JP4695498B2 - マルチビーム光源装置 - Google Patents
マルチビーム光源装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4695498B2 JP4695498B2 JP2005335968A JP2005335968A JP4695498B2 JP 4695498 B2 JP4695498 B2 JP 4695498B2 JP 2005335968 A JP2005335968 A JP 2005335968A JP 2005335968 A JP2005335968 A JP 2005335968A JP 4695498 B2 JP4695498 B2 JP 4695498B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light source
- semiconductor lasers
- light
- source unit
- axis
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Laser Beam Printer (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Description
これに対し複数個の汎用の半導体レーザを用い、該複数個の半導体レーザからの光ビームを合成する方法は、上記した問題はないが環境安定性と取り扱い性の向上が必要である。
さらに本発明では、光量ロスなく、最小限の発光出力でビーム数を増やすことができるマルチビーム光源装置を提供することを目的とする。
また、請求項6記載のマルチビーム光源装置は、請求項3乃至5のいずれか一つに記載のマルチビーム光源装置において、上記第1、第2の光源部、及び上記ビーム合成手段とは、一体的にモジュール化され光学ハウジングに対し着脱可能であると共に、上記第1の光源部の射出軸を回転軸として回転可能に支持してなることを特徴とするものである。
さらに請求項7記載のマルチビーム光源装置は、請求項3乃至6のいずれか一つに記載のマルチビーム光源装置において、上記ビーム合成手段は、上記第1、第2の光源部のうち、いずれか一方の光源部について複数ビームの偏光方向の位相を一括して変換する1/2波長板と、該1/2波長板を通過させた複数ビームともう一方の光源部からのビームとを合わせて射出する偏光ビームスプリッタとからなることを特徴とするものである。
また、請求項6記載のマルチビーム光源装置では、請求項3乃至5のいずれか一つに記載のマルチビーム光源装置において、上記第1、第2の光源部、及び上記ビーム合成手段とは、実質一体的にモジュール化され光学ハウジング(ホルダー)に対し着脱可能であると共に、上記第1の光源部の射出軸を回転軸として回転可能に支持してなることにより、ホルダーを回転するという単純な駆動手段を具備するだけで、経時で副走査方向のピッチが変動してしまった際の補正や記録密度の切り換えが可能となる。
さらに請求項7記載のマルチビーム光源装置では、請求項3乃至6のいずれか一つに記載のマルチビーム光源装置において、上記ビーム合成手段は、上記第1、第2の光源部のうち、いずれか一方の光源部について複数ビームの偏光方向の位相を一括して変換する1/2波長板と、該1/2波長板を通過させた複数ビームともう一方の光源部からのビームとを合わせて射出する偏光ビームスプリッタとからなることにより、光量ロスがほとんどなく、最小限の発光出力でビーム数を増やすことができ、複数のビームを有するマルチビーム光源装置を容易に実現することができる。
第1の光源部LD1と第2の光源部LD2とはビームスポット間隔Lは同じであるから、射出軸a(=a’)を回転中心として主走査方向(Y方向)から副走査方向(Z方向)への傾け量θを、第1の光源部の傾け量はθ1、第2の光源部の傾け量はθ2と異ならせて設定することにより、図5に示すように、第1の光源部LD1の感光体面上での2つのビームスポットLD1−L,LD1−Rと、第2の光源部LD2の2つのビームスポットLD2−L,LD2−Rとが副走査方向(Z方向)に等間隔のピッチP(記録密度ピッチ)となるように調整することができる。
また、図示されない操作部等からの記録密度可変信号を受け、設定すべき記録ピッチPが切り換わったときも、同様にしてモータ制御部413によりステッピングモータ414を駆動し、副走査方向の記録ピッチPの可変が行われる。
104,105,108,109,202,207,208,505〜508,515〜518,604〜606,612〜615:コリメートレンズ
103,103’,203,206,509,519,607,616:支持部材
110,210,410:ホルダー(光学ハウジング)
111,211,520,617:ビーム合成プリズム(ビーム合成手段)
111−1,211−1,520−1,617−1:偏光ビームスプリッタ面
112,212,521,618:1/2波長板
400:マルチビーム光源ユニット
402:シリンダレンズ
403:ポリゴンミラー
404:fθレンズ
405:折返しミラー
406:トロイダルレンズ
407:感光体ドラム
408:同期検知用ミラー
409:同期検知センサ
411:リニアセンサ
LD1:第1の光源部
LD2:第2の光源部
Claims (7)
- 複数の半導体レーザと、該半導体レーザと対で設けられ各々の光ビームを平行光束にする複数のコリメートレンズと、上記複数の半導体レーザと複数のコリメートレンズとを主走査方向に配列してこれらを一体的に支持する支持部材とを有する光源部を備え、
上記複数の半導体レーザから射出される複数の光ビームは各々上記コリメートレンズの光軸と互いに平行であり、
上記複数の半導体レーザの間にあり、且つ上記複数の半導体レーザから射出される複数の光ビームが対称となる軸を前記光源部の射出軸とし、
上記複数の半導体レーザの発光点の間隔Dと上記複数のコリメートレンズの光軸の間隔dとが、主走査方向にD/d>1なる関係があるように上記複数の半導体レーザと上記複数のコリメータレンズとを配設することで、上記複数のコリメータレンズから射出される複数の光ビームは、上記射出軸に対して、主走査方向に各々角度を持って射出され、且つ射出方向の所定の位置で交差するように構成され、
上記光源部を、上記射出軸を回転軸とした回転方向に位置決め可能に支持し、上記複数の光ビームによるビームスポットを、副走査方向に所定の間隔で配列させることを特徴とするマルチビーム光源装置。 - 請求項1に記載のマルチビーム光源装置において、
上記光源部を複数備え、
上記複数の光源部から射出された複数の光ビームを近接させて射出するビーム合成手段を更に備えたことを特徴とするマルチビーム光源装置。 - 複数の半導体レーザと、該半導体レーザと対で設けられ各々の光ビームを平行光束にする複数のコリメートレンズと、上記複数の半導体レーザと複数のコリメートレンズとを主走査方向に射出軸に対称に配列してこれらを一体的に支持する支持部材とを有する第1の光源部と、
この第1の光源部と同様に構成した第2の光源部と、
上記第1、第2の光源部の光ビームを近接させて射出するビーム合成手段とを備え、
上記第1の光源部及び第2の光源部において、
上記複数の半導体レーザから射出される複数の光ビームは各々上記コリメートレンズの光軸と互いに平行であり、
上記複数の半導体レーザの間にあり、且つ上記半導体レーザから射出される複数の光ビームが対称となる軸を前記光源部の射出軸とし、
上記複数の半導体レーザの発光点の間隔Dと上記複数のコリメートレンズの光軸の間隔dとが、主走査方向にD/d>1なる関係があるように上記複数の半導体レーザと上記複数のコリメータレンズとを配設することで、上記複数のコリメータレンズから射出される複数の光ビームは、上記射出軸に対して、主走査方向に各々角度を持って射出され、且つ射出方向の所定の位置で交差するように構成されていると共に、
上記第1及び第2の光源部の各々について、上記射出軸を回転軸とした回転方向に位置決め可能に支持し、上記複数の光ビームによるビームスポットを、副走査方向に所定の間隔で配列させることを特徴とするマルチビーム光源装置。 - 請求項3記載のマルチビーム光源装置において、
上記第1、第2の光源部のうち、いずれか一方の光源部を2N(偶数)個(N=1,2,・・・)の半導体レーザとコリメートレンズから構成すると共に、該光源部からの複数のビームスポットの少なくとも射出軸を挾むスポット間隔について、半導体レーザの発光点の間隔Dとコリメートレンズの光軸の間隔dとの比D/dを異なえることにより、N個の半導体レーザを有するもう一方の光源部からのビームスポット間隔LのN+1倍としたことを特徴とするマルチビーム光源装置。 - 請求項3または4に記載のマルチビーム光源装置において、
上記ビーム合成手段は、上記第1の光源部の射出軸に上記第2の光源部の射出軸を一致させて射出するようにしたことを特徴とするマルチビーム光源装置。 - 請求項3乃至5のいずれか一つに記載のマルチビーム光源装置において、
上記第1、第2の光源部、及び上記ビーム合成手段とは、一体的にモジュール化され光学ハウジングに対し着脱可能であると共に、上記第1の光源部の射出軸を回転軸として回転可能に支持してなることを特徴とするマルチビーム光源装置。 - 請求項3乃至6のいずれか一つに記載のマルチビーム光源装置において、
上記ビーム合成手段は、上記第1、第2の光源部のうち、いずれか一方の光源部について複数ビームの偏光方向の位相を一括して変換する1/2波長板と、該1/2波長板を通過させた複数ビームともう一方の光源部からのビームとを合わせて射出する偏光ビームスプリッタとからなることを特徴とするマルチビーム光源装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005335968A JP4695498B2 (ja) | 2005-11-21 | 2005-11-21 | マルチビーム光源装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005335968A JP4695498B2 (ja) | 2005-11-21 | 2005-11-21 | マルチビーム光源装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17847997A Division JP4098849B2 (ja) | 1997-07-03 | 1997-07-03 | マルチビーム光源装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009222459A Division JP4995879B2 (ja) | 2009-09-28 | 2009-09-28 | マルチビーム光源装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006133790A JP2006133790A (ja) | 2006-05-25 |
JP4695498B2 true JP4695498B2 (ja) | 2011-06-08 |
Family
ID=36727327
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005335968A Expired - Fee Related JP4695498B2 (ja) | 2005-11-21 | 2005-11-21 | マルチビーム光源装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4695498B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5009557B2 (ja) * | 2006-06-21 | 2012-08-22 | 株式会社リコー | 光走査装置及びそれを備えた画像形成装置 |
JP5151899B2 (ja) * | 2008-10-20 | 2013-02-27 | 株式会社リコー | 走査装置および画像形成装置 |
-
2005
- 2005-11-21 JP JP2005335968A patent/JP4695498B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006133790A (ja) | 2006-05-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5999345A (en) | Multi-beam light source unit | |
US6771300B2 (en) | Multi-beam scanning device | |
JP4774157B2 (ja) | マルチビーム光源装置及び光走査装置 | |
JPH1184283A (ja) | マルチビーム走査装置及び光源装置 | |
JP4098849B2 (ja) | マルチビーム光源装置 | |
JP3487550B2 (ja) | マルチビーム走査装置 | |
JP2000105347A (ja) | マルチビ―ム光源装置、マルチビ―ム走査装置および画像形成装置 | |
JP3499359B2 (ja) | 多ビーム書込光学系 | |
JP4695498B2 (ja) | マルチビーム光源装置 | |
JP3526400B2 (ja) | マルチビーム光源装置 | |
JP3670858B2 (ja) | マルチビーム光源装置 | |
JP4995879B2 (ja) | マルチビーム光源装置 | |
JP2001194603A (ja) | マルチビーム光走査装置 | |
JP3367313B2 (ja) | 光学走査装置 | |
JP2005164997A (ja) | 光走査装置およびそれに用いる同期検知方法 | |
JP4138999B2 (ja) | マルチビーム光走査装置 | |
JP4051741B2 (ja) | 光走査装置 | |
JP2005156943A (ja) | 光走査装置 | |
JP3640241B2 (ja) | マルチビーム光源装置及びマルチビーム走査装置 | |
JP3913357B2 (ja) | マルチビーム光走査装置および画像形成装置 | |
JP5070559B2 (ja) | 光走査装置および画像形成装置 | |
JP3773641B2 (ja) | マルチビーム光源装置 | |
JP2002333588A (ja) | 光走査装置及び画像形成装置 | |
JP3689746B2 (ja) | ビーム合成装置、マルチビーム光源装置及びマルチビーム走査装置 | |
JP3532359B2 (ja) | 光走査装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090728 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090728 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090928 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20091110 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100205 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20100216 |
|
A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20100312 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110225 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140304 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |