JPH076072B2 - フエライト膜の形成方法 - Google Patents
フエライト膜の形成方法Info
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- JPH076072B2 JPH076072B2 JP61187365A JP18736586A JPH076072B2 JP H076072 B2 JPH076072 B2 JP H076072B2 JP 61187365 A JP61187365 A JP 61187365A JP 18736586 A JP18736586 A JP 18736586A JP H076072 B2 JPH076072 B2 JP H076072B2
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- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/14—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
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Description
【発明の詳細な説明】 （発明の利用分野） 本発明は、磁気記録媒体、光磁気記録媒体、磁気ヘッド
などに広く応用されているFe3+を含むスピネル型フェラ
イト膜の作製法に関する。
などに広く応用されているFe3+を含むスピネル型フェラ
イト膜の作製法に関する。
（発明の背景） 従来、フェライト膜を固体表面に形成する方法として
は、バインダーを用いる塗布法とバインダーを用いない
方法に大別されている。
は、バインダーを用いる塗布法とバインダーを用いない
方法に大別されている。
塗布法によるフェライト膜の例としては、現在磁気テー
プ、磁気ディスク等には広く用いられているが、（イ）
フェライト粒子の間の非磁性のバインダーが存在するた
め磁気記録密度が低く、多結晶であることを必要とする
素子には利用できない。（ロ）膜の磁気異方性を得るに
はフェライト粒子の形状異方性を利用するため、針状の
微粒子が得られるγ−Fe2O3、Fe3O4に限られるという制
約があった。
プ、磁気ディスク等には広く用いられているが、（イ）
フェライト粒子の間の非磁性のバインダーが存在するた
め磁気記録密度が低く、多結晶であることを必要とする
素子には利用できない。（ロ）膜の磁気異方性を得るに
はフェライト粒子の形状異方性を利用するため、針状の
微粒子が得られるγ−Fe2O3、Fe3O4に限られるという制
約があった。
一方、バインダーを用いないフェライト膜作製法として
は、溶液コート法、電気泳動電着法、スパッタ、真空蒸
着、アーク放電などの乾式メッキ法、溶融スプレー法、
気相成長法などが従来知られているが、いづれの方法に
しても高温度（300℃以上）を必要とし、融点，分解温
度の低い物質または熱安定性に欠ける物質を基板として
用いることができない制約があった。
は、溶液コート法、電気泳動電着法、スパッタ、真空蒸
着、アーク放電などの乾式メッキ法、溶融スプレー法、
気相成長法などが従来知られているが、いづれの方法に
しても高温度（300℃以上）を必要とし、融点，分解温
度の低い物質または熱安定性に欠ける物質を基板として
用いることができない制約があった。
そこで、本発明者等は、既に前記した従来のフェライト
膜形成の方法とはその技術思想を全く異にした新規な方
法、すなわち固体表面に、金属イオンとして少なくとも
第１鉄イオンを含む水溶液を接触させて、前記固体表面
にFeOH+又はこれと他の水酸化金属イオンを吸着させ、
吸着FeOH+の酸化によりフェライト結晶化反応を行なわ
せるフェライト膜形成法を提案（特開昭57-111929号公
報）した（以下、従来法と対比して湿式メッキ法と言
う）。
膜形成の方法とはその技術思想を全く異にした新規な方
法、すなわち固体表面に、金属イオンとして少なくとも
第１鉄イオンを含む水溶液を接触させて、前記固体表面
にFeOH+又はこれと他の水酸化金属イオンを吸着させ、
吸着FeOH+の酸化によりフェライト結晶化反応を行なわ
せるフェライト膜形成法を提案（特開昭57-111929号公
報）した（以下、従来法と対比して湿式メッキ法と言
う）。
しかしながら、湿式メッキ法は工業的規模での生産に充
分な生成速度が得られておらず、生成速度を高めてより
高い品質のフェライト膜を得るために様々な改良が提案
されている。
分な生成速度が得られておらず、生成速度を高めてより
高い品質のフェライト膜を得るために様々な改良が提案
されている。
フェライト膜の生成は前述のように第１鉄イオンもしく
はその他の金属イオンの吸着、そして吸着されたイオン
の酸化が交互に起こり、進行する。従って、基材の金属
イオン含有水溶液への浸漬および酸化（N2ガスとO2ガス
の混合ガスとの接触）を交互に行なう方法が提案されて
いるが、工程が煩雑であり実際的でない。基材表面上で
上記浸漬・酸化を一度に行なうことも考えられるが、こ
れはフェライト膜の形成以外にフェライトの小さな粒子
も同時に生成し、フェライト膜の品質が劣化する。従っ
て、生じたフェライト微粒子の除去に多大な独力を払わ
なければならない。
はその他の金属イオンの吸着、そして吸着されたイオン
の酸化が交互に起こり、進行する。従って、基材の金属
イオン含有水溶液への浸漬および酸化（N2ガスとO2ガス
の混合ガスとの接触）を交互に行なう方法が提案されて
いるが、工程が煩雑であり実際的でない。基材表面上で
上記浸漬・酸化を一度に行なうことも考えられるが、こ
れはフェライト膜の形成以外にフェライトの小さな粒子
も同時に生成し、フェライト膜の品質が劣化する。従っ
て、生じたフェライト微粒子の除去に多大な独力を払わ
なければならない。
本発明者は上記困難性の原点は反応が常に酸化性雰囲気
下で行なわれ、酸化のコントロールが比較的困難である
ことを見出した。本発明者等は酸化条件に変更を加え、
その反応のコントロールを容易にすることを検討した。
下で行なわれ、酸化のコントロールが比較的困難である
ことを見出した。本発明者等は酸化条件に変更を加え、
その反応のコントロールを容易にすることを検討した。
（発明の内容） 即ち、本発明は脱酸素雰囲気下に酸化剤水溶液をフェラ
イト膜を形成する基材表面に流下または噴霧し、同時に
少なくとも第１鉄イオンを含む脱酸素水溶液を供給し
て、フェライト結晶課反応を前記基材上で行なわせるこ
とを特徴とするフェライト膜の形成方法を提供する。
イト膜を形成する基材表面に流下または噴霧し、同時に
少なくとも第１鉄イオンを含む脱酸素水溶液を供給し
て、フェライト結晶課反応を前記基材上で行なわせるこ
とを特徴とするフェライト膜の形成方法を提供する。
本発明を図面に基づいて説明する。
第１図は本発明方法を実施するための装置の一つの態様
を示す模式図である。
を示す模式図である。
第２図は本発明方法を実施するため装置の別の態様を示
す模式図である。
す模式図である。
本発明によれば、酸化剤水溶液（１）はフェライト膜を
形成する基材（２）の表面に流下または噴霧される。第
１図の態様は噴霧口（３）による噴霧の態様を示してい
るが、流下、例えば液滴滴下等の方式を用いてもよい。
酸化剤水溶液（１）は酸化剤、例えば亜硝酸塩、硝酸
塩、過塩素酸塩、過酸化水素、有機過酸化物等を含む水
溶液である。酸化剤水溶液（１）はまたは溶存酸素を含
む水溶液であってよい。酸化剤水溶液にはpHの安定化の
ために緩衝液を添加してもよい。
形成する基材（２）の表面に流下または噴霧される。第
１図の態様は噴霧口（３）による噴霧の態様を示してい
るが、流下、例えば液滴滴下等の方式を用いてもよい。
酸化剤水溶液（１）は酸化剤、例えば亜硝酸塩、硝酸
塩、過塩素酸塩、過酸化水素、有機過酸化物等を含む水
溶液である。酸化剤水溶液（１）はまたは溶存酸素を含
む水溶液であってよい。酸化剤水溶液にはpHの安定化の
ために緩衝液を添加してもよい。
本発明のように、酸化剤水溶液を流下または噴霧すれ
ば、基材表面上のみで酸化反応を進行させることがで
き、しかも酸化剤水溶液の量（濃度）、種類をコントロ
ールすることにより、酸化反応の進行及び液体内で発生
するフェライト微粒子の量を減少させることも可能とな
るなど反応の制御が容易となる。さらに基板上での酸化
反応において水溶液薄膜の厚さに依存しなくなる。（従
来の酸化雰囲気下では酸化性ガスの拡散によるため水溶
液薄膜の厚さに依存する。） 本発明では、基材（２）表面で酸化剤水溶液（１）また
は第１鉄イオンを含む脱酸素水溶液（４）による反応が
均一かつ均質におこるように、両水溶液には流動性を付
与するのが好ましい。流動性の付与は例えば、第１図ま
たは第２図に示すように回転板（５）の上に基材を置い
て遠心力の作用により付与してもよい。また、基材を傾
斜ないし垂直の姿勢にして、重力の作用により行なって
もよい。
ば、基材表面上のみで酸化反応を進行させることがで
き、しかも酸化剤水溶液の量（濃度）、種類をコントロ
ールすることにより、酸化反応の進行及び液体内で発生
するフェライト微粒子の量を減少させることも可能とな
るなど反応の制御が容易となる。さらに基板上での酸化
反応において水溶液薄膜の厚さに依存しなくなる。（従
来の酸化雰囲気下では酸化性ガスの拡散によるため水溶
液薄膜の厚さに依存する。） 本発明では、基材（２）表面で酸化剤水溶液（１）また
は第１鉄イオンを含む脱酸素水溶液（４）による反応が
均一かつ均質におこるように、両水溶液には流動性を付
与するのが好ましい。流動性の付与は例えば、第１図ま
たは第２図に示すように回転板（５）の上に基材を置い
て遠心力の作用により付与してもよい。また、基材を傾
斜ないし垂直の姿勢にして、重力の作用により行なって
もよい。
更に基材表面の水溶液に流動性を付与して、連続的に水
溶液が基材表面から流出（オーバーフロー）するように
すれば、基材表面上の水溶液は常に新しい供給水溶液で
更新され、液体内で発生したフェライト微粒子は前記流
れに従って系外に排出されることになるので特に好まし
い。本発明において、円盤上に設置して遠心力により水
溶液に流動性を付与することが、液膜の平均化、薄膜化
の上で好ましく、更にこの遠心力により基材表面上の水
溶液を系外に連続的に流出させることでフェライト生成
の反応を常に新鮮な水溶液の下で最適に行なわせること
ができる。この場合基材表面は100〜2000rpm、好ましく
は150〜500rpmで回転させるのが望ましい。
溶液が基材表面から流出（オーバーフロー）するように
すれば、基材表面上の水溶液は常に新しい供給水溶液で
更新され、液体内で発生したフェライト微粒子は前記流
れに従って系外に排出されることになるので特に好まし
い。本発明において、円盤上に設置して遠心力により水
溶液に流動性を付与することが、液膜の平均化、薄膜化
の上で好ましく、更にこの遠心力により基材表面上の水
溶液を系外に連続的に流出させることでフェライト生成
の反応を常に新鮮な水溶液の下で最適に行なわせること
ができる。この場合基材表面は100〜2000rpm、好ましく
は150〜500rpmで回転させるのが望ましい。
基材表面に供給される両水溶液（１）および（４）の量
は、一般に基材表面の温度、水溶液に付与される流動性
の程度等により選択されるが、一般的には0.01〜10ml/c
m2min好ましくは0.1〜1ml/cm2min程度とされることがよ
く、少なすぎると生成されるフェライト膜の均一、均質
化の点で好ましくなく、他方多すぎると水溶液の消費が
多くなることや、温度の維持が困難となる。
は、一般に基材表面の温度、水溶液に付与される流動性
の程度等により選択されるが、一般的には0.01〜10ml/c
m2min好ましくは0.1〜1ml/cm2min程度とされることがよ
く、少なすぎると生成されるフェライト膜の均一、均質
化の点で好ましくなく、他方多すぎると水溶液の消費が
多くなることや、温度の維持が困難となる。
本発明において、フェライト膜形成のために用いられる
鉄原子（Fe）および酸素原子（Ｏ）、更に必要に応じて
その他の金属原子（Ｍ）を供給する脱酸素水溶液（４）
は、金属塩を水に溶かすことによって得られる他、金属
自体を酸に溶かすことで得ることができる。また、第１
鉄イオン、および必要に応じてその他の金属イオン（M
n+）が所定の基材表面に吸着して一連のフェライト膜生
成反応を行なうためには、前記各水酸化金属イオンを前
記水溶液中に存在させることが必要である。水溶液に存
在させるアニオンとしては、塩酸基、硫酸基等の無機酸
基や酢酸基、酒石酸基等の有機酸基が用いられ、殊に好
適には塩酸基、酢酸基が用いられる。水溶液のpHは、水
溶液中に存在するアニオン、金属イオンの種類に応じて
適宜選択され、制御されるが、好ましくは６〜11、より
好ましくは７〜11の数値範囲とされることがよい。pHの
安定化のために、例えば酢酸ナトリウムなどの緩衝液ま
たは緩衝効果のある塩を加えてもよい。
鉄原子（Fe）および酸素原子（Ｏ）、更に必要に応じて
その他の金属原子（Ｍ）を供給する脱酸素水溶液（４）
は、金属塩を水に溶かすことによって得られる他、金属
自体を酸に溶かすことで得ることができる。また、第１
鉄イオン、および必要に応じてその他の金属イオン（M
n+）が所定の基材表面に吸着して一連のフェライト膜生
成反応を行なうためには、前記各水酸化金属イオンを前
記水溶液中に存在させることが必要である。水溶液に存
在させるアニオンとしては、塩酸基、硫酸基等の無機酸
基や酢酸基、酒石酸基等の有機酸基が用いられ、殊に好
適には塩酸基、酢酸基が用いられる。水溶液のpHは、水
溶液中に存在するアニオン、金属イオンの種類に応じて
適宜選択され、制御されるが、好ましくは６〜11、より
好ましくは７〜11の数値範囲とされることがよい。pHの
安定化のために、例えば酢酸ナトリウムなどの緩衝液ま
たは緩衝効果のある塩を加えてもよい。
第１金属イオンに共存させるMn+イオンが沈澱物を生ず
る場合には、脱酸素水溶液（４）は例えば第２図の
（４′）に示すように２個以上に分割して使用してもよ
い。
る場合には、脱酸素水溶液（４）は例えば第２図の
（４′）に示すように２個以上に分割して使用してもよ
い。
前記水溶液が金属イオンとしてFe2+イオンのみを含む場
合には、金属元素として鉄のみを含むスピネル・フェラ
イト即ちマグネタイトFe3O4あるいはマグヘマイトγ−F
e2O3の膜として得られ、水溶液がFe2+イオンとその他の
遷移金属イオンMn+（Ｍ＝Zn2+、Co2,3+、Mi2-、M
n2,3+、Fe3+、Cu2+、V3,4,5+、Sb5+、Li+、Mo4,5+、Ti
4+、Rd3+、Mz2+、Al3+、Si4+、Cr3+、Sn2,4+、Ca2+、Cd
2+、In3+など）を含む場合金属元素を含むフェライトの
膜、例えばＭが一種の場合にコバルトフェライト（CoxF
3xO4）、ニッケルフェライト（NixFe3-xO4）…などの膜
が得られ、Ｍが数種の場合にMn-Zxフェライト（MnxZnyF
e3-x-yO4）などの混晶フェライトの膜が得られることに
なるが、これらのいずれの膜の作成においても本発明は
適用できるものである。
合には、金属元素として鉄のみを含むスピネル・フェラ
イト即ちマグネタイトFe3O4あるいはマグヘマイトγ−F
e2O3の膜として得られ、水溶液がFe2+イオンとその他の
遷移金属イオンMn+（Ｍ＝Zn2+、Co2,3+、Mi2-、M
n2,3+、Fe3+、Cu2+、V3,4,5+、Sb5+、Li+、Mo4,5+、Ti
4+、Rd3+、Mz2+、Al3+、Si4+、Cr3+、Sn2,4+、Ca2+、Cd
2+、In3+など）を含む場合金属元素を含むフェライトの
膜、例えばＭが一種の場合にコバルトフェライト（CoxF
3xO4）、ニッケルフェライト（NixFe3-xO4）…などの膜
が得られ、Ｍが数種の場合にMn-Zxフェライト（MnxZnyF
e3-x-yO4）などの混晶フェライトの膜が得られることに
なるが、これらのいずれの膜の作成においても本発明は
適用できるものである。
本発明において用いられる第１鉄イオンを含む脱酸素水
溶液は、準備貯溜された状態において非酸化条件を満足
することが重要であり、このために水溶液の作成に使用
される水は通常脱気蒸留水が用いられる。
溶液は、準備貯溜された状態において非酸化条件を満足
することが重要であり、このために水溶液の作成に使用
される水は通常脱気蒸留水が用いられる。
本発明において用いられる基材（５）は、その表面にお
いてFeOH+の吸着に対しての界面活性を有するものであ
って、前記水溶液に対する耐性を有するものであれば、
金属であっても非金属であっても格別支障なく使用する
ことができる。このような基材に使用できる物質として
は、具体的には、ステンレス等の鉄を含む合金、鉄の酸
化物例えばFe3O4，γ−Fe2O3，α−Fe2O3，フェライト
等、金，白金，パラジウム等の貴金属、庶糖，セルロー
スなどのOH基を有する糖類、プラスチック等々を、ブロ
ック状，円筒状，フィルム状としてあるいは他の基材表
面に付着させてなるもの、また鋼等の非金属イオンを固
体表面に結合させたもの等々を例示的に掲げることがで
きる。前記基材の表面は、界面活性を呈する他、所望す
る表面平滑度をもつことが望まれる。
いてFeOH+の吸着に対しての界面活性を有するものであ
って、前記水溶液に対する耐性を有するものであれば、
金属であっても非金属であっても格別支障なく使用する
ことができる。このような基材に使用できる物質として
は、具体的には、ステンレス等の鉄を含む合金、鉄の酸
化物例えばFe3O4，γ−Fe2O3，α−Fe2O3，フェライト
等、金，白金，パラジウム等の貴金属、庶糖，セルロー
スなどのOH基を有する糖類、プラスチック等々を、ブロ
ック状，円筒状，フィルム状としてあるいは他の基材表
面に付着させてなるもの、また鋼等の非金属イオンを固
体表面に結合させたもの等々を例示的に掲げることがで
きる。前記基材の表面は、界面活性を呈する他、所望す
る表面平滑度をもつことが望まれる。
また本発明における基材表面の界面活性は、前記基材そ
れ自身がその性質上本来的に備えている場合の他、本来
的にはそのような性質を具有しない材料の上に、表層と
して界面活性層を形成をさせるようにしてもよい。この
ような界面活性の表層を形成させる場合には前記したよ
うな性質を本来的に有している物質を表面層コートとし
て大概使用することができ、コート層形成の手段として
は、基材が高温に耐えるものであれば、スパッタリン
グ、真空蒸着、アーク放電、溶着法等の真空堆積法用い
て鉄の酸化物等を基材表面にコートさせてもよいは、そ
の他の場合には、通常の化学メッキ法を用いて表層を形
成させるようにしてもよい。またこれらの方法の他に、
基材表面にプラズマ処理を施して界面活性を得る前処理
法も有効である。
れ自身がその性質上本来的に備えている場合の他、本来
的にはそのような性質を具有しない材料の上に、表層と
して界面活性層を形成をさせるようにしてもよい。この
ような界面活性の表層を形成させる場合には前記したよ
うな性質を本来的に有している物質を表面層コートとし
て大概使用することができ、コート層形成の手段として
は、基材が高温に耐えるものであれば、スパッタリン
グ、真空蒸着、アーク放電、溶着法等の真空堆積法用い
て鉄の酸化物等を基材表面にコートさせてもよいは、そ
の他の場合には、通常の化学メッキ法を用いて表層を形
成させるようにしてもよい。またこれらの方法の他に、
基材表面にプラズマ処理を施して界面活性を得る前処理
法も有効である。
ここでいうプラズマ処理とは、グロー放電、コロナ放
電、マイクロ波放電により発生したプラズマによる界面
活性化であり、常圧、減圧のどちらでもよい。また使用
される気体としては、窒素、アルゴン、ヘリウム、水素
アンモニア及び含酸素気体として酸素，二酸化炭素，一
酸化炭素，二酸化窒素、二酸化硫黄，空気等の反応性、
非反応性の気体の一種又は二種以上を用いることが可能
であるが、好ましくは含酸素気体を用いることが望まし
い。
電、マイクロ波放電により発生したプラズマによる界面
活性化であり、常圧、減圧のどちらでもよい。また使用
される気体としては、窒素、アルゴン、ヘリウム、水素
アンモニア及び含酸素気体として酸素，二酸化炭素，一
酸化炭素，二酸化窒素、二酸化硫黄，空気等の反応性、
非反応性の気体の一種又は二種以上を用いることが可能
であるが、好ましくは含酸素気体を用いることが望まし
い。
プラズマ処理によって有効な界面活性を示す物質として
は、金属、非金属のどちらでも良いが磁気記録媒体など
への応用を考えると、金属としてアルミニウム、ステン
レスなど、非金属としてはポリエチレンテレフタレー
ト、テフロン、アクリル、ポリカーボネート等のプラス
チック、セラミックスガラス、雲母などが挙げられる。
は、金属、非金属のどちらでも良いが磁気記録媒体など
への応用を考えると、金属としてアルミニウム、ステン
レスなど、非金属としてはポリエチレンテレフタレー
ト、テフロン、アクリル、ポリカーボネート等のプラス
チック、セラミックスガラス、雲母などが挙げられる。
またプラズマ処理を行なうことにより、基材の水溶液に
対する濡れ性が著しく改善され、基材表面上に均一な水
溶液の薄膜が得られるという効果もある。
対する濡れ性が著しく改善され、基材表面上に均一な水
溶液の薄膜が得られるという効果もある。
また、反応を実行させるための加温条件は、水溶液の沸
点以下の範囲において好ましくは60℃〜90℃の範囲で行
なうことがよい。
点以下の範囲において好ましくは60℃〜90℃の範囲で行
なうことがよい。
本発明の反応は本質的に脱酸素雰囲気下で行なわれるの
が好ましい。酸素が多量に存在する条件下では、不必要
な酸化反応が進行し、酸化反応をコントロールする本発
明に趣旨から外れる。具体的には窒素雰囲気下で反応を
行うのが好ましい。
が好ましい。酸素が多量に存在する条件下では、不必要
な酸化反応が進行し、酸化反応をコントロールする本発
明に趣旨から外れる。具体的には窒素雰囲気下で反応を
行うのが好ましい。
（発明の効果） 本発明によれば、極めて効率よくフェライト膜を形成す
ることができる。また使用する原料水溶液の量的なコン
トロールにより、反応が抑制でき、均質かつ均一な膜厚
のフェライト膜が形成できる。
ることができる。また使用する原料水溶液の量的なコン
トロールにより、反応が抑制でき、均質かつ均一な膜厚
のフェライト膜が形成できる。
（実施例） 本発明を実施例により更に詳細に説明する。
FeCl2水溶液の調製 予めN2ガスにより脱酸素を行なったイオン交換水１に
FeCl6gを溶解し、アンモニアでpH6.9に調整してFeCl水
溶液を調製した。
FeCl6gを溶解し、アンモニアでpH6.9に調整してFeCl水
溶液を調製した。
FeCl2とCoCl2の混合溶液の調製 予めN2ガスにより脱酸素を行なったイオン交換水１に
FeCl26gおよびCoCl23gを溶解し、アンモニアでpH6.9に
調整することにより、FeClとCoCl2の混合溶液を得た。
FeCl26gおよびCoCl23gを溶解し、アンモニアでpH6.9に
調整することにより、FeClとCoCl2の混合溶液を得た。
MnCl2水溶液の調製 予めN2ガスにより脱酸素を行なったイオン交換水１に
MnCl23gを溶解し、アンモニアでpH10に調整することに
より、MnCl2水溶液を得た。
MnCl23gを溶解し、アンモニアでpH10に調整することに
より、MnCl2水溶液を得た。
ZnCl2水溶液の調製 予めN2ガスにより脱酸素を行なったイオン交換水１に
ZnCl23gを溶解し、アンモニアでpH6.5に調整することに
より、ZnCl2水溶液を得た。
ZnCl23gを溶解し、アンモニアでpH6.5に調整することに
より、ZnCl2水溶液を得た。
FeCl2とMnCl2の混合溶液の調製 予めN2ガスにより脱酸素を行なったイオン交換水１に
FeCl26gおよびMnCl23gを溶解し、アンモニアでpH7.2に
調整した。またpHをこれ以上あげると白濁した。
FeCl26gおよびMnCl23gを溶解し、アンモニアでpH7.2に
調整した。またpHをこれ以上あげると白濁した。
酸化剤水溶液１の調製 予めN2ガスにより脱酸素を行なったイオン交換水１に
NaNO21gを溶解し、アンモニアでpH6.9に調整することに
より、NaNO2水溶液を得た。
NaNO21gを溶解し、アンモニアでpH6.9に調整することに
より、NaNO2水溶液を得た。
酸化剤水溶液２の調製 イオン交換水１に空気バブリングを行ない、アンモニ
アでpH6.9に調整することにより、溶存酸素含有水を得
た。溶存酸素量は15ppmであった。
アでpH6.9に調整することにより、溶存酸素含有水を得
た。溶存酸素量は15ppmであった。
実施例１ 第１図に示す如き装置にコロナ放電により親水化処理を
したポリカーボネート板（直径120m、厚さ1.2mm）を設
置し、400rpmで回転させながら脱酸素イオン交換水をス
プレーしながら、温度70℃まで加温した。次いで、装置
内にN2ガスを導入し脱酸素雰囲気を形成した。
したポリカーボネート板（直径120m、厚さ1.2mm）を設
置し、400rpmで回転させながら脱酸素イオン交換水をス
プレーしながら、温度70℃まで加温した。次いで、装置
内にN2ガスを導入し脱酸素雰囲気を形成した。
このものに、FeCl2水溶液と酸化剤水溶液１を２つのス
プレーノズルによりポリカーボネート板上に各々50cc/m
inの割合で供給した。約15分後、ポリカーボネート板を
取り出すと、板上に黒色鏡面膜が約0.15μｍの厚さで形
成された。Ｘ線回折の結果、マグネタイトであることが
判明した。
プレーノズルによりポリカーボネート板上に各々50cc/m
inの割合で供給した。約15分後、ポリカーボネート板を
取り出すと、板上に黒色鏡面膜が約0.15μｍの厚さで形
成された。Ｘ線回折の結果、マグネタイトであることが
判明した。
実施例２ 第１図に示す如き装置に表面研磨した石英ガラス板（直
径130m、厚さ2mm）を設置し、400rpmで回転させながら
脱酸素イオン交換水をスプレーしながら、温度70℃まで
加温した。次いで、装置内にN2ガスを導入し脱酸素雰囲
気を形成した。
径130m、厚さ2mm）を設置し、400rpmで回転させながら
脱酸素イオン交換水をスプレーしながら、温度70℃まで
加温した。次いで、装置内にN2ガスを導入し脱酸素雰囲
気を形成した。
このものに、FeCl2とCoCl2の混合溶液と酸化剤水溶液１
を２つのスプレーノズルによりポリカーボネート板上に
各々50ml/minの割合で供給した。約15分後、ポリカーボ
ネート板を取り出すと、板上に黒色鏡面膜が約0.15μｍ
の厚さで形成された。組成分析の結果、C0.3Fe0.7O4膜
であることが判明した。
を２つのスプレーノズルによりポリカーボネート板上に
各々50ml/minの割合で供給した。約15分後、ポリカーボ
ネート板を取り出すと、板上に黒色鏡面膜が約0.15μｍ
の厚さで形成された。組成分析の結果、C0.3Fe0.7O4膜
であることが判明した。
実施例３ 第２図に示す如き装置に表面研磨した石英ガラス板（直
径130m、厚さ2mm）を設置し、400rpmで回転させながら
脱酸素イオン交換水をスプレーしながら、温度70℃まで
加温した。次いで、装置内にN2ガスを導入し脱酸素雰囲
気を形成した。
径130m、厚さ2mm）を設置し、400rpmで回転させながら
脱酸素イオン交換水をスプレーしながら、温度70℃まで
加温した。次いで、装置内にN2ガスを導入し脱酸素雰囲
気を形成した。
このものに、FeCl2水溶液、MnCl2水溶液および酸化剤水
溶液１を３つのスプレーノズルによりポリカーボネート
板上に各々30ml/minの割合で供給した。約15分後、ポリ
カーボネート板を取り出すと、板上に黒色鏡面膜が約0.
15μｍの厚さで形成された。組成分析の結果、Mn0.5Fe
2.5O4膜であることが判明した。
溶液１を３つのスプレーノズルによりポリカーボネート
板上に各々30ml/minの割合で供給した。約15分後、ポリ
カーボネート板を取り出すと、板上に黒色鏡面膜が約0.
15μｍの厚さで形成された。組成分析の結果、Mn0.5Fe
2.5O4膜であることが判明した。
比較例１ 第１図に示す如き装置に表面研磨した石英ガラス板（直
径130m、厚さ2mm）を設置し、400rpmで回転させながら
脱酸素イオン交換水をスプレーしながら、温度70℃まで
加温した。次いで、装置内にN2ガスを導入し脱酸素雰囲
気を形成した。
径130m、厚さ2mm）を設置し、400rpmで回転させながら
脱酸素イオン交換水をスプレーしながら、温度70℃まで
加温した。次いで、装置内にN2ガスを導入し脱酸素雰囲
気を形成した。
このものに、FeCl2とMnCl2の混合溶液と酸化剤水溶液１
を２つのスプレーノズルによりポリカーボネート板上に
各々60ml/minの割合で供給した。約15分後、ポリカーボ
ネート板を取り出すと黒色鏡面膜が約0.2μｍの厚さで
形成された。組成分析の結果、Mnが殆ど含まれていなか
った。
を２つのスプレーノズルによりポリカーボネート板上に
各々60ml/minの割合で供給した。約15分後、ポリカーボ
ネート板を取り出すと黒色鏡面膜が約0.2μｍの厚さで
形成された。組成分析の結果、Mnが殆ど含まれていなか
った。
このことにより、金属種のフェライト膜への導入は、そ
の金属イオンのフェライト膜への吸着、pH依存性により
異なり、場合によっては基板への供給方法を変えるべき
である。
の金属イオンのフェライト膜への吸着、pH依存性により
異なり、場合によっては基板への供給方法を変えるべき
である。
実施例４ 第２図に示す如き装置にもう一つのスプレーノズルを設
けた装置に表面研磨した石英ガラス板（直径130m、厚さ
2mm）を設置し、400rpmで回転させながら脱酸素イオン
交換水をスプレーしながら、温度70℃まで加温した。次
いで、装置内にN2ガスを導入し脱酸素雰囲気を形成し
た。
けた装置に表面研磨した石英ガラス板（直径130m、厚さ
2mm）を設置し、400rpmで回転させながら脱酸素イオン
交換水をスプレーしながら、温度70℃まで加温した。次
いで、装置内にN2ガスを導入し脱酸素雰囲気を形成し
た。
このものに、FeCl2水溶液、MnCl2水溶液、ZnCl2水溶液
および酸化剤水溶液２を４つのスプレーノズルによりガ
ラス板上に各々20ml/minの割合で供給した。約15分後、
ポリカーボネート板を取り出すと、板上に黒色鏡面膜が
約0.15μｍの厚さで形成された。組成分析の結果、Mn
0.2Zn0.5Fe2.3Oであることが判明した。
および酸化剤水溶液２を４つのスプレーノズルによりガ
ラス板上に各々20ml/minの割合で供給した。約15分後、
ポリカーボネート板を取り出すと、板上に黒色鏡面膜が
約0.15μｍの厚さで形成された。組成分析の結果、Mn
0.2Zn0.5Fe2.3Oであることが判明した。
第１図は本発明方法を実施するための装置の略図であ
る。 第２図は本発明の方法を実施するための別の装置の略図
である。 図中、（１）……酸化剤水溶液、（２）……基材、
（３）……噴霧口、（４）……脱酸素水溶液、（５）…
…回転板を示す。
る。 第２図は本発明の方法を実施するための別の装置の略図
である。 図中、（１）……酸化剤水溶液、（２）……基材、
（３）……噴霧口、（４）……脱酸素水溶液、（５）…
…回転板を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 玉浦 裕 神奈川県横浜市港南区日野町865−３ 港 南台住宅13−105
Claims (10)
- 【請求項１】脱酸素雰囲気下に酸化剤水溶液をフェライ
ト膜を形成する基材表面に流下または噴霧し、同時に少
なくとも第１鉄イオンを含む脱酸素水溶液を供給して、
フェライト結晶化反応を前記基材上で行なわせることを
特徴とするフェライト膜の形成方法。 - 【請求項２】酸化剤水溶液が亜硝酸塩を含有する水溶液
である第１項記載の方法。 - 【請求項３】酸化剤水溶液が溶存酸素水である第１項記
載の方法。 - 【請求項４】脱酸素水溶液が第１鉄イオンのみを含む第
１項記載の方法。 - 【請求項５】脱酸素水溶液が第１鉄イオンの他に、Z
n2+、Co2+、Co3+、Ni2+、Mn2+、Mn3+、Fe3+、Cu2+、
V3+、V4+、V5+、Sb5+、Li+、Mo4+、Mo5+、Ti4+、Rd3+、
Mg2+、Al3+、Si4+、Cr3+Sn2+、Sn4+、Ca2+、Cd2+または
それらの混合物を含有する第１項記載の方法。 - 【請求項６】脱酸素水溶液が共存することにより沈澱物
を形成するイオン種が存在する場合、２またはそれ以上
の部分に分割される第１項記載の方法。 - 【請求項７】第１鉄イオンを含む脱酸素水溶液が酸化剤
水溶液と別のノズルにより基材表面上に流下または噴霧
される第１項記載の方法。 - 【請求項８】基材表面上に流下または噴霧された水溶液
が重力または遠心力によって流動性が付与される第１項
記載の方法。 - 【請求項９】基材表面上に流下または噴霧された水溶液
が流動性に連続的に基材表面上から流出する第１項記載
の方法。 - 【請求項１０】基材表面がプラズマ前処理される第１項
記載の方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61187365A JPH076072B2 (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | フエライト膜の形成方法 |
| DE8787307033T DE3776240D1 (de) | 1986-08-08 | 1987-08-07 | Verfahren zur herstellung eines ferritfilmes. |
| EP87307033A EP0259975B1 (en) | 1986-08-08 | 1987-08-07 | Method for forming ferrite film |
| US07/082,638 US4837046A (en) | 1986-08-08 | 1987-08-07 | Method for forming ferrite film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61187365A JPH076072B2 (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | フエライト膜の形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6342378A JPS6342378A (ja) | 1988-02-23 |
| JPH076072B2 true JPH076072B2 (ja) | 1995-01-25 |
Family
ID=16204718
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61187365A Expired - Lifetime JPH076072B2 (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | フエライト膜の形成方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4837046A (ja) |
| EP (1) | EP0259975B1 (ja) |
| JP (1) | JPH076072B2 (ja) |
| DE (1) | DE3776240D1 (ja) |
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| JPH01246149A (ja) * | 1988-03-25 | 1989-10-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | フェライト膜の形成方法 |
| JPH02116631A (ja) * | 1988-10-21 | 1990-05-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | フェライト膜の形成方法 |
| JP2629896B2 (ja) * | 1988-10-21 | 1997-07-16 | 松下電器産業株式会社 | フェライト膜の形成方法 |
| JP2595691B2 (ja) * | 1988-10-21 | 1997-04-02 | 松下電器産業株式会社 | フェライト膜の形成方法 |
| JPH02116625A (ja) * | 1988-10-21 | 1990-05-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | フェライト膜の形成方法 |
| US5026347A (en) * | 1988-11-14 | 1991-06-25 | Baxter International Inc. | Plastic composition with anti-hemolytic effect |
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| JP5353004B2 (ja) * | 2007-01-05 | 2013-11-27 | 国立大学法人東京工業大学 | 球形フェライトナノ粒子の製造方法 |
| FR2960167B1 (fr) * | 2010-05-21 | 2013-02-08 | Centre Nat Rech Scient | Procede d'obtention de couches minces |
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| US4171231A (en) * | 1978-04-27 | 1979-10-16 | R. O. Hull & Company, Inc. | Coating solutions of trivalent chromium for coating zinc surfaces |
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-
1986
- 1986-08-08 JP JP61187365A patent/JPH076072B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1987
- 1987-08-07 EP EP87307033A patent/EP0259975B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-08-07 US US07/082,638 patent/US4837046A/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-08-07 DE DE8787307033T patent/DE3776240D1/de not_active Expired - Fee Related
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| EP0259975B1 (en) | 1992-01-22 |
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