JPH10214016A - 光源装置及び光ビーム走査光学装置 - Google Patents
光源装置及び光ビーム走査光学装置Info
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- JPH10214016A JPH10214016A JP9018429A JP1842997A JPH10214016A JP H10214016 A JPH10214016 A JP H10214016A JP 9018429 A JP9018429 A JP 9018429A JP 1842997 A JP1842997 A JP 1842997A JP H10214016 A JPH10214016 A JP H10214016A
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- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 3
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
- G02B26/123—Multibeam scanners, e.g. using multiple light sources or beam splitters
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
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- B41J2/471—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror
- B41J2/473—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror using multiple light beams, wavelengths or colours
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光源の位置調整をハウジングの開放された上
方から容易に行うことのできる光源装置及び光ビーム走
査光学装置を得る。 【解決手段】 電子写真感光体上に二つの光源から放射
された光ビームで２ラインずつ走査する光ビーム走査光
学装置。その光源ユニット１は第１レーザダイオード２
を保持する第１可動保持台３２と第２レーザダイオード
３を保持する第２可動保持台３３を備えている。第２可
動保持台３３はねじ４６をゆるめることで基台上でｘ，
ｙ方向に２次元的に位置調整可能とされている。
方から容易に行うことのできる光源装置及び光ビーム走
査光学装置を得る。 【解決手段】 電子写真感光体上に二つの光源から放射
された光ビームで２ラインずつ走査する光ビーム走査光
学装置。その光源ユニット１は第１レーザダイオード２
を保持する第１可動保持台３２と第２レーザダイオード
３を保持する第２可動保持台３３を備えている。第２可
動保持台３３はねじ４６をゆるめることで基台上でｘ，
ｙ方向に２次元的に位置調整可能とされている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光源装置及び光ビ
ーム走査光学装置、詳しくはレーザプリンタやデジタル
複写機の画像書込み手段として用いられる光源装置及び
光ビーム走査光学装置に関する。
ーム走査光学装置、詳しくはレーザプリンタやデジタル
複写機の画像書込み手段として用いられる光源装置及び
光ビーム走査光学装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、電子写真感光体への画像書込み手
段として種々の光ビーム走査光学装置が知られている。
それらは、基本的に、光源ユニットから放射された光ビ
ームをポリゴンミラーで偏向走査し、ｆθレンズ等を介
して感光体上に結像している。そして、各種光学部材は
図１５に示す上方に開放された箱形のハウジング１００
に収納されている。例えば、光源ユニットはハウジング
１００の凹所１０１に、ポリゴンミラーは凹所１０２
に、ｆθレンズは凹所１０３にそれぞれ収納され、種々
の調整作業の後、図示しない蓋部材で閉じられる。
段として種々の光ビーム走査光学装置が知られている。
それらは、基本的に、光源ユニットから放射された光ビ
ームをポリゴンミラーで偏向走査し、ｆθレンズ等を介
して感光体上に結像している。そして、各種光学部材は
図１５に示す上方に開放された箱形のハウジング１００
に収納されている。例えば、光源ユニットはハウジング
１００の凹所１０１に、ポリゴンミラーは凹所１０２
に、ｆθレンズは凹所１０３にそれぞれ収納され、種々
の調整作業の後、図示しない蓋部材で閉じられる。
【０００３】ところで、近年では、画素密度を高めた
り、画像書込み速度を高めることが求められ、そのため
に、２個の光源を設置して、それぞれの光ビームを副走
査方向に近接した状態で偏向走査し、１回の走査で２ラ
インずつ画像を書き込むマルチビーム方式の光学装置が
開発されている。
り、画像書込み速度を高めることが求められ、そのため
に、２個の光源を設置して、それぞれの光ビームを副走
査方向に近接した状態で偏向走査し、１回の走査で２ラ
インずつ画像を書き込むマルチビーム方式の光学装置が
開発されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、マルチビー
ム方式では、二つの光源を前記凹所１０１に収納するこ
とになるが、各光ビームの位置合わせを行う際にそれぞ
れの光源（レーザダイオード）を保持する部材を矢印ｈ
1，ｈ2方向から位置調整する必要がある。しかし、この
調整にはハウジング１００の側壁が障害となり、少なく
とも矢印ｈ1，ｈ2のいずれかの方向には側壁に開口を形
成し、この開口を通じてドライバ等の調整具を挿入して
調整する必要があった。このように光源ユニットをハウ
ジングに組み込んだ後に側方から位置調整を行うことは
困難かつ煩雑であった。
ム方式では、二つの光源を前記凹所１０１に収納するこ
とになるが、各光ビームの位置合わせを行う際にそれぞ
れの光源（レーザダイオード）を保持する部材を矢印ｈ
1，ｈ2方向から位置調整する必要がある。しかし、この
調整にはハウジング１００の側壁が障害となり、少なく
とも矢印ｈ1，ｈ2のいずれかの方向には側壁に開口を形
成し、この開口を通じてドライバ等の調整具を挿入して
調整する必要があった。このように光源ユニットをハウ
ジングに組み込んだ後に側方から位置調整を行うことは
困難かつ煩雑であった。
【０００５】そこで、本発明の目的は、光源の位置調整
を容易に行うことのできる光源装置及び光ビーム走査光
学装置を提供することにある。
を容易に行うことのできる光源装置及び光ビーム走査光
学装置を提供することにある。
【０００６】
【発明の要旨及び効果】以上の目的を達成するため、本
発明は、上方に開放された略箱形のハウジングの水平基
準面上に設置される光源装置において、光源を可動保持
部材に前記水平基準面に対して略垂直な方向に光ビーム
を放射するように取り付け、可動保持部材の光ビームの
放射方向と直交する面内での位置をハウジングの上方か
ら調整可能とした。
発明は、上方に開放された略箱形のハウジングの水平基
準面上に設置される光源装置において、光源を可動保持
部材に前記水平基準面に対して略垂直な方向に光ビーム
を放射するように取り付け、可動保持部材の光ビームの
放射方向と直交する面内での位置をハウジングの上方か
ら調整可能とした。
【０００７】さらに、本発明に係る光ビーム走査光学装
置は、上方に開放された略箱形のハウジングと、このハ
ウジングの床面と略平行な面上で光ビームを偏向走査す
る偏向器と、この偏向器の偏向走査面と略直交する面内
に光ビームを放射する光源と、この光源から放射された
光ビームを反射して前記偏向器に導く光学素子と、前記
光源を保持し、光ビームの放射方向と直交する面内での
位置を前記ハウジングの上方から調整可能に設置された
可動保持部材とを備えている。
置は、上方に開放された略箱形のハウジングと、このハ
ウジングの床面と略平行な面上で光ビームを偏向走査す
る偏向器と、この偏向器の偏向走査面と略直交する面内
に光ビームを放射する光源と、この光源から放射された
光ビームを反射して前記偏向器に導く光学素子と、前記
光源を保持し、光ビームの放射方向と直交する面内での
位置を前記ハウジングの上方から調整可能に設置された
可動保持部材とを備えている。
【０００８】以上の構成からなる光源装置及び光ビーム
走査光学装置にあっては、光源を保持する可動保持部材
をハウジングに設置した後、ハウジングの上方から光ビ
ームの光軸位置を微調整する。ハウジングの上方は大き
く開口されているため、従来の如くハウジングの側壁が
障害となることなく、容易に微調整を行うことができ
る。
走査光学装置にあっては、光源を保持する可動保持部材
をハウジングに設置した後、ハウジングの上方から光ビ
ームの光軸位置を微調整する。ハウジングの上方は大き
く開口されているため、従来の如くハウジングの側壁が
障害となることなく、容易に微調整を行うことができ
る。
【０００９】特に、本発明は二つの光源を設けたマルチ
ビーム方式の光源装置及び光ビーム走査光学装置に有効
である。マルチビーム方式では偏向器に向かう二つの光
ビームの光軸を揃えるという煩雑な微調整が必要とな
る。本発明では一方の光源の光軸を正確に微調整してお
けば、他方の光源の光軸をハウジングに組み込んだ状態
でハウジングの上方から容易に微調整することができ
る。
ビーム方式の光源装置及び光ビーム走査光学装置に有効
である。マルチビーム方式では偏向器に向かう二つの光
ビームの光軸を揃えるという煩雑な微調整が必要とな
る。本発明では一方の光源の光軸を正確に微調整してお
けば、他方の光源の光軸をハウジングに組み込んだ状態
でハウジングの上方から容易に微調整することができ
る。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る光源装置及び
光ビーム走査光学装置の実施形態について添付図面を参
照して説明する。
光ビーム走査光学装置の実施形態について添付図面を参
照して説明する。
【００１１】図１〜図３において、光ビーム走査光学装
置は、概略、光源ユニット１と、シリンドリカルレンズ
１１とポリゴンミラー１２と３本のｆθレンズ１３，１
４，１５及びシリンドリカルレンズ１６と、平面ミラー
１７と、これらの光学部材を収納するハウジング２０と
で構成されている。
置は、概略、光源ユニット１と、シリンドリカルレンズ
１１とポリゴンミラー１２と３本のｆθレンズ１３，１
４，１５及びシリンドリカルレンズ１６と、平面ミラー
１７と、これらの光学部材を収納するハウジング２０と
で構成されている。
【００１２】光源ユニット１は、互いに直交方向に光ビ
ームＢ1，Ｂ2を放射する第１及び第２レーザダイオード
２，３と、二つのプリズムを半透膜を介して接合したビ
ームスプリッタ４と、コリメータレンズ５とからなる。
第１レーザダイオード２から放射された光ビームＢ
1は、ビームスプリッタ４の半透膜を透過して直進し、
コリメータレンズ５によって平行光（又は収束光）とさ
れる。第２レーザダイオード３から放射された光ビーム
Ｂ2は、ビームスプリッタ４の半透膜で９０゜に反射さ
れ、コリメータレンズ５によって平行光（又は収束光）
とされる。光ビームＢ1，Ｂ2はスプリッタ４で同一進行
方向に結合されるが、互いに副走査方向に数μｍの間隔
で近接して進行する。
ームＢ1，Ｂ2を放射する第１及び第２レーザダイオード
２，３と、二つのプリズムを半透膜を介して接合したビ
ームスプリッタ４と、コリメータレンズ５とからなる。
第１レーザダイオード２から放射された光ビームＢ
1は、ビームスプリッタ４の半透膜を透過して直進し、
コリメータレンズ５によって平行光（又は収束光）とさ
れる。第２レーザダイオード３から放射された光ビーム
Ｂ2は、ビームスプリッタ４の半透膜で９０゜に反射さ
れ、コリメータレンズ５によって平行光（又は収束光）
とされる。光ビームＢ1，Ｂ2はスプリッタ４で同一進行
方向に結合されるが、互いに副走査方向に数μｍの間隔
で近接して進行する。
【００１３】コリメータレンズ５から出射されさた光ビ
ームＢ1，Ｂ2は、シリンドリカルレンズ１１を介してポ
リゴンミラー１２に到達する。シリンドリカルレンズ１
１は光ビームＢ1，Ｂ2をポリゴンミラー１２の反射面近
傍に主走査方向に長い線状に集光する。ポリゴンミラー
１２は矢印ａ方向に一定角速度で回転駆動される。光ビ
ームＢ1，Ｂ2はポリゴンミラー１２の回転に基づいて各
反射面で等角速度に偏向走査され、ｆθレンズ１３，１
４，１５及びシリンドリカルレンズ１６を透過し、平面
ミラー１７で下方に反射される。その後、光ビーム
Ｂ1，Ｂ2はハウジング２０のスリット２１を通過して感
光体ドラム２５上で結像すると共に、矢印ｂ方向に走査
する。即ち、この光学系では１回の走査で２ラインを同
時に書き込む。
ームＢ1，Ｂ2は、シリンドリカルレンズ１１を介してポ
リゴンミラー１２に到達する。シリンドリカルレンズ１
１は光ビームＢ1，Ｂ2をポリゴンミラー１２の反射面近
傍に主走査方向に長い線状に集光する。ポリゴンミラー
１２は矢印ａ方向に一定角速度で回転駆動される。光ビ
ームＢ1，Ｂ2はポリゴンミラー１２の回転に基づいて各
反射面で等角速度に偏向走査され、ｆθレンズ１３，１
４，１５及びシリンドリカルレンズ１６を透過し、平面
ミラー１７で下方に反射される。その後、光ビーム
Ｂ1，Ｂ2はハウジング２０のスリット２１を通過して感
光体ドラム２５上で結像すると共に、矢印ｂ方向に走査
する。即ち、この光学系では１回の走査で２ラインを同
時に書き込む。
【００１４】ｆθレンズ１３，１４，１５はポリゴンミ
ラー１２で等角速度に偏向された光ビームＢ1，Ｂ2を感
光体ドラム２５上での主走査速度を等速に補正（歪曲収
差補正）機能を有している。シリンドリカルレンズ１６
は前記シリンドリカルレンズ１１と同様に副走査方向に
のみパワーを有し、二つのレンズ１１，１６が協働して
ポリゴンミラーの面倒れ誤差を補正する。
ラー１２で等角速度に偏向された光ビームＢ1，Ｂ2を感
光体ドラム２５上での主走査速度を等速に補正（歪曲収
差補正）機能を有している。シリンドリカルレンズ１６
は前記シリンドリカルレンズ１１と同様に副走査方向に
のみパワーを有し、二つのレンズ１１，１６が協働して
ポリゴンミラーの面倒れ誤差を補正する。
【００１５】感光体ドラム２５は矢印ｃ方向に一定速度
で回転駆動され、ポリゴンミラー１２及びｆθレンズ１
３，１４，１５による矢印ｂ方向への主走査と、感光体
ドラム２５の矢印ｃ方向への副走査によって感光体ドラ
ム２５上に画像（静電潜像）が書き込まれる。
で回転駆動され、ポリゴンミラー１２及びｆθレンズ１
３，１４，１５による矢印ｂ方向への主走査と、感光体
ドラム２５の矢印ｃ方向への副走査によって感光体ドラ
ム２５上に画像（静電潜像）が書き込まれる。
【００１６】次に、光源ユニット１の組立て構造の第１
例について図４〜図８を参照して説明する。図４〜図７
は光源ユニット１を各方向から図示したもの、図８は構
造を模式的に示したもので、説明の簡略化のために主に
図８を参照して説明する。なお、以下の説明でｘ方向と
はビームスプリッタ４から射出される光軸Ｂに対して平
行な方向、ｙ方向とはｘ方向に対して水平面上で直交す
る方向、ｚ方向とは、ｘ，ｙ方向に直交する方向をい
う。
例について図４〜図８を参照して説明する。図４〜図７
は光源ユニット１を各方向から図示したもの、図８は構
造を模式的に示したもので、説明の簡略化のために主に
図８を参照して説明する。なお、以下の説明でｘ方向と
はビームスプリッタ４から射出される光軸Ｂに対して平
行な方向、ｙ方向とはｘ方向に対して水平面上で直交す
る方向、ｚ方向とは、ｘ，ｙ方向に直交する方向をい
う。
【００１７】この光源ユニット組立て構造は、基台３
１，３１’、第１レーザダイオード２を保持する第１可
動保持台３２、第２レーザダイオード３を保持する第２
可動保持台３３、コリメータレンズ５を保持する鏡胴３
４、スリット板３５（但し、図６では図示を省略してい
る）によって構成されている。基台３１はねじ４１によ
ってハウジング２０の水平基準面（床面）２２上に固定
される。いまひとつの基台３１’は前記ビームスプリッ
タ４を保持し、基台３１の光軸Ｂに対して平行な面３１
ａ上に、ｘ方向に位置調整可能にねじ４３によって取り
付けられている。鏡胴３４はこの基台３１’の光軸Ｂに
対して平行な面３１’上に、ｘ方向に位置調整可能に板
ベルト３６で締め付けられた状態で取り付けられてい
る。板ベルト３６はその両端部でねじ４４によって基台
３１’上に固定されている。なお、鏡胴３４を保持する
面３１ａ’は、図示されていないが、光軸Ｂと平行に延
在するＶ形状の溝である。
１，３１’、第１レーザダイオード２を保持する第１可
動保持台３２、第２レーザダイオード３を保持する第２
可動保持台３３、コリメータレンズ５を保持する鏡胴３
４、スリット板３５（但し、図６では図示を省略してい
る）によって構成されている。基台３１はねじ４１によ
ってハウジング２０の水平基準面（床面）２２上に固定
される。いまひとつの基台３１’は前記ビームスプリッ
タ４を保持し、基台３１の光軸Ｂに対して平行な面３１
ａ上に、ｘ方向に位置調整可能にねじ４３によって取り
付けられている。鏡胴３４はこの基台３１’の光軸Ｂに
対して平行な面３１’上に、ｘ方向に位置調整可能に板
ベルト３６で締め付けられた状態で取り付けられてい
る。板ベルト３６はその両端部でねじ４４によって基台
３１’上に固定されている。なお、鏡胴３４を保持する
面３１ａ’は、図示されていないが、光軸Ｂと平行に延
在するＶ形状の溝である。
【００１８】第１可動保持台３２は基台３１の光軸Ｂに
対して垂直な面３１ｂ上に、ｙ，ｚ方向に位置調整可能
にねじ４５によって取り付けられている。第２可動保持
台３３は基板３１’の光軸Ｂに対して平行な面３１ｂ’
上に、ｘ，ｙ方向に位置調整可能にねじ４６によって取
り付けられている。
対して垂直な面３１ｂ上に、ｙ，ｚ方向に位置調整可能
にねじ４５によって取り付けられている。第２可動保持
台３３は基板３１’の光軸Ｂに対して平行な面３１ｂ’
上に、ｘ，ｙ方向に位置調整可能にねじ４６によって取
り付けられている。
【００１９】ここで、以上の構成からなる組立て構造の
組立て方法及び調整方法について説明する。ビームスプ
リッタ４が接着されている基台３１’に鏡胴３４を板ベ
ルト３６及びねじ４４で仮止めした状態で、基台３１’
を基台３１上にねじ４３で仮止めする。また、第１及び
第２可動保持台３２，３３をそれぞれ基台３１，３１’
にねじ４５，４６で仮止めする。
組立て方法及び調整方法について説明する。ビームスプ
リッタ４が接着されている基台３１’に鏡胴３４を板ベ
ルト３６及びねじ４４で仮止めした状態で、基台３１’
を基台３１上にねじ４３で仮止めする。また、第１及び
第２可動保持台３２，３３をそれぞれ基台３１，３１’
にねじ４５，４６で仮止めする。
【００２０】位置調整は、まず、ねじ４３をゆるめて基
台３１’をねじ４３とその取付け孔とのクリアランスの
範囲でｘ方向に１次元的に移動させて基台３１上に固定
する。ここでは、コリメータレンズ５を仮想上の光軸Ｂ
に対して位置決めする。次に、ねじ４４をゆるめて鏡胴
３４をｘ方向に位置調整し、光ビームのピント合わせを
行う。さらに、ねじ４５をゆるめて第１可動保持台３２
をねじ４５とその取付け孔とのクリアランスの範囲で
ｙ，ｚ方向に２次元的に移動させる。ここでは、第１レ
ーザダイオード２の光ビーム放射位置が決められる。
台３１’をねじ４３とその取付け孔とのクリアランスの
範囲でｘ方向に１次元的に移動させて基台３１上に固定
する。ここでは、コリメータレンズ５を仮想上の光軸Ｂ
に対して位置決めする。次に、ねじ４４をゆるめて鏡胴
３４をｘ方向に位置調整し、光ビームのピント合わせを
行う。さらに、ねじ４５をゆるめて第１可動保持台３２
をねじ４５とその取付け孔とのクリアランスの範囲で
ｙ，ｚ方向に２次元的に移動させる。ここでは、第１レ
ーザダイオード２の光ビーム放射位置が決められる。
【００２１】以上の調整作業は専用の調整治具上で行わ
れ、光源ユニット１はこの状態で他の光学部材が組み込
まれているハウジング２０に組み込まれる。即ち、ねじ
４１によって基台３１がハウジング２０の水平基準面２
２上に固定される。その後は、ねじ４６をゆるめて第２
可動保持台３３をねじ４６とその取付け孔とのクリアラ
ンスの範囲でｘ，ｙ方向に２次元的に移動させる。ここ
では、第２レーザダイオード３の光ビーム放射位置が決
められる。ハウジング２０に関しては、以上の調整作業
の後、図示しない蓋部材で閉じられる。
れ、光源ユニット１はこの状態で他の光学部材が組み込
まれているハウジング２０に組み込まれる。即ち、ねじ
４１によって基台３１がハウジング２０の水平基準面２
２上に固定される。その後は、ねじ４６をゆるめて第２
可動保持台３３をねじ４６とその取付け孔とのクリアラ
ンスの範囲でｘ，ｙ方向に２次元的に移動させる。ここ
では、第２レーザダイオード３の光ビーム放射位置が決
められる。ハウジング２０に関しては、以上の調整作業
の後、図示しない蓋部材で閉じられる。
【００２２】次に、光源ユニット１の組立て構造の第２
例について図９〜図１４を参照して説明する。図９〜図
１３は光源ユニット１を各方向から図示したもの、図１
４は構造を模式的に示したもので、説明の簡略化のため
に主に図１４を参照して説明する。この第２例は基本的
には前記第１例と同様の構造からなるが、第２レーザダ
イオード３をｚ方向にも調整可能とした点で異なってい
る。
例について図９〜図１４を参照して説明する。図９〜図
１３は光源ユニット１を各方向から図示したもの、図１
４は構造を模式的に示したもので、説明の簡略化のため
に主に図１４を参照して説明する。この第２例は基本的
には前記第１例と同様の構造からなるが、第２レーザダ
イオード３をｚ方向にも調整可能とした点で異なってい
る。
【００２３】この光源ユニット組立て構造は、基台５
１，５１’、第１レーザダイオード２を保持する第１可
動保持台５２、第２レーザダイオード３を保持する第２
可動保持台５３、コリメータレンズ５を保持する鏡胴５
４、スリット板５５によって構成されている。基台５１
はビームスプリッタ４を保持し、ねじ６１によってハウ
ジング２０の水平基準面（床面）２２上に固定される。
いまひとつの基台５１’は背面側（図１１参照）におい
てブラケット５７及びねじ６２を介して基台５１に固定
され、正面側（図１０参照）においてコイルばね５８で
上方に付勢された状態で基台５１に螺着されたねじ６３
によって押圧されている。即ち、この基台５１’はねじ
６３を進退させることによって背面側のブラケット５７
を支点として正面側がｚ方向に上下動可能である。
１，５１’、第１レーザダイオード２を保持する第１可
動保持台５２、第２レーザダイオード３を保持する第２
可動保持台５３、コリメータレンズ５を保持する鏡胴５
４、スリット板５５によって構成されている。基台５１
はビームスプリッタ４を保持し、ねじ６１によってハウ
ジング２０の水平基準面（床面）２２上に固定される。
いまひとつの基台５１’は背面側（図１１参照）におい
てブラケット５７及びねじ６２を介して基台５１に固定
され、正面側（図１０参照）においてコイルばね５８で
上方に付勢された状態で基台５１に螺着されたねじ６３
によって押圧されている。即ち、この基台５１’はねじ
６３を進退させることによって背面側のブラケット５７
を支点として正面側がｚ方向に上下動可能である。
【００２４】鏡胴５４は基台５１の光軸Ｂに対して平行
な面５１ａ上に、ｘ方向に位置調整可能に板ベルト５６
で締め付けた状態で取り付けられている。板ベルト５６
はその両端部でねじ６４によって基台５１上に固定され
ている。なお、鏡胴５４を保持する面５１ａは、光軸Ｂ
と平行に延在するＶ形状の溝であることは前記第１例と
同様である。
な面５１ａ上に、ｘ方向に位置調整可能に板ベルト５６
で締め付けた状態で取り付けられている。板ベルト５６
はその両端部でねじ６４によって基台５１上に固定され
ている。なお、鏡胴５４を保持する面５１ａは、光軸Ｂ
と平行に延在するＶ形状の溝であることは前記第１例と
同様である。
【００２５】第１可動保持台５２は基台５１の光軸Ｂに
対して垂直な面５１ｂ上に、ｘ，ｙ方向に位置調整可能
にねじ６５によって取り付けられている。第２可動保持
台５３は基台５１’の光軸Ｂに対して平面な面５１ａ’
上に、ｘ，ｙ方向に位置調整可能にねじ６６によって取
り付けられている。
対して垂直な面５１ｂ上に、ｘ，ｙ方向に位置調整可能
にねじ６５によって取り付けられている。第２可動保持
台５３は基台５１’の光軸Ｂに対して平面な面５１ａ’
上に、ｘ，ｙ方向に位置調整可能にねじ６６によって取
り付けられている。
【００２６】ここで、以上の構成からなる組立て構造の
組立て方法及び調整方法について説明する。ビームスプ
リッタ４が接着されている基台５１に基台５１’を背面
側でブラケット５７及びねじ６２で固定し、正面側でコ
イルばね５８を介在させてねじ６３を基台５１に螺着す
る。また、基台５１上に鏡胴５４を板ベルト５６及びね
じ６４で仮止めする。さらに、第１及び第２可動保持台
５２，５３をそれぞれ基台５１，５１’にねじ６５，６
６で仮止めする。
組立て方法及び調整方法について説明する。ビームスプ
リッタ４が接着されている基台５１に基台５１’を背面
側でブラケット５７及びねじ６２で固定し、正面側でコ
イルばね５８を介在させてねじ６３を基台５１に螺着す
る。また、基台５１上に鏡胴５４を板ベルト５６及びね
じ６４で仮止めする。さらに、第１及び第２可動保持台
５２，５３をそれぞれ基台５１，５１’にねじ６５，６
６で仮止めする。
【００２７】位置調整は、まず、ねじ６４をゆるめて鏡
胴５４をｘ方向に位置調整し、光ビームのピント合わせ
を行う。次に、ねじ６５をゆるめて第１可動保持台５２
をねじ６５とその取付け孔とのクリアランスの範囲で
ｙ，ｚ方向に２次元的に移動させる。ここでは、第１レ
ーザダイオード２の光ビーム放射位置が決められる。
胴５４をｘ方向に位置調整し、光ビームのピント合わせ
を行う。次に、ねじ６５をゆるめて第１可動保持台５２
をねじ６５とその取付け孔とのクリアランスの範囲で
ｙ，ｚ方向に２次元的に移動させる。ここでは、第１レ
ーザダイオード２の光ビーム放射位置が決められる。
【００２８】以上の調整作業は専用の調整治具上で行わ
れ、光源ユニット１はこの状態で他の光学部材が組み込
まれているハウジング２０に組み込まれる。即ち、ねじ
６１によって基台５１がハウジング２０の水平基準面２
２上に固定される。その後は、ねじ６３を基台５１に対
して螺出入させることで第２可動保持台５３を基台５
１’と共にｚ方向に移動させ、第２レーザダイオード３
のピント合わせを単独で行う。同時に、ねじ６６をゆる
めて第２可動保持台５３をねじ６６とその取付け孔との
クリアランスの範囲でｘ，ｙ方向に２次元的に移動させ
る。ここでは、第２レーザダイオード３の光ビーム放射
位置が決められる。
れ、光源ユニット１はこの状態で他の光学部材が組み込
まれているハウジング２０に組み込まれる。即ち、ねじ
６１によって基台５１がハウジング２０の水平基準面２
２上に固定される。その後は、ねじ６３を基台５１に対
して螺出入させることで第２可動保持台５３を基台５
１’と共にｚ方向に移動させ、第２レーザダイオード３
のピント合わせを単独で行う。同時に、ねじ６６をゆる
めて第２可動保持台５３をねじ６６とその取付け孔との
クリアランスの範囲でｘ，ｙ方向に２次元的に移動させ
る。ここでは、第２レーザダイオード３の光ビーム放射
位置が決められる。
【００２９】以上説明した如く、光源ユニット１の組立
て構造は、第１例及び第２例のいずれにおいても、ハウ
ジング２０の側壁が障害となる第１レーザダイオード２
の位置調整は専用治具上で済ませておき、ハウジング２
０に組み込んだ後は全ての調整をハウジング２０の大き
く開いた上方から行うことができ、調整作業が極めて容
易である。
て構造は、第１例及び第２例のいずれにおいても、ハウ
ジング２０の側壁が障害となる第１レーザダイオード２
の位置調整は専用治具上で済ませておき、ハウジング２
０に組み込んだ後は全ての調整をハウジング２０の大き
く開いた上方から行うことができ、調整作業が極めて容
易である。
【００３０】なお、本発明に係る光源装置及び光ビーム
走査光学装置は前記実施例に限定するものではなく、そ
の要旨の範囲内で種々に変更することができる。例え
ば、二つのレーザダイオード２，３の光ビームを結合す
る素子としては、プリズムを組み合わせたビームスプリ
ッタ４以外に、無偏光ハーフミラー面を有する平板及び
偏光特性を有するフィルタミラー面を有する平板を組み
合わせたものであってもよい。
走査光学装置は前記実施例に限定するものではなく、そ
の要旨の範囲内で種々に変更することができる。例え
ば、二つのレーザダイオード２，３の光ビームを結合す
る素子としては、プリズムを組み合わせたビームスプリ
ッタ４以外に、無偏光ハーフミラー面を有する平板及び
偏光特性を有するフィルタミラー面を有する平板を組み
合わせたものであってもよい。
【００３１】また、図２に二点鎖線で示すように、いま
ひとつのマルチビーム方式の光源ユニット１’を設け、
その光ビームをビームスプリッタ６によってポリゴンミ
ラー１２へ入射させてもよい。この場合は光源ユニット
１又は１’を選択的に切り換えて駆動する。例えば、光
源ユニット１は画素密度が４００ｄｐｉ、光源ユニット
１’は６００ｄｐｉである。
ひとつのマルチビーム方式の光源ユニット１’を設け、
その光ビームをビームスプリッタ６によってポリゴンミ
ラー１２へ入射させてもよい。この場合は光源ユニット
１又は１’を選択的に切り換えて駆動する。例えば、光
源ユニット１は画素密度が４００ｄｐｉ、光源ユニット
１’は６００ｄｐｉである。
【図１】本発明の一実施形態である光ビーム走査光学装
置の概略構成を示す斜視図。
置の概略構成を示す斜視図。
【図２】前記光ビーム走査光学装置の平面図。
【図３】前記光ビーム走査光学装置の垂直方向断面図。
【図４】本発明に係る光源装置の組立て構造の第１例を
示す平面図。
示す平面図。
【図５】図４の正面図。
【図６】図５の右側面図。
【図７】図５の左側面図。
【図８】図４〜図７に示されている第１例の模式図。
【図９】本発明に係る光源装置の組立て構造の第２例を
示す平面図。
示す平面図。
【図１０】図９の正面図。
【図１１】図１０の背面図。
【図１２】図１０の右側面図。
【図１３】図１０の左側面図。
【図１４】図９〜図１３に示されている第２例の模式
図。
図。
【図１５】ハウジングを示す斜視図。
１，１’…光源ユニット ２，３…レーザダイオード ４…ビームスプリッタ １２…ポリゴンミラー ２０…ハウジング ２２…水平基準面（床面） ３２，３３，５２，５３…可動保持台 ４５，４６，６３，６５，６６…調整ねじ Ｂ…光軸
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ // Ｂ４１Ｊ 2/44 Ｂ４１Ｊ 3/00 Ｄ
Claims (4)
- 【請求項１】 上方に開放された略箱形のハウジングの
水平基準面上に設置される光源装置において、 前記水平基準面に対して略垂直な方向に光ビームを放射
する光源と、 前記光源を保持し、光ビームの放射方向と直交する面内
での位置を前記ハウジングの上方から調整可能に設置さ
れた可動保持部材と、 を備えたことを特徴とする光源装置。 - 【請求項２】 上方に開放された略箱形のハウジングの
水平基準面上に設置される光源装置において、 前記水平基準面に対して略平行な方向に第１の光ビーム
を放射する第１の光源と、 前記水平基準面に対して略垂直な方向に第２の光ビーム
を放射する第２の光源と、 前記第１の光ビームを透過させると共に前記第２の光ビ
ームを第１の光ビームと同一の進行方向に反射させるビ
ーム結合素子と、 前記第１の光源を保持する第１の可動保持部材と、 前記第２の光源を保持する第２の可動保持部材と、 前記水平基準面上に固定され、前記第１及び第２の可動
保持部材を位置調整可能に保持する固定保持部材と、 前記第２の可動保持部材を前記固定保持部材に対して第
２の光ビームの放射方向と直交する面内での位置を前記
ハウジングの上方から調整可能な調整手段と、 を備えたことを特徴とする光源装置。 - 【請求項３】 上方に開放された略箱形のハウジング
と、 前記ハウジングの床面と略平行な面上で光ビームを偏向
走査する偏向器と、 前記偏向器の偏向走査面と略直交する面内に光ビームを
放射する光源と、 前記光源から放射された光ビームを反射させて前記偏向
器に導く光学素子と、 前記光源を保持し、光ビームの放射方向と直交する面内
での位置を前記ハウジングの上方から調整可能に設置さ
れた可動保持部材と、 を備えたことを特徴とする光ビーム走査光学装置。 - 【請求項４】 上方に開放された略箱形のハウジング
と、 前記ハウジングの床面と略平行な面上で光ビームを偏向
走査する偏向器と、 前記偏向器の偏向走査面と略平行な面内に第１の光ビー
ムを放射する第１の光源と、 前記偏向器の偏向走査面と略直交する面内に第２の光ビ
ームを放射する第２の光源と、 前記第１の光ビームを透過させて前記偏向器に導くと共
に前記第２の光ビームを第１の光ビームと同一の進行方
向に反射させて偏向器に導くビーム結合素子と、 前記第１の光源を保持する第１の可動保持部材と、 前記第２の光源を保持する第２の可動保持部材と、 前記ハウジングの床面上に固定され、前記第１及び第２
の可動保持部材を位置調整可能に保持する固定保持部材
と、 前記第２の可動保持部材を前記固定保持部材に対して第
２の光ビームの放射方向と直交する面内での位置を前記
ハウジングの上方から調整可能な調整手段と、 を備えたことを特徴とする光ビーム走査光学装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9018429A JPH10214016A (ja) | 1997-01-31 | 1997-01-31 | 光源装置及び光ビーム走査光学装置 |
| US08/947,266 US5969843A (en) | 1997-01-31 | 1997-10-08 | Light source device and light beam scanning optical apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9018429A JPH10214016A (ja) | 1997-01-31 | 1997-01-31 | 光源装置及び光ビーム走査光学装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10214016A true JPH10214016A (ja) | 1998-08-11 |
Family
ID=11971413
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9018429A Pending JPH10214016A (ja) | 1997-01-31 | 1997-01-31 | 光源装置及び光ビーム走査光学装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5969843A (ja) |
| JP (1) | JPH10214016A (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6169623B1 (en) * | 1997-11-25 | 2001-01-02 | Xerox Corporation | Raster output scanner with a field replaceable collimator assembly |
| DE10009321A1 (de) * | 1999-03-01 | 2000-09-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | Abtastoptik |
| US6856436B2 (en) * | 2002-06-26 | 2005-02-15 | Innovations In Optics, Inc. | Scanning light source system |
| US7151557B2 (en) * | 2004-03-19 | 2006-12-19 | Lexmark International, Inc. | Collimation assembly for adjusting laser light sources in a multi-beamed laser scanning unit |
| JP2005288825A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Sharp Corp | 光ビーム走査装置及び画像形成装置 |
| US7554144B2 (en) * | 2006-04-17 | 2009-06-30 | Macronix International Co., Ltd. | Memory device and manufacturing method |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4918702A (en) * | 1987-12-02 | 1990-04-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Laser unit |
| JP2676518B2 (ja) * | 1988-01-12 | 1997-11-17 | キヤノン株式会社 | 走査光学装置 |
| US5255015A (en) * | 1992-06-03 | 1993-10-19 | Eastman Kodak Company | Athermally compensated optical head for a laser scanner |
-
1997
- 1997-01-31 JP JP9018429A patent/JPH10214016A/ja active Pending
- 1997-10-08 US US08/947,266 patent/US5969843A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5969843A (en) | 1999-10-19 |
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