JPS61204391A - 金めつき浴 - Google Patents

金めつき浴

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JPS61204391A
JPS61204391A JP659686A JP659686A JPS61204391A JP S61204391 A JPS61204391 A JP S61204391A JP 659686 A JP659686 A JP 659686A JP 659686 A JP659686 A JP 659686A JP S61204391 A JPS61204391 A JP S61204391A
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plating bath
gold
gold plating
acidic
bath according
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JP659686A
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ピーター・ウイルキンソン
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BASF Catalysts LLC
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Engelhard Corp
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    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/48Electroplating: Baths therefor from solutions of gold
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
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    • C25D3/62Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of gold

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  • Materials Engineering (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、金めつき浴に関し、とくに有機添加剤を含有
する金めつき浴に関する0本発明は、また、この浴を使
用して金を電着する方法に関する。
金は電子工業において、最も通常電気めっき法により得
られる薄い被膜の形態で、接触材料として広く使用され
ている。このような被膜に要求されるいっそう重要な性
質は、低い接触抵抗、高い腐食抵抗および優れた耐摩耗
性である。
純粋な金めつき浴は、電子工業における接触用途に不適
切である被膜を与えることがわかった。
その主な理由は、このような被膜が不十分な耐摩耗性を
示すことにある。しかしながら、電気めっきされた金被
膜の品質は他の物質を金めつき浴に添加することにより
改良することができる。このような添加剤は、所定の電
流密度において得られる金析出物の光沢を増加するので
、しばしば「光沢剤」と呼ばれる。もちろん、金析出物
の光沢は、はとんどの工業的用途においてそれ自体重要
ではない、しかしながら、金被膜の光沢は被膜の品質の
1または2以上の面、例えば、耐摩耗性および析出物の
構造に対する優れた指針であることがわかった。
遷移金属塩、例えば、コバルト塩、ニッケル塩および鉄
塩は酸性金めっき浴のための広く使用される添加剤の1
つの群を形成する。これらの化合物を包含する金めつき
浴は、大きく改良された耐摩耗性をもつ金被膜を与える
ことがわかった。この理由で、コバルトおよびニッケル
含有酸性金一つき浴は、広く電子工業において使用され
ている。しかしながら、印刷回路板およびコネクターの
高速の選択的めっきのための機械を導入すると、コバル
トおよびニッケルの光沢されためっき浴でさえ欠陥があ
ることがわかった。なぜなら、固い析出物を得ることが
できる最大の電流密度は比較的低いからである。より高
い濃度(典型的には8g/lの代わりに15g/l)の
金を使用することにより、この欠点を克服することが試
みられたが、これはこの方法のコストを実質的に増加し
、そして得られる改良はほんのわずかである。
ある種の有機化合物が、また、金めつき浴中に添加剤と
して使用されたきた。1つのこのような化合物は、英国
特許明細書第1453212号に記載されている、ポリ
エチレンイミンである。この化合物を使用する効果は使
用可能な最大電流密度を増加することであるが、得られ
る被膜は一般に劣った耐摩耗性を与えることがわかった
不都合なことには、遷移金属添加剤の硬膜効果と有機添
加剤の利益とを組み合わせる試みは、一般に、はとんど
成功しなかった。しかしながら、英国特許明細書第14
26849号は、金属添加剤ならびに有機添加剤を含有
する電気めっき浴を開示している。使用される有機添加
剤は、複素環式窒素含有炭化水素を有するスルホン酸ま
たはスルホン酸塩の化合物、例えば、ピリジンスルホン
酸、キノリンスルホン酸およびピコリンスルホン酸であ
る。
われわれは、今回、酸性金浴に殊に有効な添加剤である
有機化合物の他の群を同定した。これらの化合物は実質
的に増大した電流密度において輝いた被膜を与えること
がわかった。最大電流密度の2倍の増加は、典型的には
1本発明の電気めっき浴を使用して達成される。このよ
うな増大した電流密度を使用して、金の析出速度を増加
すること、あるいは浴中の全濃度の減少すること、ある
いは両者を達成することが、好ましい実施しに従い、可
能である。
本発明のめっき浴を高速リール対リールめっき装置にお
いて使用するとき、4倍までの速度の増加、例えば、2
m/分〜8m/分を達成できる。
本発明によれば、電気めっき可能な形態の金と、一般式
: 又は−N=または−CR3=であり、そしてR1、R2
およびR3の各々は、水素、またはアミノ基、アミド基
、チオアミド基またはシアノ基であり、ただしR1、)
12および存在する場合R3の1つ(かつ1より多くな
い)は水素ではない、 の有機添加剤とからなることを特徴とする酸性金めっき
浴が提供される。
本発明の浴は、非常に光沢のある金析出物、例えば、宝
石工業において要求されるものを得るために使用するこ
とができる。とくに固い光沢のある析出物を、例えば、
電子工業において必要とするとき、金属光沢剤がまた浴
中に含められるであろう。
とくに効果的な有機添加剤は、1lilがアミノ基また
はチオアミド基である上の式のものである。
本発明により有機添加剤の例は、次の通りである:3−
アミノピリジン、4−アミノピリジン、2−アミノピリ
ジン、3−シアノピリジン、4−シアノピリジン、2−
シアノピリジン、3−アミドピリジンにニコチンアミド
)、4−アミドピリジン、2−アミドピリジン、3−チ
オアミドピリジン(チオニコチンアミド)、4−チオア
ミドピリジン、2−チオアミドピリジン、アミノピラジ
ン、シアノピラジン、アミドピラジンおよびチオアミド
ピラジン、3−アミノピリジン、チオニコチンアミド、
アミノピラジンおよびチオアミドピラジンはことに好ま
しい。
使用する有機添加剤の濃度は、考慮する特定の条件に依
存するであろう、有機添加剤の濃度が低過ぎると、無視
しうる光沢化効果を得ることができる。他方において、
添加剤の濃度が高過ぎると、除権効率が許容されえない
ほどに低下するようになることがある。所定の電気めっ
き条件の組について適当な濃度の特定の範囲は、当業者
により容易に決定されるであろう、一般に、0.01g
/l〜5g/lの範囲の有機添加剤の濃度は適当である
ことが発見されるであろう、0.05g/l〜1.0g
/lの濃度は好ましく、そして0.2g/l−0,75
g/lの濃度はとくに好ましい。
金属光沢剤は、酸性金めっき浴に適当であることが知ら
れている、卑金属または卑金属の混合物であることがで
きる。このような金属には、コバルト、ニッケル、鉄、
クロム、カドミウム、銅。
亜鉛、錫、インジウム、マンガンおよびアンチモンが包
含される。コバルト、ニッケルおよび鉄はとくに好まし
い。
金属光沢剤は、一般に、水溶性塩、例えば、硫酸塩また
はクエン酸塩または酢酸塩などの形態で使用され、そし
て10mg/l−10g/lの濃度で使用することがで
きる。あるいは、キレート化剤、例えば、エチレンジア
ミン四酢酸との金属錯塩を使用することができるであろ
う、より好ましくは、金属光沢剤の濃度はloomg/
l〜5g/l、例えば、250mg/l〜2g/l で
ある。
本発明の電気めっき浴の金は、水溶性錯塩の形態であり
、このような錯塩はこの分野においてよく知られている
。このような錯塩の例は、シアン化アンモニウム金およ
びシアン化アルカリ土属金を包含する。シアン化カリウ
ム金はことに好まし1、X。
全錯塩は、一般に、電気めっき浴中に1〜100g/l
の濃度で、より好ましくは2〜20g/l1例えば、4
または8g/lの濃度で存在するであろう。
通常の酸性緩衝系を本発明の電気めっき浴において使用
して、好ましくは3.0〜5.5の範囲のPHを得るこ
とができる0例えば、クエン酸塩シュウ酸塩の緩衝液を
使用して4〜5の範囲のpH1例えば、pH4,5を得
ることができる。
さらに、他の慣用のめっき浴の添加剤、例えば、湿潤剤
を使用することができる。
本発明の電気めっき浴およびその使用法を、次の実施例
により説明する。
実施例1 次の組成を有する水性全電気めっき浴を調製した。(こ
の実施例および引続〈実施例において。
すべての成分はクエン酸三カリウム/クエン酸緩衝液を
使用してpH4,5に緩衝化した。)BC 金(シアン化カリウム の錯塩として、g/ l)          17  10  18硫酸コ
バルト、g/ l          0.9 0.8 0.63−ア
ミノピリジン。
g/l          −0,40,43種類の組
成物を順番にを高速リール対リールめっき装置で30℃
において試験して、最大の使用可能な電流密度を決定し
た。この実施例および引続〈実施例において1表現「最
大電流密度」は、使用することができると同時に、なお
光沢被膜が得られるであろう最高の直流電流を示すため
に使用する。最大の直線速度および最大析出速度を、ま
た、同一基準で決定し、ならびに効率(すなわち、金を
析出する加えた電流の比率)を決定した。結果は次の通
りであった: A     B     C 最大電流密度 2153 3498 3498[A/m
’  (A  (20(32(32/ft2)]   
0)    5)    5)最大直線速度 1.22
 1.98 3.05[m 7分(ft  (4)  
  (6、(10)7分)]          5) 最大析出速度 (ミクロン/  3.5  4.2  11.0分) 効率(%)      31   27   4にれら
の結果から明らかなように、本発明による浴(Bおよび
C)は、減少した全濃度(浴B)においてさえ、直線速
度および析出速度を実質的に改良した。その上、引続く
試験において、試験片および電解液に流れの間の改良さ
れた同期化は浴Cについて22.5ミクロン/分までの
析出速度を与え、これは従来の浴Aについての速度のほ
ぼ7倍である。
丈施輿又 印刷回路板において使用するラミネートを、35℃にお
いてケンタラキー・タブ・プレイター(Kentuck
y  Tab  Flater)により次の組成の浴を
使用してめっきし、そして次の結果を得た: A     B 金(シアン化カリウムの錯 塩として、g/l)      16    16硫酸
コバルト、g/I    O,8o、a3−アミノピリ
ジン、g/ l               −0,5最大重流密
度[A/m2538 1076(A/ft2)]   
     (50)   (10最大析出速度(ミクロ
ン/ 分>             1.0  1.6衷施
豊1 印刷回路板を、ロビンスークレイグ(Robins−C
raig)実験室用めっき装置において、まず35℃で
1次いで60℃で、次の電解液組成物を使用してめっき
した: A     B 金(シアン化カリウムの錯 塩として、g/l)      8     8硫酸コ
バルト、g/I    O,80,83−アミノピリジ
ン、g/ l              −0,5次の結果が得
られた: A(35B(35 ’O)    ”O) 最大電流密度[A/m’  11g4 2153(A/
ft2)]        (11(20最大析出速度
(ミクロン/ 分)             1    2.5A(
60B(60 ”0)    ”C) 最大電流密度[A/m’   −3229(A/ft2
)]       (艶消し (30の析出物 O) が得られ た) 最大析出速度(ミクロン/ 分)              −6,0これらの結
果から明らかなように、3−アミノピリジンの使用は大
きい成功をもってより高い温度の使用を可能とする。
東旌カA 印刷回路板を1次のようにして、陰極棒の攪拌を用いて
35℃においてパフ) (vat)めっきした: A      B 金(シアン化カリウムの錯 塩として、g/l)      4    4硫酸ニツ
ケル、g/l    1.25 1.253−アミノピ
リジン、g/ l              −0,25最大電流密
度[A/m2108 431(A/ft2)]    
  (10)  (40)最大析出速度(ミクロン/ 分)            (1290,5ニツケル
の代わりにコバルトまたは鉄を使用して匹敵する結果が
得られた。
丈惠賀1 銅板を40℃において回転する陰極に取り付けてめっき
して1次のように高速条件をシミュレーションした: A       B 金(シアン化カリウムの錯 塩として、g/l)      4     4硫酸ニ
ツケル、g/l    1.25 1.253−アミン
ピリジン、g/ l              −0,25最大電流密
度[A/m2215 485(A/ft2)]    
  (20)   (45)最大析出速度(ミクロン/ 分)             0.4  0.にの実
施例において、析出速度の50%の3−アミノピリジン
の使用により得られ、そして最大電流密度はかなり増加
する。これは比較的低い全濃度で起こり、ここで効率は
電流密度が増加するにつれて急速に低下することが知ら
れている。
X施カ! 平らにみがいた黄銅のブラックを、次の組成を有する電
解液浴中で40℃および108A/m2(10A/f 
t2 )において2.5±0.5終の厚さにめっきした
(すべてpH4,7において): BC クエン酸、g/l    100 100 100シュ
ウ酸、g/I     −−10 金(シアン化カリウム の錯塩として、g/ l)           10  10  103−
アミンピリジン、  0.5 0.5 0.5g/l 硫酸ニッケル、g/   −0,2− ■ 硫酸コバルト、g/ l           −−0,5 被覆したブラックを、同様にめっきした末端が半球形の
プローブ(直径5mm)を使用して、耐摩耗性について
試験した。プローブを150gfに装填し、そして7〜
10mmの通路長さにわたって2.5cm/秒を越えな
い直線速度でプラッり表面を横切って往復運動の方法で
動かした。
浴Aを使用した被覆したブラックおよびプローブを顕微
鏡検査すると、プローブのわずかに20回の往復運動後
に、被膜の破壊が明らかにされた。電気めっき浴に0.
2g/Iの硫酸ニッケル(浴B)を添加すると、破壊点
が200回の往復運動に増加し、これに対して0.5g
/lの硫酸コバルト(浴C)を添加すると、500回の
往復運動後にさえ被膜は破壊しなかった。
この実施例が示すように、遷移金属の硬膜効果は本発明
の浴において保持される。
実施例7 この実施例において、ある数の異る有機添加剤の光沢化
能力を試験した。平らにみがいた黄銅のブラックを35
℃および100IA/m’  (93A/ft2)にお
いて次の組成を有する浴を使用しためっきした: シュウ酸カリウム 25 g/ 1 クエン酸 100g/l 有機添加剤 0.5g/l 硫酸コバルト 0.5g/l 金カリウムシアン刃物 8g/1 pH4+ 5 得られる析出物の光沢を、0−10の任意の目盛でかつ
また次の手順により視的に評価したニア60nmで作動
するPYE  1:カム(Unicam)SF3−10
0ツイン・ビーム(twin−beam)分光光度計を
調節して、試料セルが空のときゼロの読みを与えるよう
にした。試料のビームの通路からのアルミニウムの鏡の
代わりに、実験的にめっきしたブラックを使用した。
こうして、得られる「光学濃度」の読みは、ブラックが
吸収または散乱した光の量の測度であった。
得られた結果を表1に記載する(実施例1において言及
する「光沢」被膜は、0〜0.25の「光学濃度」の読
み、または任意の視的目盛の8〜lOに相当する)。
光沢化能力 添加剤         (視的)  光学濃度3−ア
ミノピリジン     9  0.12−アミノピリジ
ン     7  0.34−アミノピリジン    
 7  0.3アミノピラジン      10   
0.033−シアノピリジン     5  0.94
−シアノピリジン     5  0.9チオニコチン
アミド    10   0.022.3−ジアミノピ
リジ ン(比較)          3   1.63.4
−ジアミノピリジ ン(比較)0〉2 3−アミノキノリン(比 較)2〉2 4.5−ジアミノピリジ ジン(比較)1〉2 3−7ミノビリラジン ー2−カルボン酸(比 較)1〉2 ピリジン−3−スルホン 酸(比較)l〉2

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、電気めっき可能な形態の金と、一般式:▲数式、化
    学式、表等があります▼ Xは−N=または−CR^3=であり、そしてR^1、
    R^2およびR^3の各々は、水素、またはアミノ基、
    アミド基、チオアミド基またはシアノ基であり、ただし
    R^1、R^2および存在する場合R^3の1つ(かつ
    1より多くない)は水素ではない、 の有機添加剤を含んでなることを特徴とする酸性金めっ
    き浴。 2、金属添加剤をさらに含有する特許請求の範囲第1項
    記載の酸性金めっき浴。 3、R^1はアミノ基である特許請求の範囲第1または
    2項記載の酸性金めっき浴。 4、有機添加剤は3−アミノピリジン、チオニコチンア
    ミド、アミノピラジンまたはチオアミドピラジンである
    特許請求の範囲第1項記載の酸性金めっき浴。 5、有機添加剤は0.1〜1.0g/lの濃度で存在す
    る特許請求の範囲第1〜4項のいずれかに記載の酸性金
    めっき浴。 6、金属添加剤はコバルト塩、ニッケル塩または鉄塩で
    ある特許請求の範囲第1〜5項のいずれかに記載の酸性
    金めっき浴。 7、前記金は1〜20g/lの濃度で水溶性錯塩として
    存在する特許請求の範囲第1〜6項のいずれかに記載の
    酸性金めっき浴。 8、特許請求の範囲第1〜7項のいずれかに記載の浴中
    で金属物品を電気めっきすることを特徴とする金属物品
    上に金析出物を形成する方法。 9、実施例を参照して実質的に後述する酸性金めっき浴
    。 10、実施例を参照して実質的に後述する金属物品上に
    金析出物を形成する方法。
JP659686A 1985-01-18 1986-01-17 金めつき浴 Pending JPS61204391A (ja)

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JP (1) JPS61204391A (ja)
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