JPH07307275A - 現像カップ装置 - Google Patents
現像カップ装置Info
- Publication number
- JPH07307275A JPH07307275A JP10111694A JP10111694A JPH07307275A JP H07307275 A JPH07307275 A JP H07307275A JP 10111694 A JP10111694 A JP 10111694A JP 10111694 A JP10111694 A JP 10111694A JP H07307275 A JPH07307275 A JP H07307275A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cup
- concentration
- chemical
- developing
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高濃度現像廃液と低濃度現像廃液の濃度比を
改善する。 【構成】 現像処理と現像廃液の回収は、現像液ノズル
２０から３０ｍｌの現像液を基板１１に滴下する。６０
秒の現像時間を経た後、スピンモーター１２によって基
板１１を回転させ、基板１１に盛られた現像液を振り切
る。振り切られた現像液は、可動離壁１９の上面を伝っ
て第一薬液カップ１４に回収されて、高濃度現像廃液管
１６から排出される。現像液が振り切られた後、回転す
る基板１１に洗浄液ノズル２１から純水を滴下すると同
時に、可動離壁１９をアクチェーター２２によってせり
上げる。基板１１を洗い落ちた純水は固定離壁１８と可
動離壁１９に阻まれ、全て第二薬液カップ１５に回収さ
れて、低濃度現像廃液管１７から排出される。純水は１
５秒間にわたり２５０ｍｌが滴下される。洗浄が終了す
ると基板１１を高速で回転させ乾燥させる。
改善する。 【構成】 現像処理と現像廃液の回収は、現像液ノズル
２０から３０ｍｌの現像液を基板１１に滴下する。６０
秒の現像時間を経た後、スピンモーター１２によって基
板１１を回転させ、基板１１に盛られた現像液を振り切
る。振り切られた現像液は、可動離壁１９の上面を伝っ
て第一薬液カップ１４に回収されて、高濃度現像廃液管
１６から排出される。現像液が振り切られた後、回転す
る基板１１に洗浄液ノズル２１から純水を滴下すると同
時に、可動離壁１９をアクチェーター２２によってせり
上げる。基板１１を洗い落ちた純水は固定離壁１８と可
動離壁１９に阻まれ、全て第二薬液カップ１５に回収さ
れて、低濃度現像廃液管１７から排出される。純水は１
５秒間にわたり２５０ｍｌが滴下される。洗浄が終了す
ると基板１１を高速で回転させ乾燥させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置製造工程に
おける基板現像装置において、高濃度現像廃液と低濃度
現像廃液とを効果的に分離回収できる現像カップ装置に
関するものである。
おける基板現像装置において、高濃度現像廃液と低濃度
現像廃液とを効果的に分離回収できる現像カップ装置に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造工程のホトリソグラフィー工
程で多用されるポジ型ホトレジストの現像処理には、現
像液の有機アルカリ現像液と洗浄液の純水が使用され
る。６インチの半導体基板の例では、１基板当たり３０
ｍｌの現像液と２５０ｍｌの超純水が消費される。現像
液のアルカリ濃度は、一般的に２.３８％程度である。
現像液と超純水を主成分とする現像廃液は、無処理また
は適度の中和処理を施して排水されてきたが、近年の環
境規制と廃液量を削減する立場から、高濃度現像廃液と
低濃度現像廃液を分離回収し、個別処理が施される。高
濃度現像廃液は焼却または生物酸化処理を施して排水
し、低濃度現像廃液は中和処理を施して排水することが
行われている。高濃度現像廃液と低濃度現像廃液との分
離は、現像機側で行うのが一般的である。
程で多用されるポジ型ホトレジストの現像処理には、現
像液の有機アルカリ現像液と洗浄液の純水が使用され
る。６インチの半導体基板の例では、１基板当たり３０
ｍｌの現像液と２５０ｍｌの超純水が消費される。現像
液のアルカリ濃度は、一般的に２.３８％程度である。
現像液と超純水を主成分とする現像廃液は、無処理また
は適度の中和処理を施して排水されてきたが、近年の環
境規制と廃液量を削減する立場から、高濃度現像廃液と
低濃度現像廃液を分離回収し、個別処理が施される。高
濃度現像廃液は焼却または生物酸化処理を施して排水
し、低濃度現像廃液は中和処理を施して排水することが
行われている。高濃度現像廃液と低濃度現像廃液との分
離は、現像機側で行うのが一般的である。
【０００３】図３は従来の技術による分離方法を説明す
るための断面図である。現像処理と現像廃液の回収は次
の順序で行われる。基板１は、スピンモーター２の回転
軸に接続されたチャック３に真空吸着されている。現像
液は現像液ノズル４から基板１に滴下される。所定の現
像時間が経過すると基板１を回転させて基板１に盛られ
た現像液を振り切り、基板１を回転させながら洗浄液ノ
ズル５から純水を基板１に滴下させる。所定の洗浄時間
が経過すると、純水の滴下を止めて基板１を高速回転さ
せて乾燥させる。基板１から洗い落とされた現像廃液
は、全て薬液カップ６に回収される。現像処理毎に廃液
管７を現像廃液が流れるが、現像廃液のアルカリ濃度は
洗浄初期には高く、洗浄が進むにつれて低くなる。所定
の時期に三方弁８を切り替えることによって、高濃度廃
液管９と低濃度廃液管１０にアルカリ濃度の異なった現
像廃液を回収することができる。
るための断面図である。現像処理と現像廃液の回収は次
の順序で行われる。基板１は、スピンモーター２の回転
軸に接続されたチャック３に真空吸着されている。現像
液は現像液ノズル４から基板１に滴下される。所定の現
像時間が経過すると基板１を回転させて基板１に盛られ
た現像液を振り切り、基板１を回転させながら洗浄液ノ
ズル５から純水を基板１に滴下させる。所定の洗浄時間
が経過すると、純水の滴下を止めて基板１を高速回転さ
せて乾燥させる。基板１から洗い落とされた現像廃液
は、全て薬液カップ６に回収される。現像処理毎に廃液
管７を現像廃液が流れるが、現像廃液のアルカリ濃度は
洗浄初期には高く、洗浄が進むにつれて低くなる。所定
の時期に三方弁８を切り替えることによって、高濃度廃
液管９と低濃度廃液管１０にアルカリ濃度の異なった現
像廃液を回収することができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】高濃度廃液と低濃度廃
液の分離回収を行う場合は、両廃液のアルカリ濃度差が
大きい方が廃液処理を行う上で有利である。従来の分離
方法では、廃液の回収経路が途中まで同一であるため、
現像液と純水の混合が進み、大きなアルカリ濃度差を得
ることができない。低濃度廃液のアルカリ濃度は、０.
１％以下にすることができないために、中和処理の負担
が大きい。高濃度廃液は、純水が多量に混入するため
に、焼却処理での負担が大きい。
液の分離回収を行う場合は、両廃液のアルカリ濃度差が
大きい方が廃液処理を行う上で有利である。従来の分離
方法では、廃液の回収経路が途中まで同一であるため、
現像液と純水の混合が進み、大きなアルカリ濃度差を得
ることができない。低濃度廃液のアルカリ濃度は、０.
１％以下にすることができないために、中和処理の負担
が大きい。高濃度廃液は、純水が多量に混入するため
に、焼却処理での負担が大きい。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の問題点を解決する
ために本発明の現像カップ装置は、第一薬液カップの内
側に第二薬液カップを備え、第一薬液カップと第二薬液
カップを隔てる固定離壁と、上下に可動可能な可動離壁
を備え、第一薬液カップと第二薬液カップはそれぞれ独
立した廃液管が接続されている。
ために本発明の現像カップ装置は、第一薬液カップの内
側に第二薬液カップを備え、第一薬液カップと第二薬液
カップを隔てる固定離壁と、上下に可動可能な可動離壁
を備え、第一薬液カップと第二薬液カップはそれぞれ独
立した廃液管が接続されている。
【０００６】また、第一薬液カップの内側に第二薬液カ
ップを備え、第二薬液カップの内側に設置した基板と第
一薬液カップおよび第二薬液カップの相対位置を上下に
可変できる機構を備え、第一薬液カップと第二薬液カッ
プはそれぞれ独立した廃液管が接続されている。
ップを備え、第二薬液カップの内側に設置した基板と第
一薬液カップおよび第二薬液カップの相対位置を上下に
可変できる機構を備え、第一薬液カップと第二薬液カッ
プはそれぞれ独立した廃液管が接続されている。
【０００７】
【作用】所定の現像時間を経過した後、基板に盛られた
現像液は、基板を回転させて振り切り、高濃度現像廃液
として第一薬液カップに回収される。純水による洗浄が
始まると、第一薬液カップと第二薬液カップを隔てる可
動離壁がせり上がり、基板から洗い落ちた純水は、固定
離壁と可動離壁に阻まれ、低濃度現像廃液として第二薬
液カップに回収される。
現像液は、基板を回転させて振り切り、高濃度現像廃液
として第一薬液カップに回収される。純水による洗浄が
始まると、第一薬液カップと第二薬液カップを隔てる可
動離壁がせり上がり、基板から洗い落ちた純水は、固定
離壁と可動離壁に阻まれ、低濃度現像廃液として第二薬
液カップに回収される。
【０００８】また、所定の現像時間を経過した後、基板
に盛られた現像液は、基板を回転させて振り切り、高濃
度現像廃液として第一薬液カップに回収される。このと
き、基板から振り切られた現像廃液の大部分が第一薬液
カップに回収され、第二薬液カップにほとんど回収され
ない位置に基板と第一薬液カップおよび第二薬液カップ
の相対位置を固定する。純水による洗浄が始まると、洗
浄に使用された純水は低濃度現像廃液として第二薬液カ
ップに回収される。このとき、基板から振り切られた純
水の大部分が第二薬液カップに回収され、第一薬液カッ
プにほとんど回収されない位置に基板と第一薬液カップ
および第二薬液カップの相対位置を移動する。
に盛られた現像液は、基板を回転させて振り切り、高濃
度現像廃液として第一薬液カップに回収される。このと
き、基板から振り切られた現像廃液の大部分が第一薬液
カップに回収され、第二薬液カップにほとんど回収され
ない位置に基板と第一薬液カップおよび第二薬液カップ
の相対位置を固定する。純水による洗浄が始まると、洗
浄に使用された純水は低濃度現像廃液として第二薬液カ
ップに回収される。このとき、基板から振り切られた純
水の大部分が第二薬液カップに回収され、第一薬液カッ
プにほとんど回収されない位置に基板と第一薬液カップ
および第二薬液カップの相対位置を移動する。
【０００９】
【実施例】図１は、本発明の第１の実施例の断面図であ
る。現像される基板１１は、スピンモーター１２の回転
軸に接続されたチャック１３に真空吸着されている。第
一薬液カップ１４と第二薬液カップ１５は一体構造をな
し、それぞれのカップには高濃度廃液管１６と低濃度廃
液管１７が接続されている。第一薬液カップ１４と第二
薬液カップ１５は固定離壁１８と可動離壁１９によって
仕切られ、可動離壁１９は固定離壁１８に対して上下に
可動できる。基板１１は直径６インチの半導体基板であ
り、現像液は、アルカリ濃度が２.３８％の有機アルカ
リ現像液である。現像処理と現像廃液の回収は次の順序
で行われる。図１（ａ）において、現像液ノズル２０か
ら３０ｍｌの現像液を基板１１に滴下する。６０秒の現
像時間を経た後、スピンモーター１２によって基板１１
を回転させ、基板１１に盛られた現像液を振り切る。振
り切られた現像液は、可動離壁１９の上面を伝って第一
薬液カップ１４に回収されて、高濃度現像廃液管１６か
ら排出される。図１（ｂ）において、現像液が振り切ら
れた後、回転する基板１１に洗浄液ノズル２１から純水
を滴下すると同時に、可動離壁１９をアクチェーター２
２によってせり上げる。基板１１を洗い落ちた純水は固
定離壁１８と可動離壁１９に阻まれ、全て第二薬液カッ
プ１５に回収されて、低濃度現像廃液管１７から排出さ
れる。純水は１５秒間にわたり２５０ｍｌが滴下され
る。洗浄が終了すると基板１１を高速で回転させ乾燥さ
せる。
る。現像される基板１１は、スピンモーター１２の回転
軸に接続されたチャック１３に真空吸着されている。第
一薬液カップ１４と第二薬液カップ１５は一体構造をな
し、それぞれのカップには高濃度廃液管１６と低濃度廃
液管１７が接続されている。第一薬液カップ１４と第二
薬液カップ１５は固定離壁１８と可動離壁１９によって
仕切られ、可動離壁１９は固定離壁１８に対して上下に
可動できる。基板１１は直径６インチの半導体基板であ
り、現像液は、アルカリ濃度が２.３８％の有機アルカ
リ現像液である。現像処理と現像廃液の回収は次の順序
で行われる。図１（ａ）において、現像液ノズル２０か
ら３０ｍｌの現像液を基板１１に滴下する。６０秒の現
像時間を経た後、スピンモーター１２によって基板１１
を回転させ、基板１１に盛られた現像液を振り切る。振
り切られた現像液は、可動離壁１９の上面を伝って第一
薬液カップ１４に回収されて、高濃度現像廃液管１６か
ら排出される。図１（ｂ）において、現像液が振り切ら
れた後、回転する基板１１に洗浄液ノズル２１から純水
を滴下すると同時に、可動離壁１９をアクチェーター２
２によってせり上げる。基板１１を洗い落ちた純水は固
定離壁１８と可動離壁１９に阻まれ、全て第二薬液カッ
プ１５に回収されて、低濃度現像廃液管１７から排出さ
れる。純水は１５秒間にわたり２５０ｍｌが滴下され
る。洗浄が終了すると基板１１を高速で回転させ乾燥さ
せる。
【００１０】また、図２は、本発明の第２の実施例の断
面図である。現像される基板３１はスピンモーター３２
の回転軸に接続されたチャック３３に真空吸着されてい
る。第一薬液カップ３４と第二薬液カップ３５は一体構
造をなし、互いに仕切られている。それぞれのカップに
は高濃度現像廃液管３６と低濃度現像廃液管３７が接続
されている。基板３１は直径６インチの半導体基板であ
り、現像液は、アルカリ濃度が２.３８％の有機アルカ
リ現像液である。現像処理と現像廃液の回収は次の順序
で行われる。図２（ａ）において現像液ノズル３８から
３０ｍｌの現像液を基板３１に滴下する。６０秒の現像
時間を経た後、スピンモーター３２によって基板３１を
回転させ、基板３１に盛られた現像液を振り切る。振り
切られた現像液は、ほとんど第一薬液カップ３４に回収
されて、高濃度現像廃液管３６から排出される。図２
（ｂ）において、現像液が振り切られた後、回転する基
板３１に洗浄液ノズル３９から純水を滴下すると同時
に、第一薬液カップ３４と第二薬液カップ３５をアクチ
ェーター４０によってせり上げる。基板３１は第二薬液
カップ３５におおわれるため、基板３１を洗い落ちた純
水は、全て第二薬液カップ３５に回収されて、低濃度現
像廃液管３７から排出される。純水は１５秒間にわたり
２５０ｍｌが滴下される。洗浄が終了すると基板３１を
高速で回転させ乾燥させる。
面図である。現像される基板３１はスピンモーター３２
の回転軸に接続されたチャック３３に真空吸着されてい
る。第一薬液カップ３４と第二薬液カップ３５は一体構
造をなし、互いに仕切られている。それぞれのカップに
は高濃度現像廃液管３６と低濃度現像廃液管３７が接続
されている。基板３１は直径６インチの半導体基板であ
り、現像液は、アルカリ濃度が２.３８％の有機アルカ
リ現像液である。現像処理と現像廃液の回収は次の順序
で行われる。図２（ａ）において現像液ノズル３８から
３０ｍｌの現像液を基板３１に滴下する。６０秒の現像
時間を経た後、スピンモーター３２によって基板３１を
回転させ、基板３１に盛られた現像液を振り切る。振り
切られた現像液は、ほとんど第一薬液カップ３４に回収
されて、高濃度現像廃液管３６から排出される。図２
（ｂ）において、現像液が振り切られた後、回転する基
板３１に洗浄液ノズル３９から純水を滴下すると同時
に、第一薬液カップ３４と第二薬液カップ３５をアクチ
ェーター４０によってせり上げる。基板３１は第二薬液
カップ３５におおわれるため、基板３１を洗い落ちた純
水は、全て第二薬液カップ３５に回収されて、低濃度現
像廃液管３７から排出される。純水は１５秒間にわたり
２５０ｍｌが滴下される。洗浄が終了すると基板３１を
高速で回転させ乾燥させる。
【００１１】
【発明の効果】本発明によれば、高濃度現像廃液と低濃
度現像廃液を極めて効果的に分離することが可能であ
り、大きなアルカリ濃度比を得ることが可能である。低
濃度現像廃液は希釈なしに、０.０１％台のアルカリ濃
度を実現することができ、中和処理の負担を軽減するこ
とができる。高濃度現像廃液は洗浄用の純水がほとんど
混入しないため、廃液量が少なくてすみ、焼却処理の設
備規模を節約することができる。以上のごとく本発明は
現像廃液のアルカリ濃度別の分離回収に最適である。
度現像廃液を極めて効果的に分離することが可能であ
り、大きなアルカリ濃度比を得ることが可能である。低
濃度現像廃液は希釈なしに、０.０１％台のアルカリ濃
度を実現することができ、中和処理の負担を軽減するこ
とができる。高濃度現像廃液は洗浄用の純水がほとんど
混入しないため、廃液量が少なくてすみ、焼却処理の設
備規模を節約することができる。以上のごとく本発明は
現像廃液のアルカリ濃度別の分離回収に最適である。
【図１】本発明の第１の実施例における現像カップ装置
の断面図
の断面図
【図２】本発明の第２の実施例における現像カップ装置
の断面図
の断面図
【図３】従来の現像カップ装置の断面図
１１ 基板 １２ スピンモーター １３ チャック １４ 第一薬液カップ １５ 第二薬液カップ １６ 高濃度現像廃液管 １７ 低濃度現像廃液管 １８ 固定離壁 １９ 可動離壁 ２０ 現像液ノズル ２１ 洗浄液ノズル ２２ アクチェーター
Claims (2)
- 【請求項１】 第一薬液カップの内側に第二薬液カップ
を備え、前記第一薬液カップと前記第二薬液カップとを
隔てる固定離壁と、上下に可動可能な可動離壁を備え、
前記第一薬液カップおよび前記第二薬液カップはそれぞ
れ独立した廃液管が接続されていることを特徴とする現
像カップ装置。 - 【請求項２】 第一薬液カップの内側に第二薬液カップ
を備え、前記第二薬液カップの内側に設置した基板と前
記第一薬液カップおよび前記第二薬液カップの相対位置
を上下に可変できる機構を備え、前記第一薬液カップお
よび前記第二薬液カップはそれぞれ独立した廃液管が接
続されていることを特徴とする現像カップ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10111694A JPH07307275A (ja) | 1994-05-16 | 1994-05-16 | 現像カップ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10111694A JPH07307275A (ja) | 1994-05-16 | 1994-05-16 | 現像カップ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07307275A true JPH07307275A (ja) | 1995-11-21 |
Family
ID=14292110
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10111694A Pending JPH07307275A (ja) | 1994-05-16 | 1994-05-16 | 現像カップ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07307275A (ja) |
-
1994
- 1994-05-16 JP JP10111694A patent/JPH07307275A/ja active Pending
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