補正することが可能である。
[発明の効果] 以上のように本発明によれば、被走査体に対し走査光学
系を用いて光ビームを走査させる光ビーム走査装置にお
いて、前記走査光学系を構成する光学素子の光軸を所定
方向に傾動可能に構成している。従って、前記走査光学
系に組付上の誤差あるいは製造上の誤差があり、それに
よって被走査体上に光ビームの非点収差が発生している
場合、前記光学素子を所定方向に傾動させれば、その非
点収差を極めて容易に補正することが出来る。この結果
、走査光学系に対して組付上あるいは製造上、極めて厳
密な精度を要求する必要がなくなり、安価でしかも正確
な光ビーム走査装置を提供することが可能となる。
以上、本発明について好適な実施態様を挙げて説明した
が、本発明はこの実施態様に限定されるものではなく、
例えば、非点収差はビームエキスバンドレンズあるいは
走査レンズ等の光軸を傾動させることにより補正するこ
とも可能である等、本発明の要旨を逸脱しない範囲にお
いて種々の改良並びに設計の変更が可能なことは勿論で
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る光ビーム走査装置の概略構成斜視
図、 第2図は本発明に係る光ビーム走査装置におけるコリメ
ータレンズの保持機構を示す構成斜視図、 第3図は本発明に係る光ビーム走査装置における非点収
差補正方法の説明図である。 10・・・本体部      12・・・レーザダイオ
ード14・・・コリメータレンズ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)被走査体に対し走査光学系を用いて光ビームを走
    査させる光ビーム走査装置において、前記走査光学系を
    構成する少なくとも1つの光学素子の光軸を所定方向に
    傾動可能とすることを特徴とする光ビーム走査装置。
  2. (2)特許請求の範囲第1項記載の装置において、光学
    素子は光軸と直交する面内に設定され互いに直交する2
    軸を中心に夫々回動可能に構成してなる光ビーム走査装
    置。
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