JPH0745692B2 - 磁束密度の高い無方向性電磁厚板の製造方法 - Google Patents
磁束密度の高い無方向性電磁厚板の製造方法Info
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- JPH0745692B2 JPH0745692B2 JP15672288A JP15672288A JPH0745692B2 JP H0745692 B2 JPH0745692 B2 JP H0745692B2 JP 15672288 A JP15672288 A JP 15672288A JP 15672288 A JP15672288 A JP 15672288A JP H0745692 B2 JPH0745692 B2 JP H0745692B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D3/00—Diffusion processes for extraction of non-metals; Furnaces therefor
- C21D3/02—Extraction of non-metals
- C21D3/06—Extraction of hydrogen
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D8/00—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment
- C21D8/12—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties
- C21D8/1216—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties the working step(s) being of interest
- C21D8/1222—Hot rolling
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 近年最先端科学技術である素粒子研究や医療機器の進歩
に伴って、大型構造物に磁気を用いる装置が使われ、そ
の性能向上が求められている。
に伴って、大型構造物に磁気を用いる装置が使われ、そ
の性能向上が求められている。
本発明はここにおいて直流磁化条件で使用される磁石の
鉄心用、あるいは磁場を遮蔽するのに必要な磁気シール
ド用の磁束密度の高い電磁厚鋼板の製造方法に関するも
のである。
鉄心用、あるいは磁場を遮蔽するのに必要な磁気シール
ド用の磁束密度の高い電磁厚鋼板の製造方法に関するも
のである。
［従来の技術］ 磁束密度に優れた電磁鋼板としては、従来から薄板分野
で珪素鋼板、電磁軟鉄板をはじめとする数多くの材料が
提供されているのは公知である。しかし、構造部材とし
て使用するには組み立て加工及び強度上の問題があり、
厚鋼板を利用する必要が生じてくる。これまで電磁厚板
としては鈍鉄系成分で製造されている。たとえば、特開
昭60−96749号公報が公知である。
で珪素鋼板、電磁軟鉄板をはじめとする数多くの材料が
提供されているのは公知である。しかし、構造部材とし
て使用するには組み立て加工及び強度上の問題があり、
厚鋼板を利用する必要が生じてくる。これまで電磁厚板
としては鈍鉄系成分で製造されている。たとえば、特開
昭60−96749号公報が公知である。
しかしながら、近年の装置の大型化、能力の向上等に伴
いさらに磁気特性の優れた、とくに低磁場、たとえば80
A/mでの磁束密度の高い鋼材開発の要望が強い。前掲の
特許等で開発された鋼材では、80A/mでの低磁場での高
い磁束密度が安定して得られていない。
いさらに磁気特性の優れた、とくに低磁場、たとえば80
A/mでの磁束密度の高い鋼材開発の要望が強い。前掲の
特許等で開発された鋼材では、80A/mでの低磁場での高
い磁束密度が安定して得られていない。
［発明が解決しようとする課題］ 本発明の目的は以上の点を鑑みなされたもので、低磁場
での磁束密度の高く、その板厚方向での磁気特性差の少
ない無方向性電磁厚板の製造方法を提供することにあ
る。
での磁束密度の高く、その板厚方向での磁気特性差の少
ない無方向性電磁厚板の製造方法を提供することにあ
る。
［課題を解決するための手段］ 本発明の要旨は次の通りである。
（１）重量％で、C:0.01％以下、Si:0.02％以下、Mn:0.
20％以下、P:0.015％以下、S:0.010％以下、Cr:0.05％
以下、Mo:0.01％以下、Cu:0.01％以下、Al:0.005〜0.04
0％、N:0.004％以下、O:0.005％以下、H:0.0002％以
下、残部実質的に鉄からなる鋼組成の鋼片または、鋳片
を1150〜1300℃に加熱し、仕上げ温度を900℃以上とな
る条件下で圧延形状比Ａが0.7以上の圧延パスが１回以
上はとる圧延を行い、空隙性欠陥のサイズを100μｍ以
下の板厚50mm以上の厚板として、600〜750℃の脱水素熱
処理を行うことを特徴とする磁場80A/mでの磁束密度が
0.8テスラ以上の磁気特性を有する磁束密度の高い無方
向性電磁厚板の製造方法。
20％以下、P:0.015％以下、S:0.010％以下、Cr:0.05％
以下、Mo:0.01％以下、Cu:0.01％以下、Al:0.005〜0.04
0％、N:0.004％以下、O:0.005％以下、H:0.0002％以
下、残部実質的に鉄からなる鋼組成の鋼片または、鋳片
を1150〜1300℃に加熱し、仕上げ温度を900℃以上とな
る条件下で圧延形状比Ａが0.7以上の圧延パスが１回以
上はとる圧延を行い、空隙性欠陥のサイズを100μｍ以
下の板厚50mm以上の厚板として、600〜750℃の脱水素熱
処理を行うことを特徴とする磁場80A/mでの磁束密度が
0.8テスラ以上の磁気特性を有する磁束密度の高い無方
向性電磁厚板の製造方法。
ただし、 A:圧延形状比 hi:入側板厚（mm） ho:出側板厚（mm） R:圧延ロール半径（mm） （２）板厚50mm以上の厚板を脱水素熱処理後、750〜950
℃で焼鈍するか、あるいは910〜1000℃で焼準すること
を特徴とする（１）記載の磁場80A/mでの磁束密度が0.8
テスラ以上の磁気特性を有する磁束密度の高い無方向性
電磁厚板の製造方法。
℃で焼鈍するか、あるいは910〜1000℃で焼準すること
を特徴とする（１）記載の磁場80A/mでの磁束密度が0.8
テスラ以上の磁気特性を有する磁束密度の高い無方向性
電磁厚板の製造方法。
（３）重量％で、C:0.01％以下、Si:0.02％以下、Mn:0.
20％以下、P:0.015％以下、S:0.010％以下、Cr:0.05％
以下、Mo:0.01％以下、Cu:0.01％以下、Al:0.005〜0.04
0％、N:0.004％以下、O:0.005％以下、H:0.0002％以
下、残部実質的に鉄からなる鋼組成の鋼片または、鋳片
を1150〜1300℃に加熱し、仕上げ温度を900℃以上とな
る条件下で圧延形状比Ａが0.7以上の圧延パスが１回以
上はとる圧延を行い、空隙性欠陥のサイズを100μｍ以
下の板厚20mm以上50mm未満の厚板として、750〜950℃で
焼鈍するかあるいは910〜1000℃で焼準することを特徴
とする磁場80A/mでの磁束密度が0.8テスラ以上の磁気特
性を有する磁束密度の高い無方向性電磁厚板の製造方
法。
20％以下、P:0.015％以下、S:0.010％以下、Cr:0.05％
以下、Mo:0.01％以下、Cu:0.01％以下、Al:0.005〜0.04
0％、N:0.004％以下、O:0.005％以下、H:0.0002％以
下、残部実質的に鉄からなる鋼組成の鋼片または、鋳片
を1150〜1300℃に加熱し、仕上げ温度を900℃以上とな
る条件下で圧延形状比Ａが0.7以上の圧延パスが１回以
上はとる圧延を行い、空隙性欠陥のサイズを100μｍ以
下の板厚20mm以上50mm未満の厚板として、750〜950℃で
焼鈍するかあるいは910〜1000℃で焼準することを特徴
とする磁場80A/mでの磁束密度が0.8テスラ以上の磁気特
性を有する磁束密度の高い無方向性電磁厚板の製造方
法。
ただし、 A:圧延形状比 hi:入側板厚（mm） ho:出側板厚（mm） R:圧延ロール半径（mm） ［作用］ まず、低磁場での磁束密度を高くするために磁化のプロ
セスについて述べると、消磁状態の鋼を磁界の中に入
れ、磁界を強めていくと次第に磁区の向きに変化が生
じ、磁界の方向に近い磁区が優勢になり他の磁区を蚕食
併合していく。つまり、磁壁の移動が起こる。
セスについて述べると、消磁状態の鋼を磁界の中に入
れ、磁界を強めていくと次第に磁区の向きに変化が生
じ、磁界の方向に近い磁区が優勢になり他の磁区を蚕食
併合していく。つまり、磁壁の移動が起こる。
さらに磁界が強くなり磁壁の移動が完了すると、次に磁
区全体の磁力方向が向きを変えていく。この磁化プロセ
スの中で低磁場での磁玉密度を決めるのは、磁壁の移動
しやすさである。つまり低磁場で鋼磁束密度を得るため
に、磁壁の移動を障害するものを極力減らすことである
と定性的に言うことができる。
区全体の磁力方向が向きを変えていく。この磁化プロセ
スの中で低磁場での磁玉密度を決めるのは、磁壁の移動
しやすさである。つまり低磁場で鋼磁束密度を得るため
に、磁壁の移動を障害するものを極力減らすことである
と定性的に言うことができる。
発明者らはここにおいて低磁場で高磁束密度を得るため
の手段として、粒径と内部応力の原因となる元素及び空
隙性欠陥の作用につい詳細な検討を行い、所期の目的を
達成した。
の手段として、粒径と内部応力の原因となる元素及び空
隙性欠陥の作用につい詳細な検討を行い、所期の目的を
達成した。
まず、粗粒化のためには、結晶粒微細化作用を有するAl
Nを減少するため、Al,Nを低下すること、及び製造方法
としては、加熱温度を極力上げ加熱オーステナイト粒の
粗大化、圧延仕上げ温度を極力高めにし、圧延による結
晶粒の微細化を防止すること並びに圧延後の焼鈍をする
ことである。
Nを減少するため、Al,Nを低下すること、及び製造方法
としては、加熱温度を極力上げ加熱オーステナイト粒の
粗大化、圧延仕上げ温度を極力高めにし、圧延による結
晶粒の微細化を防止すること並びに圧延後の焼鈍をする
ことである。
内部応力減少のための元素の影響としては、Ｃの低下が
必要である。第１図に示す0.01Si−0.1Mn−0.01Al鋼に
あってＣ含有量の増加につれ低磁場（80A/m）での磁束
密度が低下している。
必要である。第１図に示す0.01Si−0.1Mn−0.01Al鋼に
あってＣ含有量の増加につれ低磁場（80A/m）での磁束
密度が低下している。
また、空隙性欠陥の影響についても種々検討した結果、
そのサイズが100μ以上のものが磁気特性を大幅に低下
することを知見したものである。そしてこの100μ以上
の有害な空隙性欠陥をなくすためには圧延形状比Ａが0.
7以上必要であることを見出した。
そのサイズが100μ以上のものが磁気特性を大幅に低下
することを知見したものである。そしてこの100μ以上
の有害な空隙性欠陥をなくすためには圧延形状比Ａが0.
7以上必要であることを見出した。
さらに、鋼中の水素の存在も第２図に示すように有害
で、脱水素熱処理を行うことによって磁気特性が大幅に
向上することを知見した。第２図で示すように0.007C−
0.01Si−0.1Mn鋼にあって高形状比圧延により空隙性欠
陥のサイズを100μ以下にし、かつ、脱水素熱処理によ
り鋼中水素を減少することで低磁場での磁束密度が大幅
に上昇することがわかる。
で、脱水素熱処理を行うことによって磁気特性が大幅に
向上することを知見した。第２図で示すように0.007C−
0.01Si−0.1Mn鋼にあって高形状比圧延により空隙性欠
陥のサイズを100μ以下にし、かつ、脱水素熱処理によ
り鋼中水素を減少することで低磁場での磁束密度が大幅
に上昇することがわかる。
さらに、磁気特性の均質性を確保することも重要である
が、本発明による方法によれば、これに対しても極めて
有効な手段であることを確認した。
が、本発明による方法によれば、これに対しても極めて
有効な手段であることを確認した。
次に本発明の成分限定理由をのべる。
Ｃ鋼中の内部応力を高め、磁気特性、とくに低磁場での
磁束密度を最も下げる元素であり、極力下げることが低
磁場での磁束密度を低下させないことに寄与する。ま
た、磁気時効の点からも低いほど経時劣化が少なく、磁
気特性の良い状態で恒久的に使用できるものであり、こ
のようなことから0.010％以下に限定する。第１図に示
すようにさらに0.005％以下にすることにより一層高磁
束密度が得られる。
磁束密度を最も下げる元素であり、極力下げることが低
磁場での磁束密度を低下させないことに寄与する。ま
た、磁気時効の点からも低いほど経時劣化が少なく、磁
気特性の良い状態で恒久的に使用できるものであり、こ
のようなことから0.010％以下に限定する。第１図に示
すようにさらに0.005％以下にすることにより一層高磁
束密度が得られる。
Si,Mnは低磁場での磁束密度の点から少ない方が好まし
く、MnはMnS系介在物を生成する点からも低い方がよ
い。この意味からSiは0.02％以下、Mnは0.20％以下に限
定する。Mnに関してはMnS系介在物を生成する点よりさ
らに望ましくは0.10％以下がよい。
く、MnはMnS系介在物を生成する点からも低い方がよ
い。この意味からSiは0.02％以下、Mnは0.20％以下に限
定する。Mnに関してはMnS系介在物を生成する点よりさ
らに望ましくは0.10％以下がよい。
P,S,Oは鋼中において非金属介在物を形成し、かつ偏析
することにより磁壁の移動を妨げる害を及ぼし含有量が
多くなるに従って磁束密度の低下が見られ、磁気特性を
低下させるので少ない程よい。このためＰは0.015％以
下、Ｓは0.010％以下、Ｏは0.005％以下とした。
することにより磁壁の移動を妨げる害を及ぼし含有量が
多くなるに従って磁束密度の低下が見られ、磁気特性を
低下させるので少ない程よい。このためＰは0.015％以
下、Ｓは0.010％以下、Ｏは0.005％以下とした。
Cr,Mo,Cuは低磁場での磁束密度を低下させるので少ない
程好ましく、また偏析度合を少なくすることから極力低
くすることが必要であり、この意味からCrは0.05％以
下、Moは0.01％以下、Cuは0.01％以下とする。
程好ましく、また偏析度合を少なくすることから極力低
くすることが必要であり、この意味からCrは0.05％以
下、Moは0.01％以下、Cuは0.01％以下とする。
Alは脱酸剤として用いるもので本発明の如く板圧の厚い
場合には、内質の均質化に不可欠の元素であり、0.005
％以上添加されるが、多くなりすぎると介在物を生成し
鋼の性質を損なうので上限は0.040％以下とする。さら
に結晶粒微細化作用を有するAlNを減少させるためには
望ましくは0.020％以下がよい。
場合には、内質の均質化に不可欠の元素であり、0.005
％以上添加されるが、多くなりすぎると介在物を生成し
鋼の性質を損なうので上限は0.040％以下とする。さら
に結晶粒微細化作用を有するAlNを減少させるためには
望ましくは0.020％以下がよい。
Ｎは内部応力を高めかつAlNにより結晶粒微細化作用に
より低磁場での磁束密度を低下させるので上限は0.004
％以下とする。
より低磁場での磁束密度を低下させるので上限は0.004
％以下とする。
Ｈは電磁特性を低下させ、かつ、空隙性欠陥の減少を妨
げるので0.0002％以下とする。
げるので0.0002％以下とする。
次に製造法について述べる。
圧延条件については、まず圧延前加熱温度を1150℃以上
にするのは加熱オーステナイト粒を粗大化して磁気特性
をよくするためである。1300℃を超す加熱はスケールロ
スの防止、省エネルギーの観点から不必要であるため上
限を1300℃とした。
にするのは加熱オーステナイト粒を粗大化して磁気特性
をよくするためである。1300℃を超す加熱はスケールロ
スの防止、省エネルギーの観点から不必要であるため上
限を1300℃とした。
圧延仕上げ温度については、900℃以上の仕上げでは低
温圧延により結晶粒が微細化し、磁気特性が低下するた
め結晶粒の粗大化による磁束密度の上昇を狙い900℃以
上とした。
温圧延により結晶粒が微細化し、磁気特性が低下するた
め結晶粒の粗大化による磁束密度の上昇を狙い900℃以
上とした。
さらに熱間圧延にあたり前述の空隙性欠陥は鋼の凝固過
程で大小はあるが、必ず発生するものでありこれをなく
す手段は圧延によらなければならないので、熱間圧延の
役目は重要である。すなわち、熱間圧延１回当たりの変
形量を大きくし板厚中心部にまで変形が及ぶ熱間圧延が
有効である。
程で大小はあるが、必ず発生するものでありこれをなく
す手段は圧延によらなければならないので、熱間圧延の
役目は重要である。すなわち、熱間圧延１回当たりの変
形量を大きくし板厚中心部にまで変形が及ぶ熱間圧延が
有効である。
具体的には圧延形状比Ａが0.7以上の圧延パスが１回以
上を含む高形状比圧延を行い、空隙性欠陥のサイズを10
0μ以下にすることが電磁特性によい。圧延中にこの高
形状比圧延により空隙性欠陥をなくすことで、後で行う
脱水素熱処理における脱水素効率が飛躍的に上昇するも
のである。
上を含む高形状比圧延を行い、空隙性欠陥のサイズを10
0μ以下にすることが電磁特性によい。圧延中にこの高
形状比圧延により空隙性欠陥をなくすことで、後で行う
脱水素熱処理における脱水素効率が飛躍的に上昇するも
のである。
次に熱間圧延に引き続き結晶粒粗大化、内部歪除去及び
板厚50mm以上の厚手材については脱水素熱処理を施す。
板厚50mm以上では水素の拡散がしにくく、これが空隙性
欠陥の原因となり、かつ、水素自身の作用と合わさって
低磁場での磁束密度を低下させる。
板厚50mm以上の厚手材については脱水素熱処理を施す。
板厚50mm以上では水素の拡散がしにくく、これが空隙性
欠陥の原因となり、かつ、水素自身の作用と合わさって
低磁場での磁束密度を低下させる。
このため、脱水素熱処理を行うが、この脱水素熱処理温
度としては600℃未満では脱水素効率が悪く750℃超では
変態が一部開始するので600〜750℃の温度範囲で行う。
脱水素時間としては種々検討の結果〔0.6（ｔ−50）＋
６〕時間（t:板厚）が適当である。
度としては600℃未満では脱水素効率が悪く750℃超では
変態が一部開始するので600〜750℃の温度範囲で行う。
脱水素時間としては種々検討の結果〔0.6（ｔ−50）＋
６〕時間（t:板厚）が適当である。
焼鈍は結晶粒粗大化及び内部歪除去のために行うが、75
0℃未満では結晶粒粗大化が起こらず、また、950℃以上
では結晶粒の板厚方向の均質性が保てないため、焼鈍温
度としては750〜950℃に限定する。
0℃未満では結晶粒粗大化が起こらず、また、950℃以上
では結晶粒の板厚方向の均質性が保てないため、焼鈍温
度としては750〜950℃に限定する。
焼準は板厚方向の結晶粒調整及び内部歪除去のために行
うが、Ac3点の910℃以上でかつ1000℃以下でないと結晶
粒の板厚方向の均質性が保てないので、焼準温度は910
〜1000℃に限定する。910℃未満ではオーステナイト域
とフェライト域の混在により結晶粒が混粒となり、1000
℃超では結晶粒の板厚方向の均質性が保てない。なお、
磁気特性向上のためには、結晶粒粗大化と内部歪み除去
とが考えられるが、特に内部歪み除去は必須条件であ
る。内部歪み除去は、板厚50mm以上の厚手材では脱水素
熱処理で行うことができる。したがって、本発明の厚手
材では脱水素熱処理で、上記焼鈍あるいは焼準を兼ねる
ことができる。
うが、Ac3点の910℃以上でかつ1000℃以下でないと結晶
粒の板厚方向の均質性が保てないので、焼準温度は910
〜1000℃に限定する。910℃未満ではオーステナイト域
とフェライト域の混在により結晶粒が混粒となり、1000
℃超では結晶粒の板厚方向の均質性が保てない。なお、
磁気特性向上のためには、結晶粒粗大化と内部歪み除去
とが考えられるが、特に内部歪み除去は必須条件であ
る。内部歪み除去は、板厚50mm以上の厚手材では脱水素
熱処理で行うことができる。したがって、本発明の厚手
材では脱水素熱処理で、上記焼鈍あるいは焼準を兼ねる
ことができる。
一方、板厚20mm以上50mm未満のものは水素の拡散が容易
なため、脱水素熱処理は不要で前述の焼鈍または焼準す
るのみで良い。
なため、脱水素熱処理は不要で前述の焼鈍または焼準す
るのみで良い。
［実 施 例］ 第１表に電磁厚板の製造条件とフェライト粒径、低磁場
での磁束密度を示す。
での磁束密度を示す。
例１〜10は本発明の実施例を示し、例11〜29は比較例を
示す。例１〜５は板厚100mmに仕上げたもので、均一か
つ粗粒で高い磁気特性を示す。例１に比べ、さらに例２
は低Ｃ、例3,4は低Mn、例５は低Alであり、より高い磁
気特性を示す。例６〜８は500mm、例９は40mm、例10は2
0mmに仕上げたもので、均一かつ粗粒で高い磁気特性を
示す。
示す。例１〜５は板厚100mmに仕上げたもので、均一か
つ粗粒で高い磁気特性を示す。例１に比べ、さらに例２
は低Ｃ、例3,4は低Mn、例５は低Alであり、より高い磁
気特性を示す。例６〜８は500mm、例９は40mm、例10は2
0mmに仕上げたもので、均一かつ粗粒で高い磁気特性を
示す。
例11はＣが高く、例12はSiが高く、例13はMnが高く、例
14はＰが高く、例15はＳが高く、例16はCrが高く、例17
はMoが高く、例18はCuが高く、例19はAlが高く、例20は
Ｎが高く、例21はＯが高く、例22はＨが高く、それぞれ
上限を超えるため低磁気特性値となっている。
14はＰが高く、例15はＳが高く、例16はCrが高く、例17
はMoが高く、例18はCuが高く、例19はAlが高く、例20は
Ｎが高く、例21はＯが高く、例22はＨが高く、それぞれ
上限を超えるため低磁気特性値となっている。
例23は加熱温度が下限をはずれ、例24は圧延仕上げ温度
が下限をはずれ、例25は最大形状比が下限をはずれ、例
26は脱水素熱処理温度が下限をはずれ、例27は焼鈍温度
が下限をはずれ、例28は焼準温度が上限を超え、例29は
脱水素熱処理がないため低磁気特性値となっている。
が下限をはずれ、例25は最大形状比が下限をはずれ、例
26は脱水素熱処理温度が下限をはずれ、例27は焼鈍温度
が下限をはずれ、例28は焼準温度が上限を超え、例29は
脱水素熱処理がないため低磁気特性値となっている。
［発明の効果］ 以上詳細に述べた如く、本発明によれば適切な成分限定
により、板厚の厚鋼板に均質な高電磁特性を具備せしめ
ることに成功し、直流磁化による磁気性質を利用する構
造物に適用可能としたものであり、かつその製造法も前
述の成分限定と、熱間圧延後結晶粒調整及び脱水素熱処
理を同時に行う方式であり、極めて経済的な製造法を提
供するもので産業上多大な効果を奏するものである。
により、板厚の厚鋼板に均質な高電磁特性を具備せしめ
ることに成功し、直流磁化による磁気性質を利用する構
造物に適用可能としたものであり、かつその製造法も前
述の成分限定と、熱間圧延後結晶粒調整及び脱水素熱処
理を同時に行う方式であり、極めて経済的な製造法を提
供するもので産業上多大な効果を奏するものである。
第１図は80A/mにおける磁束密度に及ぼすＣ含有量の影
響を示すグラフ、第２図は80A/mにおける磁束密度に及
ぼす空隙性欠陥のサイズ及び脱水素熱処理の影響を示す
グラフである。
響を示すグラフ、第２図は80A/mにおける磁束密度に及
ぼす空隙性欠陥のサイズ及び脱水素熱処理の影響を示す
グラフである。
Claims (3)
- 【請求項１】重量％で、 C:0.01％以下、 Si:0.02％以下、 Mn:0.20％以下、 P:0.015％以下、 S:0.010％以下、 Cr:0.05％以下、 Mo:0.01％以下、 Cu:0.01％以下、 Al:0.005％〜0.040％、 N:0.004％以下、 O:0.005％以下、 H:0.0002％以下、 残部実質的に鉄からなる鋼組成の鋼片または、鋳片を11
50〜1300℃に加熱し、仕上げ温度を900℃以上となる条
件下で圧延形状比Ａが0.7以上の圧延パスが１回以上は
とる圧延を行い、空隙性欠陥のサイズを100μｍ以下の
板厚50mm以上の厚板として、600〜750℃の脱水素熱処理
を行うことを特徴とする磁場80A/mでの磁束密度が0.8テ
スラ以上の磁気特性を有する磁束密度の高い無方向性電
磁厚板の製造方法。 ただし、 A:圧延形状比 hi:入側板厚（mm） ho:出側板厚（mm） R:圧延ロール半径（mm） - 【請求項２】板厚50mm以上の厚板を脱水素熱処理後、75
0〜950℃で焼鈍するか、あるいは910〜1000℃で焼準す
ることを特徴とする請求項１記載の磁場80A/mでの磁束
密度が0.8テスラ以上の磁気特性を有する磁束密度の高
い無方向性電磁厚板の製造方法。 - 【請求項３】重量％で、 C:0.01％以下、 Si:0.02％以下、 Mn:0.20％以下、 P:0.015％以下、 S:0.010％以下、 Cr:0.05％以下、 Mo:0.01％以下、 Cu:0.01％以下、 Al:0.005〜0.040％、 N:0.004％以下、 O:0.005％以下、 H:0.0002％以下、 残部実質的に鉄からなる鋼組成の鋼片または、鋳片を11
50〜1300℃に加熱し、仕上げ温度を900℃以上となる条
件下で圧延形状比Ａが0.7以上の圧延パスが１回以上は
とる圧延を行い、空隙性欠陥のサイズを100μｍ以下の
板厚20mm以上50mm未満の厚板として、750〜950℃で焼鈍
するかあるいは910〜1000℃で焼準することを特徴とす
る磁場80A/mでの磁束密度が0.8テスラ以上の磁気特性を
有する磁束密度の高い無方向性電磁厚板の製造方法。 ただし、 A:圧延形状比 hi:入側板厚（mm） ho:出側板厚（mm） R:圧延ロール半径（mm）
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15672288A JPH0745692B2 (ja) | 1988-06-27 | 1988-06-27 | 磁束密度の高い無方向性電磁厚板の製造方法 |
| US07/368,031 US4950336A (en) | 1988-06-24 | 1989-06-19 | Method of producing non-oriented magnetic steel heavy plate having high magnetic flux density |
| DE68921377T DE68921377T2 (de) | 1988-06-24 | 1989-06-23 | Verfahren zur Herstellung nichtorientierter Stahl-Grobbleche mit hoher magnetischer Flussdichte. |
| EP89111463A EP0349853B1 (en) | 1988-06-24 | 1989-06-23 | Method of producing non-oriented magnetic steel heavy plate having high magnetic flux density |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15672288A JPH0745692B2 (ja) | 1988-06-27 | 1988-06-27 | 磁束密度の高い無方向性電磁厚板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH028326A JPH028326A (ja) | 1990-01-11 |
| JPH0745692B2 true JPH0745692B2 (ja) | 1995-05-17 |
Family
ID=15633905
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15672288A Expired - Lifetime JPH0745692B2 (ja) | 1988-06-24 | 1988-06-27 | 磁束密度の高い無方向性電磁厚板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0745692B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2564994B2 (ja) * | 1991-10-14 | 1996-12-18 | 日本鋼管株式会社 | 直流磁化特性と耐食性に優れた軟磁性鋼材およびその製造方法 |
-
1988
- 1988-06-27 JP JP15672288A patent/JPH0745692B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH028326A (ja) | 1990-01-11 |
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