JPH10214016A - 光源装置及び光ビーム走査光学装置 - Google Patents
光源装置及び光ビーム走査光学装置Info
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- JPH10214016A JPH10214016A JP9018429A JP1842997A JPH10214016A JP H10214016 A JPH10214016 A JP H10214016A JP 9018429 A JP9018429 A JP 9018429A JP 1842997 A JP1842997 A JP 1842997A JP H10214016 A JPH10214016 A JP H10214016A
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- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
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- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
- G02B26/123—Multibeam scanners, e.g. using multiple light sources or beam splitters
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
- B41J2/47—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light
- B41J2/471—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror
- B41J2/473—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror using multiple light beams, wavelengths or colours
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光源の位置調整をハウジングの開放された上
方から容易に行うことのできる光源装置及び光ビーム走
査光学装置を得る。 【解決手段】 電子写真感光体上に二つの光源から放射
された光ビームで2ラインずつ走査する光ビーム走査光
学装置。その光源ユニット1は第1レーザダイオード2
を保持する第1可動保持台32と第2レーザダイオード
3を保持する第2可動保持台33を備えている。第2可
動保持台33はねじ46をゆるめることで基台上でx,
y方向に2次元的に位置調整可能とされている。
方から容易に行うことのできる光源装置及び光ビーム走
査光学装置を得る。 【解決手段】 電子写真感光体上に二つの光源から放射
された光ビームで2ラインずつ走査する光ビーム走査光
学装置。その光源ユニット1は第1レーザダイオード2
を保持する第1可動保持台32と第2レーザダイオード
3を保持する第2可動保持台33を備えている。第2可
動保持台33はねじ46をゆるめることで基台上でx,
y方向に2次元的に位置調整可能とされている。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光源装置及び光ビ
ーム走査光学装置、詳しくはレーザプリンタやデジタル
複写機の画像書込み手段として用いられる光源装置及び
光ビーム走査光学装置に関する。
ーム走査光学装置、詳しくはレーザプリンタやデジタル
複写機の画像書込み手段として用いられる光源装置及び
光ビーム走査光学装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、電子写真感光体への画像書込み手
段として種々の光ビーム走査光学装置が知られている。
それらは、基本的に、光源ユニットから放射された光ビ
ームをポリゴンミラーで偏向走査し、fθレンズ等を介
して感光体上に結像している。そして、各種光学部材は
図15に示す上方に開放された箱形のハウジング100
に収納されている。例えば、光源ユニットはハウジング
100の凹所101に、ポリゴンミラーは凹所102
に、fθレンズは凹所103にそれぞれ収納され、種々
の調整作業の後、図示しない蓋部材で閉じられる。
段として種々の光ビーム走査光学装置が知られている。
それらは、基本的に、光源ユニットから放射された光ビ
ームをポリゴンミラーで偏向走査し、fθレンズ等を介
して感光体上に結像している。そして、各種光学部材は
図15に示す上方に開放された箱形のハウジング100
に収納されている。例えば、光源ユニットはハウジング
100の凹所101に、ポリゴンミラーは凹所102
に、fθレンズは凹所103にそれぞれ収納され、種々
の調整作業の後、図示しない蓋部材で閉じられる。
【0003】ところで、近年では、画素密度を高めた
り、画像書込み速度を高めることが求められ、そのため
に、2個の光源を設置して、それぞれの光ビームを副走
査方向に近接した状態で偏向走査し、1回の走査で2ラ
インずつ画像を書き込むマルチビーム方式の光学装置が
開発されている。
り、画像書込み速度を高めることが求められ、そのため
に、2個の光源を設置して、それぞれの光ビームを副走
査方向に近接した状態で偏向走査し、1回の走査で2ラ
インずつ画像を書き込むマルチビーム方式の光学装置が
開発されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、マルチビー
ム方式では、二つの光源を前記凹所101に収納するこ
とになるが、各光ビームの位置合わせを行う際にそれぞ
れの光源(レーザダイオード)を保持する部材を矢印h
1,h2方向から位置調整する必要がある。しかし、この
調整にはハウジング100の側壁が障害となり、少なく
とも矢印h1,h2のいずれかの方向には側壁に開口を形
成し、この開口を通じてドライバ等の調整具を挿入して
調整する必要があった。このように光源ユニットをハウ
ジングに組み込んだ後に側方から位置調整を行うことは
困難かつ煩雑であった。
ム方式では、二つの光源を前記凹所101に収納するこ
とになるが、各光ビームの位置合わせを行う際にそれぞ
れの光源(レーザダイオード)を保持する部材を矢印h
1,h2方向から位置調整する必要がある。しかし、この
調整にはハウジング100の側壁が障害となり、少なく
とも矢印h1,h2のいずれかの方向には側壁に開口を形
成し、この開口を通じてドライバ等の調整具を挿入して
調整する必要があった。このように光源ユニットをハウ
ジングに組み込んだ後に側方から位置調整を行うことは
困難かつ煩雑であった。
【0005】そこで、本発明の目的は、光源の位置調整
を容易に行うことのできる光源装置及び光ビーム走査光
学装置を提供することにある。
を容易に行うことのできる光源装置及び光ビーム走査光
学装置を提供することにある。
【0006】
【発明の要旨及び効果】以上の目的を達成するため、本
発明は、上方に開放された略箱形のハウジングの水平基
準面上に設置される光源装置において、光源を可動保持
部材に前記水平基準面に対して略垂直な方向に光ビーム
を放射するように取り付け、可動保持部材の光ビームの
放射方向と直交する面内での位置をハウジングの上方か
ら調整可能とした。
発明は、上方に開放された略箱形のハウジングの水平基
準面上に設置される光源装置において、光源を可動保持
部材に前記水平基準面に対して略垂直な方向に光ビーム
を放射するように取り付け、可動保持部材の光ビームの
放射方向と直交する面内での位置をハウジングの上方か
ら調整可能とした。
【0007】さらに、本発明に係る光ビーム走査光学装
置は、上方に開放された略箱形のハウジングと、このハ
ウジングの床面と略平行な面上で光ビームを偏向走査す
る偏向器と、この偏向器の偏向走査面と略直交する面内
に光ビームを放射する光源と、この光源から放射された
光ビームを反射して前記偏向器に導く光学素子と、前記
光源を保持し、光ビームの放射方向と直交する面内での
位置を前記ハウジングの上方から調整可能に設置された
可動保持部材とを備えている。
置は、上方に開放された略箱形のハウジングと、このハ
ウジングの床面と略平行な面上で光ビームを偏向走査す
る偏向器と、この偏向器の偏向走査面と略直交する面内
に光ビームを放射する光源と、この光源から放射された
光ビームを反射して前記偏向器に導く光学素子と、前記
光源を保持し、光ビームの放射方向と直交する面内での
位置を前記ハウジングの上方から調整可能に設置された
可動保持部材とを備えている。
【0008】以上の構成からなる光源装置及び光ビーム
走査光学装置にあっては、光源を保持する可動保持部材
をハウジングに設置した後、ハウジングの上方から光ビ
ームの光軸位置を微調整する。ハウジングの上方は大き
く開口されているため、従来の如くハウジングの側壁が
障害となることなく、容易に微調整を行うことができ
る。
走査光学装置にあっては、光源を保持する可動保持部材
をハウジングに設置した後、ハウジングの上方から光ビ
ームの光軸位置を微調整する。ハウジングの上方は大き
く開口されているため、従来の如くハウジングの側壁が
障害となることなく、容易に微調整を行うことができ
る。
【0009】特に、本発明は二つの光源を設けたマルチ
ビーム方式の光源装置及び光ビーム走査光学装置に有効
である。マルチビーム方式では偏向器に向かう二つの光
ビームの光軸を揃えるという煩雑な微調整が必要とな
る。本発明では一方の光源の光軸を正確に微調整してお
けば、他方の光源の光軸をハウジングに組み込んだ状態
でハウジングの上方から容易に微調整することができ
る。
ビーム方式の光源装置及び光ビーム走査光学装置に有効
である。マルチビーム方式では偏向器に向かう二つの光
ビームの光軸を揃えるという煩雑な微調整が必要とな
る。本発明では一方の光源の光軸を正確に微調整してお
けば、他方の光源の光軸をハウジングに組み込んだ状態
でハウジングの上方から容易に微調整することができ
る。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る光源装置及び
光ビーム走査光学装置の実施形態について添付図面を参
照して説明する。
光ビーム走査光学装置の実施形態について添付図面を参
照して説明する。
【0011】図1〜図3において、光ビーム走査光学装
置は、概略、光源ユニット1と、シリンドリカルレンズ
11とポリゴンミラー12と3本のfθレンズ13,1
4,15及びシリンドリカルレンズ16と、平面ミラー
17と、これらの光学部材を収納するハウジング20と
で構成されている。
置は、概略、光源ユニット1と、シリンドリカルレンズ
11とポリゴンミラー12と3本のfθレンズ13,1
4,15及びシリンドリカルレンズ16と、平面ミラー
17と、これらの光学部材を収納するハウジング20と
で構成されている。
【0012】光源ユニット1は、互いに直交方向に光ビ
ームB1,B2を放射する第1及び第2レーザダイオード
2,3と、二つのプリズムを半透膜を介して接合したビ
ームスプリッタ4と、コリメータレンズ5とからなる。
第1レーザダイオード2から放射された光ビームB
1は、ビームスプリッタ4の半透膜を透過して直進し、
コリメータレンズ5によって平行光(又は収束光)とさ
れる。第2レーザダイオード3から放射された光ビーム
B2は、ビームスプリッタ4の半透膜で90゜に反射さ
れ、コリメータレンズ5によって平行光(又は収束光)
とされる。光ビームB1,B2はスプリッタ4で同一進行
方向に結合されるが、互いに副走査方向に数μmの間隔
で近接して進行する。
ームB1,B2を放射する第1及び第2レーザダイオード
2,3と、二つのプリズムを半透膜を介して接合したビ
ームスプリッタ4と、コリメータレンズ5とからなる。
第1レーザダイオード2から放射された光ビームB
1は、ビームスプリッタ4の半透膜を透過して直進し、
コリメータレンズ5によって平行光(又は収束光)とさ
れる。第2レーザダイオード3から放射された光ビーム
B2は、ビームスプリッタ4の半透膜で90゜に反射さ
れ、コリメータレンズ5によって平行光(又は収束光)
とされる。光ビームB1,B2はスプリッタ4で同一進行
方向に結合されるが、互いに副走査方向に数μmの間隔
で近接して進行する。
【0013】コリメータレンズ5から出射されさた光ビ
ームB1,B2は、シリンドリカルレンズ11を介してポ
リゴンミラー12に到達する。シリンドリカルレンズ1
1は光ビームB1,B2をポリゴンミラー12の反射面近
傍に主走査方向に長い線状に集光する。ポリゴンミラー
12は矢印a方向に一定角速度で回転駆動される。光ビ
ームB1,B2はポリゴンミラー12の回転に基づいて各
反射面で等角速度に偏向走査され、fθレンズ13,1
4,15及びシリンドリカルレンズ16を透過し、平面
ミラー17で下方に反射される。その後、光ビーム
B1,B2はハウジング20のスリット21を通過して感
光体ドラム25上で結像すると共に、矢印b方向に走査
する。即ち、この光学系では1回の走査で2ラインを同
時に書き込む。
ームB1,B2は、シリンドリカルレンズ11を介してポ
リゴンミラー12に到達する。シリンドリカルレンズ1
1は光ビームB1,B2をポリゴンミラー12の反射面近
傍に主走査方向に長い線状に集光する。ポリゴンミラー
12は矢印a方向に一定角速度で回転駆動される。光ビ
ームB1,B2はポリゴンミラー12の回転に基づいて各
反射面で等角速度に偏向走査され、fθレンズ13,1
4,15及びシリンドリカルレンズ16を透過し、平面
ミラー17で下方に反射される。その後、光ビーム
B1,B2はハウジング20のスリット21を通過して感
光体ドラム25上で結像すると共に、矢印b方向に走査
する。即ち、この光学系では1回の走査で2ラインを同
時に書き込む。
【0014】fθレンズ13,14,15はポリゴンミ
ラー12で等角速度に偏向された光ビームB1,B2を感
光体ドラム25上での主走査速度を等速に補正(歪曲収
差補正)機能を有している。シリンドリカルレンズ16
は前記シリンドリカルレンズ11と同様に副走査方向に
のみパワーを有し、二つのレンズ11,16が協働して
ポリゴンミラーの面倒れ誤差を補正する。
ラー12で等角速度に偏向された光ビームB1,B2を感
光体ドラム25上での主走査速度を等速に補正(歪曲収
差補正)機能を有している。シリンドリカルレンズ16
は前記シリンドリカルレンズ11と同様に副走査方向に
のみパワーを有し、二つのレンズ11,16が協働して
ポリゴンミラーの面倒れ誤差を補正する。
【0015】感光体ドラム25は矢印c方向に一定速度
で回転駆動され、ポリゴンミラー12及びfθレンズ1
3,14,15による矢印b方向への主走査と、感光体
ドラム25の矢印c方向への副走査によって感光体ドラ
ム25上に画像(静電潜像)が書き込まれる。
で回転駆動され、ポリゴンミラー12及びfθレンズ1
3,14,15による矢印b方向への主走査と、感光体
ドラム25の矢印c方向への副走査によって感光体ドラ
ム25上に画像(静電潜像)が書き込まれる。
【0016】次に、光源ユニット1の組立て構造の第1
例について図4〜図8を参照して説明する。図4〜図7
は光源ユニット1を各方向から図示したもの、図8は構
造を模式的に示したもので、説明の簡略化のために主に
図8を参照して説明する。なお、以下の説明でx方向と
はビームスプリッタ4から射出される光軸Bに対して平
行な方向、y方向とはx方向に対して水平面上で直交す
る方向、z方向とは、x,y方向に直交する方向をい
う。
例について図4〜図8を参照して説明する。図4〜図7
は光源ユニット1を各方向から図示したもの、図8は構
造を模式的に示したもので、説明の簡略化のために主に
図8を参照して説明する。なお、以下の説明でx方向と
はビームスプリッタ4から射出される光軸Bに対して平
行な方向、y方向とはx方向に対して水平面上で直交す
る方向、z方向とは、x,y方向に直交する方向をい
う。
【0017】この光源ユニット組立て構造は、基台3
1,31’、第1レーザダイオード2を保持する第1可
動保持台32、第2レーザダイオード3を保持する第2
可動保持台33、コリメータレンズ5を保持する鏡胴3
4、スリット板35(但し、図6では図示を省略してい
る)によって構成されている。基台31はねじ41によ
ってハウジング20の水平基準面(床面)22上に固定
される。いまひとつの基台31’は前記ビームスプリッ
タ4を保持し、基台31の光軸Bに対して平行な面31
a上に、x方向に位置調整可能にねじ43によって取り
付けられている。鏡胴34はこの基台31’の光軸Bに
対して平行な面31’上に、x方向に位置調整可能に板
ベルト36で締め付けられた状態で取り付けられてい
る。板ベルト36はその両端部でねじ44によって基台
31’上に固定されている。なお、鏡胴34を保持する
面31a’は、図示されていないが、光軸Bと平行に延
在するV形状の溝である。
1,31’、第1レーザダイオード2を保持する第1可
動保持台32、第2レーザダイオード3を保持する第2
可動保持台33、コリメータレンズ5を保持する鏡胴3
4、スリット板35(但し、図6では図示を省略してい
る)によって構成されている。基台31はねじ41によ
ってハウジング20の水平基準面(床面)22上に固定
される。いまひとつの基台31’は前記ビームスプリッ
タ4を保持し、基台31の光軸Bに対して平行な面31
a上に、x方向に位置調整可能にねじ43によって取り
付けられている。鏡胴34はこの基台31’の光軸Bに
対して平行な面31’上に、x方向に位置調整可能に板
ベルト36で締め付けられた状態で取り付けられてい
る。板ベルト36はその両端部でねじ44によって基台
31’上に固定されている。なお、鏡胴34を保持する
面31a’は、図示されていないが、光軸Bと平行に延
在するV形状の溝である。
【0018】第1可動保持台32は基台31の光軸Bに
対して垂直な面31b上に、y,z方向に位置調整可能
にねじ45によって取り付けられている。第2可動保持
台33は基板31’の光軸Bに対して平行な面31b’
上に、x,y方向に位置調整可能にねじ46によって取
り付けられている。
対して垂直な面31b上に、y,z方向に位置調整可能
にねじ45によって取り付けられている。第2可動保持
台33は基板31’の光軸Bに対して平行な面31b’
上に、x,y方向に位置調整可能にねじ46によって取
り付けられている。
【0019】ここで、以上の構成からなる組立て構造の
組立て方法及び調整方法について説明する。ビームスプ
リッタ4が接着されている基台31’に鏡胴34を板ベ
ルト36及びねじ44で仮止めした状態で、基台31’
を基台31上にねじ43で仮止めする。また、第1及び
第2可動保持台32,33をそれぞれ基台31,31’
にねじ45,46で仮止めする。
組立て方法及び調整方法について説明する。ビームスプ
リッタ4が接着されている基台31’に鏡胴34を板ベ
ルト36及びねじ44で仮止めした状態で、基台31’
を基台31上にねじ43で仮止めする。また、第1及び
第2可動保持台32,33をそれぞれ基台31,31’
にねじ45,46で仮止めする。
【0020】位置調整は、まず、ねじ43をゆるめて基
台31’をねじ43とその取付け孔とのクリアランスの
範囲でx方向に1次元的に移動させて基台31上に固定
する。ここでは、コリメータレンズ5を仮想上の光軸B
に対して位置決めする。次に、ねじ44をゆるめて鏡胴
34をx方向に位置調整し、光ビームのピント合わせを
行う。さらに、ねじ45をゆるめて第1可動保持台32
をねじ45とその取付け孔とのクリアランスの範囲で
y,z方向に2次元的に移動させる。ここでは、第1レ
ーザダイオード2の光ビーム放射位置が決められる。
台31’をねじ43とその取付け孔とのクリアランスの
範囲でx方向に1次元的に移動させて基台31上に固定
する。ここでは、コリメータレンズ5を仮想上の光軸B
に対して位置決めする。次に、ねじ44をゆるめて鏡胴
34をx方向に位置調整し、光ビームのピント合わせを
行う。さらに、ねじ45をゆるめて第1可動保持台32
をねじ45とその取付け孔とのクリアランスの範囲で
y,z方向に2次元的に移動させる。ここでは、第1レ
ーザダイオード2の光ビーム放射位置が決められる。
【0021】以上の調整作業は専用の調整治具上で行わ
れ、光源ユニット1はこの状態で他の光学部材が組み込
まれているハウジング20に組み込まれる。即ち、ねじ
41によって基台31がハウジング20の水平基準面2
2上に固定される。その後は、ねじ46をゆるめて第2
可動保持台33をねじ46とその取付け孔とのクリアラ
ンスの範囲でx,y方向に2次元的に移動させる。ここ
では、第2レーザダイオード3の光ビーム放射位置が決
められる。ハウジング20に関しては、以上の調整作業
の後、図示しない蓋部材で閉じられる。
れ、光源ユニット1はこの状態で他の光学部材が組み込
まれているハウジング20に組み込まれる。即ち、ねじ
41によって基台31がハウジング20の水平基準面2
2上に固定される。その後は、ねじ46をゆるめて第2
可動保持台33をねじ46とその取付け孔とのクリアラ
ンスの範囲でx,y方向に2次元的に移動させる。ここ
では、第2レーザダイオード3の光ビーム放射位置が決
められる。ハウジング20に関しては、以上の調整作業
の後、図示しない蓋部材で閉じられる。
【0022】次に、光源ユニット1の組立て構造の第2
例について図9〜図14を参照して説明する。図9〜図
13は光源ユニット1を各方向から図示したもの、図1
4は構造を模式的に示したもので、説明の簡略化のため
に主に図14を参照して説明する。この第2例は基本的
には前記第1例と同様の構造からなるが、第2レーザダ
イオード3をz方向にも調整可能とした点で異なってい
る。
例について図9〜図14を参照して説明する。図9〜図
13は光源ユニット1を各方向から図示したもの、図1
4は構造を模式的に示したもので、説明の簡略化のため
に主に図14を参照して説明する。この第2例は基本的
には前記第1例と同様の構造からなるが、第2レーザダ
イオード3をz方向にも調整可能とした点で異なってい
る。
【0023】この光源ユニット組立て構造は、基台5
1,51’、第1レーザダイオード2を保持する第1可
動保持台52、第2レーザダイオード3を保持する第2
可動保持台53、コリメータレンズ5を保持する鏡胴5
4、スリット板55によって構成されている。基台51
はビームスプリッタ4を保持し、ねじ61によってハウ
ジング20の水平基準面(床面)22上に固定される。
いまひとつの基台51’は背面側(図11参照)におい
てブラケット57及びねじ62を介して基台51に固定
され、正面側(図10参照)においてコイルばね58で
上方に付勢された状態で基台51に螺着されたねじ63
によって押圧されている。即ち、この基台51’はねじ
63を進退させることによって背面側のブラケット57
を支点として正面側がz方向に上下動可能である。
1,51’、第1レーザダイオード2を保持する第1可
動保持台52、第2レーザダイオード3を保持する第2
可動保持台53、コリメータレンズ5を保持する鏡胴5
4、スリット板55によって構成されている。基台51
はビームスプリッタ4を保持し、ねじ61によってハウ
ジング20の水平基準面(床面)22上に固定される。
いまひとつの基台51’は背面側(図11参照)におい
てブラケット57及びねじ62を介して基台51に固定
され、正面側(図10参照)においてコイルばね58で
上方に付勢された状態で基台51に螺着されたねじ63
によって押圧されている。即ち、この基台51’はねじ
63を進退させることによって背面側のブラケット57
を支点として正面側がz方向に上下動可能である。
【0024】鏡胴54は基台51の光軸Bに対して平行
な面51a上に、x方向に位置調整可能に板ベルト56
で締め付けた状態で取り付けられている。板ベルト56
はその両端部でねじ64によって基台51上に固定され
ている。なお、鏡胴54を保持する面51aは、光軸B
と平行に延在するV形状の溝であることは前記第1例と
同様である。
な面51a上に、x方向に位置調整可能に板ベルト56
で締め付けた状態で取り付けられている。板ベルト56
はその両端部でねじ64によって基台51上に固定され
ている。なお、鏡胴54を保持する面51aは、光軸B
と平行に延在するV形状の溝であることは前記第1例と
同様である。
【0025】第1可動保持台52は基台51の光軸Bに
対して垂直な面51b上に、x,y方向に位置調整可能
にねじ65によって取り付けられている。第2可動保持
台53は基台51’の光軸Bに対して平面な面51a’
上に、x,y方向に位置調整可能にねじ66によって取
り付けられている。
対して垂直な面51b上に、x,y方向に位置調整可能
にねじ65によって取り付けられている。第2可動保持
台53は基台51’の光軸Bに対して平面な面51a’
上に、x,y方向に位置調整可能にねじ66によって取
り付けられている。
【0026】ここで、以上の構成からなる組立て構造の
組立て方法及び調整方法について説明する。ビームスプ
リッタ4が接着されている基台51に基台51’を背面
側でブラケット57及びねじ62で固定し、正面側でコ
イルばね58を介在させてねじ63を基台51に螺着す
る。また、基台51上に鏡胴54を板ベルト56及びね
じ64で仮止めする。さらに、第1及び第2可動保持台
52,53をそれぞれ基台51,51’にねじ65,6
6で仮止めする。
組立て方法及び調整方法について説明する。ビームスプ
リッタ4が接着されている基台51に基台51’を背面
側でブラケット57及びねじ62で固定し、正面側でコ
イルばね58を介在させてねじ63を基台51に螺着す
る。また、基台51上に鏡胴54を板ベルト56及びね
じ64で仮止めする。さらに、第1及び第2可動保持台
52,53をそれぞれ基台51,51’にねじ65,6
6で仮止めする。
【0027】位置調整は、まず、ねじ64をゆるめて鏡
胴54をx方向に位置調整し、光ビームのピント合わせ
を行う。次に、ねじ65をゆるめて第1可動保持台52
をねじ65とその取付け孔とのクリアランスの範囲で
y,z方向に2次元的に移動させる。ここでは、第1レ
ーザダイオード2の光ビーム放射位置が決められる。
胴54をx方向に位置調整し、光ビームのピント合わせ
を行う。次に、ねじ65をゆるめて第1可動保持台52
をねじ65とその取付け孔とのクリアランスの範囲で
y,z方向に2次元的に移動させる。ここでは、第1レ
ーザダイオード2の光ビーム放射位置が決められる。
【0028】以上の調整作業は専用の調整治具上で行わ
れ、光源ユニット1はこの状態で他の光学部材が組み込
まれているハウジング20に組み込まれる。即ち、ねじ
61によって基台51がハウジング20の水平基準面2
2上に固定される。その後は、ねじ63を基台51に対
して螺出入させることで第2可動保持台53を基台5
1’と共にz方向に移動させ、第2レーザダイオード3
のピント合わせを単独で行う。同時に、ねじ66をゆる
めて第2可動保持台53をねじ66とその取付け孔との
クリアランスの範囲でx,y方向に2次元的に移動させ
る。ここでは、第2レーザダイオード3の光ビーム放射
位置が決められる。
れ、光源ユニット1はこの状態で他の光学部材が組み込
まれているハウジング20に組み込まれる。即ち、ねじ
61によって基台51がハウジング20の水平基準面2
2上に固定される。その後は、ねじ63を基台51に対
して螺出入させることで第2可動保持台53を基台5
1’と共にz方向に移動させ、第2レーザダイオード3
のピント合わせを単独で行う。同時に、ねじ66をゆる
めて第2可動保持台53をねじ66とその取付け孔との
クリアランスの範囲でx,y方向に2次元的に移動させ
る。ここでは、第2レーザダイオード3の光ビーム放射
位置が決められる。
【0029】以上説明した如く、光源ユニット1の組立
て構造は、第1例及び第2例のいずれにおいても、ハウ
ジング20の側壁が障害となる第1レーザダイオード2
の位置調整は専用治具上で済ませておき、ハウジング2
0に組み込んだ後は全ての調整をハウジング20の大き
く開いた上方から行うことができ、調整作業が極めて容
易である。
て構造は、第1例及び第2例のいずれにおいても、ハウ
ジング20の側壁が障害となる第1レーザダイオード2
の位置調整は専用治具上で済ませておき、ハウジング2
0に組み込んだ後は全ての調整をハウジング20の大き
く開いた上方から行うことができ、調整作業が極めて容
易である。
【0030】なお、本発明に係る光源装置及び光ビーム
走査光学装置は前記実施例に限定するものではなく、そ
の要旨の範囲内で種々に変更することができる。例え
ば、二つのレーザダイオード2,3の光ビームを結合す
る素子としては、プリズムを組み合わせたビームスプリ
ッタ4以外に、無偏光ハーフミラー面を有する平板及び
偏光特性を有するフィルタミラー面を有する平板を組み
合わせたものであってもよい。
走査光学装置は前記実施例に限定するものではなく、そ
の要旨の範囲内で種々に変更することができる。例え
ば、二つのレーザダイオード2,3の光ビームを結合す
る素子としては、プリズムを組み合わせたビームスプリ
ッタ4以外に、無偏光ハーフミラー面を有する平板及び
偏光特性を有するフィルタミラー面を有する平板を組み
合わせたものであってもよい。
【0031】また、図2に二点鎖線で示すように、いま
ひとつのマルチビーム方式の光源ユニット1’を設け、
その光ビームをビームスプリッタ6によってポリゴンミ
ラー12へ入射させてもよい。この場合は光源ユニット
1又は1’を選択的に切り換えて駆動する。例えば、光
源ユニット1は画素密度が400dpi、光源ユニット
1’は600dpiである。
ひとつのマルチビーム方式の光源ユニット1’を設け、
その光ビームをビームスプリッタ6によってポリゴンミ
ラー12へ入射させてもよい。この場合は光源ユニット
1又は1’を選択的に切り換えて駆動する。例えば、光
源ユニット1は画素密度が400dpi、光源ユニット
1’は600dpiである。
【図1】本発明の一実施形態である光ビーム走査光学装
置の概略構成を示す斜視図。
置の概略構成を示す斜視図。
【図2】前記光ビーム走査光学装置の平面図。
【図3】前記光ビーム走査光学装置の垂直方向断面図。
【図4】本発明に係る光源装置の組立て構造の第1例を
示す平面図。
示す平面図。
【図5】図4の正面図。
【図6】図5の右側面図。
【図7】図5の左側面図。
【図8】図4〜図7に示されている第1例の模式図。
【図9】本発明に係る光源装置の組立て構造の第2例を
示す平面図。
示す平面図。
【図10】図9の正面図。
【図11】図10の背面図。
【図12】図10の右側面図。
【図13】図10の左側面図。
【図14】図9〜図13に示されている第2例の模式
図。
図。
【図15】ハウジングを示す斜視図。
1,1’…光源ユニット 2,3…レーザダイオード 4…ビームスプリッタ 12…ポリゴンミラー 20…ハウジング 22…水平基準面(床面) 32,33,52,53…可動保持台 45,46,63,65,66…調整ねじ B…光軸
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI // B41J 2/44 B41J 3/00 D
Claims (4)
- 【請求項1】 上方に開放された略箱形のハウジングの
水平基準面上に設置される光源装置において、 前記水平基準面に対して略垂直な方向に光ビームを放射
する光源と、 前記光源を保持し、光ビームの放射方向と直交する面内
での位置を前記ハウジングの上方から調整可能に設置さ
れた可動保持部材と、 を備えたことを特徴とする光源装置。 - 【請求項2】 上方に開放された略箱形のハウジングの
水平基準面上に設置される光源装置において、 前記水平基準面に対して略平行な方向に第1の光ビーム
を放射する第1の光源と、 前記水平基準面に対して略垂直な方向に第2の光ビーム
を放射する第2の光源と、 前記第1の光ビームを透過させると共に前記第2の光ビ
ームを第1の光ビームと同一の進行方向に反射させるビ
ーム結合素子と、 前記第1の光源を保持する第1の可動保持部材と、 前記第2の光源を保持する第2の可動保持部材と、 前記水平基準面上に固定され、前記第1及び第2の可動
保持部材を位置調整可能に保持する固定保持部材と、 前記第2の可動保持部材を前記固定保持部材に対して第
2の光ビームの放射方向と直交する面内での位置を前記
ハウジングの上方から調整可能な調整手段と、 を備えたことを特徴とする光源装置。 - 【請求項3】 上方に開放された略箱形のハウジング
と、 前記ハウジングの床面と略平行な面上で光ビームを偏向
走査する偏向器と、 前記偏向器の偏向走査面と略直交する面内に光ビームを
放射する光源と、 前記光源から放射された光ビームを反射させて前記偏向
器に導く光学素子と、 前記光源を保持し、光ビームの放射方向と直交する面内
での位置を前記ハウジングの上方から調整可能に設置さ
れた可動保持部材と、 を備えたことを特徴とする光ビーム走査光学装置。 - 【請求項4】 上方に開放された略箱形のハウジング
と、 前記ハウジングの床面と略平行な面上で光ビームを偏向
走査する偏向器と、 前記偏向器の偏向走査面と略平行な面内に第1の光ビー
ムを放射する第1の光源と、 前記偏向器の偏向走査面と略直交する面内に第2の光ビ
ームを放射する第2の光源と、 前記第1の光ビームを透過させて前記偏向器に導くと共
に前記第2の光ビームを第1の光ビームと同一の進行方
向に反射させて偏向器に導くビーム結合素子と、 前記第1の光源を保持する第1の可動保持部材と、 前記第2の光源を保持する第2の可動保持部材と、 前記ハウジングの床面上に固定され、前記第1及び第2
の可動保持部材を位置調整可能に保持する固定保持部材
と、 前記第2の可動保持部材を前記固定保持部材に対して第
2の光ビームの放射方向と直交する面内での位置を前記
ハウジングの上方から調整可能な調整手段と、 を備えたことを特徴とする光ビーム走査光学装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9018429A JPH10214016A (ja) | 1997-01-31 | 1997-01-31 | 光源装置及び光ビーム走査光学装置 |
US08/947,266 US5969843A (en) | 1997-01-31 | 1997-10-08 | Light source device and light beam scanning optical apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9018429A JPH10214016A (ja) | 1997-01-31 | 1997-01-31 | 光源装置及び光ビーム走査光学装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10214016A true JPH10214016A (ja) | 1998-08-11 |
Family
ID=11971413
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9018429A Pending JPH10214016A (ja) | 1997-01-31 | 1997-01-31 | 光源装置及び光ビーム走査光学装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5969843A (ja) |
JP (1) | JPH10214016A (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6169623B1 (en) * | 1997-11-25 | 2001-01-02 | Xerox Corporation | Raster output scanner with a field replaceable collimator assembly |
DE10009321A1 (de) * | 1999-03-01 | 2000-09-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | Abtastoptik |
US6856436B2 (en) * | 2002-06-26 | 2005-02-15 | Innovations In Optics, Inc. | Scanning light source system |
US7151557B2 (en) * | 2004-03-19 | 2006-12-19 | Lexmark International, Inc. | Collimation assembly for adjusting laser light sources in a multi-beamed laser scanning unit |
JP2005288825A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Sharp Corp | 光ビーム走査装置及び画像形成装置 |
US7554144B2 (en) * | 2006-04-17 | 2009-06-30 | Macronix International Co., Ltd. | Memory device and manufacturing method |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4918702A (en) * | 1987-12-02 | 1990-04-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Laser unit |
JP2676518B2 (ja) * | 1988-01-12 | 1997-11-17 | キヤノン株式会社 | 走査光学装置 |
US5255015A (en) * | 1992-06-03 | 1993-10-19 | Eastman Kodak Company | Athermally compensated optical head for a laser scanner |
-
1997
- 1997-01-31 JP JP9018429A patent/JPH10214016A/ja active Pending
- 1997-10-08 US US08/947,266 patent/US5969843A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5969843A (en) | 1999-10-19 |
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