JPH0768172A - 窒素酸化物接触還元用触媒及び方法 - Google Patents

窒素酸化物接触還元用触媒及び方法

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JPH0768172A
JPH0768172A JP5179467A JP17946793A JPH0768172A JP H0768172 A JPH0768172 A JP H0768172A JP 5179467 A JP5179467 A JP 5179467A JP 17946793 A JP17946793 A JP 17946793A JP H0768172 A JPH0768172 A JP H0768172A
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catalytic reduction
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titanium
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浩昭 力丸
Toshikatsu Baba
敏勝 馬場
Yoshiyuki Yoshikawa
嘉之 吉川
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Sakai Chemical Industry Co Ltd
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Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Sakai Chemical Industry Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】アンモニアのような還元性ガスの存在下に窒素
酸化物を接触還元するための触媒であつて、低温域から
高温域、特に、500℃を越える高温域にわたつて、高
い窒素酸化物接触還元活性を安定して有する耐久性にす
ぐれる窒素酸化物接触還元用触媒を提供することにあ
り、更に、そのような触媒を用いる窒素酸化物接触還元
方法を提供することにある。 【構成】本発明による窒素酸化物接触還元用触媒は、
(a) チタン、(b) タングステン又はモリブデンを酸化物
換算にて10〜25重量%、及び(c) ニオブを酸化物換
算にて0.1〜2重量%を主成分とする。本発明による窒
素酸化物接触還元方法は、アンモニアに代表される還元
性ガスの存在下に、窒素酸化物を含有する排ガスを、上
記触媒に500℃以上の温度で接触させるものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、アンモニアに代表され
る還元性ガスの存在下に窒素酸化物を接触還元するため
の触媒及び方法に関し、詳しくは、種々の燃焼排ガスや
化学プロセスから発生する排ガス中に含まれる有害な窒
素酸化物を還元除去するための触媒及び方法であつて、
特に、500℃以上の高温域においても、長期間にわた
つて安定に且つ有効に窒素酸化物を還元除去することが
できる窒素酸化物接触還元用触媒及びその方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】近年、ボイラ、加熱炉、ガスタービン、
ディーゼルエンジンや種々の化学プロセスから発生する
排ガス燃焼排ガスや硝酸製造排ガスの中に含まれる窒素
酸化物を除去するために、アンモニアを還元剤として用
いて、上記排ガスを触媒に接触させ、窒素酸化物を還元
する方法が実用化されている。
【0003】このような触媒として、従来、種々の組成
を有するものが提案されており、また、実用されている
ものの、いずれも、比較的低温域において有効な窒素酸
化物還元活性を有するものであつて、低温域から500
℃を越える高温域にわたる広い温度域にて安定した高活
性を有し、耐久性にすぐれる窒素酸化物接触還元用触媒
は、従来、知られていない。
【0004】例えば、ガスタービンやディーゼルエンジ
ンのように、起動後の温度変化が急激である場合は、低
温域から500℃を越える広い温度域において、効率的
に安定して窒素酸化物を接触還元することが要求される
が、このような要求に応えることができる触媒は、従
来、知られていない。例えば、従来、チタンとタングス
テンを主成分とする触媒は、特公昭52−35342号
公報に記載されているように、既に、知られており、こ
の触媒が比較的耐熱性にすぐれていることも知られてい
るが、しかし、この触媒は、低温域において活性が低
く、しかも、長期間にわたつて、安定した活性をもたな
い。
【0005】特公昭54−2912号公報には、チタン
とバナジウムとからなる触媒が開示されており、また、
特開昭50−128681号公報には、チタン、タング
ステン及びバナジウムからなる触媒が開示されている。
これらの触媒は、低温域において窒素酸化物還元活性に
比較的すぐれているが、高温域においては、活性が安定
性に欠ける。
【0006】更に、特開昭51−87485号公報に
は、バナジウム及びニオブと共に、チタン、銅、クロ
ム、タングステン、モリブデン、鉄及びニツケルから選
ばれる1種又は複数種の元素からなる触媒が開示されて
いる。しかし、この触媒も、高温域においては、活性の
安定性が十分でないものである。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の窒素
酸化物接触還元用触媒における上記した問題を解決する
ためになされたものであつて、アンモニアに代表される
還元剤の存在下に窒素酸化物を接触還元するための触媒
であつて、低温域から高温域、特に、500℃を越える
高温域にわたつて、高い窒素酸化物接触還元活性を安定
して有する耐久性にすぐれる窒素酸化物接触還元用触媒
を提供することを目的とし、更に、そのような触媒を用
いる窒素酸化物接触還元方法を提供することを目的とす
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明による窒素酸化物
接触還元用触媒は、(a) チタン、(b) タングステン又は
モリブデンを酸化物換算にて10〜25重量%、及び
(c) ニオブを酸化物換算にて0.1〜2重量%を主成分と
してなることを特徴とする。
【0009】本発明において、上記窒素酸化物とは、例
えば、一酸化窒素、三酸化二窒素、二酸化窒素、四酸化
二窒素等をいう。本発明による触媒において、タングス
テンは、耐熱性を高めるのに有用であり、酸化物(WO
3 )換算にて10〜25重量%の範囲で含有することが
必要であり、特に、12〜21重量%の範囲で含有する
ことが好ましい。
【0010】他方、本発明による触媒において、ニオブ
は、高温での性能を損なうことなく、低温域における窒
素酸化物接触還元活性を高めるのに有用であつて、酸化
物(Nb2 5 )換算にて0.10〜2重量%の範囲で含
有することが必要であり、特に、0.15〜1重量%の範
囲で含有することが好ましい。しかし、触媒におけるニ
オブの量が多すぎるときは、還元剤であるアンモニアを
酸化を促進するので好ましくない。
【0011】本発明による触媒において、活性成分であ
るチタン、タングステン又はモリブデン、及びニオブ
は、酸化物の形態であることが好ましいが、しかし、硫
酸塩やその他の形態であつてもよい。更に、本発明によ
る触媒においては、上記活性成分のほかに、必要に応じ
て、他の成分、例えば、ケイ素、ジルコニウム等を含ん
でいてもよい。
【0012】本発明による触媒は、その製造方法におい
て何ら制約を受けるものではない。原料としては、チタ
ンについては、二酸化チタンのほか、チタン酸、水酸化
チタン、硫酸チタン等のチタン化合物のほか、チタンと
ケイ素の複合酸化物が用いられる。このようなチタンと
ケイ素の複合酸化物は,例えば、硫酸チタン等のチタン
塩をシリカゾルと混合し、これにアンモニア等のアルカ
リを加え、沈殿させ、得られた沈殿を洗浄し、乾燥させ
た後、150〜850℃で焼成することによつて得るこ
とができる。また、本発明で用いる二酸化チタンについ
ては、その製造方法は何ら限定されるものではないが、
例えば、硫酸法による酸化チタンの製造工程から得られ
る硫酸チタンをアンモニアで中和し、これを乾燥し、焼
成して得られる二酸化チタンを好ましく用いることがで
きる。
【0013】タングステンについては、酸化タングステ
ン、パラタングステン酸アンモニウム、メタタングステ
ン酸アンモニウム等が好ましく用いられる。モリブデン
については、酸化モリブデンやパラモリブデン酸アンモ
ニウム等が好ましく用いられる。また、ニオブについて
は、塩化物等が好ましく用いられる。
【0014】このような原料を用いる触媒の製造は、従
来より知られている通常の方法によればよく、このよう
な方法として、例えば、酸化物を混合し、焼成する方
法、酸化物を共沈させ、焼成する方法、酸化物と水溶性
塩とを混合し、混練し、乾燥し、焼成する方法、担体に
コーティングする方法、これらの組合わせによる方法等
を挙げることができる。具体的には、例えば、硫酸チタ
ンと塩化ニオブを混合し、アルカリを加えて、共沈さ
せ、乾燥させ、焼成し、これにメタタングステン酸アン
モニウム溶液を混合し、混練し、成形し、乾燥し、焼成
する方法を挙げることができる。
【0015】本発明による触媒は、必要に応じて、種々
の成形助剤、例えば、ポリビニルアルコール等のバイン
ダーや、無機繊維等の補強材を配合して、所要の形状に
成形し、或いは成形体の強度を高めることができる。更
に、触媒の分野において既に知られているように、必要
に応じて、触媒をシリカ、アルミナ、マグネシア、ジル
コニア等の担体に担持させることもできる。また、本発
明による触媒は、その形状において、何ら限定されるも
のではなく、ハニカム状、ペレツト状、粒状等、用途等
に応じて適宜に選ばれる。
【0016】本発明による排ガスから窒素酸化物を接触
還元除去する方法は、還元性ガスの存在下に、窒素酸化
物を含有する排ガスを上記した触媒に500℃以上の温
度で接触させることを特徴とする。上記還元性ガスとし
ては、例えば、水素、炭化水素、一酸化炭素、アンモニ
ア等を挙げることができるが、実用上、アンモニアが好
ましく用いられる。
【0017】本発明の方法によれば、還元性ガスは、排
ガス中の窒素酸化物と完全に反応するに必要な化学量論
量の1〜10倍程度、好ましくは、1〜2倍程度用い、
還元性ガスを混合した排ガスを空間速度(NTP換算空
塔基準)で2000〜100000/時、好ましくは、
5000〜60000/時の範囲にて触媒に接触させ
る。
【0018】反応温度は、200℃程度から500℃を
越える温度域である。本発明の方法においては、反応温
度は、200℃程度から500℃を越える温度域の間を
変動しても、安定して効率的に窒素酸化物を接触還元す
ることができる。反応温度の上限は、通常、600℃程
度である。また、反応は、通常、常圧で行なわれるが、
必要に応じて、10kg/cm2 程度の圧力下に行なうこと
もできる。
【0019】更に、反応形式としては、特に、限定され
るものではないが、通常の固定床のほか、移動床や流動
床等の反応形式も採用することができる。本発明の方法
は、例えば、発電所ボイラー、ごみ焼却炉等から発生す
る排ガスに好適に適用されるが、しかし、これらに限定
されるものではない。
【0020】
【発明の効果】以上のように、本発明による窒素酸化物
接触還元用触媒は、チタンと、タングステン又はモリブ
デンと、ニオブとからなり、アンモニアを還元剤として
用いて、低温域から高温域、特に、500℃を越える高
温域にわたつて、高い窒素酸化物接触還元活性を安定し
て有し、耐久性にすぐれる。
【0021】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではな
い。
【0022】実施例1 硫酸法による酸化チタンの製造工程から得られる硫酸チ
タン溶液(TiO2 として100g/l濃度)200リ
ットルに塩化ニオブ(NbCl5 )のエタノール溶液
(Nb2 5 として50g/l濃度)940mlを加えた
後、アンモニア水にて中和し、濾過、水洗し、120℃
で12時間乾燥し、更に、500℃で3時間焼成して、
二酸化チタンと酸化ニオブとの混合物を得た。この酸化
物の混合物をサンプルミルにて粉砕し、粒度を調整し
た。
【0023】次に、メタタングステン酸アンモニウム溶
液(WO3 として50重量%濃度)7.1kgを上記酸化物
の混合物に加え、混練した後、押出成形機によつて、4.
2mmピッチの格子状ハニカム成形体に押出成形した。こ
のハニカム成形体を常温から100℃に加熱し、乾燥さ
せた後、600℃で3時間焼成して、タングステンを酸
化タングステン(WO3 )として15重量%、ニオブを
五酸化ニオブ(Nb25 )として0.2重量%含有する
窒素酸化物接触還元用触媒を得た。
【0024】実施例2 硫酸法による酸化チタンの製造工程から得られる硫酸チ
タン溶液(TiO2 として100g/l濃度)200リ
ットルに塩化ニオブ(NbCl5 )のエタノール溶液
(Nb2 5 として50g/l濃度)2.37リットルを
加えた後、95℃にて熱加水分解し、濾過、水洗し、1
20℃で12時間乾燥し、更に、500℃で3時間焼成
して、二酸化チタン酸化ニオブとの混合物を得た。この
酸化物の混合物をサンプルミルにて粉砕し、粒度を調整
した。
【0025】次に、メタタングステン酸アンモニウム溶
液(WO3 として50重量%濃度)7.1kgを上記酸化物
の混合物に加え、混練した後、押出成形機によつて、4.
2mmピッチの格子状ハニカム成形体に押出成形した。こ
のハニカム成形体を常温から100℃に加熱し、乾燥さ
せた後、600℃で3時間焼成して、タングステンを酸
化タングステン(WO3 )として15重量%、ニオブを
五酸化ニオブ(Nb25 )として0.5重量%含有する
窒素酸化物接触還元用触媒を得た。
【0026】実施例3 実施例1において、メタタングステン酸アンモニウム溶
液に代えて、モリブデン酸アンモニウム溶液(MoO3
として400g/l濃度)8.9リットルを用いた以外
は、実施例1と同様にして、モリブデンを酸化モリブデ
ン(MoO3 )として15重量%、ニオブを五酸化ニオ
ブ(Nb2 5 )として0.2重量%含有する窒素酸化物
接触還元用触媒を得た。
【0027】比較例1 実施例1において、硫酸チタン溶液に塩化ニオブのエタ
ノール溶液を加えることなく、硫酸チタン溶液をそのま
ま、アンモニア水で中和し、以後、実施例1と同様に処
理して、タングステンを酸化タングステン(WO3 )と
して15重量%含有する窒素酸化物接触還元用触媒を得
た。
【0028】比較例2 実施例2において、硫酸チタン溶液に塩化ニオブのエタ
ノール溶液を加えることなく、硫酸チタン溶液をそのま
ま、アンモニア水で中和し、以後、実施例1と同様に処
理して、タングステンを酸化タングステン(WO3 )と
して15重量%含有する窒素酸化物接触還元用触媒を得
た。
【0029】比較例3 実施例2において、メタタングステン酸アンモニウム溶
液(WO3 として50重量%濃度)7.2kgとメタバナジ
ン酸アンモニウムのシユウ酸溶液をV2 5 として24
0g用いた以外は、実施例2と同様にして、タングステ
ンを酸化タングステン(WO3 )として15重量%、バ
ナジウムを五酸化バナジウム(V2 5)として1重量
%、ニオブを五酸化ニオブ(Nb2 5 )として0.5重
量%含有する窒素酸化物接触還元用触媒を得た。
【0030】比較例4 実施例1において、メタタングステン酸アンモニウム溶
液(WO3 として50重量%濃度)3.5kgを用いた以外
は、実施例1と同様にして、タングステンを酸化タング
ステン(WO3 )として8重量%、ニオブを五酸化ニオ
ブ(Nb2 5)として0.2重量%含有する窒素酸化物
接触還元用触媒を得た。
【0031】比較例5 実施例1において、塩化ニオブ(NbCl3 )のエタノ
ール溶液(Nb2 5として50g/l濃度)30.8リ
ットル、メタタングステン酸アンモニウム溶液(WO3
として50重量%濃度)18.5kgを用いた以外は、実施
例1と同様にして、タングステンを酸化タングステン
(WO3 )として30重量%、ニオブを五酸化ニオブ
(Nb2 5 )として5重量%含有する窒素酸化物接触
還元用触媒を得た。
【0032】以上のようにして調製したそれぞれの窒素
酸化物接触還元用触媒に、窒素酸化物65ppm 、アンモ
ニア65ppm 、水蒸気7%、酸素14.7%及び残部窒素
からなる組成の混合ガスを温度270℃又は530℃、
空間速度7950/時、ガス流速(空塔)2.46Nm/
秒にて接触させ、窒素酸化物の除去率を測定した。結果
を表1に示す。
【0033】
【表1】
【0034】表1に示す結果から、本発明による窒素酸
化物接触還元用触媒は、広い温度範囲において、特に、
500℃以上の高温域においても、窒素酸化物を有効に
接触還元することができる。
【0035】更に、上記触媒について、これらを500
℃以上に保持した電気炉中にて6000時間加熱した
後、上述した窒素酸化物を含有する混合ガスに接触さ
せ、窒素酸化除去率を測定した。結果を表2に示す。
【0036】
【表2】
【0037】表2に示す結果から、本発明による窒素酸
化物接触還元用触媒は、500℃以上の高温域において
も、長期間にわたつて安定に且つ有効に窒素酸化物を接
触還元することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B01J 23/30 ZAB A 8017−4G (72)発明者 吉川 嘉之 大阪府堺市戎島町5丁1番地 堺化学工業 株式会社中央研究所内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(a) チタン、 (b) タングステン又はモリブデンを酸化物換算にて10
    〜25重量%、及び (c) ニオブを酸化物換算にて0.1〜2重量%を主成分と
    する窒素酸化物接触還元用触媒。
  2. 【請求項2】還元性ガスの存在下に、窒素酸化物を含有
    する排ガスを、 (a) チタン、 (b) タングステン又はモリブデンを酸化物換算にて10
    〜25重量%、及び (c) ニオブを酸化物換算にて0.1〜2重量%を主成分と
    する窒素酸化物接触還元用触媒に500℃以上の温度で
    接触させることを特徴とする排ガスから窒素酸化物を接
    触還元除去する方法。
JP5179467A 1993-07-20 1993-07-20 窒素酸化物接触還元用触媒及び方法 Pending JPH0768172A (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5179467A JPH0768172A (ja) 1993-07-20 1993-07-20 窒素酸化物接触還元用触媒及び方法
KR1019940016786A KR960013449A (ko) 1993-07-20 1994-07-13 질소산화물 접촉환원용 촉매 및 방법
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