JPH11242170A - マルチビーム光偏向走査装置 - Google Patents
マルチビーム光偏向走査装置Info
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- JPH11242170A JPH11242170A JP6041798A JP6041798A JPH11242170A JP H11242170 A JPH11242170 A JP H11242170A JP 6041798 A JP6041798 A JP 6041798A JP 6041798 A JP6041798 A JP 6041798A JP H11242170 A JPH11242170 A JP H11242170A
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- source unit
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- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
- B41J2/47—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light
- B41J2/471—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror
- B41J2/473—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror using multiple light beams, wavelengths or colours
Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明は、マルチ光源ユニットの回転調整を容
易に行うことができ、また回転調整後にビス固定をする
に際して、その固定前後において調整量が変化すること
のない、組立性のよいマルチビーム光偏向走査装置を提
供することを目的としている。 【解決手段】本発明は、複数本のレーザ光束を発する光
ビーム光源が回路基板によって駆動・制御され、レーザ
ホルダーによって保持されてなるマルチビーム光源ユニ
ットを備え、該マルチビーム光源ユニットを光学箱に固
定し、該光源からの複数本のレーザ光束を回転多面鏡に
より偏向するようにしたマルチビーム光偏向走査装置に
おいて、前記レーザホルダーは凸部形状または凹部形状
の回転調整用の掴み部を有し、前記マルチビーム光源ユ
ニットを光学箱にネジで固定するに際して、該掴み部を
掴んで該マルチビーム光源ユニットを回転させ、複数本
のレーザ光束の間隔を所定の間隔に調整するように構成
したことを特徴とするものである。
易に行うことができ、また回転調整後にビス固定をする
に際して、その固定前後において調整量が変化すること
のない、組立性のよいマルチビーム光偏向走査装置を提
供することを目的としている。 【解決手段】本発明は、複数本のレーザ光束を発する光
ビーム光源が回路基板によって駆動・制御され、レーザ
ホルダーによって保持されてなるマルチビーム光源ユニ
ットを備え、該マルチビーム光源ユニットを光学箱に固
定し、該光源からの複数本のレーザ光束を回転多面鏡に
より偏向するようにしたマルチビーム光偏向走査装置に
おいて、前記レーザホルダーは凸部形状または凹部形状
の回転調整用の掴み部を有し、前記マルチビーム光源ユ
ニットを光学箱にネジで固定するに際して、該掴み部を
掴んで該マルチビーム光源ユニットを回転させ、複数本
のレーザ光束の間隔を所定の間隔に調整するように構成
したことを特徴とするものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はレーザビームプリン
タ、デジタル複写機等に用いられる画像書き込み用のマ
ルチビーム光偏向走査装置に関するものである。
タ、デジタル複写機等に用いられる画像書き込み用のマ
ルチビーム光偏向走査装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、画像記録に用いられる光偏向走査
装置において、記録速度を上げる手段として、複数のレ
ーザ光束を同時に書き込む方法が知られている。その装
置の概要を図６に示す。同図において、１０１は複数の
レーザ光束を発するマルチビーム光源ユニットである。
ここから発せられた複数本のレーザ光束はシリンドリカ
ルレンズ１０２によって回転多面鏡１０３上において、
紙面上下方向で線状に結像される。回転多面鏡１０３の
図中矢印方向への回転により、複数本のレーザ光束は偏
向走査され、走査レンズ１０４、折り返しミラー１０５
を介して不図示の感光体上に結像される。また、回転多
面鏡１０３によって偏向走査されたレーザ光束の一部は
ＢＤ反射ミラー１０６によって折り曲げられ、ＢＤセン
サー１０７に達し、書き出し位置検知に使われる。ま
た、上記各部品は光学箱１０８に納められる。
装置において、記録速度を上げる手段として、複数のレ
ーザ光束を同時に書き込む方法が知られている。その装
置の概要を図６に示す。同図において、１０１は複数の
レーザ光束を発するマルチビーム光源ユニットである。
ここから発せられた複数本のレーザ光束はシリンドリカ
ルレンズ１０２によって回転多面鏡１０３上において、
紙面上下方向で線状に結像される。回転多面鏡１０３の
図中矢印方向への回転により、複数本のレーザ光束は偏
向走査され、走査レンズ１０４、折り返しミラー１０５
を介して不図示の感光体上に結像される。また、回転多
面鏡１０３によって偏向走査されたレーザ光束の一部は
ＢＤ反射ミラー１０６によって折り曲げられ、ＢＤセン
サー１０７に達し、書き出し位置検知に使われる。ま
た、上記各部品は光学箱１０８に納められる。
【０００３】さらに、マルチビーム光源ユニット１０１
は図７に示すように構成される。同図において、半導体
レーザ２０１は複数個のレーザ光源が光軸Ａに垂直に配
置されている。半導体レーザ２０１から発せられた複数
本のレーザ光束はコリメータレンズ２０２によって、図
７に示すように平行光又は規定の収束光に変換される。
半導体レーザ２０１はレーザ基台２０３に、コリメータ
レンズ２０２は鏡筒２０４にそれぞれ取付けられてい
る。レーザ基台２０３が光軸Ａに垂直な方向（Ｘ，Ｙ方
向）、鏡筒２０４が光軸Ａに平行な方向（Ｚ方向）、に
移動調整された後、レーザホルダー２０５に固定され
る。また、鏡筒２０４には感光体上のスポット形状を決
める為の光学絞り２０６が接着により取り付いている。
また、２０７は半導体レーザ２０１を発光させる為の駆
動回路基板である。
は図７に示すように構成される。同図において、半導体
レーザ２０１は複数個のレーザ光源が光軸Ａに垂直に配
置されている。半導体レーザ２０１から発せられた複数
本のレーザ光束はコリメータレンズ２０２によって、図
７に示すように平行光又は規定の収束光に変換される。
半導体レーザ２０１はレーザ基台２０３に、コリメータ
レンズ２０２は鏡筒２０４にそれぞれ取付けられてい
る。レーザ基台２０３が光軸Ａに垂直な方向（Ｘ，Ｙ方
向）、鏡筒２０４が光軸Ａに平行な方向（Ｚ方向）、に
移動調整された後、レーザホルダー２０５に固定され
る。また、鏡筒２０４には感光体上のスポット形状を決
める為の光学絞り２０６が接着により取り付いている。
また、２０７は半導体レーザ２０１を発光させる為の駆
動回路基板である。
【０００４】レーザホルダー２０５は円筒状の嵌合部２
０５ａを持っており、それを光学箱の壁１０８ａに設け
られた嵌合部１０８ｂに嵌合させることで位置決めが行
われる。マルチビーム光源ユニット１０１は光学箱１０
８の壁１０８ａに取り付けられるが、その際、感光体上
に走査された複数本のレーザ光束の間隔は、マルチビー
ム光源ユニット１０１を光軸周りに回転させることによ
って、規定の間隔に調整される。調整方法は、駆動回路
基板２０７を掴んで光軸周りに回転させて調整を行い、
ビスで固定される。
０５ａを持っており、それを光学箱の壁１０８ａに設け
られた嵌合部１０８ｂに嵌合させることで位置決めが行
われる。マルチビーム光源ユニット１０１は光学箱１０
８の壁１０８ａに取り付けられるが、その際、感光体上
に走査された複数本のレーザ光束の間隔は、マルチビー
ム光源ユニット１０１を光軸周りに回転させることによ
って、規定の間隔に調整される。調整方法は、駆動回路
基板２０７を掴んで光軸周りに回転させて調整を行い、
ビスで固定される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
光偏向走査装置は、前述のようにマルチビーム光源ユニ
ットを、光軸周りに回転させることによって感光体上に
走査される複数本のレーザ光束を規定の間隔に調整し、
光学箱の壁にビスで固定されているため、ビス固定をす
る時にレーザホルダーがビスの回転方向に連れまわりを
おこし、レーザホルダーが回転してしまい、感光体上
で、複数本のレーザ光束の間隔を規定の間隔に調整して
も、ビス固定の際に、その調整を狂わしてしまうという
問題がある。また、マルチビーム光源ユニットの回転調
整を行う時、駆動回路基板を掴んで回転させるが、基板
の形状が回転中心に対して非対称の形状であり、駆動回
路基板を掴んで回転調整を行うのは複雑なクランプ構成
を要し非常に難しかった。このようなことから、駆動回
路基板に回転調整用の穴を設けて、この穴を利用して回
転調整を行う方法も考えられているが、この調整方法に
おいても、駆動回路基板が必要以上に大きくなり、ま
た、大きくなった基板分のコストがかかってしまうとい
う問題がある。
光偏向走査装置は、前述のようにマルチビーム光源ユニ
ットを、光軸周りに回転させることによって感光体上に
走査される複数本のレーザ光束を規定の間隔に調整し、
光学箱の壁にビスで固定されているため、ビス固定をす
る時にレーザホルダーがビスの回転方向に連れまわりを
おこし、レーザホルダーが回転してしまい、感光体上
で、複数本のレーザ光束の間隔を規定の間隔に調整して
も、ビス固定の際に、その調整を狂わしてしまうという
問題がある。また、マルチビーム光源ユニットの回転調
整を行う時、駆動回路基板を掴んで回転させるが、基板
の形状が回転中心に対して非対称の形状であり、駆動回
路基板を掴んで回転調整を行うのは複雑なクランプ構成
を要し非常に難しかった。このようなことから、駆動回
路基板に回転調整用の穴を設けて、この穴を利用して回
転調整を行う方法も考えられているが、この調整方法に
おいても、駆動回路基板が必要以上に大きくなり、ま
た、大きくなった基板分のコストがかかってしまうとい
う問題がある。
【０００６】そこで、本発明は、上記した従来技術の有
する課題を解決し、マルチ光源ユニットの回転調整を容
易に行うことができ、また回転調整後にビス固定をする
に際して、その固定前後において調整量が変化すること
のない、組立性のよいマルチビーム光偏向走査装置を提
供することを目的とするものである。
する課題を解決し、マルチ光源ユニットの回転調整を容
易に行うことができ、また回転調整後にビス固定をする
に際して、その固定前後において調整量が変化すること
のない、組立性のよいマルチビーム光偏向走査装置を提
供することを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を達
成するため、マルチビーム光偏向走査装置をつぎのよう
に構成したことを特徴とするものである。すなわち、本
発明のマルチビーム光偏向走査装置は、複数本のレーザ
光束を発する光ビーム光源が回路基板によって駆動・制
御され、レーザホルダーによって保持されてなるマルチ
ビーム光源ユニットを備え、該マルチビーム光源ユニッ
トを光学箱に固定し、該光源からの複数本のレーザ光束
を回転多面鏡により偏向するようにしたマルチビーム光
偏向走査装置において、前記レーザホルダーは凸部形状
または凹部形状の回転調整用の掴み部を有し、前記マル
チビーム光源ユニットを光学箱にネジで固定するに際し
て、該掴み部を掴んで該マルチビーム光源ユニットを回
転させ、複数本のレーザ光束の間隔を所定の間隔に調整
するように構成したことを特徴としている。また、本発
明のマルチビーム光偏向走査装置は、前記回転調整用の
掴み部が、前記光学箱と前記回路基板との間に位置し、
前記光ビーム光源の光軸と直交する方向に向けて該光学
箱より出っ張るように形成されていることを特徴として
いる。また、本発明のマルチビーム光偏向走査装置は、
前記回転調整用の掴み部が、前記回路基板よりも外側に
はみ出さない大きさであることを特徴としている。ま
た、本発明のマルチビーム光偏向走査装置は、前記マル
チビーム光源ユニットを光学箱へ固定するネジが、前記
光ビーム光源の光軸と直交しかつ該光ビーム光源の中心
を通る線上の、該光ビーム光源を中心とする対称位置に
配置されていることを特徴としている。
成するため、マルチビーム光偏向走査装置をつぎのよう
に構成したことを特徴とするものである。すなわち、本
発明のマルチビーム光偏向走査装置は、複数本のレーザ
光束を発する光ビーム光源が回路基板によって駆動・制
御され、レーザホルダーによって保持されてなるマルチ
ビーム光源ユニットを備え、該マルチビーム光源ユニッ
トを光学箱に固定し、該光源からの複数本のレーザ光束
を回転多面鏡により偏向するようにしたマルチビーム光
偏向走査装置において、前記レーザホルダーは凸部形状
または凹部形状の回転調整用の掴み部を有し、前記マル
チビーム光源ユニットを光学箱にネジで固定するに際し
て、該掴み部を掴んで該マルチビーム光源ユニットを回
転させ、複数本のレーザ光束の間隔を所定の間隔に調整
するように構成したことを特徴としている。また、本発
明のマルチビーム光偏向走査装置は、前記回転調整用の
掴み部が、前記光学箱と前記回路基板との間に位置し、
前記光ビーム光源の光軸と直交する方向に向けて該光学
箱より出っ張るように形成されていることを特徴として
いる。また、本発明のマルチビーム光偏向走査装置は、
前記回転調整用の掴み部が、前記回路基板よりも外側に
はみ出さない大きさであることを特徴としている。ま
た、本発明のマルチビーム光偏向走査装置は、前記マル
チビーム光源ユニットを光学箱へ固定するネジが、前記
光ビーム光源の光軸と直交しかつ該光ビーム光源の中心
を通る線上の、該光ビーム光源を中心とする対称位置に
配置されていることを特徴としている。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明は、上記したように、マル
チビーム光源ユニットのレーザホルダーには、回転調整
用の凸部（もしくは凹部）形状の掴み部が設けられてい
る。マルチビーム光源ユニットが光学箱の壁に嵌合され
た後、この凸部を治具でしっかりと掴んで、マルチビー
ム光源ユニットから発せられる複数本のレーザ光束が、
感光体上で走査される際、規定の間隔になるように回転
調整を行う。本発明においては、このように複数本のレ
ーザ光束の間隔を所定の間隔に調整するためのマルチビ
ーム光源ユニットの回転調整に際して、レーザホルダに
設けられた回転調整用の掴み部を利用することができる
ので、駆動回路基板を利用していた従来のものに比し
て、駆動回路基板を小さくすることができ、また、回転
調整を容易に行うことができる。また、マルチビーム光
源ユニットは回転調整終了後に光学箱にビス固定される
が、その際、前記ユニットはビスの回転方向に回転しよ
うとする。しかしながら、この時、本発明の構成による
と、前記ユニットの凸部形状を回転調整用に用いた治具
でしっかり掴むことにより、前記ユニットをビスの回転
方向に回転しないようにすることができる。以上によ
り、本発明の構成によると、マルチ光源ユニットを回転
調整する際、回転を容易に行え、さらに前記ユニットを
ビス固定する際、その固定前後において調整量が変化す
るのを防止することができ、組立性のよい光偏向走査装
置を実現することができる。
チビーム光源ユニットのレーザホルダーには、回転調整
用の凸部（もしくは凹部）形状の掴み部が設けられてい
る。マルチビーム光源ユニットが光学箱の壁に嵌合され
た後、この凸部を治具でしっかりと掴んで、マルチビー
ム光源ユニットから発せられる複数本のレーザ光束が、
感光体上で走査される際、規定の間隔になるように回転
調整を行う。本発明においては、このように複数本のレ
ーザ光束の間隔を所定の間隔に調整するためのマルチビ
ーム光源ユニットの回転調整に際して、レーザホルダに
設けられた回転調整用の掴み部を利用することができる
ので、駆動回路基板を利用していた従来のものに比し
て、駆動回路基板を小さくすることができ、また、回転
調整を容易に行うことができる。また、マルチビーム光
源ユニットは回転調整終了後に光学箱にビス固定される
が、その際、前記ユニットはビスの回転方向に回転しよ
うとする。しかしながら、この時、本発明の構成による
と、前記ユニットの凸部形状を回転調整用に用いた治具
でしっかり掴むことにより、前記ユニットをビスの回転
方向に回転しないようにすることができる。以上によ
り、本発明の構成によると、マルチ光源ユニットを回転
調整する際、回転を容易に行え、さらに前記ユニットを
ビス固定する際、その固定前後において調整量が変化す
るのを防止することができ、組立性のよい光偏向走査装
置を実現することができる。
【０００９】
【実施例】以下に、本発明の実施例について説明する。 ［実施例１］図１〜図３は、それぞれ本発明の実施例１
の構成を説明するための平面図、第一の側面図、第二の
側面図である。半導体レーザ１は２個のレーザ光源が光
軸Ａに垂直に配置されている。半導体レーザ１から発せ
られた２本のレーザ光束はコリメータレンズ２によっ
て、平行光に変換される。半導体レーザ１はレーザ基台
３に、コリメータレンズ２は鏡筒４にそれぞれ取付けら
れている。レーザ基台３が光軸Ａに垂直な方向（Ｘ，Ｙ
方向）、鏡筒４が光軸Ａに平行な方向（Ｚ方向）、に移
動調整された後、レーザホルダー５に固定される。ま
た、７は半導体レーザ１を発光させる為の駆動回路基板
である。
の構成を説明するための平面図、第一の側面図、第二の
側面図である。半導体レーザ１は２個のレーザ光源が光
軸Ａに垂直に配置されている。半導体レーザ１から発せ
られた２本のレーザ光束はコリメータレンズ２によっ
て、平行光に変換される。半導体レーザ１はレーザ基台
３に、コリメータレンズ２は鏡筒４にそれぞれ取付けら
れている。レーザ基台３が光軸Ａに垂直な方向（Ｘ，Ｙ
方向）、鏡筒４が光軸Ａに平行な方向（Ｚ方向）、に移
動調整された後、レーザホルダー５に固定される。ま
た、７は半導体レーザ１を発光させる為の駆動回路基板
である。
【００１０】レーザホルダー５には、図１、図２に示す
ように凸部形状５ａが設けられており、この凸部形状５
ａを掴んで回転調整が行われる。凸部形状５ａは、回転
調整の時に掴んで調整されるので、掴み易い形状となっ
ている。詳しく説明すると、凸部形状５ａは回転防止治
具９にて掴もうとする時、光学箱８と干渉しないよう
に、光学箱よりも右側（図１）に出っ張っている。ま
た、凸部形状５ａは図の上下方向（図１）で駆動回路基
板７と十分な距離があるため、回転防止治具９で掴み易
くなっている。また、レーザホルダー５は円筒状の嵌合
部５ｂを持っており、それを光学箱の壁８ａに設けられ
た嵌合部８ｂに嵌合させることでＸ，Ｙ方向の位置決め
が行われる。この時、ビス固定はされず、レーザホルダ
ー５に設けられたビス固定座部分５ｃの外周部分の駆動
回路基板７を、押圧治具１０で図中矢印方向に軽く押え
られて仮止めされる。マルチビーム光源ユニットは光軸
周りに回転させることによって、感光体上に走査された
２本のレーザ光束の間隔を規定の間隔に調整される。
ように凸部形状５ａが設けられており、この凸部形状５
ａを掴んで回転調整が行われる。凸部形状５ａは、回転
調整の時に掴んで調整されるので、掴み易い形状となっ
ている。詳しく説明すると、凸部形状５ａは回転防止治
具９にて掴もうとする時、光学箱８と干渉しないよう
に、光学箱よりも右側（図１）に出っ張っている。ま
た、凸部形状５ａは図の上下方向（図１）で駆動回路基
板７と十分な距離があるため、回転防止治具９で掴み易
くなっている。また、レーザホルダー５は円筒状の嵌合
部５ｂを持っており、それを光学箱の壁８ａに設けられ
た嵌合部８ｂに嵌合させることでＸ，Ｙ方向の位置決め
が行われる。この時、ビス固定はされず、レーザホルダ
ー５に設けられたビス固定座部分５ｃの外周部分の駆動
回路基板７を、押圧治具１０で図中矢印方向に軽く押え
られて仮止めされる。マルチビーム光源ユニットは光軸
周りに回転させることによって、感光体上に走査された
２本のレーザ光束の間隔を規定の間隔に調整される。
【００１１】つぎに、この調整方法について説明する。
マルチレーザ光源ユニットが光学箱に仮止めされた状態
で、半導体レーザ１を発光させ、２本のレーザ光束の距
離をカメラとパソコンにて測定する。測定された距離と
規定の距離との差に対して、どのくらいレーザホルダー
５を回転させれば良いかはパソコンにあらかじめプログ
ラムとして組み込まれている。よって、２本のレーザ光
束間の距離が規定の距離になるように、レーザホルダー
５は回転防止治具９によって図２矢印方向に規定量だけ
回転移動される。同時に、押圧治具１０もレーザホルダ
ー５と一体的に回転移動する。マルチレーザ光源ユニッ
トを光学箱に仮止めし続けるために治具１０は駆動回路
基板７を押圧しているが、その押圧力は回転調整がスム
ーズに行える軽い力である。
マルチレーザ光源ユニットが光学箱に仮止めされた状態
で、半導体レーザ１を発光させ、２本のレーザ光束の距
離をカメラとパソコンにて測定する。測定された距離と
規定の距離との差に対して、どのくらいレーザホルダー
５を回転させれば良いかはパソコンにあらかじめプログ
ラムとして組み込まれている。よって、２本のレーザ光
束間の距離が規定の距離になるように、レーザホルダー
５は回転防止治具９によって図２矢印方向に規定量だけ
回転移動される。同時に、押圧治具１０もレーザホルダ
ー５と一体的に回転移動する。マルチレーザ光源ユニッ
トを光学箱に仮止めし続けるために治具１０は駆動回路
基板７を押圧しているが、その押圧力は回転調整がスム
ーズに行える軽い力である。
【００１２】マルチビーム光源ユニットは回転調整が終
わったあとに、光学箱にビス固定される。ビスが固定さ
れる時、レーザホルダー５はビスの回転方向に回転しよ
うとするため、レーザホルダー５には数十Ｎの回転力が
働く。このような回転力がレーザホルダーに働くと、レ
ーザホルダー５が回転してしまう。上記にて調整した２
本のレーザ光束間の距離が変化して、性能を満足しなく
なる。そのため、回転調整の時だけでなく、ビス固定の
時も回転防止治具９にてレーザホルダー５の凸部形状５
ａをしっかりと掴み、回転しないようにする。また、押
圧治具１０はレーザホルダー５のビス固定座５ｃ外周部
分の駆動回路基板７を押圧しているので、ビスを挿入す
るスペースがあり、押圧状態のまま、ビス固定をするこ
とができる。
わったあとに、光学箱にビス固定される。ビスが固定さ
れる時、レーザホルダー５はビスの回転方向に回転しよ
うとするため、レーザホルダー５には数十Ｎの回転力が
働く。このような回転力がレーザホルダーに働くと、レ
ーザホルダー５が回転してしまう。上記にて調整した２
本のレーザ光束間の距離が変化して、性能を満足しなく
なる。そのため、回転調整の時だけでなく、ビス固定の
時も回転防止治具９にてレーザホルダー５の凸部形状５
ａをしっかりと掴み、回転しないようにする。また、押
圧治具１０はレーザホルダー５のビス固定座５ｃ外周部
分の駆動回路基板７を押圧しているので、ビスを挿入す
るスペースがあり、押圧状態のまま、ビス固定をするこ
とができる。
【００１３】このような構成にすることで、マルチビー
ム光源ユニットを回転調整する際、回転を容易に行え、
さらに前記ユニットをビス固定する際、その固定前後に
おいて調整量に変化がない光偏向走査装置を実現するこ
とができる。さらに、回転調整用に駆動回路基板に穴を
設けないので、基板の小型化となる。そして、レーザホ
ルダーに設けた凸部形状は図２において駆動回路基板よ
りも外側にはみ出さない大きさであるため、上記した小
型化が可能となる。ただし、マルチビーム光源ユニット
の大きさに特に制約のない場合には、レーザホルダーの
凸部形状を例えば、図１において、駆動回路基板より左
側に大きくなった形状でもよい。
ム光源ユニットを回転調整する際、回転を容易に行え、
さらに前記ユニットをビス固定する際、その固定前後に
おいて調整量に変化がない光偏向走査装置を実現するこ
とができる。さらに、回転調整用に駆動回路基板に穴を
設けないので、基板の小型化となる。そして、レーザホ
ルダーに設けた凸部形状は図２において駆動回路基板よ
りも外側にはみ出さない大きさであるため、上記した小
型化が可能となる。ただし、マルチビーム光源ユニット
の大きさに特に制約のない場合には、レーザホルダーの
凸部形状を例えば、図１において、駆動回路基板より左
側に大きくなった形状でもよい。
【００１４】［実施例２］図４は、本発明の実施例２の
構成を説明するための側面図で、装置の基本的な構成
は、先の図１〜図３で説明した装置と同様であるので、
同一の機能を有する部材には、同一の符号を付し説明は
省略する。図４（ａ）に示すように実施例１では、マル
チビーム光源ユニットを光学箱に固定するビス固定位置
を、半導体レーザに対して斜め位置に配している。これ
に対して図４（ｂ）に示すように実施例２では、ビス固
定位置を半導体レーザに対して上下方向に配する。すな
わち、ビスは光ビーム光源の光軸と直交しかつ該光ビー
ム光源の中心を通る線上の、該光ビーム光源を中心とす
る対称位置に配置されている。実施例１、実施例２にて
ビス固定する時に、ビスからレーザホルダー５に働く力
の向きはビスから矢印の方向である。そして、回転防止
治具９に働く力と向きは、右に回転すると締っていくネ
ジだと、図４（ａ）中に示すＡであり、実施例２におけ
る図４（ｂ）中の力Ｂの方がはるかに小さい。よって、
ビス固定時に働く回転防止治具９のレーザホルダー５へ
の回転防止力は実施例１よりもはるかに小さく、治具構
成を簡単にすることが可能となる。
構成を説明するための側面図で、装置の基本的な構成
は、先の図１〜図３で説明した装置と同様であるので、
同一の機能を有する部材には、同一の符号を付し説明は
省略する。図４（ａ）に示すように実施例１では、マル
チビーム光源ユニットを光学箱に固定するビス固定位置
を、半導体レーザに対して斜め位置に配している。これ
に対して図４（ｂ）に示すように実施例２では、ビス固
定位置を半導体レーザに対して上下方向に配する。すな
わち、ビスは光ビーム光源の光軸と直交しかつ該光ビー
ム光源の中心を通る線上の、該光ビーム光源を中心とす
る対称位置に配置されている。実施例１、実施例２にて
ビス固定する時に、ビスからレーザホルダー５に働く力
の向きはビスから矢印の方向である。そして、回転防止
治具９に働く力と向きは、右に回転すると締っていくネ
ジだと、図４（ａ）中に示すＡであり、実施例２におけ
る図４（ｂ）中の力Ｂの方がはるかに小さい。よって、
ビス固定時に働く回転防止治具９のレーザホルダー５へ
の回転防止力は実施例１よりもはるかに小さく、治具構
成を簡単にすることが可能となる。
【００１５】［実施例３］図５は、本発明の実施例３の
構成を説明するための平面図で、装置の基本的な構成
は、先の図１〜図４で説明した装置と同様であるので、
同一の機能を有する部材には、同一の符号を付し説明は
省略する。実施例１、実施例２のマルチビーム光源ユニ
ットでは、光軸Ａに垂直な方向（Ｘ，Ｙ方向）と光軸Ａ
に平行な方向（Ｚ方向）の調整を、レーザ基台と鏡筒を
各々移動させることで行っていた。実施例３では、鏡筒
１１でＸ，Ｙ、Ｚ調整を行うマルチビーム光源ユニット
であり、レーザ基台は不要となる。このようなマルチビ
ーム光源ユニットにおいても、実施例１、実施例２と同
様にレーザホルダー１２に凸部形状を設けることで同様
の効果が得られる。
構成を説明するための平面図で、装置の基本的な構成
は、先の図１〜図４で説明した装置と同様であるので、
同一の機能を有する部材には、同一の符号を付し説明は
省略する。実施例１、実施例２のマルチビーム光源ユニ
ットでは、光軸Ａに垂直な方向（Ｘ，Ｙ方向）と光軸Ａ
に平行な方向（Ｚ方向）の調整を、レーザ基台と鏡筒を
各々移動させることで行っていた。実施例３では、鏡筒
１１でＸ，Ｙ、Ｚ調整を行うマルチビーム光源ユニット
であり、レーザ基台は不要となる。このようなマルチビ
ーム光源ユニットにおいても、実施例１、実施例２と同
様にレーザホルダー１２に凸部形状を設けることで同様
の効果が得られる。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
マルチビーム光源ユニットに凸部（もしくは凹部）形状
の掴み部を設けることによって、マルチビーム光源ユニ
ットを回転させ、複数本のレーザ光束の間隔を所定の間
隔に調整するに際して、前記掴み部を掴んで容易に行う
ことができる。また、本発明においては、前記掴み部を
回転調整用に利用するので、従来のように回転調整のた
めに前記ユニットの駆動回路基板に穴を設ける必要がな
いため、その分駆動回路基板を小さく構成することがで
きる。また、本発明においては、マルチビーム光源ユニ
ットの回転調整終了後にビス等で該ユニットを光学箱に
固定する際、前記掴み部を治具でしっかり掴むことによ
り、該ユニットのレーザホルダーが、ビスと一緒の回転
方向に連れまわりすることを防ぐことができるから、該
ユニットの光学箱への固定前後において該ユニットの回
転調整量に変化がなく、その組立性を向上させることが
できる。
マルチビーム光源ユニットに凸部（もしくは凹部）形状
の掴み部を設けることによって、マルチビーム光源ユニ
ットを回転させ、複数本のレーザ光束の間隔を所定の間
隔に調整するに際して、前記掴み部を掴んで容易に行う
ことができる。また、本発明においては、前記掴み部を
回転調整用に利用するので、従来のように回転調整のた
めに前記ユニットの駆動回路基板に穴を設ける必要がな
いため、その分駆動回路基板を小さく構成することがで
きる。また、本発明においては、マルチビーム光源ユニ
ットの回転調整終了後にビス等で該ユニットを光学箱に
固定する際、前記掴み部を治具でしっかり掴むことによ
り、該ユニットのレーザホルダーが、ビスと一緒の回転
方向に連れまわりすることを防ぐことができるから、該
ユニットの光学箱への固定前後において該ユニットの回
転調整量に変化がなく、その組立性を向上させることが
できる。
【図１】本発明の実施例１であるマルチビーム光源ユニ
ットの平面図。
ットの平面図。
【図２】図１の第一の側面図。
【図３】図１の第二の側面図。
【図４】（ａ）は本発明の実施例１であるマルチビーム
光源ユニットの側面図であり、（ｂ）は本発明の実施例
２であるマルチビーム光源ユニットの側面図。
光源ユニットの側面図であり、（ｂ）は本発明の実施例
２であるマルチビーム光源ユニットの側面図。
【図５】本発明の実施例３であるマルチビーム光源ユニ
ットの断面図。
ットの断面図。
【図６】従来の光偏向走査装置の全体構成を説明する斜
視図。
視図。
【図７】従来のマルチビーム光源ユニットを説明する断
面図。
面図。
５、１２：レーザホルダー ５ａ：凸部形状 ７：駆動回路基板 ８：光学箱 ９：回転防止治具 １０：押圧治具
Claims (4)
- 【請求項１】複数本のレーザ光束を発する光ビーム光源
が回路基板によって駆動・制御され、レーザホルダーに
よって保持されてなるマルチビーム光源ユニットを備
え、該マルチビーム光源ユニットを光学箱に固定し、該
光源からの複数本のレーザ光束を回転多面鏡により偏向
するようにしたマルチビーム光偏向走査装置において、 前記レーザホルダーは凸部形状または凹部形状の回転調
整用の掴み部を有し、前記マルチビーム光源ユニットを
光学箱にネジで固定するに際して、該掴み部を掴んで該
マルチビーム光源ユニットを回転させ、複数本のレーザ
光束の間隔を所定の間隔に調整するように構成したこと
を特徴とするマルチビーム光偏向走査装置。 - 【請求項２】前記回転調整用の掴み部は、前記光学箱と
前記回路基板との間に位置し、前記光ビーム光源の光軸
と直交する方向に向けて該光学箱より出っ張るように形
成されていることを特徴とする請求項１に記載のマルチ
ビーム光偏向走査装置。 - 【請求項３】前記回転調整用の掴み部は、前記回路基板
よりも外側にはみ出さない大きさであることを特徴とす
る請求項２に記載のマルチビーム光偏向走査装置。 - 【請求項４】前記マルチビーム光源ユニットを光学箱へ
固定するネジは、前記光ビーム光源の光軸と直交しかつ
該光ビーム光源の中心を通る線上の、該光ビーム光源を
中心とする対称位置に配置されていることを特徴とする
請求項１〜３のいずれか１項に記載のマルチビーム光偏
向走査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6041798A JPH11242170A (ja) | 1998-02-25 | 1998-02-25 | マルチビーム光偏向走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6041798A JPH11242170A (ja) | 1998-02-25 | 1998-02-25 | マルチビーム光偏向走査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11242170A true JPH11242170A (ja) | 1999-09-07 |
Family
ID=13141612
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6041798A Pending JPH11242170A (ja) | 1998-02-25 | 1998-02-25 | マルチビーム光偏向走査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11242170A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1316284C (zh) * | 2003-11-01 | 2007-05-16 | 三星电子株式会社 | 多光束光源单元，激光扫描装置和装配方法 |
| US7277112B2 (en) | 2003-11-05 | 2007-10-02 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Multi-beam light source unit and laser scanning unit having the same structure |
| JP2008064818A (ja) * | 2006-09-05 | 2008-03-21 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置及び画像形成装置 |
| JP2012083470A (ja) * | 2010-10-08 | 2012-04-26 | Konica Minolta Business Technologies Inc | 光源装置 |
| US9329520B2 (en) | 2013-11-21 | 2016-05-03 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Multibeam light source unit, method of adjusting the same, light scanning unit, and electrophotography type image forming apparatus |
| JP2018036441A (ja) * | 2016-08-30 | 2018-03-08 | 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | 光走査装置及び光走査装置を備えた画像形成装置 |
-
1998
- 1998-02-25 JP JP6041798A patent/JPH11242170A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1316284C (zh) * | 2003-11-01 | 2007-05-16 | 三星电子株式会社 | 多光束光源单元，激光扫描装置和装配方法 |
| US7277112B2 (en) | 2003-11-05 | 2007-10-02 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Multi-beam light source unit and laser scanning unit having the same structure |
| JP2008064818A (ja) * | 2006-09-05 | 2008-03-21 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置及び画像形成装置 |
| JP2012083470A (ja) * | 2010-10-08 | 2012-04-26 | Konica Minolta Business Technologies Inc | 光源装置 |
| US9329520B2 (en) | 2013-11-21 | 2016-05-03 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Multibeam light source unit, method of adjusting the same, light scanning unit, and electrophotography type image forming apparatus |
| JP2018036441A (ja) * | 2016-08-30 | 2018-03-08 | 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | 光走査装置及び光走査装置を備えた画像形成装置 |
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