JP3532359B2 - 光走査装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はレーザプリンタ、デ
ジタル複写機、レーザ書き込み方式などに用いられる光
走査装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、レーザプリンタ、デジタル複写
機、レーザ書き込み方式などにおいて記録の高速化を図
るために複数本のレーザビームを用いて複数走査線分の
記録を同時に行う光走査装置が多数提案されている。こ
の光走査装置では、光源装置から複数本の光ビームを射
出し、この複数本の光ビームを回転多面鏡により偏向
し、副走査方向に走査される被走査面上に回転多面鏡か
らの複数本の光ビームを結像系により光スポットとして
結像し、回転多面鏡の回転及び被走査面の移動により結
像系からの複数本の光ビームにより被走査面上を走査す
る。また、図２（ａ）に示すようにＣＣＤなどのセンサ
１にて結像系からの複数本の光ビーム、例えば２本のレ
ーザビーム２、３を受光し、このセンサ１の出力信号よ
り被走査面上の走査線間隔を検出して該走査線間隔を一
定に保つように制御している。

【０００３】特開平５ー３３０１２８号公報には、ある
間隔を置きながら所定の走査方向に同時に走査される複
数の光ビームの少なくとも１つを検出する光センサと、
複数の受光ピクセルを前記走査方向に対して平行または
垂直とはならない所定の角度で一列に配置し、これら複
数の光ビームの検出を行う１次元イメージセンサと、前
記光センサが光ビームの検出を行ってから所定時間経過
後にこの１次元イメージセンサの出力を読み出す読出手
段と、この読出手段によって読み出された出力からビー
ムの検出が行われた受光ピクセルの間隔を求めこれから
光ビームの間隔を算出する間隔測定手段とを具備するこ
とを特徴とするビーム間隔測定装置が記載されている。

【０００４】特開平７ー７２３９９号公報には、複数の
光ビームにより記録媒体上を同時に主走査方向に走査さ
せて複数ラインを同時に記録させる画像形成装置であっ
て、２つの光ビーム検知手段を、それぞれの光ビーム検
知領域の主走査方向の始端側の端縁が相互に非平行とな
るように主走査方向に並べて配置する一方、前記複数の
光ビームのうちの１つの光ビームのみを前記２つの光ビ
ーム検知手段それぞれに走査・入射させ、前記２つの光
ビーム検知手段で前記光ビームが検知される時間差を測
定する第１の時間差計測手段と、該第１の時間差計測手
段で走査される光ビームとは別の１つの光ビームのみを
前記２つの光ビーム検知手段それぞれに走査・入射さ
せ、前記２つの光ビーム検知手段で前記光ビームが検知
される時間差を測定する第２の時間差計測手段と、前記
第１及び第２の時間差計測手段でそれぞれに計測された
時間差の偏差を演算する時間偏差演算手段と、該時間偏
差演算手段で演算された偏差と基準値とを比較して、前
記第１及び第２の時間差計測手段でそれぞれに選択的に
走査された２つの光ビームの前記主走査方向に直交する
副走査方向における間隔のずれを検知する副走査方向ず
れ検知手段と、を含んで構成されることを特徴とする画
像形成装置が記載されている。

【０００５】特開平７ー１８１４１２号公報には、光源
装置を回転させて走査線間隔の調整を行う光走査装置が
記載されている。特開平８ー７６０３９号公報には、半
導体レーザアレイを光源として、複数のレーザビームに
よって像担持体上を同時に主走査することにより画像を
形成するマルチビームレーザ記録装置において、上記像
担持体の表面と等価な位置で当該像担持体上に走査され
る複数のレーザビームの走査線間隔を検出する走査線間
隔検出手段と、この走査線間隔検出手段の出力に基づき
像担持体上に走査される複数のレーザビームの走査線間
隔を一定に保つように制御する制御手段とを有し、前記
走査線間隔検出手段は、前記像担持体の表面と等価な位
置に配置され、かつレーザビームの走査面内の主走査方
向に対して斜めの開口部を有するフォトセンサであるこ
とを特徴とするマルチビームレーザ記録装置が記載され
ている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】上記光走査装置では、
複数本のレーザビームを同時に走査する場合、複数本の
レーザビームそれぞれの走査位置が環境変化等により主
走査方向又は副走査方向にずれて画像形成に影響が出る
ことがあった。また、記録の高密度化が進んで走査線の
間隔が狭くなっていくと、走査線間隔を検出するための
センサ１の出力信号は図２に示すようにレーザビーム
２、３のピークが近接するので、センサ１の出力信号か
らレーザビーム２、３を分離して検知することが困難と
なり、走査線間隔を検出することが困難となる。

【０００７】例えばセンサ１としてＣＣＤを用いた場合
ＣＣＤの分解能は１０μｍ程度であり、記録密度が６０
０ｄｐｉの場合走査線の間隔は４２μｍとなり、十分な
分解能とはいえない。そこで、一般的には、センサ１の
出力信号から補間計算により各レーザビーム２、３の重
心を求めることにより、十分な分解能を得ることができ
るようになる。しかし、その補間計算ではセンサ１の出
力データとして各レーザビーム２、３の裾野までのデー
タが必要であるので、レーザビーム２、３が重なり合う
と十分な精度を得ることができない。

【０００８】本発明は、走査線間隔が狭くても走査線間
隔を精度良く検出することができ、走査線間隔を制御す
る際の走査線位置検出時における走査線位置検出精度の
向上を図ることができ、走査線位置検出手段の構成を簡
易にでき、消費電力の節約を図ることができる光走査装
置を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１に係る発明は、光源を含む光源装置から複
数本の光ビームを射出して該複数本の光ビームを回転多
面鏡により偏向し、この回転多面鏡からの複数本の光ビ
ームを結像系により被走査面上に光スポットとして結像
し、前記回転多面鏡の回転及び前記被走査面の副走査方
向への移動により前記結像系からの複数本の光ビームで
前記被走査面上を走査する光走査装置において、前記結
像系からの複数本の光ビームによる前記被走査面上の走
査線間隔を検出して該走査線間隔を一定に保つように制
御する走査線間隔制御手段を有し、この走査線間隔制御
手段は走査線間隔検出時に前記被走査面上における複数
本の光ビームの走査位置を各光ビーム毎に単独で検出
し、この検出結果により前記走査線間隔を一定に保つよ
うに制御するものであり、走査線間隔が狭くても走査線
間隔を精度良く検出することができる。

【００１０】請求項２に係る発明は、請求項１記載の光
走査装置において、前記走査線間隔制御手段は、前記走
査線間隔を制御する際の走査線位置検出時に前記複数本
の光ビームを反射する前記回転多面鏡の反射面が同じに
なるように前記反射面の選択制御を行うものであり、走
査線間隔を制御する際の走査線位置検出時における走査
線位置検出精度の向上を図ることができる。

【００１１】請求項３に係る発明は、請求項２記載の光
走査装置において、前記反射面の選択制御を行うための
カウンタを有するものであり、走査線位置検出手段の構
成を簡易にできる。

【００１２】請求項４に係る発明は、請求項２記載の光
走査装置において、前記反射面の選択制御を行うための
反射型フォトセンサを有するものであり、走査線位置検
出手段の構成を簡易にできる。

【００１３】請求項５に係る発明は、請求項３または４
記載の光走査装置において、前記走査線間隔制御手段は
前記結像系からの複数本の光ビームによる前記被走査面
上の走査線間隔を検出する走査線間隔検出手段として副
走査方向に画素が配列された一次元ＣＣＤを有するもの
であり、走査線位置検出手段の構成を簡易にできる。

【００１４】請求項６に係る発明は、請求項３または４
記載の光走査装置において、前記走査線間隔制御手段は
前記結像系からの複数本の光ビームによる前記被走査面
上の走査線間隔を検出する走査線間隔検出手段として副
走査方向にセンサが配列されたフォトセンサアレイを有
するものであり、走査線位置検出手段の構成を簡易にで
きる。

【００１５】請求項７に係る発明は、請求項２記載の光
走査装置において、前記走査線間隔制御手段は任意の時
間間隔をもって前記走査線間隔の制御を行うものであ
り、消費電力の節約を図ることができる。

【００１６】請求項８に係る発明は、請求項５または６
記載の光走査装置において、前記走査線間隔検出手段は
副走査方向に傾けて配置したものであり、走査線位置検
出手段の構成を簡易にできる。

【００１７】

【発明の実施の形態】図２は請求項１〜３、５に係る発
明の一実施形態を示す。この実施形態の光走査装置は、
レーザプリンタ、デジタル複写機、レーザ書き込み方式
などに用いられ、光源装置１０を有する。この光源装置
１０は、２つの半導体レーザからなる光源１１、１２、
２つのコリメートレンズ１３、１４、１／２波長板１
５、ビーム合成プリズム１６、１／４波長板１７を有
し、ケーシング１８の内部に相対的に位置決めされて実
質的に一体化されている。

【００１８】半導体レーザ１１、１２から放射された光
ビームは、共に直線偏光でその偏光方向が互いに平行で
ある。この半導体レーザ１１、１２からの光ビームは、
それぞれコリメートレンズ１３、１４により実質的な平
行光束とされる。コリメートレンズ１４からの光ビーム
は、ビーム合成プリズム１６のミラー面１６１により反
射されてビーム合成プリズム１６の偏光ビームスプリッ
タ面１６２により反射され、１／４波長板１７により円
偏光に変換されて光源装置１０から射出される。

【００１９】一方、コリメートレンズ１３からの光ビー
ムは、１／２波長板１５により偏光方向が９０度旋回さ
れてビーム合成プリズム１６の偏光ビームスプリッタ面
１６２を透過し、１／４波長板１７により円偏光に変換
されて光源装置１０から射出される。ここに、１／２波
長板１５、ビーム合成プリズム１６及び１／４波長板１
７はビーム合成手段を構成している。

【００２０】光源装置１０から射出された２本の光ビー
ムはビーム整形用アパーチャ２０により所定のビーム形
状に整形され、結像系を構成するシリンダレンズ３０に
入射する。このシリンダレンズ３０は、副走査対応方向
にのみパワーを有し、ビーム整形用アパーチャ２０から
の２本の光ビームを共に副走査対応方向にのみ収束さ
せ、偏向手段としての回転多面鏡４０の偏向反射面近傍
に主走査対応方向に長い線像として結像させる。

【００２１】ここに、副走査対応方向は光源１１、１２
から被走査面５０に到る光路を、光軸に沿って直線的に
展開した仮想的な光路に対して副走査方向に平行的に対
応する方向をいう。また、主走査対応方向は、上記仮想
的な光路に対して主走査方向に平行的に対応する方向を
いう。シリンダレンズ３０からの２本の光ビームは、回
転多面鏡４０の偏向反射面で反射されてｆθレンズ３２
に入射し、ｆθレンズ３２の作用で被走査面５０上に２
つの光スポットとして結像される。回転多面鏡４０は図
示しないモータにより回転駆動される。

【００２２】ｆθレンズ３２は、回転多面鏡４０の偏向
反射面位置と被走査面５０の位置とを、副走査対応方向
において幾何光学的な共役関係とするアナモフィックな
レンズであり、シリンダレンズ３０とともに結像系を構
成する。従って、結像系の焦点距離はシリンダレンズ３
０の副走査対応方向の焦点距離ｆcyと、ｆθレンズ３２
の副走査対応方向の横倍率βとの積ｆcy・βで定義され
る。

【００２３】回転多面鏡４０が等速回転すると、２本の
光ビームが等角速度的に偏向され、被走査面５０はｆθ
レンズ３２からの２本の光ビームにより２ラインが一度
に等速走査される。被走査面５０はレーザプリンタ、デ
ジタル複写機、レーザ書き込み方式などにおける感光体
ドラムなどの感光体の表面となり、この感光体は駆動手
段により副走査方向に移動（回転を含む）をする。

【００２４】この感光体は帯電器により均一に帯電され
た後にｆθレンズ３２からの２本の光ビームにより主走
査方向に走査されて露光され、半導体レーザ１１、１２
が半導体レーザ駆動回路により画像信号に応じて駆動さ
れることにより、感光体に画像が書き込まれて静電潜像
が形成される。この静電潜像は現像装置で現像されて記
録紙などに転写される。半導体レーザ１１の発光部はコ
リメートレンズ１３の光軸上に位置し、半導体レーザ１
１から放射された光ビームはコリメートレンズ１３の光
軸に平行な光束となる。コリメートレンズ１３の光軸
は、光源１１、１２から被走査面５０に到る光路を展開
した状態において、結像系３０、３２の光軸と合致して
いる。

【００２５】一方、コリメートレンズ１４の光軸は結像
系３０、３２の光軸と光軸合わせされているが、半導体
レーザ１２の発光部はコリメートレンズ１４の光軸から
若干ずれており、このずれにより、コリメートレンズ１
４からの平行光束はコリメートレンズ１４の光軸、結像
系３０、３２の光軸に対して傾いたビームとなる。従っ
て、光源装置１０から放射される２本の光ビームのう
ち、コリメートレンズ１３からの光ビームが結像系３
０、３２の光軸に対して平行であるのに対し、コリメー
トレンズ１４からの光ビームはコリメートレンズ１３か
らの光ビームとの間にビーム間角度θbを有する。

【００２６】半導体レーザ１１、１２の発光部を結ぶ方
向（ビーム間角度設定方向）はコリメートレンズ１３、
１４の中心を結ぶ方向と平行であるるが、半導体レーザ
１１の発光部は上記ビーム間角度設定方向においてコリ
メートレンズ１４の光軸上から微小距離ずれている。こ
のため、光源装置１０から放射される２本の光ビームの
間には、コリメートレンズ１３、１４の光軸を共有する
平面内において、ビーム間角度θbの開きがある。

【００２７】光源装置１０は、コリメートレンズ１３の
光軸を回転軸として、主走査対応方向から時計回りに傾
き角θrだけ傾けられており、ビーム間角度設定方向は
主走査対応方向に対してθrだけ傾くことになる。光源
装置１０は、調整手段としての走査間隔調整機構６０に
より、コリメートレンズ１３の光軸を回転軸として回転
されてθrが調整される。光源装置１０から放射される
光ビームの間にはビーム間角度θbがあり、ビーム間角
度設定方向は主走査対応方向に対してθrだけ傾いてい
るため、被走査面５０上に結像される２つの光スポット
は主走査方向に距離Ｐm、副走査方向に距離Ｐsだけずれ
ることになり、この距離が走査線ピッチを与えることに
なる。

【００２８】なお、この実施形態ではビーム間角度設定
方向を半導体レーザ１１、１２の配列方向に設定した
が、これに限らず、ビーム間角度設定方向を任意の方
向、例えばコリメートレンズ１３、１４の配列方向に直
交する方向に設定することが可能である。

【００２９】また、ｆθレンズ３２からの２本の光ビー
ムは書き込み領域外で折り返しミラー４１により反射さ
れて走査位置検出センサとしての受光素子４２により受
光される。この受光素子４２は副走査方向に画素が配列
された一次元ＣＣＤが用いられる。走査間隔算出回路６
１はＣＣＤ４２の出力信号から上記２本の光ビームによ
る被走査面５０上の走査線の間隔（ピッチ）を、前述し
た特開平５ー３３０１２８号公報や特開平７ー７２３９
９号公報等により知られている方式で算出する。

【００３０】この方式では、走査線の間隔が狭くなる
と、２本の光ビーム２、３に対するセンサ１の各出力信
号は図２に示すように重なり合って走査線の間隔ｄを検
出する精度が悪くなる。近年、情報の高密度化が図られ
ているが、情報の高密度化を図ると当然走査線の間隔ｄ
が狭くなり、センサ１の出力信号から光ビーム２、３を
分離して検知することが困難となる。そこで、この実施
形態では、走査線の間隔を検出する時は、各走査線をそ
れぞれ単独で走査させ、その走査時にＣＣＤ４２からの
各走査線の走査位置情報を走査位置メモリ６２に記憶し
ておき、走査間隔算出回路６１は走査位置メモリ６２よ
りＣＣＤ４２からの各走査線の走査位置情報を読み出し
て走査線の間隔を算出する。

【００３１】一般に、回転多面鏡４０は反射面の加工誤
差による反射面の倒れが発生している。この反射面の倒
れ（いわゆる面倒れ）は回転多面鏡４０の各反射面毎に
その量が異なっており、これに起因して被走査面５０上
の光ビームによる走査位置は同じ発光点からの光ビーム
であっても回転多面鏡４０の反射面によって異なるとい
う現象が生ずる。一般に光走査装置の光学系は面倒れ補
正光学系として設計されているが、それでも回転多面鏡
４０の面倒れが完全に補正されておらず、面倒れの補正
不足の結果として光ビームに対する回転多面鏡４０の反
射面が異なることにより走査位置ずれが生ずる。

【００３２】このため、走査線の間隔を検出する時は、
２本の光ビームに対して回転多面鏡４０の反射面を同じ
反射面とする必要がある。そこで、この実施形態では、
走査線の間隔を検出する時には、回転多面鏡（ポリゴ
ン）面数カウント回路６３にてＣＣＤ４２の出力信号を
カウントすることにより回転多面鏡４０の反射面の数
（光ビームを偏向する位置を通過する反射面の数）をカ
ウントし、シリンダレンズ３０からの２本の光ビームに
対して回転多面鏡４０の同じ反射面が光ビーム偏向位置
に来た時に半導体レーザ駆動回路により半導体レーザ１
１、１２を交互に点灯させ、走査間隔算出回路６１が走
査位置メモリ６２より２本の光ビームに対するＣＣＤ４
２からの各走査線の走査位置情報を順次に読み出して走
査線の間隔を算出する。

【００３３】図３は本実施形態の走査線間隔算出・調整
フローを示す。電源がオンされ回転多面鏡４０の回転が
安定した後に、回転多面鏡（ポリゴン）面数カウント回
路６３が回転多面鏡４０の光ビーム走査に使用している
反射面のカウントを回転多面鏡４０の第１反射面より開
始する。このカウント開始時にはカウンタｎに１が入力
されてｎ＝１となり、ＣＣＤ４２からの２本の光ビーム
のうちの一方の点灯している光ビームによる走査位置情
報Ａが走査位置メモリ６２に記憶される。

【００３４】その後、引き続いて回転多面鏡（ポリゴ
ン）面数カウント回路６３が回転多面鏡４０の光ビーム
走査に使用している反射面のカウントを行う。ここで
は、回転多面鏡４０の反射面の数は６であり、半導体レ
ーザ駆動回路はｎ＝６になった時、つまり、反射面のカ
ウント開始から最終反射面をカウントした時に半導体レ
ーザ１１、１２の点灯を切り換え、今まで点灯していた
半導体レーザを消灯させて今まで消灯していた半導体レ
ーザを点灯させる。

【００３５】ｎ＝７になった時、つまり、回転多面鏡４
０が１周してもとの位置に戻った時にはＣＣＤ４２から
の２本の光ビームのうちの他方の点灯している光ビーム
による走査位置情報Ｂが走査位置メモリ６２に記憶され
る。走査間隔算出回路６１は、走査位置メモリ６２より
２本の光ビームに対するＣＣＤ４２からの各走査線の走
査位置情報Ａ、Ｂを順次に読み出してその差分（Ａ−
Ｂ）を算出することにより走査線の間隔を算出し、差分
（Ａ−Ｂ）の絶対値｜Ａ−Ｂ｜が予め設定した規格値
１、２の中に入っているか否かを判定する。

【００３６】走査間隔調整機構６０は、｜Ａ−Ｂ｜が規
格値１、２の中に入っていて走査間隔算出回路６１が処
理を終了した場合には走査間隔算出回路６１が算出した
（Ａ−Ｂ）により走査線の間隔を一定に保つように光源
装置１０をコリメートレンズ１３の光軸を回転軸として
回転させることによって走査線の間隔を調整する。ま
た、｜Ａ−Ｂ｜が規格値１、２の中に入っていない場合
には上述した動作が繰り返される。

【００３７】このように、この実施形態は、請求項１に
係る発明の一実施形態であって、光源としての半導体レ
ーザ１１、１２を含む光源装置１０から複数本の光ビー
ムを射出して該複数本の光ビームを回転多面鏡４０によ
り偏向し、この回転多面鏡４０からの複数本の光ビーム
を結像系としてのｆθレンズ３２により被走査面５０上
に光スポットとして結像し、前記回転多面鏡４０の回転
及び前記被走査面５０の副走査方向への移動により前記
結像系３２からの複数本の光ビームで前記被走査面５０
上を走査する光走査装置において、前記結像系３２から
の複数本の光ビームによる前記被走査面５０上の走査線
間隔を検出して該走査線間隔を一定に保つように制御す
る走査線間隔制御手段としての走査位置検出センサ４
２、走査間隔算出回路６１及び走査間隔調整機構６０を
有し、この走査線間隔制御手段４２、６０、６１は走査
線間隔検出時に前記被走査面５０上における複数本の光
ビームの走査位置を各光ビーム毎に単独で検出し、この
検出結果により前記走査線間隔を一定に保つように制御
するので、走査線間隔が狭くても走査線間隔を精度良く
検出することができる。

【００３８】また、この実施形態は、請求項２に係る発
明の一実施形態であって、請求項１記載の光走査装置に
おいて、前記走査線間隔制御手段としての走査位置検出
センサ４２、走査間隔算出回路６１及び走査間隔調整機
構６０は、前記走査線間隔を制御する際の走査線位置検
出時に前記複数本の光ビームを反射する前記回転多面鏡
４０の反射面が同じになるように前記反射面の選択制御
を行うので、走査線間隔を制御する際の走査線位置検出
時における走査線位置検出精度の向上を図ることができ
る。

【００３９】また、この実施形態は、請求項３に係る発
明の一実施形態であって、請求項２記載の光走査装置に
おいて、前記反射面の選択制御を行うためのカウンタと
しての回転多面鏡面数カウント回路６３を有するので、
走査線位置検出手段の構成を簡易にできる。

【００４０】また、この実施形態は、請求項５に係る発
明の一実施形態であって、請求項３または４記載の光走
査装置において、前記走査線間隔制御手段としての走査
位置検出センサ４２、走査間隔算出回路６１及び走査間
隔調整機構６０は前記結像系としてのｆθレンズ３２か
らの複数本の光ビームによる前記被走査面５０上の走査
線間隔を検出する走査線間隔検出手段として副走査方向
に画素が配列された一次元ＣＣＤ４２を有するので、走
査線位置検出手段の構成を簡易にできる。

【００４１】上記実施形態では光ビームが走査位置検出
センサ４２を走査した時に回転多面鏡４０の反射面を回
転多面鏡面数カウント回路６３によりカウントしたが、
回転多面鏡４０の反射面をカウントする手段は別に設け
てもよい。請求項４に係る発明の一実施形態では、上記
実施形態において、回転多面鏡４０の反射面ではない別
の部分、例えば上面にマーキングを行い、そこに反射型
フォトセンサの発光ダイオードから光を当ててその反射
光を反射型フォトセンサの受光部により受光して該反射
型フォトセンサの出力信号をカウントすることにより回
転多面鏡４０の反射面の数（光ビームを偏向する位置を
通過する反射面の数）をカウントする。

【００４２】このように、請求項４に係る発明の一実施
形態は、請求項２記載の光走査装置において、前記反射
面の選択制御を行うための反射型フォトセンサを有する
ので、走査線位置検出手段の構成を簡易にできる。

【００４３】また、上記実施形態は走査線の本数が２本
の場合であるが、走査線の本数が３本以上である場合に
は、例えば上記実施形態において、走査線の間隔を調整
する時に、各走査線をそれぞれ単独で走査させ、それら
の走査時にＣＣＤ４２からの各走査線の走査位置情報を
走査位置メモリ６２に記憶し、走査間隔算出回路６１に
て走査位置メモリ６２より隣接する２つずつの走査線の
走査位置情報を読み出して隣接する走査線毎にその間隔
を算出し、走査間隔調整機構にてそれらの検出結果によ
り隣接する走査線毎にその間隔をそれぞれ一定に保つよ
うに制御すればよい。また、上記実施形態において、上
記走査線の間隔検出を回転多面鏡４０の各反射面に対し
て行い、それらの検出結果の平均値をもって走査線の間
隔を狙いの間隔となるように調整してもよい。

【００４４】上記走査線間隔の検出・調整の作業はかな
り多量になるが、実際にこの作業を行う必要があるのは
機械の電源がオンされた時とそれ以外の数時間ごとのタ
イミングで良いと考えられ、時間的にはその作業を急い
で行う必要はない。環境変化による走査線間隔の変化
は、急激に発生するものではなく徐々に生ずるものと考
えられるので、走査線間隔の検出・調整の作業は数時間
に１回で十分である。そこで、請求項７に係る発明の一
実施形態では、上記実施形態において、走査位置検出セ
ンサ４２、走査間隔算出回路６１及び走査間隔調整機構
６０は、上記走査線間隔の検出・調整を所定のタイミン
グ、つまり、機械の電源がオンされた時とそれ以外の数
時間ごとのタイミングで行う。なお、上記走査線間隔の
検出・調整は任意の時間間隔をもって行うことができ
る。

【００４５】このように、請求項７に係る発明の一実施
形態は、請求項２記載の光走査装置において、前記走査
線間隔制御手段としての走査位置検出センサ４２、走査
間隔算出回路６１及び走査間隔調整機構６０は任意の時
間間隔をもって前記走査線間隔の制御を行うので、消費
電力の節約を図ることができる。

【００４６】また、上記実施形態では走査位置検出セン
サ４２として一次元ＣＣＤを用いたが、請求項６に係る
発明の一実施形態は、上記実施形態において、走査位置
検出センサ４２として副走査方向にセンサが配列された
フォトセンサアレイを用いるようにしたものである。

【００４７】この請求項６に係る発明の一実施形態で
は、請求項３または４記載の光走査装置において、前記
走査線間隔制御手段としての走査位置検出センサ４２、
走査間隔算出回路６１及び走査間隔調整機構６０は前記
結像系３２からの複数本の光ビームによる前記被走査面
５０上の走査線間隔を検出する走査線間隔検出手段とし
て副走査方向にセンサが配列されたフォトセンサアレイ
を有するので、走査線位置検出手段の構成を簡易にでき
る。

【００４８】また、上記実施形態において、上記一次元
ＣＣＤ又はフォトセンサアレイからなる走査位置検出セ
ンサ４２の副走査方向画素配列間隔又は副走査方向セン
サ配列間隔が不十分で精度的に不十分であると思われる
場合には走査位置検出センサ４２を副走査方向に対して
傾けることにより精度向上を図ることができる。請求項
８に係る発明の一実施形態では、上記実施形態におい
て、図４に示すようにＣＣＤ４２を副走査方向に対して
傾けて配置したものである。図４において、４３、４４
は折り返しミラー４１からＣＣＤ４２への光ビームを示
す。なお、上記実施形態において、ＣＣＤ４２の代りに
一列にセンサが配列されたフォトセンサアレイを用いて
これを副走査方向に対して傾けて配置するようにしても
よい。

【００４９】このように、請求項８に係る発明の一実施
形態は、請求項５または６記載の光走査装置において、
前記走査線間隔検出手段４２は副走査方向に傾けて配置
したので、走査線位置検出手段の構成を簡易にでき、精
度向上を図ることができる。

【００５０】

【発明の効果】以上のように請求項１に係る発明によれ
ば、光源を含む光源装置から複数本の光ビームを射出し
て該複数本の光ビームを回転多面鏡により偏向し、この
回転多面鏡からの複数本の光ビームを結像系により被走
査面上に光スポットとして結像し、前記回転多面鏡の回
転及び前記被走査面の副走査方向への移動により前記結
像系からの複数本の光ビームで前記被走査面上を走査す
る光走査装置において、前記結像系からの複数本の光ビ
ームによる前記被走査面上の走査線間隔を検出して該走
査線間隔を一定に保つように制御する走査線間隔制御手
段を有し、この走査線間隔制御手段は走査線間隔検出時
に前記被走査面上における複数本の光ビームの走査位置
を各光ビーム毎に単独で検出し、この検出結果により前
記走査線間隔を一定に保つように制御するので、走査線
間隔が狭くても走査線間隔を精度良く検出することがで
きる。

【００５１】請求項２に係る発明は、請求項１記載の光
走査装置において、前記走査線間隔制御手段は、前記走
査線間隔を制御する際の走査線位置検出時に前記複数本
の光ビームを反射する前記回転多面鏡の反射面が同じに
なるように前記反射面の選択制御を行うので、走査線間
隔を制御する際の走査線位置検出時における走査線位置
検出精度の向上を図ることができる。

【００５２】請求項３に係る発明は、請求項２記載の光
走査装置において、前記反射面の選択制御を行うための
カウンタを有するので、走査線位置検出手段の構成を簡
易にできる。

【００５３】請求項４に係る発明は、請求項２記載の光
走査装置において、前記反射面の選択制御を行うための
反射型フォトセンサを有するので、走査線位置検出手段
の構成を簡易にできる。

【００５４】請求項５に係る発明は、請求項３または４
記載の光走査装置において、前記走査線間隔制御手段は
前記結像系からの複数本の光ビームによる前記被走査面
上の走査線間隔を検出する走査線間隔検出手段として副
走査方向に画素が配列された一次元ＣＣＤを有するの
で、走査線位置検出手段の構成を簡易にできる。

【００５５】請求項６に係る発明は、請求項３または４
記載の光走査装置において、前記走査線間隔制御手段は
前記結像系からの複数本の光ビームによる前記被走査面
上の走査線間隔を検出する走査線間隔検出手段として副
走査方向にセンサが配列されたフォトセンサアレイを有
するので、走査線位置検出手段の構成を簡易にできる。

【００５６】請求項７に係る発明は、請求項２記載の光
走査装置において、前記走査線間隔制御手段は任意の時
間間隔をもって前記走査線間隔の制御を行うので、消費
電力の節約を図ることができる。

【００５７】請求項８に係る発明は、請求項５または６
記載の光走査装置において、前記走査線間隔検出手段は
副走査方向に傾けて配置したので、走査線位置検出手段
の構成を簡易にできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】請求項１〜３、５に係る発明の一実施形態を示
す概略図である。

【図２】従来装置を説明するための図である。

【図３】上記実施形態の動作フローを示す流れ図であ
る。

【図４】請求項８に係る発明の一実施形態の一部を示す
概略図である。

【符号の説明】

１０ 光源装置 １１、１２ 半導体レーザ ３２ ｆθレンズ ４０ 回転多面鏡 ４２ 走査位置検出センサ ５０ 被走査面 ６０ 走査間隔調整機構 ６１ 走査間隔算出回路 ６２ 走査位置メモリ ６３ 回転多面鏡面数カウント回路

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】光源を含む光源装置から複数本の光ビーム
   を射出して該複数本の光ビームを回転多面鏡により偏向
   し、この回転多面鏡からの複数本の光ビームを結像系に
   より被走査面上に光スポットとして結像し、前記回転多
   面鏡の回転及び前記被走査面の副走査方向への移動によ
   り前記結像系からの複数本の光ビームで前記被走査面上
   を走査する光走査装置において、前記結像系からの複数
   本の光ビームによる前記被走査面上の走査線間隔を検出
   して該走査線間隔を一定に保つように制御する走査線間
   隔制御手段を有し、この走査線間隔制御手段は走査線間
   隔検出時に前記被走査面上における複数本の光ビームの
   走査位置を各光ビーム毎に単独で検出し、この検出結果
   により前記走査線間隔を一定に保つように制御すること
   を特徴とする光走査装置。
2. 【請求項２】請求項１記載の光走査装置において、前記
   走査線間隔制御手段は、前記走査線間隔を制御する際の
   走査線位置検出時に前記複数本の光ビームを反射する前
   記回転多面鏡の反射面が同じになるように前記反射面の
   選択制御を行うことを特徴とする光走査装置。
3. 【請求項３】請求項２記載の光走査装置において、前記
   反射面の選択制御を行うためのカウンタを有することを
   特徴とする光走査装置。
4. 【請求項４】請求項２記載の光走査装置において、前記
   反射面の選択制御を行うための反射型フォトセンサを有
   することを特徴とする光走査装置。
5. 【請求項５】請求項３または４記載の光走査装置におい
   て、前記走査線間隔制御手段は前記結像系からの複数本
   の光ビームによる前記被走査面上の走査線間隔を検出す
   る走査線間隔検出手段として副走査方向に画素が配列さ
   れた一次元ＣＣＤを有することを特徴とする光走査装
   置。
6. 【請求項６】請求項３または４記載の光走査装置におい
   て、前記走査線間隔制御手段は前記結像系からの複数本
   の光ビームによる前記被走査面上の走査線間隔を検出す
   る走査線間隔検出手段として副走査方向にセンサが配列
   されたフォトセンサアレイを有することを特徴とする光
   走査装置。
7. 【請求項７】請求項２記載の光走査装置において、前記
   走査線間隔制御手段は任意の時間間隔をもって前記走査
   線間隔の制御を行うことを特徴とする光走査装置。
8. 【請求項８】請求項５または６記載の光走査装置におい
   て、前記走査線間隔検出手段は副走査方向に傾けて配置
   したことを特徴とする光走査装置。