JP2000258710A - 光源装置 - Google Patents

光源装置

Info

Publication number
JP2000258710A
JP2000258710A JP11064992A JP6499299A JP2000258710A JP 2000258710 A JP2000258710 A JP 2000258710A JP 11064992 A JP11064992 A JP 11064992A JP 6499299 A JP6499299 A JP 6499299A JP 2000258710 A JP2000258710 A JP 2000258710A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light source
laser
semiconductor laser
adjusting
holding member
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11064992A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsuyuki Akashi
勝幸 明石
Keiichi Sato
敬一 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Xerox Co Ltd filed Critical Fuji Xerox Co Ltd
Priority to JP11064992A priority Critical patent/JP2000258710A/ja
Publication of JP2000258710A publication Critical patent/JP2000258710A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【課題】半導体レーザーの発光点の位置を移動させるこ
となく、主走査方向の半導体レーザーの光軸の傾きを容
易に調整することができる光源装置を得る。 【解決手段】光学箱31の側面Wには支持台64が固定
される。この支持台64にはコリメータレンズ70が設
けられ、コリメータレンズ70の上部と下部に2つの軸
部72が形成されている。また、基板74にはコリメー
タレンズ70の光軸上に半導体レーザー34が形成さ
れ、半導体レーザー34の発光点を通る直線上に、軸部
72と係合し基板74を主走査方向に揺動可能とする2
つの軸受け部82が形成されている。そして、支持台6
4に係合した基板74の一方の側片を調整バネ86によ
り支持台64に押付け、他方の側片に通した調整ネジ8
8をネジ孔76にねじ込むことにより、基板74を上記
直線回りに揺動させ、半導体レーザー34の光軸Xを軸
Yに一致させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザープリンタ
やデジタル複写機等の画像記録装置に搭載される光走査
装置の光源装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来からレーザービームを走査して画像
の記録を行うレーザービームプリンタやデジタル複写機
などの画像記録装置が広く使用されている。そして、近
年、このような画像記録装置には、高速化及び高解像度
化、さらには低コスト化も要求されており、これらの相
反する条件をバランス良く満たすことが重要となってい
る。
【0003】そして、まず、画像記録装置の高速化、高
解像度化に対して光走査装置に要求されるのは走査速度
の高速化と光学性能の向上である。これらの各条件を満
足させるために、特開平9−96769号に開示された
光走査装置がある。この光走査装置は、回転多面鏡へ入
射する光束の主走査方向の幅が、回転多面鏡の反射面幅
よりも幅広の光束を入射させ、走査を行うオーバーフィ
ルド光学装置である。オーバーフィルド光学装置では、
回転多面鏡の反射面の面幅よりも入射させるレーザービ
ームの幅の方が大きいので、レーザービームの全光束の
うち記録ビームとして反射される光束の位置は回転多面
鏡の回転に伴って主走査方向と対応する方向に沿って移
動する。したがって、走査角により光束内の使用するレ
ーザービームが異なるため、レーザービームの強度分布
が走査線の光量分布に大きな影響を及ぼすことになる。
そこで、特開平9−96769号に開示された光走査装
置では、偏向手段以降の複数位置でレーザービームのパ
ワーを検出し、検出したレーザービームのパワーがバラ
ンスするように光軸を調整することにより光源装置の部
品精度、組立精度を上げることなく、被走査線上の光量
分布を略一様にすることが可能となる。
【0004】しかし、回転多面鏡に入射する光束のガウ
シアン分布が理想と異なり、光軸の角度のズレが大きい
場合、上記した光分布調整方法では走査端部のスポット
サイズの悪化などの問題が生じてしまう。
【0005】そこで、光軸の角度を調整することが必要
となり、光軸調整機構を用いた従来技術については、特
開平4−216514号(以下、従来技術1とい
う。)、特開平6−4874号(以下、従来技術2とい
う。)に開示されている。
【0006】すなわち、従来技術1においては、図9に
示すように、半導体レーザー10が略円盤状をなす素子
ホルダ12に固定され、この素子ホルダ12は2本の固
定ネジ14と1本の調整ネジ16によりベース部材18
に固定されている。そして、この調整ネジ16にはコイ
ルばね20が介装されており、調整ネジ16をねじ込む
ことにより、素子ホルダ12の片端22を支点として半
導体レーザー10と共に回転調整することにより光軸の
傾きを調整している。
【0007】一方、従来技術2においては、図10に示
すように、半導体レーザー24を支持する光源ホルダ2
6が半導体レーザー24の発光点Aを中心とした球面を
有する略半円形であり、光源ホルダ26を保持する保持
部材28の球面と同じ曲率の半球状の凹部30に嵌合し
ている。そして、光源ホルダ26を回転させることによ
り半導体レーザー24の光軸の傾きを調整している。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来技術1では、半導体レーザー10の取付け角度を調整
することにより発光点の位置がその都度移動してしま
う。そして、発光点が移動することにより他の光学性能
への影響(FOCUS等)があり、さらに再調整が必要
となる問題がある。
【0009】また、上記従来技術2では、調整感度が光
源ホルダ26の大きさに依存しており装置を小型化する
ために光源ホルダ26を小型化すると、上記球面の曲率
が小さくなり調整感度が高く調整が困難となってしま
う。また、半導体レーザー24は劣化等の故障率が他の
部品と比べ高く、簡単に交換、調整が行える構成となっ
ていなければならない。しかし、実際は筐体(ROS)
上での調整がほとんどであり、簡単に交換ができないと
いう問題がある。また、中には光源部の構造も複雑で調
整が困難なものもある。
【0010】そこで、本発明は、半導体レーザーの発光
点の位置を移動させることなく、主走査方向の半導体レ
ーザーの光軸の傾きを容易に調整することができる光源
装置を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、レーザー成形レンズの光軸上にレーザー光源が保持
され、レーザー光源の発光点を通る直線上に形成された
複数の嵌合部を有する保持部材と、レーザー光源から出
射されたレーザービームが通過するレーザー通過口を有
した光学箱側面に取付けられ、嵌合部と係合し保持部材
を直線回りの主走査方向に揺動可能とする被嵌合部を有
する支持部材と、保持部材を主走査方向に揺動させ、レ
ーザー光源の光軸の傾きを調整する調整手段と、から構
成されることを特徴とする。
【0012】この構成によれば、光源装置は、レーザー
光源から出射されたレーザービームが通過するレーザー
通過口を有する光学箱側面に取付けられる支持部材と、
レーザー成形レンズの光軸上にレーザー光源を備え支持
部材と係合する保持部材と、保持部材を揺動させレーザ
ー光源の光軸の傾きを調整する調整手段と、から構成さ
れている。
【0013】すなわち、保持部材にはレーザー光源の発
光点を通る直線上の位置に複数の被嵌合部が形成されて
いる。一方、支持部材には保持部材の被嵌合部と係合し
て保持部材を上記直線回りの主走査方向に揺動させる嵌
合部が形成されている。
【0014】このため、支持部材と嵌合した保持部材は
調整手段により上記主走査方向に揺動されて、レーザー
光源の光軸の傾きが調整される。
【0015】また、請求項2に記載した発明のように、
調整手段は、保持部材の一方の側片を支持部材に押さえ
つける調整バネと、保持部材の他方の側片に挿通され支
持部材に形成されたネジ孔へ螺合される調整ネジと、か
ら構成されることが好ましい。
【0016】また、請求項3に記載した発明のように、
支持部材は、取付部材を介して光学箱側面に取り付けら
れるものであって、取付部材には位置決め手段が形成さ
れ、支持部材には位置決め手段で位置決めされる位置決
め部が形成され、支持部材の位置決め部を取付部材の位
置決め手段に嵌合することにより保持部材に保持された
レーザービームが位置決めされることが好ましい。
【0017】また、請求項4に記載した発明のように、
保持部材はレーザー光源を駆動させる駆動用回路基板で
あることが好ましい。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して、本発
明の光源装置について説明するが、その前に光走査装置
の全体構成について説明する。図1は、光走査装置の構
成を示す概略図である。
【0019】図1に示すように、この光走査装置32
は、光束(レーザービーム)を発生する半導体レーザー
34と半導体レーザー34の光軸上に設けられレーザー
ビームをコリメートするコリメートレンズ70を有する
光源装置が、シリンドリカルレンズ38と、レーザービ
ームを走査偏向するポリゴンミラー40と、ポリゴンミ
ラー40によって偏向されたレーザービームを集光する
fθレンズ42と、光路を折り返す複数の反射ミラー4
8、50と、シリンドリカルミラー46と、が収納され
た光学箱31に取付けられている。
【0020】上記光走査装置32においては、画像情報
信号に対応して半導体レーザー34を駆動することによ
り、コリメータレンズ70によりコリメートされたレー
ザービームを、光源装置がこの画像情報に応じて出射す
る。このレーザビームは、スリット46を通ってシリン
ドリカルレンズ38を通過した後、第1の反射ミラー4
8で反射して、さらに、fθレンズ42を通過してポリ
ゴンミラー40上に線状に結像され、矢印S方向に回転
するポリゴンミラー40によって偏向される。
【0021】この偏向されたレーザービームは、再度f
θレンズ42によって集光され、第2の反射ミラー50
によって光路を折り曲げられ、ポリゴンミラー40の反
射面のバラツキによって生じる感光体52上の走査位置
のズレを補正(面倒れ補正)するシリンドリカルミラー
46を介して、レーザービームの被走査面となる感光体
52上に結像される。
【0022】なお、この時fθレンズ42は、感光体5
2上における走査速度が等速度となるように補正してい
る。これによって、感光体52上に上記画像情報に対応
する潜像が形成される。
【0023】一方、上記光走査装置32には、ポリゴン
ミラー40による主走査の基準位置(タイミング)を検
出するための同期検知センサ(SOSセンサ)54、S
OSレンズ56、及びSOSピックアップミラー58が
配設されている。
【0024】なお、図示しないが、感光体52の周囲に
は、帯電、現像、転写、クリーニング手段等、周知の画
像形成プロセス機器が配置されている。
【0025】次に、本発明の第1実施形態に係る光源装
置について説明する。
【0026】図2及び図3は、本実施形態に係る光源装
置の分解斜視図及びその組立図である。図4は、この光
源装置の側面図である。
【0027】図2及び図3に示すように、光学箱31の
側面Wには、半導体レーザー34から出射されたレーザ
ービームを光学箱31内部に通す第1の円形孔60が形
成されている。また、この円形孔60を中心とした4個
所にネジ溝62が形成されている。
【0028】この光学箱31の側面Wには、外側から長
方形状の支持台64が取付けられる。すなわち、この支
持台64の裏面の4角には光学箱31の側面と当接する
中空円柱状の脚部66が形成されており、支持台64は
取付ネジ68が脚部66を挿通してネジ溝62に螺合す
ることにより光学箱31の側面Wに固定される。そし
て、支持台64が光学箱31に取付けられた状態におい
ては、脚部66の長さ分だけ光学箱31の側面Wと離間
している。
【0029】一方、支持台64の表面の略中央には、前
記第1の円形孔60と連通する第2の円形孔が形成さ
れ、この円形孔にコリメータレンズ70が嵌められてい
る。また、このコリメータレンズ70の上側、下側に
は、2つの円柱状の軸部72が被嵌合部として光学箱3
1の側面と略垂直に形成されている。なお、この2つの
軸部72とコリメータレンズ70は同一直線状に形成さ
れている。この軸部72の先端は、図4に示すように、
所定の曲率を有した球面に加工されている。
【0030】また、支持台64には、コリメータレンズ
70と後述する基板74の半導体レーザー34の発光点
を結ぶ光軸を調整するための第1及び第2のネジ孔7
6、78が形成されている。
【0031】一方、支持台64には基板74が外側から
係合される。この基板74の略中央には第3の円形孔
(図示省略)が形成されており、この円形孔には半導体
レーザー34が固定されている。したがって、支持台6
4に基板74が係合されると、コリメータレンズ70と
半導体レーザー34とが同軸上に位置する。
【0032】また、基板74の裏面には、上記各軸部7
2に対応する位置に嵌合部として2つの軸受け部82が
半導体レーザー34の発光点を通る同一直線上に形成さ
れている。
【0033】この軸受け部82の先端には、図4に示す
ように、上記軸部72の先端の球面と係合するくぼみが
形成されている。したがって、この軸部72と軸受け部
82が係合すると、係合部と半導体レーザー34の発光
点とが同一直線Z(図3及び図4参照)上に位置するこ
とになり、この直線Z回りに軸受け部82が軸部72に
対して揺動し、基板74が主走査方向に回転する。
【0034】また、基板74には組立て時に第1のネジ
孔76に対応する位置に挿通孔84が形成されている。
【0035】次に、基板74の支持台64への取付け
は、図3に示すように、基板74の一方の側片が調整バ
ネ86により支持台に押付けられ、他方の側片が挿通孔
84を通った調整ネジ88が第1のネジ孔76に螺合す
ることによって行われる。
【0036】ここで、調整バネ86は、挿通孔(図示省
略)が形成された取付片86aと、弾性エネルギーを蓄
積する胴体86bと、基板74をバネ力により支持台6
4に押し付ける支持片86cとで構成され、それぞれ一
体形成されている。
【0037】調整バネ86は上記挿通孔を通った取付ネ
ジ90が第2のネジ孔78に螺合して支持台64に固定
される。また、支持片86cは曲面状に形成されてお
り、この支持片86cの曲面状の先端部により基板74
が支持台64に押付けられている。
【0038】また、図6に示すように、半導体レーザー
34はFPC留め92によりFPC94と接続されてい
る。すなわち、FPC留め92は、全体としてFPC9
4と略同径の円盤状に形成されており、絶縁部材である
円盤部92aと、円盤部92aに半導体レーザー34の
ピン96の配置に合わせて形成された3つのコネクト部
92bとから構成されている。なお、各コネクト部92
bはそれぞれ3つの中心に向かう爪が形成されており、
この爪が半導体レーザー34のピン96の周面に当接す
ることにより、FPC留め92をピン96に差込んだ
後、ピン96から抜け落ちないようにしている。
【0039】この半導体レーザー34とFPC94との
接続は、先ずFPC94を半導体レーザー34のピン9
6に差込み、その後、FPC留め92を半導体レーザー
34のビン96に差込むことにより行われる。したがっ
て、従来のように半田付けをしないので、半導体レーザ
ー34の交換時にはFPC留め92を抜き取ることによ
りFPC94を破壊することなく容易に交換することが
できると共に、半田付けをしないことにより環境に悪影
響を及ぼさない。
【0040】なお、本実施形態の変形例として、光学箱
31の側面に上記支持台64の機能をもたせてもよい。
すなわち、光学箱31の側面Wに上記支持台64の軸部
72を形成し、取付片86aを光学箱31に固定した調
整バネ86と、光学箱31の側面Wに形成したネジ孔に
螺合する調整ネジ88により基板74を揺動可能にして
もよい。このとき、コリメータレンズ70は、光学箱3
1の内部、あるいは光学箱31の側面Wの円形孔60に
取付けておくことが好ましい。
【0041】また、本実施形態では、支持台64には被
嵌合部としての軸部72が形成され、基板74には嵌合
部としての軸受け部82が形成されているが、これに限
られず、この逆、すなわち、支持台64には被嵌合部と
して軸受け部82、基板74には嵌合部としての軸部7
2が形成されていてもよい。
【0042】次に、半導体レーザー34の発光点とコリ
メータレンズ70とを結ぶ光軸Xの傾きを調整するとき
の調整方法について説明する。
【0043】上述したように、支持台64と基板74
は、半導体レーザー34の発光点を通る副走査方向の直
線Z上に設けられた軸部72と軸受け部82により、主
走査方向と副走査方向の位置決めがなされている。
【0044】ここで、半導体レーザー34の光軸Xの調
整は、以下のように行われる。すなわち、図5(A)に
示すように、例えば、半導体レーザー34の組立時に
は、半導体レーザー34の光軸Xが軸Y(光走査装置3
2が正常に機能するときの光軸Xの位置)と所定の角度
θだけズレているので、調整ネジ88を第1のネジ孔7
6にねじ込む。この調整ネジ88のねじ込みにより、基
板74は調整バネ86のバネ力に抗して軸部72を支点
として直線Z回りに揺動(回転)し、基板74全体が主
走査方向に回転する。そして、図5(B)に示すよう
に、基板74と支持台64とを平行にすることにより、
光軸Xと軸Yとを一致させ、角度θすなわち光軸Xの傾
きを調整する。
【0045】以上のように、本実施形態の光源装置によ
れば、半導体レーザー34の発光点とコリメータレンズ
70とを結ぶ光軸Xが軸Yとズレていた場合には、調整
ネジ88を第1のネジ孔76にねじ込むことにより、半
導体レーザー34の発光点を軸Y上から移動させること
なく光軸Xと軸Yとを一致させ、容易に光軸Xの傾きを
調整することができる。
【0046】なお、図示しないが、基板74に半導体レ
ーザー34を駆動する駆動用回路基板を使用することに
より部品点数を省略することもできる。
【0047】次に、本発明の第2実施形態に係る光源装
置について説明する。
【0048】本実施形態における光源装置は、第1実施
形態の支持台64を直接光学箱31に取付けるのではな
く、取付部材98を介して取付けたものである。
【0049】なお、本実施形態の光源装置を図7及び図
8に示すが、上記第1実施形態の構成と同一の構成のも
のは同一の符号を付するものとし、説明の便宜上適宜省
略して以下に説明する。
【0050】図7に示すように、光学箱33の側面Wに
は半導体レーザー34から出射されたレーザービームを
光学箱33内部に通す第1の円形孔60が形成されてい
る。また、この円形孔60の付近には、後述する取付部
材98を固定するための2つのネジ溝100が形成され
ている。
【0051】また、この側面Wに取付けられる取付部材
98は、支持台102と略同じ長方形状をしており、そ
の略中央には組み付け時に第1の円形孔60と連通する
開孔104が形成されている。また、この開孔104
は、支持台102のコリメータレンズ70と対向してい
る。したがって、レーザービームは、コリメータレンズ
70、開孔104及び円形孔60を通過して光学箱33
の内部に進入する。
【0052】また、取付部材98の上部と下部にはネジ
溝100と連通する2つの挿通孔106が形成されてお
り、この各挿通孔106に取付ネジ108が挿通しネジ
溝100と螺合することにより取付部材98が光学箱3
3の側面Wに固定される。
【0053】ここで、取付部材98は、光学箱33内部
のシリンドリカルレンズ38等の光学部品の部品ばらつ
き、組立ばらつきを考慮した位置に取付けられる。
【0054】また、開孔104の近傍には、2つの円柱
状の位置決めピン110が略垂直に形成されている。な
お、この位置決めピン110の長さは、脚部66の長さ
と支持台102の厚さとを合計した長さよりも少し長め
に形成されている。
【0055】一方、この取付部材98に取付けられる支
持台102には、上記位置決めピンを挿通させるための
位置決め孔114が位置決めピン110と対応した位置
に2つ形成されている。この2つの位置決め孔114の
うち、1つの位置決め孔114は楕円状の長孔に形成さ
れている。したがって、支持台102は、光学箱33に
固定された取付部材98の位置決めピン110に位置決
め孔114を挿通するだけで、光学箱33に取付けられ
る。
【0056】なお、本実施形態では、位置決めピン11
0は、取付部材98に2つ形成されているが、少なくと
も2つあれば足り、3つ以上の複数であってもよい。こ
の場合、位置決め孔114も2つに限られず、位置決め
ピン110の個数分だけ形成されていればよい。
【0057】また、本実施形態では、取付部材98に位
置決めピン110が形成され、支持台102に位置決め
孔114が形成されているが、これとは逆に、取付部材
98に位置決め孔114が形成され、支持台102に位
置決めピン110が形成されていてもよい。
【0058】以上のように本実施形態の光源装置によれ
ば、半導体レーザー34が劣化などにより消耗した場合
でも、支持台102の位置決め孔114を位置決めピン
110から引き抜くことにより容易に取り外すことがで
き、その後、新しい半導体レーザーを取付けた基板及び
支持台を1セットとしたものを、取付部材98の位置決
めピン110に挿通するだけで取付けることができる。
【0059】しかも、光学箱33に調整固定された取付
部材98の位置決めピン110は、光学箱33内部の部
品ばらつき、組立ばらつき等を含んだ調整結果を記憶し
ているので、単に位置決めピン110に支持台102の
位置決め孔114を挿通させるだけで半導体レーザーか
ら出射されるレーザービームの位置を調整することがで
きる。この結果、半導体レーザー34の交換時に必要な
半導体レーザーのレーザービームの位置調整作業を省く
ことができる。
【0060】また、支持台102に形成された2つの位
置決め孔114のうちの1つは、楕円状の長孔であるの
で、位置決めピン110の成形誤差があっても、位置決
めピン110の挿入を容易に行うことができる。
【0061】また、上記各実施形態で説明した光源装置
による半導体レーザー34の光軸Xの調整方法は、特
に、オーバーフィルド光学系で要求される光軸Xの傾き
の調整を最低限の調整構造によって行うことができる有
効な方法であり、これにより半導体レーザーのコストア
ップを防止することができる。
【0062】なお、取付部材98と支持台102との位
置決めは、位置決めピン110と位置決め孔114とに
限られず、取付部材98と支持台102との端面を揃え
るなどの他の位置決め手段によるものでも可能である。
【0063】
【発明の効果】本発明によれば、調整手段により保持部
材をレーザー光源の発光点を通る直線を回転中心軸とし
て主走査方向に揺動させることにより、レーザー光源の
発光点の位置を移動させることなく、レーザー光源の光
軸の傾きを容易に調整することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光源装置が適用される光走査装置の構
成を示す概略構成図である。
【図2】本発明の第1実施形態に係る光源装置の分解斜
視図である。
【図3】図2の組立図である。
【図4】本発明の第1実施形態に係る光源装置の側面図
である。
【図5】(A)は本発明の第1実施形態に係る光源装置
の作動前の状態を示す平面図であり、(B)は作動後の
状態を示す平面図である。
【図6】FPC留めにより半導レーザーのピンとFPC
とが接続された状態を示す状態図である。
【図7】本発明の第2実施形態に係る光源装置の分解斜
視図である。
【図8】図7の組立図である。
【図9】従来のレーザー光発生装置の断面図である。
【図10】従来の光源装置の断面図である。
【符号の説明】
31、33 光学箱 34 半導体レーザー(レーザー光源) 60 第1の円形孔(レーザー通過口) 64 支持台(支持部材) 70 コリメータレンズ(レーザー成形レンズ) 72 軸部(被嵌合部) 74 基板(保持部材) 82 軸受け部(嵌合部) 86 調整バネ(調整手段) 88 調整ネジ(調整手段) 90 取付ネジ(調整手段) X 光軸 98 取付部材 110 位置決めピン(位置決め手段) 114 位置決め孔(位置決め部)

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レーザー成形レンズの光軸上にレーザー
    光源が保持され、該レーザー光源の発光点を通る直線上
    に形成された複数の嵌合部を有する保持部材と、 前記レーザー光源から出射されたレーザービームが通過
    するレーザー通過口を有した光学箱側面に取付けられ、
    前記嵌合部と係合し前記保持部材を前記直線回りの主走
    査方向に揺動可能とする被嵌合部を有する支持部材と、 前記保持部材を前記主走査方向に揺動させ、前記レーザ
    ー光源の光軸の傾きを調整する調整手段と、 から構成されることを特徴とする光源装置。
  2. 【請求項2】 前記調整手段は、前記保持部材の一方の
    側片を前記支持部材に押さえつける調整バネと、前記保
    持部材の他方の側片に挿通され前記支持部材に形成され
    たネジ孔へ螺合される調整ネジと、から構成されること
    を特徴とする請求項1に記載の光源装置。
  3. 【請求項3】 前記支持部材は、取付部材を介して前記
    光学箱側面に取り付けられるものであって、 前記取付部材には位置決め手段が形成され、前記支持部
    材には前記位置決め手段で位置決めされる位置決め部が
    形成され、 前記支持部材の位置決め部を前記取付部材の前記位置決
    め手段に嵌合することにより前記保持部材に保持された
    前記レーザービームが位置決めされることを特徴とする
    請求項1又は2に記載の光源装置。
  4. 【請求項4】 前記保持部材は前記レーザー光源を駆動
    させる駆動用回路基板であることを特徴とする請求項1
    乃至3のいずれか1項に記載の光源装置。
JP11064992A 1999-03-11 1999-03-11 光源装置 Pending JP2000258710A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11064992A JP2000258710A (ja) 1999-03-11 1999-03-11 光源装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11064992A JP2000258710A (ja) 1999-03-11 1999-03-11 光源装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000258710A true JP2000258710A (ja) 2000-09-22

Family

ID=13274078

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11064992A Pending JP2000258710A (ja) 1999-03-11 1999-03-11 光源装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000258710A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100340895C (zh) * 2002-12-12 2007-10-03 富士施乐株式会社 光学扫描仪
KR100773466B1 (ko) 2006-07-25 2007-11-05 엘지전자 주식회사 요축 및 피치축 각도 조절이 가능한 박막증착장치
US8879134B2 (en) 2011-04-28 2014-11-04 Konica Minolta Business Technologies, Inc. Laser scanning optical device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100340895C (zh) * 2002-12-12 2007-10-03 富士施乐株式会社 光学扫描仪
KR100773466B1 (ko) 2006-07-25 2007-11-05 엘지전자 주식회사 요축 및 피치축 각도 조절이 가능한 박막증착장치
US8879134B2 (en) 2011-04-28 2014-11-04 Konica Minolta Business Technologies, Inc. Laser scanning optical device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6825869B2 (en) Apparatus to generate laser beam detect signal
US7760410B2 (en) Mirror support device and optical scanning apparatus adopting the same
KR100339802B1 (ko) 멀티 빔 주사 장치
JPH11305152A (ja) 走査光学装置
JPH0996769A (ja) 光走査装置の光軸調整方法、光軸調整装置、及び光走査装置
JP4109878B2 (ja) 走査光学装置
JP2000269581A (ja) 発光素子取付構造
JPH11223785A (ja) 光学部品の取付構造
JP2004191712A (ja) 光走査装置
JP2973550B2 (ja) レーザビーム走査光学装置
JP2000258710A (ja) 光源装置
JPH1172728A (ja) マルチビーム偏向走査装置
JP3648391B2 (ja) マルチビーム走査装置およびその光源装置
JP2004240275A (ja) レーザ走査装置
JP4336405B2 (ja) 光ビーム走査装置
JPH11242170A (ja) マルチビーム光偏向走査装置
JP2002341272A (ja) 偏向走査装置
JPH10319336A (ja) マルチビーム光源装置およびこれを用いた光偏向走査装置
JP2001100137A (ja) 走査光学装置
JP2841607B2 (ja) レーザスキャナ装置
JP3697879B2 (ja) 光走査装置
JP2001174731A (ja) マルチビーム光源装置及びマルチビーム走査装置
JP2000162535A5 (ja)
JP2001033718A (ja) マルチビーム走査光学装置
JP2008145517A (ja) 走査光学装置