JPH07188973A - ホワイトパラジウムの電気めっき浴と方法 - Google Patents
ホワイトパラジウムの電気めっき浴と方法Info
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- JPH07188973A JPH07188973A JP6202908A JP20290894A JPH07188973A JP H07188973 A JPH07188973 A JP H07188973A JP 6202908 A JP6202908 A JP 6202908A JP 20290894 A JP20290894 A JP 20290894A JP H07188973 A JPH07188973 A JP H07188973A
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- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/50—Electroplating: Baths therefor from solutions of platinum group metals
- C25D3/52—Electroplating: Baths therefor from solutions of platinum group metals characterised by the organic bath constituents used
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- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】皮膚に対し悪影響を与える金属光沢剤を用いな
い、光沢に富んだホワイトパラジウムめっき。 【構成】電気めっき浴にスペッシャルクラスのピリジン
関連の窒素化合物と組み合わせた不飽和スルフォン性化
合物を使用して、前記浴を安定させ、広範のめっき厚さ
でホワイトパラジウムめっきを施す方法。
い、光沢に富んだホワイトパラジウムめっき。 【構成】電気めっき浴にスペッシャルクラスのピリジン
関連の窒素化合物と組み合わせた不飽和スルフォン性化
合物を使用して、前記浴を安定させ、広範のめっき厚さ
でホワイトパラジウムめっきを施す方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、種々の表面にホワイ
ト（白）パラジウム金属めっきを施すための金属添加剤
を用いない電気めっき浴に関し、さらに、詳しくは、前
記浴にスペッシャルクラスのピリジン関連の窒素化合物
と組み合わせた不飽和スルフォン性化合物を使用して、
前記浴を安定させると共にコンベンショナルなプロセス
よりも、より広範のめっき厚さでホワイトパラジウムめ
っきが施せることに関するものである。
ト（白）パラジウム金属めっきを施すための金属添加剤
を用いない電気めっき浴に関し、さらに、詳しくは、前
記浴にスペッシャルクラスのピリジン関連の窒素化合物
と組み合わせた不飽和スルフォン性化合物を使用して、
前記浴を安定させると共にコンベンショナルなプロセス
よりも、より広範のめっき厚さでホワイトパラジウムめ
っきが施せることに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】宝飾品や身飾り品などの装飾品に白銀色
やホワイトカラーに輝く表面仕上げを施すには、通常、
銀、ロジウム、パラジウムまたは、それらの合金が使用
されている。しかしながら、これらのめっき表面は、す
べて、それぞれ特有の欠点を有するものであり、例え
ば、銀めっき表面は、黒ずんで変色し、ロジウムめっき
プロセスは、効率が悪く、コストが高く、コンベンショ
ナルなパラジウムめっきは、ロジウムまたは銀のような
光沢のある白色または銀色の外観を呈さない。
やホワイトカラーに輝く表面仕上げを施すには、通常、
銀、ロジウム、パラジウムまたは、それらの合金が使用
されている。しかしながら、これらのめっき表面は、す
べて、それぞれ特有の欠点を有するものであり、例え
ば、銀めっき表面は、黒ずんで変色し、ロジウムめっき
プロセスは、効率が悪く、コストが高く、コンベンショ
ナルなパラジウムめっきは、ロジウムまたは銀のような
光沢のある白色または銀色の外観を呈さない。
【０００３】これらの問題については、パラジウムめっ
きについて、これまで種々の発明がなされ、少量の有機
および／または金属光沢剤をパラジウム浴に使用して、
パラジウム鍍金に所望の色相および光沢を与えるように
した技術が開発されている。しかしながら、このような
浴を使用しても、銀またはロジウムの鏡面の輝きと白さ
に欠けており、さらに、パラジウムめっきの厚さが約１
ミクロンを越えると、光沢さが徐々に失われる欠点が解
決されていない。さらにまた、金属光沢剤（例えば、コ
バルトまたはニッケル）は、皮膚がそれらに触れると、
アレルギー反応を引き起こすおそれがあり、これらの添
加剤の使用は、宝飾品やアクセサリー製品にとってタブ
ーになっている。
きについて、これまで種々の発明がなされ、少量の有機
および／または金属光沢剤をパラジウム浴に使用して、
パラジウム鍍金に所望の色相および光沢を与えるように
した技術が開発されている。しかしながら、このような
浴を使用しても、銀またはロジウムの鏡面の輝きと白さ
に欠けており、さらに、パラジウムめっきの厚さが約１
ミクロンを越えると、光沢さが徐々に失われる欠点が解
決されていない。さらにまた、金属光沢剤（例えば、コ
バルトまたはニッケル）は、皮膚がそれらに触れると、
アレルギー反応を引き起こすおそれがあり、これらの添
加剤の使用は、宝飾品やアクセサリー製品にとってタブ
ーになっている。
【０００４】金属表面におけるパラジウムめっきまたは
パラジウム合金めっきの光輝度を高めるようにした電気
めっき浴に関する従来の技術としては、例えば、米国特
許第４，０９８，６５６号が知られており、この特許に
は、クラスＩおよびクラスII有機ニッケル光沢剤および
４．５〜１２に調節されたｐＨをパラジウムめっき浴に
用いた技術が開示されている。また、米国特許第４，４
０６，７５５号には、光沢のあるパラジウム電気めっき
溶液に関する技術が開示されており、そこでは、有機ポ
リアミンとコンプレックスされたパラジウムを含み、そ
してまた、環式有機イミドと少なくとも一つの窒素が六
員環に組み入れられている複素環式有機化合物を含む水
溶性溶液が用いられている。
パラジウム合金めっきの光輝度を高めるようにした電気
めっき浴に関する従来の技術としては、例えば、米国特
許第４，０９８，６５６号が知られており、この特許に
は、クラスＩおよびクラスII有機ニッケル光沢剤および
４．５〜１２に調節されたｐＨをパラジウムめっき浴に
用いた技術が開示されている。また、米国特許第４，４
０６，７５５号には、光沢のあるパラジウム電気めっき
溶液に関する技術が開示されており、そこでは、有機ポ
リアミンとコンプレックスされたパラジウムを含み、そ
してまた、環式有機イミドと少なくとも一つの窒素が六
員環に組み入れられている複素環式有機化合物を含む水
溶性溶液が用いられている。
【０００５】米国特許第４，４８７，６６５号には、パ
ラジウムの浴可溶ソース、浴可溶アンモニウム導電性
塩、塩化物イオンおよび例えば、２−ホルミルベンゼン
・スルフォン酸塩、ナトリウム塩およびニッケル硫酸塩
のような有機および無機光沢剤を組み合わせて使用する
のが好ましい有機と無機の光沢剤グループから選ばれた
光沢剤を含む組成の電気めっき浴を用いて、薄いホワイ
トパラジウム金属めっきを得る技術が開示されている。
ラジウムの浴可溶ソース、浴可溶アンモニウム導電性
塩、塩化物イオンおよび例えば、２−ホルミルベンゼン
・スルフォン酸塩、ナトリウム塩およびニッケル硫酸塩
のような有機および無機光沢剤を組み合わせて使用する
のが好ましい有機と無機の光沢剤グループから選ばれた
光沢剤を含む組成の電気めっき浴を用いて、薄いホワイ
トパラジウム金属めっきを得る技術が開示されている。
【０００６】
【発明が解決すべき課題】前記したように、ホワイトパ
ラジウム金属めっきを宝飾品やアクセサリーに施す技術
に、コバルトやニッケルのような光沢剤を用いること
は、皮膚に対し悪影響を与える点から、避けなければな
らず、コバルトやニッケルのような金属光沢剤を用いず
に、光沢に富んだホワイトパラジウムめっき技術が要望
されており、これが、この発明の解決課題である。
ラジウム金属めっきを宝飾品やアクセサリーに施す技術
に、コバルトやニッケルのような光沢剤を用いること
は、皮膚に対し悪影響を与える点から、避けなければな
らず、コバルトやニッケルのような金属光沢剤を用いず
に、光沢に富んだホワイトパラジウムめっき技術が要望
されており、これが、この発明の解決課題である。
【０００７】
【課題を解決するための具体的手段】この発明は、めっ
き厚さが約１ミクロン以上、好ましくは、約５ミクロン
までの厚さであって、光沢のある外観のめっき層が得ら
れる安定したパラジウム電気めっき溶液を提供し、これ
によって、前記課題を解決するものである。
き厚さが約１ミクロン以上、好ましくは、約５ミクロン
までの厚さであって、光沢のある外観のめっき層が得ら
れる安定したパラジウム電気めっき溶液を提供し、これ
によって、前記課題を解決するものである。
【０００８】
【発明の概要】この発明によれば、コンベンショナルな
パラジウム電気めっき浴に不飽和のスルフォニック・コ
ンパウンドを使用することによって、満足すべきホワイ
トパラジウム金属ならびにパラジウム金属合金電気めっ
きが得られることが見い出されたものであり、前記不飽
和スルフォニック・コンパウンドは、置換ピリジン、キ
ノリンまたは置換キノリンまたはフェナントロリンまた
は置換フェナントロリンのようなピリジン関連化合物と
組み合わせた一般式Ａ- ＳＯ2-Ｂ（後記する）の組成を
もつものである。広い観点から言えば、複素環式化合物
は、別紙化２に示される化学式で表されるものである。
パラジウム電気めっき浴に不飽和のスルフォニック・コ
ンパウンドを使用することによって、満足すべきホワイ
トパラジウム金属ならびにパラジウム金属合金電気めっ
きが得られることが見い出されたものであり、前記不飽
和スルフォニック・コンパウンドは、置換ピリジン、キ
ノリンまたは置換キノリンまたはフェナントロリンまた
は置換フェナントロリンのようなピリジン関連化合物と
組み合わせた一般式Ａ- ＳＯ2-Ｂ（後記する）の組成を
もつものである。広い観点から言えば、複素環式化合物
は、別紙化２に示される化学式で表されるものである。
【０００９】
【化２】 上記の化学式において；Ｚ1 、Ｚ2 およびＺ3 は、少な
くとも１窒素原子を含む六員芳香族環を完成させるに必
要な原子のグループを表すもので、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、
Ｒ4 およびＲ5 は、水素であるか、または、水酸基；ハ
ロゲン基；ニトロ基；アミノ基；ピリジル基；キノイル
基；およびＣ1 〜Ｃ8 不置換および置換アリル基、アリ
ルオキシ基、アルキル基、アルコキシ基またはアルケニ
ル基からなる基の１つあるいはそれ以上から独立に選択
されるものであり、但し、Ｒは、水素ではなく、前記基
の一つから選ばれたものである。
くとも１窒素原子を含む六員芳香族環を完成させるに必
要な原子のグループを表すもので、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、
Ｒ4 およびＲ5 は、水素であるか、または、水酸基；ハ
ロゲン基；ニトロ基；アミノ基；ピリジル基；キノイル
基；およびＣ1 〜Ｃ8 不置換および置換アリル基、アリ
ルオキシ基、アルキル基、アルコキシ基またはアルケニ
ル基からなる基の１つあるいはそれ以上から独立に選択
されるものであり、但し、Ｒは、水素ではなく、前記基
の一つから選ばれたものである。
【００１０】好ましい例としては、前記化合物の窒素原
子がアルキル化剤または過酸化水素のような酸化剤との
反応で四級化されて、例えば、２- ブロモエタン・スル
フォン酸のアルカリ金属塩、ナトリウム塩；プロパン・
サルトン；ブタン・サルトン；ジメチル硫酸塩；メチル
- p-トルエン・スルフォン酸塩または相当するスルフォ
ベタイン誘導体を作る類似の化合物のようなＮ- 酸化物
を形成する化合物である。
子がアルキル化剤または過酸化水素のような酸化剤との
反応で四級化されて、例えば、２- ブロモエタン・スル
フォン酸のアルカリ金属塩、ナトリウム塩；プロパン・
サルトン；ブタン・サルトン；ジメチル硫酸塩；メチル
- p-トルエン・スルフォン酸塩または相当するスルフォ
ベタイン誘導体を作る類似の化合物のようなＮ- 酸化物
を形成する化合物である。
【００１１】
【発明の詳細な記述】この発明の方法と浴を用いること
によって、例えば、光沢のあるニッケル（ブライトニッ
ケル）、黄銅、銅およびブロンズのような適当な基質を
めっきすることができる。
によって、例えば、光沢のあるニッケル（ブライトニッ
ケル）、黄銅、銅およびブロンズのような適当な基質を
めっきすることができる。
【００１２】電気めっき方式の本発明の電気めっき浴に
パラジウムを添加する。該浴の安定性は、例えば、尿素
またはアミン錯体のような第１パラジウム錯体を使用す
ることにより改善される。適当な例は、塩化物、臭化
物、亜硝酸塩および亜硫酸塩との第１パラジウム・アミ
ン錯体である。パラジウム・ジアミノジナイトライトが
好ましい。前記めっき浴のパラジウム金属コンテント
は、通常、０．１〜５０ｇ／ｌの範囲である。ストライ
クを得るためには、１〜１０ｇ／ｌの濃度が好ましく、
通常のめっきには、３〜１２ｇ／ｌの範囲の濃度、好ま
しくは、約６ｇ／ｌの濃度が好ましい。
パラジウムを添加する。該浴の安定性は、例えば、尿素
またはアミン錯体のような第１パラジウム錯体を使用す
ることにより改善される。適当な例は、塩化物、臭化
物、亜硝酸塩および亜硫酸塩との第１パラジウム・アミ
ン錯体である。パラジウム・ジアミノジナイトライトが
好ましい。前記めっき浴のパラジウム金属コンテント
は、通常、０．１〜５０ｇ／ｌの範囲である。ストライ
クを得るためには、１〜１０ｇ／ｌの濃度が好ましく、
通常のめっきには、３〜１２ｇ／ｌの範囲の濃度、好ま
しくは、約６ｇ／ｌの濃度が好ましい。
【００１３】スルフォニック（スルフォン性）化合物
は、概ね不飽和のもので、その不飽和は、スルフォ基に
対してα- またはβ- ポジションにあるものである。そ
のような化合物は、下記の組成を有する： Ａ- ＳＯ2-Ｂ 上記の組成において、Ａは、置換または置換されていな
いアリル基またはアルキレン基であり、Ｂは、アルカリ
金属、アンモニウムまたはアミンであるＭをもつ -Ｏ
Ｈ、 -ＯＲ、 -ＯＭ、 -ＮＨ2 、 -ＮＨＲ、 -Ｈ、 -Ｒ
であり、Ｒは、炭素原子数が６を越えないアルキル基で
ある。好ましい化合物は、Ａがアリル基で、ＢがＯＨま
たはＯＭのものである。そして、最も好ましい化合物
は、２- フォルミルベンゼン・スルフォン酸（ナトリウ
ム塩）である。
は、概ね不飽和のもので、その不飽和は、スルフォ基に
対してα- またはβ- ポジションにあるものである。そ
のような化合物は、下記の組成を有する： Ａ- ＳＯ2-Ｂ 上記の組成において、Ａは、置換または置換されていな
いアリル基またはアルキレン基であり、Ｂは、アルカリ
金属、アンモニウムまたはアミンであるＭをもつ -Ｏ
Ｈ、 -ＯＲ、 -ＯＭ、 -ＮＨ2 、 -ＮＨＲ、 -Ｈ、 -Ｒ
であり、Ｒは、炭素原子数が６を越えないアルキル基で
ある。好ましい化合物は、Ａがアリル基で、ＢがＯＨま
たはＯＭのものである。そして、最も好ましい化合物
は、２- フォルミルベンゼン・スルフォン酸（ナトリウ
ム塩）である。
【００１４】好ましい窒素化合物は、置換ピリジンおよ
びポリピリジン、キノリン、置換キノリン、フェナント
ロリンおよび置換フェナントロリンおよび四級化され
た、それらの誘導体、特にＣＨ3 またはスルフォプロピ
ル基で四級化された誘導体からなるグループから選ばれ
たものである。特に好ましい化合物は、そのデモンスト
レートされたアクティビティによって、１-(3-スルフォ
プロピル）-2-ビニル- ピリジニウム- ベタインであ
る。他の化合物としては、下記の表１に示すものが含ま
れる：
びポリピリジン、キノリン、置換キノリン、フェナント
ロリンおよび置換フェナントロリンおよび四級化され
た、それらの誘導体、特にＣＨ3 またはスルフォプロピ
ル基で四級化された誘導体からなるグループから選ばれ
たものである。特に好ましい化合物は、そのデモンスト
レートされたアクティビティによって、１-(3-スルフォ
プロピル）-2-ビニル- ピリジニウム- ベタインであ
る。他の化合物としては、下記の表１に示すものが含ま
れる：
【００１５】表 １ 2,2':6'2"-ターピリジン； 2,2'バイキノリン； 4,7-ジメチル-1,10-フェナントロリン； 4-メチル-1,10-フェナントロリン； 4,7-ジハイドロキシ-1,10-フェナントロリン； 5-メチル-1,10-フェナントロリン； 4,7-フェナントロリン； 4,7-ジフェニル-1,10-フェナントロリン； トランス-1-(2-ピリジル）-2-(4-ピリジル）エチレン； トランス-1,2- ビス（4-ピリジル）エチレン；および 2,2'- ジピリジル
【００１６】個々の窒素化合物の濃度は、0.0001〜２５
ｇ／ｌで、好ましい濃度は、１〜２００ｐｐｍ、そし
て、最も好ましい濃度は、２〜１００ｐｐｍであり、例
えば、１ミクロンの薄いめっきには、２〜１０ｐｐｍ、
１ミクロンから６ミクロン、そして更に厚いめっきに
は、約２０〜１００ｐｐｍの濃度である。 スルフォニ
ック化合物は、約０．１〜２０ｇ／ｌ、好ましくは、
０．５〜２ｇ／ｌ、そして、０．５〜１ｇ／ｌの量で、
浴に使用される。
ｇ／ｌで、好ましい濃度は、１〜２００ｐｐｍ、そし
て、最も好ましい濃度は、２〜１００ｐｐｍであり、例
えば、１ミクロンの薄いめっきには、２〜１０ｐｐｍ、
１ミクロンから６ミクロン、そして更に厚いめっきに
は、約２０〜１００ｐｐｍの濃度である。 スルフォニ
ック化合物は、約０．１〜２０ｇ／ｌ、好ましくは、
０．５〜２ｇ／ｌ、そして、０．５〜１ｇ／ｌの量で、
浴に使用される。
【００１７】前記電気めっき溶液のｐＨは、安定性の問
題を回避するために、５〜１２の範囲の値で維持される
必要がある。ｐＨ値が約６〜８の範囲がストライクめっ
きに適しているもので、特に約６．５のｐＨ値が好まし
い。普通の電気めっきには、約６〜１０のｐＨ値が好ま
しく、約７〜８のｐＨ値が最も好ましい。ｐＨ値の調節
は、水酸化アンモニウムまたはフォスフォン酸またはス
ルフォン酸のようなｐＨ値調節に一般に用いられる酸ま
たは塩基の添加で簡単に行えるものである。そして、水
酸化アンモニウムを使用すると、パラジウム・アミン錯
体の安定性を増し、フォスフォン酸またはスルフォン酸
を使用すると、前記溶液の導電性を増し、陰極での水素
発生を抑える。
題を回避するために、５〜１２の範囲の値で維持される
必要がある。ｐＨ値が約６〜８の範囲がストライクめっ
きに適しているもので、特に約６．５のｐＨ値が好まし
い。普通の電気めっきには、約６〜１０のｐＨ値が好ま
しく、約７〜８のｐＨ値が最も好ましい。ｐＨ値の調節
は、水酸化アンモニウムまたはフォスフォン酸またはス
ルフォン酸のようなｐＨ値調節に一般に用いられる酸ま
たは塩基の添加で簡単に行えるものである。そして、水
酸化アンモニウムを使用すると、パラジウム・アミン錯
体の安定性を増し、フォスフォン酸またはスルフォン酸
を使用すると、前記溶液の導電性を増し、陰極での水素
発生を抑える。
【００１８】さらに、陰極における水素形成の問題をな
くすには、導電性塩を添加することが望ましい。パラジ
ウム電気めっき浴には、通常用いられている導電性塩を
使用することができるが、好ましい導電性塩は、硫酸ア
ンモニウムおよび／または燐酸アンモニウム、二塩基性
である。そして、アンモニウムイオンの存在によって、
パラジウム・アミン錯体は、ますます安定し、硫酸塩ま
たは燐酸塩アニオンによって、前記溶液の導電性が高ま
ることになる。好ましい組成物には、４０〜６０ｇ／ｌ
の硫酸アンモニウムと４０〜６０ｇ／ｌの燐酸アンモニ
ウム、二塩基性が含まれる。
くすには、導電性塩を添加することが望ましい。パラジ
ウム電気めっき浴には、通常用いられている導電性塩を
使用することができるが、好ましい導電性塩は、硫酸ア
ンモニウムおよび／または燐酸アンモニウム、二塩基性
である。そして、アンモニウムイオンの存在によって、
パラジウム・アミン錯体は、ますます安定し、硫酸塩ま
たは燐酸塩アニオンによって、前記溶液の導電性が高ま
ることになる。好ましい組成物には、４０〜６０ｇ／ｌ
の硫酸アンモニウムと４０〜６０ｇ／ｌの燐酸アンモニ
ウム、二塩基性が含まれる。
【００１９】本発明の電気めっき浴に金属光沢剤、合金
エレメンツおよびキレート化エレメンツを添加してもよ
い。適当な金属光沢剤としては、カドミウム、銅、ヒ
素、亜鉛、ニッケル、コバルトなどであって、ニッケル
とコバルトは、ある種のタイプの製品に向く。適当なキ
レート化剤またはシーケスタ化剤には、ＥＤＴＡ，ＮＴ
Ａのようなカルボキシル酸キレート化剤およびクエン酸
塩、グルコン酸塩およびフォスフォニック・キレート化
剤が含まれる。キレート化剤の好ましい添加量は、クエ
ン酸塩アンモニウム、二塩基性で、約１０〜３０ｇ／ｌ
の量である。
エレメンツおよびキレート化エレメンツを添加してもよ
い。適当な金属光沢剤としては、カドミウム、銅、ヒ
素、亜鉛、ニッケル、コバルトなどであって、ニッケル
とコバルトは、ある種のタイプの製品に向く。適当なキ
レート化剤またはシーケスタ化剤には、ＥＤＴＡ，ＮＴ
Ａのようなカルボキシル酸キレート化剤およびクエン酸
塩、グルコン酸塩およびフォスフォニック・キレート化
剤が含まれる。キレート化剤の好ましい添加量は、クエ
ン酸塩アンモニウム、二塩基性で、約１０〜３０ｇ／ｌ
の量である。
【００２０】パラジウムめっき浴の温度は、室温から約
７１°Ｃの間に保たれるべきものである。溶液からアン
モニウムを放散させないためには、３８〜５４°Ｃの温
度範囲が好ましい。電流密度は、ＡＳＦ０．１〜５０ア
ンペア／平方フィート（ＡＳＦ）の範囲が適当である。
ラック使用のめっきにおいては、電流密度は、５〜３０
ＡＳＦであり、約１０ＡＳＦが好ましい。バレルめっき
に好ましい電流密度範囲は、２〜７ＡＳＦである。
７１°Ｃの間に保たれるべきものである。溶液からアン
モニウムを放散させないためには、３８〜５４°Ｃの温
度範囲が好ましい。電流密度は、ＡＳＦ０．１〜５０ア
ンペア／平方フィート（ＡＳＦ）の範囲が適当である。
ラック使用のめっきにおいては、電流密度は、５〜３０
ＡＳＦであり、約１０ＡＳＦが好ましい。バレルめっき
に好ましい電流密度範囲は、２〜７ＡＳＦである。
【００２１】生成されためっき皮膜は、ストレスが低い
ものであるが、スルファミン酸、その塩または誘導体な
どの通常用いられるストレス低下剤をオプショナル的に
使用することもできる。この場合、濃度は、１００ｇ／
ｌまでのものが適当で、好ましくは、２５〜７５ｇ／ｌ
の濃度である。
ものであるが、スルファミン酸、その塩または誘導体な
どの通常用いられるストレス低下剤をオプショナル的に
使用することもできる。この場合、濃度は、１００ｇ／
ｌまでのものが適当で、好ましくは、２５〜７５ｇ／ｌ
の濃度である。
【００２２】
【実施例】以下に本発明の実施例を記載する。
【００２３】 実施例 Ｉ 下記の溶液が準備された： 成分 量 ｇ／ｌ 硫酸アンモニウム ５０ 燐酸アンモニウム、二塩基性 ５０ クエン散アンモニウム １０ パラジウム・ジアミノ二硝酸塩 ６＊ Ｏ- フォルミル・ベンゼン・スルフォン酸， ナトリウム塩 １ ｐＨ ７〜７．５ ＊パラジウム金属として
【００２４】前記表Ｉの組成物を上記した溶液に添加し
た。添加の量は、２〜１０ｐｐｍであり、研磨した真鍮
黄銅のテストパネルに電流密度２０ＡＳＦで、２分間に
わたり、温度５０°Ｃ（１２２°Ｆ）でめっきした。パ
ラジウムのめっき皮膜が得られ、これは、鏡面光沢で、
かすんだところが全くなく、ミラークラック（鏡きず）
がないものであった。
た。添加の量は、２〜１０ｐｐｍであり、研磨した真鍮
黄銅のテストパネルに電流密度２０ＡＳＦで、２分間に
わたり、温度５０°Ｃ（１２２°Ｆ）でめっきした。パ
ラジウムのめっき皮膜が得られ、これは、鏡面光沢で、
かすんだところが全くなく、ミラークラック（鏡きず）
がないものであった。
【００２５】実施例 II 実施例Ｉの処理が繰り返されたが、これには、光沢剤と
して1-(3-スルフォフ゜ロヒ゜ル)-2-ヒ゛ニル-ヒ゜リシ゛ニウム・ヘ゛タイン(SVP) が
２〜１０ｐｐｍの量で添加された。すぐれためっき結果
が得られた。
して1-(3-スルフォフ゜ロヒ゜ル)-2-ヒ゛ニル-ヒ゜リシ゛ニウム・ヘ゛タイン(SVP) が
２〜１０ｐｐｍの量で添加された。すぐれためっき結果
が得られた。
【００２６】比較実施例 実施例Ｉが光沢剤添加として下記の組成物を用いて繰り
返された： （ａ）1-(3- スルフォプロピル）ピリジウム・ベタイン （ｂ）1-(2- ヒドロキシ-3- スルフォプロピル）- ピリ
ジウム・ベタイン （ｃ）バソフェナントロリン，スルフォン化，ナトリウ
ム塩 この結果、めっき皮膜は、かすんだ状態であった。
返された： （ａ）1-(3- スルフォプロピル）ピリジウム・ベタイン （ｂ）1-(2- ヒドロキシ-3- スルフォプロピル）- ピリ
ジウム・ベタイン （ｃ）バソフェナントロリン，スルフォン化，ナトリウ
ム塩 この結果、めっき皮膜は、かすんだ状態であった。
【００２７】バソフェナントロリン，スルフォン化，ナ
トリウム塩に対する、スルフォン化（表Ｉ−4, 7- ジフ
ェニル-1, 10- フェナントロリン）がない同じ化合物と
の間のめっき効果の差に関しては、スルフォン化が該化
合物内において、電子を更に引き抜く（エレクトロン・
ウイズドロウイング）ことになり、その結果、アクティ
ビティが低下するもとの考えられる。窒素のような他の
電子引抜きグループも同様な挙動にでるものと思われ
る。
トリウム塩に対する、スルフォン化（表Ｉ−4, 7- ジフ
ェニル-1, 10- フェナントロリン）がない同じ化合物と
の間のめっき効果の差に関しては、スルフォン化が該化
合物内において、電子を更に引き抜く（エレクトロン・
ウイズドロウイング）ことになり、その結果、アクティ
ビティが低下するもとの考えられる。窒素のような他の
電子引抜きグループも同様な挙動にでるものと思われ
る。
【００２８】実施例 III 実施例IIが以下に述べる条件で繰り返された。 表 ２ 試料 Ｎｏ． ＳＶＰ（ppm) アンペア 厚さ ＡＳＦ （ミクロン） １ ３０〜４０ ２０ ３．４ ２ ５０〜６０ ２０ ５．０ ３ ５０〜６０ ３０ ５．５ ４ ６０〜７０ ２０ ６．５ ５ ６０〜７０ ３０ ５．５ ６ ６０〜７０ ５ ５．３
【００２９】ＳＰＶ濃度が増えることによって、５ミク
ロンまでと５ミクロンを越えても鏡面光沢が得られたも
のであることが、上記の結果から判明する。曲げテスト
によっても、これらのヘビーデューティのめっき皮膜
は、コンベンショナルなパラジウム・ニッケルめっきに
較べて、ストレスがないものであった。
ロンまでと５ミクロンを越えても鏡面光沢が得られたも
のであることが、上記の結果から判明する。曲げテスト
によっても、これらのヘビーデューティのめっき皮膜
は、コンベンショナルなパラジウム・ニッケルめっきに
較べて、ストレスがないものであった。
【００３０】
【発明の効果】以上述べたように、この発明によれば、
光沢に優れ、めっき皮膜の厚いパラジムめっき処理が行
えるものである。
光沢に優れ、めっき皮膜の厚いパラジムめっき処理が行
えるものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 エレナ トゥー アメリカ合衆国 06405 コネチカット州 ブランフォード タールベイ ドライブ 125
Claims (10)
- 【請求項１】 以下の工程からなるホワイトパジウム
金属めっき皮膜を基質に施す方法； （ａ）光沢剤添加剤として以下の化合物が含まれている
パラジウム電気めっき浴に基質を浸漬する工程： （１）下記の組成のスルフォニック・コンパウンド Ａ- ＳＯ2-Ｂ 上記の組成において、Ａは、置換または置換されていな
いアリル基またはアルキレン基であり、Ｂは、アルカリ
金属、アンモニウムまたはアミンであるＭをもつ -Ｏ
Ｈ、 -ＯＲ、 -ＯＭ、 -ＮＨ2 、 -ＮＨＲ、 -Ｈ、 -Ｒ
であり、Ｒは、炭素原子数が６を越えないアルキル基で
ある；および （２）下記の組成のコンパウンド 【化１】 上記の化学式において、Ｚ1 、Ｚ2 およびＺ3 は、少な
くとも１窒素原子を含む六員芳香族環を完成させるに必
要な原子のグループを表すもので、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、
Ｒ4 およびＲ5 は、水素であるか、または、水酸基；ハ
ロゲン基；ニトロ基；アミノ基；ピリジル基；キノイル
基；およびＣ1 〜Ｃ8 不置換および置換アリル基、アリ
ルオキシ基、アルキル基、アルコキシ基またはアルケニ
ル基からなる基の１つあるいはそれ以上から独立に選択
されるものであり、但し、Ｒは、水素ではなく、前記基
の一つから選ばれたものである。 （ｂ）電流を用いて前記基質を電気めっきする工程。 - 【請求項２】 スルフォニック・コンパウンドは、Ａ
がアリル基で、ＢがＯＨまたはＯＭであるコンパウンド
である請求項１の方法。 - 【請求項３】 Ｒが2-ビニル基で、窒素原子がプロパ
ン・サルトンで四級化されている請求項２の方法。 - 【請求項４】 Ｚが炭素原子で、Ｒ1 とＲ2 とがアリ
ル基である請求項１の方法。 - 【請求項５】 窒素コンパウンドがターピリジンであ
る請求項１の方法。 - 【請求項６】 Ｚ2 とＺ3 とが炭素原子で、Ｒ3 とＲ
4 とが両者ともにＯＨである請求項１の方法。 - 【請求項７】 Ｚ2 とＺ3 とが炭素原子で、Ｒ4 がＣ
Ｈ3 である請求項１の方法。 - 【請求項８】 窒素コンパウンドがトランス-1-(2-ピ
リジル)-2-(4- ピリジル）エチレンである請求項１の方
法。 - 【請求項９】 窒素コンパウンドが4,7-フェナントロ
リンである請求項１の方法。 - 【請求項１０】 窒素コンパウンドが2,2'- ジピリジル
である請求項１の方法。
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| US08/106,672 | 1993-08-16 |
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- 1993-08-16 US US08/106,672 patent/US5415685A/en not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-08-04 GB GB9415764A patent/GB2283498B/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-08-05 JP JP6202908A patent/JP2722328B2/ja not_active Expired - Fee Related
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- 1994-08-12 FR FR9409985A patent/FR2709312B1/fr not_active Expired - Fee Related
- 1994-08-12 ES ES09401818A patent/ES2100808B1/es not_active Expired - Fee Related
- 1994-08-16 DE DE4428966A patent/DE4428966C2/de not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|
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