JP4677657B2 - 走査光学装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、プリンタ、複写機等の画像形成装置において画像書き込みに使用される走査光学装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
この種の走査光学装置は、光源と、この光源が発生する光線を線状集光するための集光光学系と、この集光光学系により線状集光された光線を偏向する偏向器と、この偏向器により偏向された光線を被走査面に集光し、等速走査させるための走査光学系とを備えている。従来、走査光学系は、fθレンズを含むレンズにより構成されたものが一般的であった。しかし、マルチビームタイプの半導体レーザ光源を使用した場合、レーザ光線の波長のばらつきを避けることができないため、走査光学系に倍率色収差を補正するための高価な色消しレンズを使用する必要がある。
【0003】
これに対して、fθミラー(結像ミラー)と、平面ミラーとにより構成した走査光学系(ミラー走査光学系)を備える走査光学装置が提供されている(特開平1−200221号公報参照)。このミラー走査光学系であれば、上記色消しレンズを使用する必要はない。
【0004】
しかし、このミラー走査光学系では、光線がfθミラーの母線を通過しないように設定する必要がある。また、レンズのみで構成した走査光学系の場合と比較して被走査面上の光線の軌跡(走査線)が曲線となりやすい。さらに、fθミラーの配置誤差や振動が、光学性能に大きな影響を受ける。そのため、上記fθミラーと平面ミラーとにより走査光学系を構成し、かつ、fθミラーの姿勢を調整する調整機構を設けた走査光学装置が提案されている(特開平7−5384号公報参照)。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、fθミラーに調整機構を設けた場合、以下の問題がある。
【0006】
まず、光線の入射位置や走査線の曲がりを調整するためにfθミラーの姿勢を調整すると、fθ特性、光線径、収差等の走査光学系の他の光学特性が影響を受ける。すなわち、fθミラーの姿勢と光学性能は一対一に対応していないため、好適な調整を行うことは困難である。
【0007】
また、誤差感度の高い光学素子であるfθミラーに調整機構を設けるため、偏向器を回転駆動するためのモータ等の振動の影響で光学性能が損なわれるおそれがある。
【0008】
さらに、一般に、fθミラーは所望の曲面形状を得るために加工が比較的容易な樹脂製であるので、剛性が比較的低い。そのため、調整作業時に変形し、光学性能が損なわれるおそれもある。
【0009】
本発明は、上記従来の走査光学装置における問題を解決するためになされたものであり、結像レンズと平面レンズとを備える走査光学系において、他の光学性能を低下させることなく光線の入射位置や走査線の曲がりを調整可能とし、かつ、振動や調整作業に起因する光学性能低下を防止することを課題としている。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明は、光源と、この光源が発生する光線を線状集光するための集光光学系と、この集光光学系により線状集光された光線を偏向する偏向器と、この偏向器により偏向された光線を被走査面に集光し、等速走査させるための走査光学系とを備える走査光学装置であって、上記走査光学系は、主走査方向と副走査方向にパワーを有する第1結像ミラーと、主走査方向と副走査方向にパワーを有する第2結像ミラーと、平面ミラーと、この平面ミラーの姿勢を調整するための調整機構とを備え、上記第1結像ミラーの副走査方向のパワーは、上記第2結像ミラーの副走査方向のパワーよりも大きく、上記偏向器からの光線が上記平面ミラーで折り返され、上記平面ミラーよりも上記偏向器の近くに配置された上記第1結像ミラーで再び折り返され、上記第2結像ミラーに導かれるように、上記第1及び第2結像ミラーと上記平面ミラーが配置されている、走査光学装置を提供する。
【0011】
本発明の走査光学装置は、主走査方向にも副走査方向にもパワーを有しない平面ミラーの姿勢を調整機構により調整するため、fθ特性、光線径、収差等の走査光学系の他の光学特性に影響を与えることなく、被走査面又は結像ミラーへの光線の入射位置や被走査面上での走査線の曲がりを調整することができる。調整機構により姿勢を調整することができる平面ミラーを副走査方向のパワーが最も大きい結像ミラー(第1の結像ミラー)の前に配置しているので、この結像ミラーへの光線の入射位置を高精度で調整することができる。
【0012】
また、結像ミラーと平面ミラーのみにより走査光学系を構成した場合には、誤差感度の高い光学素子である結像ミラーや平面ミラーを、振動源である偏向器の駆動機構から離れた位置に配置することができるため、振動に起因する走査光学系の光学性能低下を防止することができる。
【0013】
さらに、平面ミラーは、曲面形状を有する結象ミラーと比較して剛性が高いため、調整時の変形による走査光学系の光学性能低下を防止することができる。
【0014】
具体的には、上記調整機構は、主走査面に平行であって光軸に対して垂直な方向の軸回りの平面ミラーの回転角度位置、平面ミラーの光軸方向の位置、及び平面ミラーの主走査面に対して垂直な方向の位置のうち、少なくとも一つを調整可能である。
【0017】
【発明の実施の形態】
次に、図面に示す本発明の実施形態について詳細に説明する。
(第1実施形態)
図1及び図2に示す本発明の第1実施形態の走査光学装置は、光源1、集光光学系2、ポリゴンミラー(偏向器)3及び走査光学系4を備えている。
【0018】
上記光源1はマルチファイバータイプのレーザ光源であり、一次光源である複数の半導体レーザにそれぞれ結合レンズを介して光ファイバーの入射端を結合し、二次光源である各光ファイバーの出射端をアラインメントブロックにより直線状に配列してなる。
【0019】
上記集光光学系2は、光源1が発生する光線(レーザ光)をポリゴンミラー3の偏向面上で主走査方向(被走査面9a上では図においてX方向)に長い線状に集光するためのものであり、光源1が射出するレーザ光を所定光束幅の略平行光とするコリメータレンズ6と、副走査方向(被走査面9a上では図においてY方向)に正のパワーを有するシリンドリカルレンズ7を備えている。なお、集光光学系2は、開口規制板等の他の光学素子を備えていてもよい。
【0020】
上記ポリゴンミラー3は、駆動用モータ(駆動機構)8により副走査方向に平行な軸線回りに等角速度で回転駆動され、光線を等角速度で走査する。
【0021】
上記走査光学系4は、ポリゴンミラー3により偏向された光線を感光体9の表面である被走査面9aに集光させる機能と、光線を被走査面9a上で等速走査させる機能とを有している。
【0022】
本実施形態における走査光学系4は、それぞれ主走査方向及び副走査方向にパワーを有する第1及び第2のfθミラー(結像ミラー)11A,11Bと、主走査方向にも副走査方向にもパワーを有しない1枚の平面レンズ12Aとを備えている。第1及び第2のfθミラー11A,11Bの副走査方向のパワーは、第2のfθミラー11Bのほうが、第1のfθミラー11Aよりも大きくなるように設定されている。
【0023】
また、これらのfθミラー11A,11B及び平面ミラー12は、ポリゴンミラー3から被走査面9aに到る光路上に、ポリゴンミラー3側から、第1のfθミラー11A、平面ミラー12A、及び第2のfθミラー11Bの順で配置されている。すなわち、本実施形態では、第1のfθミラー11Aと、第2のfθミラー11Bとの間の光路に平面ミラー12Aが配置されている。また、これらのfθミラー11A,11B及び平面ミラー12Aは、ポリゴンミラー3による光線より下側に被走査面9aが位置するように配置されている。
【0024】
fθミラー11A,11B及び平面ミラー12Aを上記の配置としたため、上記ポリゴンミラー3により反射された光線は、まず、第1のfθミラー11Aの反射面14で図2おいてポリゴンミラー3側へ反射され、平面ミラー12Aに入射する。平面ミラー12Aに入射した光線は、その反射面13により再びポリゴンミラー3の反射方向と同方向に反射され、第2のfθミラー11Bに入射する。第2のfθミラー11Bの反射面14で反射された光線が、被走査面9aに入射する。
【0025】
走査光学系4は、上記平面ミラー12Aの姿勢を調整するための調整機構16を備えている。この調整機構16は、軸Lに対する平面ミラー12Aの回転角度位置と、平面ミラー12Aの光軸方向の位置とを調整することができる。軸Lは、主走査面(ポリゴンミラー3により偏向される光線を含む面)に対して平行であり、光軸に対して垂直である。
【0026】
図3及び図4に示すように、調整機構16は平面ミラー12Aの長手方向両端部を支持する一対のスライド部材20A,20Bを備えている。このスライド部材20A,20Bは、矢印Aで示すように、図示しないレール上を移動させて所望の位置で固定することができる。よって、このスライド部材20A,20Bの位置を調整することにより、平面ミラー12Aの光軸方向の位置を調整することができる。
【0027】
各スライド部材20A,20Bの上面側には、図4に示すように、切欠21が設けられており、この切欠21に平面ミラー12Aの下側部が配置される。また、切欠21の近傍にはそれぞれ支持金具23A,23Bが固定されている。各支持金具23A,23Bは、スライド部材20A,20Bにねじにより固定された基部24と、この基部24から所定角度をなして図において上方に延びる支持部25とを備えている。この支持部25には平面ミラー12Aの面頂点と当接する突起25aが設けられている。また、支持部25は基部24との接続部を支点として弾性的に回動できるようになっている。
【0028】
図4に示すように、一方のスライド部材20Aには支持金具23Aと切欠21を挟んで対向するように、ねじ用金具27が固定されている。このねじ用金具27は、スライド部材20Aにねじにより固定された基部28と、この基部28から所定角度をなして図において上方に延びるねじ保持部29を備えている。このねじ保持部29に設けられたねじ孔に調整ねじ30が螺合しており、ねじ保持部29を貫通する調整ねじ20の先端が平面ミラー12Aと当接している。
【0029】
このように平面ミラー12は、支持金具23A,23Bの突起25aと、調整ねじ30の先端により、いわゆる三点支持の状態でスライド部材20A,20Bに対して固定されている。そして、調整ねじ30を回転させて、その先端を前進又は後退させることにより、平面ミラー12Aの軸L回りの回転角度位置を調整することができる。
【0030】
本実施形態の走査光学装置では、走査光学系4をfθミラー11A,11Bと平面ミラー12Aにより構成しているため、倍率色収差を補正するための光学要素を走査光学系4に設ける必要がない。
【0031】
また、調整機構16により、平面ミラー12Aの軸L回りの回転角度位置と光軸方向の位置を調整することができ、それによって第2のfθミラー11Bへの光線の入射位置を調整することができる。また、平面ミラー12Aの姿勢を調整することにより、被走査面9a上における走査線の曲がりを修正することができる。
【0032】
さらに、平面ミラー12Aは主走査方向にも副走査方向にもパワーを有していないため、光線径、fθ特性、収差等の走査光学系4の他の光学特性に影響を与えることなく、光線の入射位置や走査線の曲がりを調整することができる。
【0033】
さらにまた、一般にfθミラーは副走査方向のパワーが大きいほど光線の入射位置を正確に設定する必要があるが、本実施形態では、調整機構16により姿勢を調整することができる平面ミラー12Aを副走査方向のパワーが大きい第2のfθミラー11Bの前に配置しているので、この第2のfθミラー11Bへの光線の入射位置を高精度で調整することができる。
【0034】
一般に、平面ミラーは湾曲形状のfθミラーと比較して剛性が高く、上記調整機構16により姿勢を調整しても変形することがない。そのため、調整時のミラーの変形に起因する走査光学系の光学性能低下を防止することができる。
【0035】
また、誤差感度の高い光学素子であるfθミラー11A,11B及び平面ミラー12を振動源であるポリゴンミラー3の駆動用モータ8から離れた位置に配置できるため、振動に起因する走査光学系4の光学性能の低下を防止することができる。
【0036】
(第2実施形態)
図5は、本発明の第2実施形態の走査光学装置を示している。この走査光学装置における光源1及び集光光学系2(図1参照)やポリゴンミラー3は、第1実施形態のものと同一である。
この走査光学装置では、第2のfθミラー11Bと被走査面9aとの間の光路に、2枚の平面ミラー12B,12Cを配置している。また、これらの平面ミラー12B,12Cのうち、被走査面9a側の平面ミラー12Cに、軸L回りの回転角度位置及び光軸方向の位置を調整するための調整機構16を設け、走査光学系4の光路の他の部分に影響を与えることなく、被走査面9aにおける光線の照射位置を調整できるようにしている。
第2実施形態のその他の構成及び作用は第1実施形態と同様であるので、同一の要素には同一の符号を付して説明を省略する。
【0037】
(第3実施形態)
図6に示す本発明の第3実施形態の走査光学装置では、第2のfθミラー11Bと被走査面9aとの間の光路に、平面ミラー12Aを配置している。また、この平面ミラー12Aに軸L回りの回転角度位置及び光軸方向の位置を調整するための調整機構16を設け、走査光学系4の光路の他の部分に影響を与えることなく、fθミラー11Bへの光線の入射位置や走査線の曲がりを調整できるようにしている。
第3実施形態のその他の構成及び作用は第1実施形態と同様であるので、同一の要素には同一の符号を付して説明を省略する。
【0038】
(第4実施形態)
図7及び図8は、本発明の第4実施形態を示している。
本実施形態における走査光学系4は、第1及び第2のfθミラー11A,11Bを備えている。第1及び第2のfθミラー11A,11Bの副走査方向のパワーは、第1のfθミラー11Aのほうが、第2のfθミラー11Bよりも大きくなるように設定されている。また、走査光学系4は、1枚の平面ミラー12Aを備えている。これらのfθミラー11A,11B及び平面ミラー12Aは、ポリゴンミラー3から被走査面9aに到る光路上に、ポリゴンミラー3側から、平面ミラー12A、第1のfθミラー11A及び第2のfθミラー11Bの順で配置されている。すなわち、本実施形態では、ポリゴンミラー3と第1のfθミラー11Aとの間の光路に平面ミラー12Aが配置されている。また、これらのfθミラー11A,11B及び平面ミラー12Aは、ポリゴンミラー3による光線よりも下側に被走査面9aが位置するように配置されている。さらに、上記第1及び第2のfθミラー11A,11Bは、収差特性を良好にするために、反射角度θ1,θ2がほぼ等しくなるように配置されている。
【0039】
fθミラー11A,11B及び平面ミラー12Aを上記の配置としたため、上記ポリゴンミラー3により反射された光線は、まず、平面ミラー12Aの反射面13で図8おいてポリゴンミラー3側へ反射され、第1のfθミラー11Aに入射する。第1のfθミラー11Aに入射した光線は、その反射面14により再びポリゴンミラー3の反射方向と同方向に反射され、第2のfθミラー11Bに入射する。第2のfθミラー11Bの反射面14で反射された光線が、被走査面9aに入射する。
【0040】
本実施形態の走査光学装置では、走査光学系4をfθミラー11A,11Bと平面ミラー12とにより構成しているため、倍率色収差を補正するための光学要素を走査光学系4に設ける必要がない。
【0041】
また、上記のように調整機構16により平面ミラー12の姿勢を調整することができるため、光線径、fθ特性、収差等の走査光学系の他の光学特性に影響を与えることなく、fθミラー11Aへの光線の入射位置や走査線の曲がりを調整することができる。
【0042】
さらに、調整機構16により姿勢を調整することができる平面ミラー12Aを、副走査方向のパワーが大きく入射位置を正確に設定する必要がある第1のfθミラー11Aの前に配置しており、この第1のfθミラー11Aへの光線の入射位置を高精度で調整することができる。
【0043】
さらにまた、fθミラー11A,11Bよりも剛性の高い平面ミラー12Aの姿勢を調整するため、調整時のミラーの変形に起因する走査光学系4の光学性能低下を防止することができる。
【0044】
上記のように収差の点からは、第1及び第2のfθミラー11A,11Bは、反射角度θ1,θ2がほぼ等しくなるように配置することが好ましい。図9は、平面ミラー12Aがない場合に、この反射角度θ1,θ2がほぼ等しく、かつ、ポリゴンミラー3による光線の反射方向に対して、被走査面9aへの光線の入射方向が直角に近い角度をなすように、第1及び第2のfθミラー11A,11Bを配置した比較例である。この比較例では、第1のfθミラー11Aをポリゴンミラー3及びモータ8に対して比較的接近して配置する必要がある。
【0045】
これに対して、平面ミラー12Aを備える本実施形態における走査光学系4では、反射角度θ1,θ2がほぼ等しく、かつ、ポリゴンミラー3による光線よりも下側に被走査面9aが配置されているが、誤差感度の高い光学素子であるfθミラー11A,11B及び平面ミラー12は、振動源であるポリゴンミラー3のモータ8から比較的離れた位置に配置されている。従って、本実施形態では、振動に起因する走査光学系4の光学性能の低下を防止することができる。
【0046】
(第5実施形態)
図10は、本発明の第5実施形態の走査光学装置を示している。この走査光学装置における光源1及び集光光学系2(図7参照)やポリゴンミラー3は、第4実施形態のものと同一である。
【0047】
この走査光学装置では、第2のfθミラー11Bと被走査面9aとの間の光路に、2枚の平面ミラー12B,12Cを配置している。また、これらの平面ミラー12B,12Cのうち、被走査面9a側の平面ミラー12Cに、軸L回りの回転角度位置及び光軸方向の位置を調整するための調整機構16を設けている。このように被走査面9aの直前に配置した平面ミラー12Bの調整機構16を設ければ、走査光学系4の光路の他の部分に影響を与えることなく、被走査面9aにおける光線の照射位置(副走査方向)を調整することができる。
第5実施形態のその他の構成及び作用は第4実施形態と同様であるので、同一の要素には同一の符号を付して説明を省略する。
【0048】
(第6実施形態)
図11に示すように、本発明の第6実施形態の走査光学装置における走査光学系4は、それぞれ主走査方向及び副走査方向にパワーを有する第1及び第2のfθミラー11A,11Bを備えている。第1及び第2のfθミラー11A,11Bの副走査方向のパワーは、第1のfθミラー11Aのほうが、第2のfθミラー11Bよりも大きくなるように設定されている。また、走査光学系4は、主走査方向にも副走査方向にもパワーを有しない2枚の平面ミラー12A,12Bを備えている。これらのfθミラー11A,11B及び平面ミラー12A,12Bは、ポリゴンミラー3から被走査面9aに到る光路上に、ポリゴンミラー3側から、第1の平面ミラー12A、第1のfθミラー11A、第2のfθミラー11B及び第2の平面ミラー12Bの順で配置されている。すなわち、本実施形態では、ポリゴンミラー3と第1のfθミラー11Aとの間の光路に平面ミラー12Aが配置されている。また、これらのfθミラー11A,11B及び平面ミラー12A,12Bは、ポリゴンミラー3による光線の反射方向に対して、被走査面9aへの光線の入射方向がほぼ同方向となるように配置されている。さらに、上記第1及び第2のfθミラー11A,11Bは、収差特性を良好にするために、反射角度θ1,θ2がほぼ等しくなるように配置されている。
【0049】
fθミラー11A,11B及び平面ミラー12A,12Bを上記の配置としたため、上記ポリゴンミラー3により反射された光線は、まず、平面ミラー12Aの反射面13で図11おいてポリゴンミラー3側へ反射され、第1のfθミラー11Aに入射する。第1のfθミラー11Aに入射した光線は、その反射面14により再びポリゴンミラー3の反射方向と同方向に反射され、第2のfθミラー11Bに入射する。第2のfθミラー11Bの反射面14で反射された光線は、さらに平面ミラー12Bで反射され、被走査面9aに入射する。
【0050】
また、本実施形態における走査光学系4は、上記平面ミラー12Aの軸Lに対する回転角度位置と、光軸方向の位置とを調整するための調整機構16を備えている。
【0051】
本実施形態の走査光学装置では、走査光学系4をfθミラー11A,11Bと平面ミラー12A,12Bにより構成しているため、倍率色収差を補正するための光学要素を走査光学系4に設ける必要がない。
【0052】
また、上記のように調整機構16により主走査方向にも副走査方向にもパワーを有しない平面ミラー12Aの姿勢を調整することができるため、光線径、fθ特性、収差等の走査光学系の他の光学特性に影響を与えることなく、fθミラー11Aへの光線の入射位置や走査線の曲がりを調整することができる。
【0053】
さらに、調整機構16により姿勢を調整することができる平面ミラー12Aを、副走査方向のパワーが大きく入射位置を正確に設定する必要がある第1のfθミラー11Aの前に配置しており、この第1のfθミラー11Aへの光線の入射位置を高精度で調整することができる。
【0054】
さらにまた、fθミラー11A,11Bよりも剛性の高い平面ミラーの姿勢を調整するため、調整時のミラーの変形に起因する走査光学系4の光学性能低下を防止することができる。
【0055】
上記のように収差特性の点からは、第1及び第2のfθミラー11A,11Bは、反射角度θ1,θ2がほぼ等しくなるように配置することが好ましいが、図12に示すように、平面ミラー12Aがない場合に、この反射角度θ1,θ2がほぼ等しく、かつ、ポリゴンミラー3による光線の反射方向に対して、被走査面9aへの光線の入射方向が同方向となるようにするには、第2のfθミラー11Bをポリゴンミラー3及びモータ8に対して比較的接近して配置する必要がある。
【0056】
これに対して、平面ミラー12A,12Bを備える本実施形態における走査光学系4では、反射角度θ1,θ2がほぼ等しく、かつ、ポリゴンミラー3による光線の反射方向に対して、被走査面9aへの光線の入射方向が同方向であるが、誤差感度の高い光学素子であるfθミラー11A,11B及び平面ミラー12A,12Bは、振動源であるポリゴンミラー3のモータ8から比較的離れた位置に配置されている。従って、本実施形態では、振動に起因する走査光学系4の光学性能の低下を防止することができる。
【0057】
本発明は、上記実施形態に限定されず、種々の変形が可能である。走査光学系は、少なくとも1枚の結像ミラーと、少なくとも1枚の平面ミラーと、少なくとも1枚の平面ミラーの姿勢を調整するための調整機構とを備えていればよく、結像ミラー及び平面ミラーの配置は上記のものに限定されない。また、走査光学系は、結像ミラー及び平面ミラー以外に、トーリックレンズ、シリンダレンズ、ハーフミラー等の他の光学素子を備えていてもよい。さらに、調整機構は、平面ミラーの主走査面に平行であって光軸に対して垂直な方向の軸回りの回転角度位置、平面ミラーの光軸方向の位置、及び平面ミラーの主走査面に対して垂直な方向の位置のうち、少なくとも一つを調整可能であれは゛、その構造は特に限定されない。さらにまた、結像レンズは、主走査方向と副走査方向のいずれか一方にパワーを有するものであってもよい。
【0058】
光源は、マルチビームタイプの半導体レーザ光源に限定されず、単一光源の半導体レーザ等であってもよい。また、偏向器は、ポリゴンミラーに限定されず、ガルバノミラー等の他の偏向器であってもよい。
【0059】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明の走査光学装置では、走査光学系が少なくとも1枚の結像ミラーと少なくとも1枚の平面ミラーを備え、主走査方向にも副走査方向にもパワーを有しない平面ミラーの姿勢を調整機構により調整することができるため、fθ特性、光線径、収差等の走査光学系の他の光学特性に影響を与えることなく、光線の入射位置や被走査面上での走査線の曲がりを調整することができる。調整機構により姿勢を調整することができる平面ミラーを副走査方向のパワーが最も大きい結像ミラー(第1の結像ミラー)の前に配置しているので、この結像ミラーへの光線の入射位置を高精度で調整することができる。
【0060】
また、結像ミラーと平面ミラーのみにより走査光学系を構成した場合には、誤差感度の高い光学素子である結像ミラーや平面ミラーを、振動源である偏向器の駆動機構から離れた位置に配置することができるため、振動に起因する走査光学系の光学性能低下を防止することができる。
【0061】
さらに、平面ミラーは、曲面形状を有する結象ミラーと比較して剛性が高いため、調整時の変形による走査光学系の光学性能低下を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1実施形態に係る走査光学装置を示す概略斜視図である。
【図2】 本発明の第1実施形態に係る走査光学装置を示す主走査方向から見た概略図である。
【図3】 調整機構を示す斜視図である。
【図4】 図3のIV-IV線での拡大断面図である。
【図5】 本発明の第2実施形態に係る走査光学装置を示す主走査方向から見た概略図である。
【図6】 本発明の第3実施形態に係る走査光学装置を示す主走査方向から見た概略図である。
【図7】 本発明の第4実施形態に係る走査光学装置を示す概略斜視図である。
【図8】 本発明の第4実施形態に係る走査光学装置を示す主走査方向から見た概略図である。
【図9】 第4実施形態の効果を説明するための比較例を示す主走査方向から見た概略図である。
【図10】 本発明の第5実施形態に係る走査光学装置を示す主走査方向から見た概略図である。
【図11】 本発明の第6実施形態に係る走査光学装置を示す主走査方向から見た概略図である。
【図12】 第6実施形態の効果を説明するための比較例を示す主走査方向から見た概略図である。
【符号の説明】
1 光源
2 集光光学系
3 ポリゴンミラー
4 走査光学系
6 コリメータレンズ
7 シリンドリカルレンズ
8 モータ(駆動機構)
9 感光体
9a 被走査面
11A,11B fθミラー(結像ミラー)
12A,12B,12C 平面ミラー
13,14 反射面
16 調整機構
20A,20B スライド部材
21 切欠
23A,23B 支持金具
25a 突起
27 ねじ用金具
30 調整ねじ
L 軸
Claims (2)
- 光源と、この光源が発生する光線を線状集光するための集光光学系と、この集光光学系により線状集光された光線を偏向する偏向器と、この偏向器により偏向された光線を被走査面に集光し、等速走査させるための走査光学系とを備える走査光学装置であって、
上記走査光学系は、主走査方向と副走査方向にパワーを有する第1結像ミラーと、主走査方向と副走査方向にパワーを有する第2結像ミラーと、平面ミラーと、この平面ミラーの姿勢を調整するための調整機構とを備え、
上記第1結像ミラーの副走査方向のパワーは、上記第2結像ミラーの副走査方向のパワーよりも大きく、
上記偏向器からの光線が上記平面ミラーで折り返され、上記平面ミラーよりも上記偏向器の近くに配置された上記第1結像ミラーで再び折り返され、上記第2結像ミラーに導かれるように、上記第1及び第2結像ミラーと上記平面ミラーが配置されている、走査光学装置。 - 上記調整機構は、主走査面に平行であって光軸に対して垂直な方向の軸回りの平面ミラーの回転角度位置、平面ミラーの光軸方向の位置、及び平面ミラーの主走査面に対して垂直な方向の位置のうち、少なくとも一つを調整可能である請求項1に記載の走査光学装置。
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