JPH0745688B2 - 高磁束密度電磁厚板の製造方法 - Google Patents
高磁束密度電磁厚板の製造方法Info
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- JPH0745688B2 JPH0745688B2 JP63154641A JP15464188A JPH0745688B2 JP H0745688 B2 JPH0745688 B2 JP H0745688B2 JP 63154641 A JP63154641 A JP 63154641A JP 15464188 A JP15464188 A JP 15464188A JP H0745688 B2 JPH0745688 B2 JP H0745688B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D8/00—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment
- C21D8/12—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties
- C21D8/1216—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties the working step(s) being of interest
- C21D8/1222—Hot rolling
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D3/00—Diffusion processes for extraction of non-metals; Furnaces therefor
- C21D3/02—Extraction of non-metals
- C21D3/06—Extraction of hydrogen
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 近年最先端科学技術である素粒子研究や医療機器の進歩
に伴って、大型構造物に磁気を用いる装置が使われ、そ
の性能向上が求められている。
に伴って、大型構造物に磁気を用いる装置が使われ、そ
の性能向上が求められている。
本発明はここにおいて直流磁化条件で使用される磁石の
鉄心用あるいは磁場を遮蔽するのに必要な磁気シールド
用の磁束密度の高い電磁厚鋼板の製造方法に関するもの
である。
鉄心用あるいは磁場を遮蔽するのに必要な磁気シールド
用の磁束密度の高い電磁厚鋼板の製造方法に関するもの
である。
［従来の技術］ 磁束密度に優れた電磁鋼板としては、従来から薄板分野
で珪素鋼板、電磁軟鉄板をはじめとする数多くの材料が
提供されているのは公知である。しかし、構造部材とし
て使用するには組み立て加工及び強度上の問題があり、
厚鋼板を利用する必要が生じてくる。これまで電磁厚板
としては純鉄系成分で製造されている。たとえば、特開
昭60−96749号公報が公知である。
で珪素鋼板、電磁軟鉄板をはじめとする数多くの材料が
提供されているのは公知である。しかし、構造部材とし
て使用するには組み立て加工及び強度上の問題があり、
厚鋼板を利用する必要が生じてくる。これまで電磁厚板
としては純鉄系成分で製造されている。たとえば、特開
昭60−96749号公報が公知である。
しかしながら、近年の装置の大型化、能力の向上等に伴
いさらに磁気特性の優れた、とくに低磁場、たとえば80
A/mでの磁束密度の高い鋼材開発の要望が強い。前掲の
特許等で開発された鋼材では、80A/mでの低磁場での高
い磁束密度が安定して得られない。
いさらに磁気特性の優れた、とくに低磁場、たとえば80
A/mでの磁束密度の高い鋼材開発の要望が強い。前掲の
特許等で開発された鋼材では、80A/mでの低磁場での高
い磁束密度が安定して得られない。
［発明が解決しようとする課題］ 本発明の目的は以上の点を鑑みなされたもので、磁場80
A/mでの磁束密度が0.8テスラ以上の磁気特性を有し、そ
の板厚方向での磁気特性差の少ない高磁束密度電磁厚板
の製造方法を提供することにある。
A/mでの磁束密度が0.8テスラ以上の磁気特性を有し、そ
の板厚方向での磁気特性差の少ない高磁束密度電磁厚板
の製造方法を提供することにある。
［課題を解決するための手段］ 本発明の要旨は次の通りである。
（１）重量％で、C:0.01％以下、Si:0.02％以下、Mn:0.
20％以下、P:0.015％以下、S:0.010％以下、Cr:0.05％
以下、Mo:0.01％以下、Cu:0.01％以下、Al:0.005〜0.04
0％、N:0.004％以下、O:0.005％以下、H:0.0002％以
下、残部実質的に鉄からなる鋼組成の鋼片または鋳片を
1200〜1350℃に加熱し、仕上げ温度がAr3以下のフェラ
イト域となる条件下で圧延形状比Ａが0.7以上の圧延パ
スが１回以上はとる圧延を行い、空隙性欠陥のサイズが
100μ以下の板厚50mm以上の厚板とし、該厚板を600〜75
0℃の温度で脱水素熱処理後、750〜950℃の温度で焼鈍
するかあるいは910〜1000℃の温度で焼準することを特
徴とする高磁束密度電磁厚板の製造方法。
20％以下、P:0.015％以下、S:0.010％以下、Cr:0.05％
以下、Mo:0.01％以下、Cu:0.01％以下、Al:0.005〜0.04
0％、N:0.004％以下、O:0.005％以下、H:0.0002％以
下、残部実質的に鉄からなる鋼組成の鋼片または鋳片を
1200〜1350℃に加熱し、仕上げ温度がAr3以下のフェラ
イト域となる条件下で圧延形状比Ａが0.7以上の圧延パ
スが１回以上はとる圧延を行い、空隙性欠陥のサイズが
100μ以下の板厚50mm以上の厚板とし、該厚板を600〜75
0℃の温度で脱水素熱処理後、750〜950℃の温度で焼鈍
するかあるいは910〜1000℃の温度で焼準することを特
徴とする高磁束密度電磁厚板の製造方法。
ただし、 A:圧延形状比 hi:入側板厚（mm） ho:出側板厚（mm） R:圧延ロール半径（mm） 重量％で、C:0.01％以下、Si:0.02％以下、Mn:0.20％以
下、P:0.015％以下、S:0.010％以下、Cr:0.05％以下、M
o:0.01％以下、Cu:0.01％以下、Al:0.005〜0.040％、N:
0.004％以下、O:0.005％以下、H:0.0002％以下、残部実
質的に鉄からなる鋼組成の鋼片または鋳片を1200〜1350
℃に加熱し、仕上げ温度がAr3以下のフェライト域とな
る条件下で圧延形状比Ａが0.7以上の圧延パスが１回以
上はとる圧延を行い、空隙性欠陥のサイズが100μ以下
の板厚20mm以上50mm未満の厚板とし、該厚板を750〜950
℃の温度で焼鈍するかあるいは910〜1000℃の温度で焼
準することを特徴とする高磁束密度電磁厚板の製造方
法。
下、P:0.015％以下、S:0.010％以下、Cr:0.05％以下、M
o:0.01％以下、Cu:0.01％以下、Al:0.005〜0.040％、N:
0.004％以下、O:0.005％以下、H:0.0002％以下、残部実
質的に鉄からなる鋼組成の鋼片または鋳片を1200〜1350
℃に加熱し、仕上げ温度がAr3以下のフェライト域とな
る条件下で圧延形状比Ａが0.7以上の圧延パスが１回以
上はとる圧延を行い、空隙性欠陥のサイズが100μ以下
の板厚20mm以上50mm未満の厚板とし、該厚板を750〜950
℃の温度で焼鈍するかあるいは910〜1000℃の温度で焼
準することを特徴とする高磁束密度電磁厚板の製造方
法。
ただし、 A:圧延形状比 hi:入側板厚（mm） ho:出側板厚（mm） R:圧延ロール半径（mm） ［作用］ まず、低磁場での磁束密度を高くするために磁化のプロ
セスについて述べると、消磁状態の鋼を磁界の中に入
れ、磁界を強めていくと次第に磁区の向きに変化が生
じ、磁界の方向に近い磁区が優勢になり他の磁区を蚕食
併合していく。つまり、磁壁の移動が起こる。
セスについて述べると、消磁状態の鋼を磁界の中に入
れ、磁界を強めていくと次第に磁区の向きに変化が生
じ、磁界の方向に近い磁区が優勢になり他の磁区を蚕食
併合していく。つまり、磁壁の移動が起こる。
さらに磁界が強くなり磁壁の移動が完了すると、次に磁
区全体の磁力方向が向きを変えていく。この磁化プロセ
スの中で低磁場での磁束密度を決めるのは磁壁の移動し
やすさである。つまり低磁場で高磁束密度を得るために
は、磁壁の移動を障害するものを極力減らすことである
と定性的に言うことができる。
区全体の磁力方向が向きを変えていく。この磁化プロセ
スの中で低磁場での磁束密度を決めるのは磁壁の移動し
やすさである。つまり低磁場で高磁束密度を得るために
は、磁壁の移動を障害するものを極力減らすことである
と定性的に言うことができる。
発明者らはここにおいて低磁場で高磁束密度を得るため
の手段として、粒径と内部応力の原因となる元素及び空
隙性欠陥の作用につき詳細な検討を行った。
の手段として、粒径と内部応力の原因となる元素及び空
隙性欠陥の作用につき詳細な検討を行った。
まず粗粒化のためには、結晶粒微細化作用を有するAlN
を減少するため、Al,Nの低下すること及び製造方法とし
ては、第１図にフェライト粒度に及ぼす加熱温度と仕上
げ温度の影響を示すが、加熱温度を極力上げ加熱オース
テナイト粒の粗大化、圧延仕上げ温度をAr3以下のフェ
ライト域にすることで、フェライト部に多くの加工歪を
導入し、その後の焼鈍あるいは焼準により異常粒成長が
生じフェライト粒径が粗大に成長することを見出した。
を減少するため、Al,Nの低下すること及び製造方法とし
ては、第１図にフェライト粒度に及ぼす加熱温度と仕上
げ温度の影響を示すが、加熱温度を極力上げ加熱オース
テナイト粒の粗大化、圧延仕上げ温度をAr3以下のフェ
ライト域にすることで、フェライト部に多くの加工歪を
導入し、その後の焼鈍あるいは焼準により異常粒成長が
生じフェライト粒径が粗大に成長することを見出した。
内部応力減少のためには、Ｃの低下が必要である。第２
図に示す0.01Si−0.1Mn−0.01Al鋼にあってＣ含有量の
増加につれ低磁場（80A/m）での磁束密度が低下するこ
とがわかる。
図に示す0.01Si−0.1Mn−0.01Al鋼にあってＣ含有量の
増加につれ低磁場（80A/m）での磁束密度が低下するこ
とがわかる。
さらに、鋼中の水素の存在も有害で、 第３図に示すように、脱水素熱処理を行うことによって
磁気特性が大幅に向上することを知見した。第３図で示
すように0.007C−0.01Si−0.1Mn鋼にあって高形状比圧
延により空隙性欠陥のサイズを100μ以下にし、かつ、
脱水素熱処理により鋼中水素を減少することで内部応力
も減少し低磁場での磁束密度が大幅に上昇することがわ
かる。
磁気特性が大幅に向上することを知見した。第３図で示
すように0.007C−0.01Si−0.1Mn鋼にあって高形状比圧
延により空隙性欠陥のサイズを100μ以下にし、かつ、
脱水素熱処理により鋼中水素を減少することで内部応力
も減少し低磁場での磁束密度が大幅に上昇することがわ
かる。
次に、空隙性欠陥の影響についても種々検討した結果、
そのサイズが100μ以上のものが磁気特性を大幅に低下
することを知見したものである。そしてこの100μ以上
の有害な空隙性欠陥をなくすためには圧延形状比Ａが0.
7以上で十分であることを見出した。
そのサイズが100μ以上のものが磁気特性を大幅に低下
することを知見したものである。そしてこの100μ以上
の有害な空隙性欠陥をなくすためには圧延形状比Ａが0.
7以上で十分であることを見出した。
さらに磁気特性の均質性を確保することも重要である
が、本発明による方法によれば、これに対しても極めて
有効な手段であることを確認した。
が、本発明による方法によれば、これに対しても極めて
有効な手段であることを確認した。
次に本発明の成分限定理由をのべる。
Ｃは鋼中の内部応力を高め、磁気特性、とくに低磁場で
の磁束密度を最も下げる元素であり、極力下げることが
低磁場での磁束密度を低下させないことに寄与する。ま
た、磁気時効の点からも低いほど経時劣化が少なく磁気
特性の良い状態で恒久的に使用できるものであり、この
ようなことから0.010％以下に限定する。
の磁束密度を最も下げる元素であり、極力下げることが
低磁場での磁束密度を低下させないことに寄与する。ま
た、磁気時効の点からも低いほど経時劣化が少なく磁気
特性の良い状態で恒久的に使用できるものであり、この
ようなことから0.010％以下に限定する。
第１図に示すようにさらに0.005％以下にすることによ
り一層高磁束密度が得られる。
り一層高磁束密度が得られる。
Si,Mnは低磁場での磁束密度の点から少ない方が好まし
くMnはMnS系介在物を生成する点からも低い方がよい。
この意味からSiは0.02％以下、Mnは0.20％以下に限定す
る。Mnに関してはMnS系介在物を生成する点よりさらに
望ましくは0.10％以下がよい。
くMnはMnS系介在物を生成する点からも低い方がよい。
この意味からSiは0.02％以下、Mnは0.20％以下に限定す
る。Mnに関してはMnS系介在物を生成する点よりさらに
望ましくは0.10％以下がよい。
P,S,Oは鋼中において非金属介在物を形成しかつ偏析す
ることにより、磁壁の移動を妨げる害を及ぼし、含有量
が多くなるに従って磁束密度の低下が見られ、磁気特性
を低下させるので少ない程よい。このためＰは0.015％
以下、Ｓは0.010％以下、Ｏは0.005％以下とした。
ることにより、磁壁の移動を妨げる害を及ぼし、含有量
が多くなるに従って磁束密度の低下が見られ、磁気特性
を低下させるので少ない程よい。このためＰは0.015％
以下、Ｓは0.010％以下、Ｏは0.005％以下とした。
Cr,Mo,Cuは低磁場での磁束密度を低下させるので少ない
程好ましく、また偏析度合を少なくすることから極力低
くすることが必要であり、この意味からCrは0.05％以
下、Moは0.01％以下、Cuは0.01％以下とする。
程好ましく、また偏析度合を少なくすることから極力低
くすることが必要であり、この意味からCrは0.05％以
下、Moは0.01％以下、Cuは0.01％以下とする。
Alは脱酸剤として用いるもので本発明の如く板厚の厚い
場合には、内質の均質化に不可欠の元素であり、0.005
％以上添加されるが、多くなりすぎると介在物を生成し
鋼の性質を損なうので上限は0.040％以下とする。さら
に結晶粒微細化作用を有するAlNを減少させるために
は、望ましくは0.020％以下がよい。
場合には、内質の均質化に不可欠の元素であり、0.005
％以上添加されるが、多くなりすぎると介在物を生成し
鋼の性質を損なうので上限は0.040％以下とする。さら
に結晶粒微細化作用を有するAlNを減少させるために
は、望ましくは0.020％以下がよい。
Ｎは内部応力を高めかつAlNにより結晶粒微細化作用に
より低磁場での磁束密度を低下させるので上限は0.004
％以下とする。
より低磁場での磁束密度を低下させるので上限は0.004
％以下とする。
Ｈは電磁特性を低下させ、かつ、空隙性欠陥の減少を妨
げるので0.0002％以下とする。
げるので0.0002％以下とする。
次に製造法について述べる。
圧延条件については、まず圧延前加熱温度を1200℃以上
にするのは、加熱オーステナイト部を粗大化し磁気特性
をよくするためである。1350℃を超す加熱はスケールロ
スの防止、省エネルギーの観点から不必要であるため上
限を1300℃とした。
にするのは、加熱オーステナイト部を粗大化し磁気特性
をよくするためである。1350℃を超す加熱はスケールロ
スの防止、省エネルギーの観点から不必要であるため上
限を1300℃とした。
圧延仕上げ温度については、Ar3以下のフェライト域で
仕上げることによりフェライト部に加工歪を導入し、そ
の後の焼鈍あるいは焼準と組み合わせ異常粒成長をねら
うためAr3以下とした。
仕上げることによりフェライト部に加工歪を導入し、そ
の後の焼鈍あるいは焼準と組み合わせ異常粒成長をねら
うためAr3以下とした。
さらに熱間圧延にあたり前述の空隙性欠陥は鋼の凝固過
程で大小はあるが、必ず発生するものであり、これをな
くす手段は圧延によらなければならないので、熱間圧延
の役目は重要である。
程で大小はあるが、必ず発生するものであり、これをな
くす手段は圧延によらなければならないので、熱間圧延
の役目は重要である。
すなわち、熱間圧延１回当たりの変形量を大きくし板厚
中心部にまで変形が及ぶ熱間圧延が有効である。具体的
には圧延形状比Ａが0.7以上の圧延パスが１回以上はい
る高形状比圧延を行い、空隙性欠陥のサイズを100μ以
下にすることが電磁特性によい。圧延中にこの高形状比
圧延により空隙性欠陥をなくすことで後で行う脱水素熱
処理における脱水素効率が飛躍的に上昇するのである。
中心部にまで変形が及ぶ熱間圧延が有効である。具体的
には圧延形状比Ａが0.7以上の圧延パスが１回以上はい
る高形状比圧延を行い、空隙性欠陥のサイズを100μ以
下にすることが電磁特性によい。圧延中にこの高形状比
圧延により空隙性欠陥をなくすことで後で行う脱水素熱
処理における脱水素効率が飛躍的に上昇するのである。
次に熱間圧延に引き続き結晶粒粗大化、内部歪除去及び
板厚50mm以上の厚手材については脱水素熱処理を施す。
板厚50mm以上では水素の拡散がしにくく、これが空隙性
欠陥の原因となり、かつ、水素自身の作用と合わさって
低磁場での磁束密度を低下させる。
板厚50mm以上の厚手材については脱水素熱処理を施す。
板厚50mm以上では水素の拡散がしにくく、これが空隙性
欠陥の原因となり、かつ、水素自身の作用と合わさって
低磁場での磁束密度を低下させる。
このため、脱水素熱処理を行うがこの脱水素熱処理温度
としては600℃未満では脱水素効率が悪く、750℃超では
変態が一部開始するので600〜750℃の温度範囲で行う。
としては600℃未満では脱水素効率が悪く、750℃超では
変態が一部開始するので600〜750℃の温度範囲で行う。
脱水素時間としては種々検討の結果〔0.6（ｔ−50）＋
６〕時間（t:板厚）が適当である。
６〕時間（t:板厚）が適当である。
さらに、フェライト域圧延と焼鈍あるは焼準を組み合わ
せ異常粒成長によるフェライト粒径の粗大化をねらう。
焼鈍は750℃未満では結晶粒粗大化が起こらず、また、9
50℃以上では結晶粒の板厚方向の均質性が保てないた
め、焼鈍温度としては750〜950℃に限定する。
せ異常粒成長によるフェライト粒径の粗大化をねらう。
焼鈍は750℃未満では結晶粒粗大化が起こらず、また、9
50℃以上では結晶粒の板厚方向の均質性が保てないた
め、焼鈍温度としては750〜950℃に限定する。
焼準は、Ac3以上の910℃以上でかつ1000℃以下でないと
結晶粒の板厚方向の均質性が保てないので、焼準温度は
910〜1000℃に限定する。
結晶粒の板厚方向の均質性が保てないので、焼準温度は
910〜1000℃に限定する。
一方、板厚20mm以上50mm未満のものは水素の拡散が容易
なため脱水素熱処理は不要で前述の焼鈍または焼準する
のみで良い。
なため脱水素熱処理は不要で前述の焼鈍または焼準する
のみで良い。
［実 施 例］ 第１表に電磁厚板の製造条件とフェライト粒径、低磁場
での磁束密度を示す。
での磁束密度を示す。
例１〜４は本発明の実施例を示し、例５〜23は比較列を
示す。
示す。
例１、２は500mm、例３は40mm、例４は20mmに仕上げた
もので、均一かつ粗粒で高い磁気特性を示す。
もので、均一かつ粗粒で高い磁気特性を示す。
例５はＣが高く、例６はSiが高く、例７はMnが高く、例
８はＰが高く、例９はＳが高く、例10はCrが高く、例11
はMoが高く、例12はCuが高く、例13はAlが高く、例14は
Ｎが高く、例15はＯが高く、例16はＨが高く、それぞれ
上限を超えるため低磁気特性値となっている。
８はＰが高く、例９はＳが高く、例10はCrが高く、例11
はMoが高く、例12はCuが高く、例13はAlが高く、例14は
Ｎが高く、例15はＯが高く、例16はＨが高く、それぞれ
上限を超えるため低磁気特性値となっている。
例17は加熱温度が下限をはずれ、例18は圧延仕上げ温度
が上限をはずれ、例19は最大形状比が下限をはずれ、例
20は脱水素熱処理温度が下限をはずれ、例21は焼鈍温度
が下限をはずれ、例22は焼準温度が上限を超え、例23は
板厚50mm以上にもかかわらず脱水素熱処理がないため低
磁気特性値となっている。
が上限をはずれ、例19は最大形状比が下限をはずれ、例
20は脱水素熱処理温度が下限をはずれ、例21は焼鈍温度
が下限をはずれ、例22は焼準温度が上限を超え、例23は
板厚50mm以上にもかかわらず脱水素熱処理がないため低
磁気特性値となっている。
［発明の効果］ 以上詳細に述べた如く、本発明によれば適切な成分限定
により板厚の厚い厚鋼板に均質な高電磁特性を具備せし
めることに成功し、直流磁化による磁気性質を利用する
構造物に適用可能としたものであり、かつその製造法も
前述の成分限定と、熱間圧延後結晶粒調整及び脱水素熱
処理を同時に行う方式であり、極めて経済的な製造法を
提供するもので、産業上多大な効果を奏するものであ
る。
により板厚の厚い厚鋼板に均質な高電磁特性を具備せし
めることに成功し、直流磁化による磁気性質を利用する
構造物に適用可能としたものであり、かつその製造法も
前述の成分限定と、熱間圧延後結晶粒調整及び脱水素熱
処理を同時に行う方式であり、極めて経済的な製造法を
提供するもので、産業上多大な効果を奏するものであ
る。
第１図はフェライト粒度No.に及ぼす加熱温度、仕上げ
温度の影響を示すグラフ、第２図は80A/mにおける磁束
密度に及ぼすＣ含有量の影響を示すグラフ、第３図は80
A/mにおける磁束密度に及ぼす空隙性欠陥のサイズ及び
脱水素熱処理の影響を示すグラフである。
温度の影響を示すグラフ、第２図は80A/mにおける磁束
密度に及ぼすＣ含有量の影響を示すグラフ、第３図は80
A/mにおける磁束密度に及ぼす空隙性欠陥のサイズ及び
脱水素熱処理の影響を示すグラフである。
Claims (2)
- 【請求項１】重量％で、 C:0.01％以下、 Si:0.02％以下、 Mn:0.20％以下、 P:0.015％以下、 S:0.010％以下、 Cr:0.05％以下、 Mo:0.01％以下、 Cu:0.01％以下、 Al:0.005〜0.040％、 N:0.004％以下 O:0.005％以下、 H:0.0002％以下、 残部実質的に鉄からなる鋼組成の鋼片または鋳片を1200
〜1350℃に加熱し、仕上げ温度がAr3以下のフェライト
域となる条件下で圧延形状比Ａが0.7以上の圧延パスが
１回以上はとる圧延を行い、空隙性欠陥のサイズが100
μ以下の板厚50mm以上の厚板とし、該厚板を600〜750℃
の温度で脱水素熱処理後、750〜950℃の温度で焼鈍する
かあるいは910〜1000℃の温度で焼準することを特徴と
する高磁束密度電磁厚板の製造方法。 ただし、 A:圧延形状比 hi:入側板厚（mm） ho:出側板厚（mm） R:圧延ロール半径（mm） - 【請求項２】重量％で、 C:0.01％以下、 Si:0.02％以下、 Mn:0.20％以下、 P:0.015％以下、 S:0.010％以下、 Cr:0.05％以下、 Mo:0.01％以下、 Cu:0.01％以下、 Al:0.005〜0.040％、 N:0.004％以下 O:0.005％以下、 H:0.0002％以下、 残部実質的に鉄からなる鋼組成の鋼片または鋳片を1200
〜1350℃に加熱し、仕上げ温度がAr3以下のフェライト
域となる条件下で圧延形状比Ａが0.7以上の圧延パスが
１回以上はとる圧延を行い、空隙性欠陥のサイズが100
μ以下の板厚20mm以上50mm未満の厚板とし、該厚板を75
0〜950℃の温度で焼鈍するかあるいは910〜1000℃の温
度で焼準することを特徴とする高磁束密度電磁厚板の製
造方法。 ただし、 A:圧延形状比 hi:入側板厚（mm） ho:出側板厚（mm） R:圧延ロール半径（mm）
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63154641A JPH0745688B2 (ja) | 1988-06-24 | 1988-06-24 | 高磁束密度電磁厚板の製造方法 |
| US07/368,031 US4950336A (en) | 1988-06-24 | 1989-06-19 | Method of producing non-oriented magnetic steel heavy plate having high magnetic flux density |
| DE68921377T DE68921377T2 (de) | 1988-06-24 | 1989-06-23 | Verfahren zur Herstellung nichtorientierter Stahl-Grobbleche mit hoher magnetischer Flussdichte. |
| EP89111463A EP0349853B1 (en) | 1988-06-24 | 1989-06-23 | Method of producing non-oriented magnetic steel heavy plate having high magnetic flux density |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63154641A JPH0745688B2 (ja) | 1988-06-24 | 1988-06-24 | 高磁束密度電磁厚板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH024919A JPH024919A (ja) | 1990-01-09 |
| JPH0745688B2 true JPH0745688B2 (ja) | 1995-05-17 |
Family
ID=15588655
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63154641A Expired - Lifetime JPH0745688B2 (ja) | 1988-06-24 | 1988-06-24 | 高磁束密度電磁厚板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0745688B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPH0266119A (ja) * | 1988-08-31 | 1990-03-06 | Nkk Corp | 磁気シールド特性に優れた高透磁率軟磁性純鉄板の製造方法 |
| DE4293604C2 (de) * | 1991-10-14 | 1997-04-03 | Nippon Kokan Kk | Weichmagnetisches Stahlmaterial und Verfahren zu seiner Herstellung |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6096749A (ja) * | 1983-11-01 | 1985-05-30 | Nippon Steel Corp | 直流磁化用厚板及びその製造方法 |
| JPS6277420A (ja) * | 1985-09-30 | 1987-04-09 | Nippon Kokan Kk <Nkk> | 熱延電磁軟鉄板の製造方法 |
| JPH0726574B2 (ja) * | 1986-08-09 | 1995-03-29 | マツダ株式会社 | エンジンの空燃比制御装置 |
-
1988
- 1988-06-24 JP JP63154641A patent/JPH0745688B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH024919A (ja) | 1990-01-09 |
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