JP3650263B2 - マルチビーム光源装置、光走査装置、デジタル複写機、及びレーザプリンタ - Google Patents
マルチビーム光源装置、光走査装置、デジタル複写機、及びレーザプリンタ Download PDFInfo
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体レーザのマルチビーム光源装置、光走査装置、デジタル複写機、及びレーザプリンタに関するものである。
本発明のマルチビーム光源装置は、デジタル複写機、レーザプリンタ等の光走査装置の光源装置に適用でき、それによって複写速度、プリント速度の高速化に役立ち、特に、装置の小型化を実現することができる。
【0002】
【従来の技術】
光ビームの副走査方向の位置を調整するものとして、例えば、特開平6−331913号公報には、2組の半導体レーザとビーム整形用光学系を有し、ビーム合成プリズムにより前記2つのビームを合成し、結像光学系等を介して感光体面上に2ライン同時に走査して書き込みを行う場合に、ビーム整形用光学系とビーム合成プリズムとの間に、プリズムを設け、それを動かすことによって前記調整を行うもの「2ビーム光走査装置」(前者という)が開示されている。
また、マルチビームの走査線ピッチを変更するものとして、例えば、特開平9−193458号公報には、2つの半導体レーザを収納し、合成手段により光ビームを合成した光源装置を光軸の回りに回転することにより、ビーム間の副走査ピッチを変化させる「マルチビーム走査装置」(後者という)が開示されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
前者においては、光ビームの副走査方向の位置調整を行うのに、ビーム整形用光学系とビーム合成プリズムとの間に、プリズムを設けそれを動かす構成を採っているため、前記調整を行うのに装置が大型化すると共に、コストがかかるという問題がある。
また、後者において採用された構成では、2つの光ビームの副走査ピッチを変化させることはできるが、3つ以上の光ビームの副走査ピッチを変化させることができないという問題がある。
【0004】
従って、本発明の目的は、ビームの副走査位置を変化させるためにプリズムなどの光学部品を用いずに、マルチビーム化(2ビームからそれ以上のビーム数でも対応可能)することにより、低コストで高速な書き込みを可能とし、副走査方向の光ビームの相対位置を調整する作業を簡単にして、作業効率を向上することができるマルチビーム光源装置を提供すること、及び該マルチビーム光源装置を用いた光走査装置を提供すること、さらに該光走査装置を用いたデジタル複写機、レーザプリンタを提供することである。
【0005】
さらに、各請求項に係る発明の目的を示せば以下のとおりである。
請求項1に対する目的:複数個の光ビームの副走査方向の位置を独立して変化させることを可能にし、調整作業時間を短縮するとともに、半導体レーザが故障した場合(寿命がつきたり、壊れたりして発光しなくなった場合)、半導体レーザとコリメートレンズが一体化したユニットを光源装置より独立させることにより、壊れたユニットだけを交換できるようにして、修理コストを安くすることである。
請求項2に対する目的:光源装置を光走査装置のハウジングに着脱可能に保持可能な構造にして、光源装置においてビームの配置関係を調整可能にすることにより、光源装置の交換後の光軸合わせ作業を不要にすることである。
【0006】
請求項3に対する目的:複数のLD光の副走査位置を独立に変化させることを可能にし、調整作業を効率良くできるようすることである。
請求項4,5に対する目的:複数のLDの配置を容易に調節でき、かつ確実に設定することができるようにすることである。
【0007】
請求項6に対する目的:副走査方向に並べた複数のLD光ごとに主走査方向の出射角度を変化させることにより、複数のLD光が被走査面状で主走査方向に間隔をもって配置し、各LD光ごとに書き出しタイミングを決めるための同期検知を独立に検出するできるようにし、高品質な画像を得ることである。
請求項7に対する目的:基準となる光ビームの発光部を保持部材に固定することにより、環境変動などにより基準ビームの位置の変動が少なくなり、それを基準とした他のビーム位置の精度を上げ、結果として高品質な画像を得ることができるようにすることである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
請求項1の発明は、半導体レーザと半導体レーザ光を平行光束にするコリメートレンズとを一体に保持した複数の発光部と、該複数の発光部において前記半導体レーザの光軸と平行な方向に形成された穴に各々嵌合される複数の回転軸と、副走査方向における前記複数の発光部からの平行光束を近接した状態にして出射するビーム合成手段を有し、前記回転軸を中心として前記発光部を回転させることにより前記ビーム合成手段に対する前記発光部の配置位置を副走査方向に変化させるマルチビーム光源装置である。
【0009】
請求項2の発明は、請求項1に記載されたマルチビーム光源装置において、前記複数の回転軸は同一の保持部材に設置され、前記複数の発光部は前記複数の回転軸に各々着脱可能に保持されているマルチビーム光源装置である。
【0010】
請求項3の発明は、請求項1又は2に記載されたマルチビーム光源装置において、前記複数の発光部を回転駆動するための複数のアクチュエータと、前記複数の発光部を所定の回転駆動方向に付勢するためのねじりコイルバネとを有するマルチビーム光源装置である。
【0011】
請求項4の発明は、請求項1乃至3のいずれかに記載されたマルチビーム光源装置において、副走査方向に配置された前記複数の各発光部の各半導体レーザ光の主走査方向の出射位置を一致させたマルチビーム光源装置である。
【0012】
請求項5の発明は、請求項1乃至3のいずれかに記載されたマルチビーム光源装置において、副走査方向に配列された前記複数の各発光部の半導体レーザ光の出射方向が主走査方向に所定の角度を有しているマルチビーム光源装置である。
【0013】
請求項6の発明は、請求項5に記載されたマルチビーム光源装置において、前記所定の角度を副走査方向に配列された前記複数の各発光部ごとに変更可能であるマルチビーム光源装置である。
【0014】
請求項7の発明は、請求項1乃至6のいずれかに記載されたマルチビーム光源装置において、前記複数の発光部の内、一つを基準ビームとし、その位置を拘束固定し、他のビームを前記基準ビームに対して相対的に補正するマルチビーム光源装置である。
請求項8の発明は、請求項1乃至7のいずれかに記載されたマルチビーム光源装置と、該マルチビーム光源装置から出射されたレーザ光を主走査方向に繰り返し偏向走査する回転多面鏡と、前記偏向されたレーザ光を等速直線走査に変換するfθレンズと、前記マルチビーム光源装置と、前記回転多面鏡と、前記fθレンズとを設置固定するためのハウジングとを備える光走査装置である。
請求項9の発明は、請求項8に記載された光走査装置と、該光走査装置を経た光ビームによって被走査面を走査される感光体とを備えるデジタル複写機である。
請求項10の発明は、請求項8に記載された光走査装置と、該光走査装置を経た光ビームによって被走査面を走査される感光体とを備えるレーザプリンタである。
【0015】
【発明の実施の形態】
図1は、光源部40の分解斜視図であり、図2は、光源部40の組立図である。
この実施例の光源部は、4つの半導体レーザの4つの光ビームを合成し出射するものである。
光源部は、大きく分けて、4つの発光部21〜24と、それを取り付けると同時に光ビームを合成するためのビーム合成手段であるプリズムを収納するプリズムホルダー10、発光部21〜24を回転駆動するためのアクチュエータ6と付勢バネ(ねじりコイルばね)4から成る。
【0016】
プリズムホルダー10には4つの段付き回転軸11〜14が互いに平行な方向で設置されている。この段付き回転軸11〜14には、それぞれ発光部21〜24が取り付けられる。プリズムホルダー10の中央部には凹部15があり、ここにプリズム26が収納される。また、ねじりコイルバネ4の端部を係止するための2つの突起16、17が設けられている。
【0017】
発光部21〜24は以下の構成とから成っている。代表例として発光部21について説明する。
半導体レーザ(以下単にLDという)1は、LDベース2の嵌合穴2aに嵌合固定される。コリメートレンズ3は、LDベースの突起2bに対してLD1と光軸を略一致させてLDベース2に接着固定される。これによりLD1から発せられるレーザ光は、平行光束に変換される。
【0018】
LDベース2にはLD1の光軸と平行な方向に穴2cが設けられている。
発光部21のプリズムホルダー10への取り付けは、この穴2cと段付き回転軸11を嵌合させて行う。発光部21の光軸方向の位置決めは、発光部21が段付き回転軸11の段に接触したところで決まる。さらに、この段付き回転軸11には、LDベース2の外側からねじりコイルバネ4が挿入され圧縮されながら、その外側からEリング5が段付き回転軸11に取り付けられる。さらに、ねじりコイルバネ4はバネの巻方向に回転端部が、プリズムホルダー10の突起16とLDベースの切り欠き2dにより係止される。
このため、LDベース2は、段付き回転軸11の回りで回転する力が働くが、アクチュエータ6により回転が規制される。
アクチュエータ6の軸6aを軸方向に動かすことにより、発光部21を段付き回転軸11回りに回転させることができる。すなわち、発光部21をLD1の光軸と平行な軸回りに回転駆動することが可能となる。
【0019】
このように発光部21〜24はプリズムホルダー10にそれぞれの光軸近傍の段付き回転軸11〜14の回りに回転駆動可能な状態で取り付けられる。
このため、発光部21〜24の4つのLDの内のどれかが寿命などにより劣化し所定の発光量を得られなくなった場合においても、光源部全体を交換しなくても問題のLDを備えた発光部のみを交換することにより、機能を回復することができる。これにより修理に係わる費用を少なくするメリットが生じる。
【0020】
発光部21〜24から出射された4つの光ビームは、光ビーム成形を目的とした4つのアパーチャ30により所定の形状に成形される。4つのアパーチャ30はアパーチャ板25上に形成されて、互いの相対的な位置関係は一定に維持されている。このように、アパーチャ板25は、発光部21〜24の回転によっても姿勢が変化せず、アパーチャ30通過後の各光束は、走査用レンズとの平行性が保たれ、例えば、感光体等の被走査面において所望のビーム径を精度良く得ることが可能となる。アパーチャ板25は、プリズム26とともにプリズムホルダー10の凹部15に収納され固定される。
【0021】
4つのLDは、pn接合面を一致させて同一平面上に配置されている。発光部21,22から出射された光ビームは、アパーチャ板25を通過した後、プリズム26に入射し、斜面26aにて内面反射し、プリズム26の偏光ビームスプリッタ面26bで反射し、プリズム26から出射される。
また、発光部23,24から出射された光ビームは、アパーチャ板25を通過した後、1/2波長板27によりその偏光面が90°回転されてプリズム26の偏光ビームスプリッタ面26bを通過する。
図5は、この様子を別の角度から見た場合の図である。既に説明したように、4つのLDから出射された光ビームは、4本の光束A〜Dとなり、プリズム26から出射される。このとき、被走査面においては4つの光ビームが所定の位置にくるために、プリズム26における出射位置においては微妙に出射角度、または、位置が異なった状態で出射される。各鎖線は光束の進行方向を示す。
【0022】
この複数の光ビームの配置の方法に関しては後述する。
この4つの光ビームを出射する光源部40は、図3に示すようにレーザプリンタ等の機器の書込ユニットに組み込まれる。光源部40から出射された4つのレーザ光は、回転多面鏡41により、主走査方向に繰り返し偏向走査され、fθレンズ42に入射する。fθレンズ42は、走査レーザ光を等速直線走査に変換する。さらにミラー43によって反射され、トロイダルレンズ44を通過した4つのレーザ光は、感光体45上にて4本の走査ラインとして走査される。
回転多面鏡41,fθレンズ42,ミラー43,トロイダルレンズ44をまとめて光走査装置というが、これらは共通のハウジング(図示は省略)内に設置固定されている。このハウジングに対して、光源部は、所定の位置に着脱自在に取付けられる。
このとき、どれか一つのビームを基準ビームとして、それに対して、他のビームの副走査方向の位置を決めることによりビーム間の調整誤差が累積せず、高品質な画像を得ることができる。
【0023】
また、基準ビームに関しては発光部の位置を変化させずに、図4に示すようにネジ50などで固定することにより、基準ビームの位置変動を小さくすることができる。これにより、他のビームとの位置関係における変化が少なくなり、副走査方向における、ビーム位置の精度が向上する。例えば、発光部24からのビームを基準ビームとしたとき、段付き回転軸14の先端にネジを切っておき、そこへ固定ネジ50をねじ込むことにより光源部24を固定するようにする。
【0024】
次に実際のLDの配置関係について説明する。
図6(A),図6(B)は請求項4に係る発明におけるLDの配置と調整法を示すものであって、発光部を2つとしたときの実施例であり。
LD1,LD2から出射された光ビームは、プリズム26,シリンダレンズ60,ポリゴンミラー41,走査光学系42,43,44を経て感光体45の被走査面に達する。部品構成としては、上記と同様で、図1における発光部21と23、または22と24のいずれかで良い。
LD1とLD2は、副走査方向に隔てて配置されているが、ビーム合成手段であるプリズム26により、副走査方向のビーム出射位置が一致している。また、主走査方向の位置は一致している。このとき、LD1を上述の回転駆動機構を用いて副走査方向に移動すると、LD1の光ビーム1のシリンダレンズ60への入射位置が変化し、シリンダレンズ60から出射する際に若干の角度がつく。この作用を利用し、LD1を回転駆動することにより2つのビームのピッチを調整する。実線が点線に移動する。図6(B)中+で示したものは、発光部の回転中心の位置に相当する。
【0025】
図7(A),図7(B)は請求項5,6に係る発明におけるLDの配置と調整法を示す。
LDとコリメートレンズ3の相対的な位置関係を調節することにより、光ビームを光学系に対して主走査方向に所定の角度をもたせて入射させる。
このとき、LD1とLD2の光ビームは光軸に対して対称に角度αを持っている。また、LD3とLD4は、光軸に対して対称に角度βを持っている。この角度α,βはLDとコリメートレンズの軸の偏心量を調整することにより変化させることができる。LD1とLD2,LD3とLD4は副走査方向に隔てて設置されているが、プリズムにより光ビームが合成され、副走査方向は同一の位置にある。角度αとβを異なった角度にすることにより、光ビームの主走査方向の位置は重ならず、主走査方向に所定の間隔を隔てて一列に設置されることになる。
この様子を図7(B)に示す。図示のように、一列に並んだ光ビームのそれぞれを上述の回転機構であるアクチュエータ6を用いて回転駆動すると、主走査方向の角度α,βの角度成分が副走査方向の角度成分として生じてくる。これにより副走査方向へ光ビームが移動し、回転角度の調整をすることにより4つの光ビームピッチを設定する。さらに、光ビームが主走査方向に間隔をもって設置されているため、書き出しタイミングを決めるための同期検知を光ビームそれぞれ個別に行うことができ、高品質な画像を形成することが可能となる。
【0026】
【発明の効果】
本発明全体の効果:
(1)マルチビーム化(2ビームからそれ以上のビーム数でも対応可能)することにより、高速な書き込みが可能になる。
(2)ビームの副走査位置を変化させるのにプリズムなどの光学部品を用いないため低コスト化される。
(3)副走査方向の光ビームの相対位置を調整する作業が簡単になり、作業効率が向上する。
【0027】
請求項1に対応する効果:複数個の光ビームの副走査方向の位置を独立して変化させることが可能となり、調整作業時間が短縮できる。また、LDが故障(寿命がつきたり、壊れたりして発光しなくなった場合)した場合、LDとコリメートレンズが一体化したユニットが光源装置より独立しているため、壊れたユニットだけを交換すれば良く、修理コストを安くできる。
【0028】
請求項2に対応する効果:光源装置が光走査装置のハウジングと着脱可能な構造をしているので、光源装置においてビームの配置関係を調整できることになり、光源装置の交換後の光軸合わせ作業が不用になる。
【0029】
請求項3に対応する効果:複数のLD光の副走査位置を独立に変化させることが可能になり、調整作業が効率良くできるようになる。
請求項4,5に対する効果:複数のLDの配置を容易に調節でき、かつ確実に設定することができる。
【0030】
請求項6に対応する効果:副走査方向に並べた複数のLD光ごとに主走査方向の出射角度を変化させることにより、複数のLD光が被走査面上で主走査方向に間隔をもって配置されるため、各LD光ごとに書き出しタイミングを決めるための同期検知を独立に検出することが可能になり、高品質な画像を得ることができる。
【0031】
請求項7に対する効果:基準となる光ビームの発光部を保持部材に固定することにより、環境変動などにより基準ビームの位置の変動が少なくなり、それを基準とした他のビーム位置の精度も上がる。結果として高品質な画像を得ることができる。
請求項8〜10に対する効果:請求項1〜7のマルチビーム光源装置を備えているので、低コストで高速な書き込みを可能とし、副走査方向の光ビームの相対位置を調整する作業を簡単にして、作業効率を向上することができる光走査装置、デジタル複写機及びレーザプリンタを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明のマルチビーム光源装置の光源部の分解斜視図。
【図2】 光源部の組立図。
【図3】 本発明のマルチビーム光源装置を適用したレーザプリンタ等の書き込みユニットを示す図。
【図4】 光源部における発光部の一部を固定した状態を示す組立図。
【図5】 発光部から出射されたマルチ光ビームの光束の状態を示す図。
【図6】 LDの配置とその調整法の1例を説明するための図。
【図7】 LDの配置とその調整法を他の例を説明するための図。
【符号の説明】
1…LD、2…LDベース、2a…LDベースの嵌合穴、2b…LDベースの突起、2c…穴、2d…LDベースの切り欠き、3…コリメートレンズ、4…コイルバネ、5…Eリング、6…アクチュエータ、6a…アクチュエータの軸、10…保持部材(プリズムホルダー)、11〜14…段付き回転軸、15…プリズムホルダーの凹部、16…プリズムホルダーの突起、21〜24…発光部、25…アパーチャ板、26…ビーム合成手段(プリズム)、26a…斜面、26b…偏光ビームスプリッタ面、27…1/2波長板、30…アパーチャ、40…光源部、41…回転多面鏡、42…fθレンズ、43…ミラー、44…トロイダルレンズ、45…感光体、50…固定ネジ、60…シリンダレンズ。
Claims (10)
- 半導体レーザと半導体レーザ光を平行光束にするコリメートレンズとを一体に保持した複数の発光部と、該複数の発光部において前記半導体レーザの光軸と平行な方向に形成された穴に各々嵌合される複数の回転軸と、副走査方向における前記複数の発光部からの平行光束を近接した状態にして出射するビーム合成手段を有し、前記回転軸を中心として前記発光部を回転させることにより前記ビーム合成手段に対する前記発光部の配置位置を副走査方向に変化させることを特徴とするマルチビーム光源装置。
- 請求項1に記載されたマルチビーム光源装置において、前記複数の回転軸は同一の保持部材に設置され、前記複数の発光部は前記複数の回転軸に各々着脱可能に保持されていることを特徴とするマルチビーム光源装置。
- 請求項1又は2に記載されたマルチビーム光源装置において、前記複数の発光部を回転駆動するための複数のアクチュエータと、前記複数の発光部を所定の回転駆動方向に付勢するためのねじりコイルバネとを有することを特徴とするマルチビーム光源装置。
- 請求項1乃至3のいずれかに記載されたマルチビーム光源装置において、副走査方向に配置された前記複数の各発光部の各半導体レーザ光の主走査方向の出射位置を一致させたことを特徴とする、マルチビーム光源装置。
- 請求項1乃至3のいずれかに記載されたマルチビーム光源装置において、副走査方向に配列された前記複数の各発光部の半導体レーザ光の出射方向が主走査方向に所定の角度を有していることを特徴とする、マルチビーム光源装置。
- 請求項5に記載されたマルチビーム光源装置において、前記所定の角度を副走査方向に配列された前記複数の各発光部ごとに変更可能であることを特徴とする、マルチビーム光源装置。
- 請求項1乃至6のいずれかに記載されたマルチビーム光源装置において、前記複数の発光部の内、一つを基準ビームとし、その位置を拘束固定し、他のビームを前記基準ビームに対して相対的に補正することを特徴とするマルチビーム光源装置。
- 請求項1乃至7のいずれかに記載されたマルチビーム光源装置と、該マルチビーム光源装置から出射されたレーザ光を主走査方向に繰り返し偏向走査する回転多面鏡と、前記偏向されたレーザ光を等速直線走査に変換するfθレンズと、前記マルチビーム光源装置と前記回転多面鏡と前記fθレンズとを設置固定するためのハウジングとを備えることを特徴とする光走査装置。
- 請求項8に記載された光走査装置と、該光走査装置を経た光ビームによって被走査面を走査される感光体とを備えることを特徴とするデジタル複写機。
- 請求項8に記載された光走査装置と、該光走査装置を経た光ビームによって被走査面を走査される感光体とを備えることを特徴とするレーザプリンタ。
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