JP2008261045A - パラジウム含有メッキ液およびその使用 - Google Patents
パラジウム含有メッキ液およびその使用 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008261045A JP2008261045A JP2008003930A JP2008003930A JP2008261045A JP 2008261045 A JP2008261045 A JP 2008261045A JP 2008003930 A JP2008003930 A JP 2008003930A JP 2008003930 A JP2008003930 A JP 2008003930A JP 2008261045 A JP2008261045 A JP 2008261045A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- palladium
- electroplating
- salt
- electroplating solution
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/01—Layered products comprising a layer of metal all layers being exclusively metallic
- B32B15/013—Layered products comprising a layer of metal all layers being exclusively metallic one layer being formed of an iron alloy or steel, another layer being formed of a metal other than iron or aluminium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/50—Electroplating: Baths therefor from solutions of platinum group metals
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/01—Layered products comprising a layer of metal all layers being exclusively metallic
- B32B15/013—Layered products comprising a layer of metal all layers being exclusively metallic one layer being formed of an iron alloy or steel, another layer being formed of a metal other than iron or aluminium
- B32B15/015—Layered products comprising a layer of metal all layers being exclusively metallic one layer being formed of an iron alloy or steel, another layer being formed of a metal other than iron or aluminium the said other metal being copper or nickel or an alloy thereof
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/01—Layered products comprising a layer of metal all layers being exclusively metallic
- B32B15/018—Layered products comprising a layer of metal all layers being exclusively metallic one layer being formed of a noble metal or a noble metal alloy
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/10—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/10—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
- C25D5/12—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals at least one layer being of nickel or chromium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/60—Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
- C25D5/605—Surface topography of the layers, e.g. rough, dendritic or nodular layers
- C25D5/611—Smooth layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/60—Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
- C25D5/615—Microstructure of the layers, e.g. mixed structure
- C25D5/617—Crystalline layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/567—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of platinum group metals
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12479—Porous [e.g., foamed, spongy, cracked, etc.]
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
【解決手段】パラジウム含有電気メッキ液が、約2g/Lないし約200g/Lの硫酸パラジウム中のパラジウム、約10g/Lないし約200g/Lの反応性導電性塩、約10g/Lないし約150g/Lの錯化剤、および、電気メッキ液に約9ないし約12のpHをもたらすのに十分な緩衝剤、を含むことを特徴とする。
【選択図】図1
Description
多孔性支持体を準備する工程、および
パラジウム含有電気メッキ液を用いてパラジウムもしくはパラジウム合金皮膜を多孔性金属支持体上に電気メッキする工程、
を含み、該パラジウム含有電気メッキ液が、
2g/Lないし200g/Lのパラジウム塩中のパラジウム、
10g/Lないし200g/Lの反応性導電性塩、
10g/Lないし150g/Lの錯化剤、および、
電気メッキ液に約9ないし12のpHをもたらすのに十分な緩衝剤
を含む方法を提供する。
多孔性金属基体、
基体の表面上にコートされた中間層、および
中間層上にコートされたパラジウムもしくはパラジウム合金皮膜、
を含み、パラジウムもしくはパラジウム合金皮膜は複合体の基体側での圧力がそのパラジウムもしくはパラジウム合金皮膜側での圧力より約3絶対気圧、好ましくは約5絶対気圧、より好ましくは約10絶対気圧まで高い条件下で実質的に剥離がない複合体をさらに提供する。
(硫酸パラジウム電気メッキ液系)
A.多孔性ステンレス鋼支持体の処理
多孔性ステンレス鋼管をすすいでトルエンおよびアセトンで脱脂した後、それらから15cm長の区画を切断し、自動回転溶接機に通常の金属管と一直線にして入れた。アルゴンガスを8ml/分の速度で管に注入してそれらをアルゴンアーク溶接法によって溶接し、パラジウム皮膜を電気メッキするための支持体を得た。この溶接プロセスの後、多孔性ステンレス鋼支持体および通常の管とのその溶接接合部を平滑化のため600番の紙やすりを用いて機械的に研磨し、次いで超音波水すすぎ、続いてオーブン内、150℃の温度での乾燥プロセスを行った。次に、1絶対気圧のHe流を支持体内に注入し、支持体からの気体透過速度を試験した。得られた気体透過速度は20L/分であった。
支持体の予備メッキ部分は50cm2の露出面積を有していた。予備処理された支持体を、2リットルの電気メッキ液を収容する(120cmの半径および200cmの高さを有する)ニッケル予備メッキ容器に入れた。その電気メッキ浴の組成および電気メッキパラメータを表1に示した。支持体を予備メッキしてニッケルコーティングを形成した後、超音波水すすぎプロセスによって洗浄した。その後、予備メッキした支持体を2リットルの電気メッキ液を収容する(120cmの半径および200cmの高さを有する)ニッケルメッキ容器に再度入れた。その電気メッキ浴および電気メッキパラメータを表2に示した。複数回の水すすぎの後、支持体を乾燥のため150℃の温度でオーブンに入れ、次いで1絶対気圧のHe流を支持体内に注入して支持体からの気体透過速度を試験した。得られた気体透過速度は4L/分であった。
得られたニッケル中間層を有する支持体を、2リットルの電気メッキ浴を収容する(120cmの半径および200cmの高さを有する)パラジウム電気メッキ容器に入れた。電気メッキ浴の組成および電気メッキパラメータを表3に示した。電気メッキプロセスの後、支持体を水で多数回洗浄し、次いでオーブン内、150℃の温度で乾燥させて最終的に緻密な格子構造を有するパラジウム皮膜を多孔性ステンレス鋼支持体上に形成した。
(支持体の回転速度の試験)
実施例1の工程AないしCを、同じ条件下ではあるが1A/dm2の電流密度並びに10rpm、50rpm、100rpm、200rpmおよび500rpmの回転速度で反復した。パラジウム皮膜の形成後直ちに、走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて得られたパラジウム皮膜の構造を観察した。図2は、それぞれ、10rpm(A)、50rpm(B)、100rpm(C)、200rpm(D)および500rpm(E)の回転速度で得られたパラジウム皮膜のSEM写真を示す。同じ電流密度の下で、より高速の回転速度がより緻密なパラジウム皮膜を生じることを見てとることができる。
(塩化パラジウム電気メッキ液系)
実施例1の工程AないしCと同じであるが、表4に列挙される電気メッキ浴の組成および電気メッキパラメータを用いてパラジウム皮膜を電気メッキした。
(パラジウム−銅合金皮膜の調製)
同様に実施例1のAないしCによってではあるが、表5に示す電気メッキ浴の組成および電気メッキパラメータを用いてパラジウム合金皮膜を電気メッキした。パラジウム合金皮膜の形成後直ちに、走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて、図3Aに示すように、得られたパラジウム合金皮膜の構造を観察した。加えて、パラジウム合金皮膜の組成を、図3Bに示すように、エネルギー分散型X線(EDX)分析装置で解析した。
(異なる電気メッキ浴を連続で用いる電気メッキ)
表3に示す電気メッキ浴の組成および条件を用いて実施例1の工程AないしCを反復し、パラジウム皮膜を多孔性金属支持体上に電気メッキした。唯一の相異は、ここでは電気メッキを30分間継続したことである。次に、支持体を取り出して脱イオン水で数回すすいだ後、表4に示す電気メッキ浴の組成および電気メッキ条件で電気メッキした。パラジウム皮膜の形成後直ちに、走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて、図4に示すように、得られたパラジウム皮膜の構造を観察した。
(He透過性に関する試験)
室温で、実施例1から得られたパラジウム皮膜を有する多孔性金属支持体管(以下、「皮膜管」と呼ぶ)にHeを4絶対気圧で充填し、水浴に入れて皮膜管の緻密性を観察した。Heは皮膜管の外側まで透過できないことが見出された。これは、皮膜管が4絶対内圧のHeに耐えることができたことを意味する。
(Ar透過性に関する試験)
図5に示す装置をこの例において用いた。実施例1から得られた皮膜管(2)を殻管式反応器(shell and tube reactor)(3)に入れた。室温で、Arを反応器(3)内に気体導入口(1)を介して導入した。皮膜管の外部排出口(5)を開放することで反応器にArを充填することができた。その後、外部排出口(5)を閉鎖して反応器内部に背圧をかけた。背圧が10絶対気圧に到達したとき、皮膜管の内部排出口(4)内で観察を行い、Arが皮膜管の細孔を通過してそれらの内部に透過するかどうかを確認した。それらの試験結果は、反応器(3)から皮膜管(2)を通してそれらの内部に透過したArが存在しないことを示した。これは、皮膜管(2)が10絶対気圧のAr外圧に無事に耐えることができたことを意味する。
(H2透過性に関する試験)
同様に、図5に示す装置および実施例1から得られた皮膜管(2)をこの例において用いた。室温で、Arを反応器(3)内に気体導入口(1)を介して導入した。皮膜管の外部排出口(5)を開放することで反応器(3)にArを充填することができた。その後、導入気体を産業レベルのH2で置換しながら、反応器(3)の温度を室温から380℃まで2.5℃/分の速度で上昇させた。残留するArがH2によって反応器(3)から完全にパージされたとき、外部排出口(5)の調節弁(7)を反応器内部で5絶対気圧の圧力が維持されるように調整した。そのような圧力差の下で、H2は皮膜メッキ管(2)を通して皮膜管の内部排出口(4)まで透過するように駆り立てられ、H2の透過速度は727ml/分と測定された。その後、外部排出口(5)の調節弁(7)を反応器(3)内部で10絶対気圧の圧力が維持されるように調整したところ、H2の透過速度は1481ml/分と測定された。これらの結果は、本発明によって調製されたパラジウム皮膜が優れたH2透過性を示したことを実証していた。
(水素脆化試験)
溶接した多孔性ステンレス鋼管を600番の紙やすりを用いて機械的に研磨した後、10モルの塩酸に3ないし5分間浸漬し、脱イオン水ですすいだ。続いて、得られた管を塩化スズ増感液に5分間浸漬した後、脱イオン水に2分間浸漬した。次に、その管を塩化パラジウム賦活剤に5分間浸漬し、再度脱イオン水にさらに2分間浸漬した。そのようなサイクルを10回反復した後、活性化された管を(塩化アンモニウムパラジウムおよび還元剤ヒドラジンを含む)無電界メッキ液に浸漬して、無電界メッキ法によって調製されたパラジウム皮膜を有する多孔性ステンレス鋼管を得た(以下、「無電界メッキパラジウム皮膜管」と呼ぶ)。
(H2精製試験)
同様に、図5に示す装置および実施例1から得られる皮膜管(2)をこの例において用いた。最初に、皮膜管の外部排出口(5)の調節弁(7)を反応器(3)内部で常圧が維持されるように調整し、75%のH2および25%のCO2を含む気体混合物を供給気体として用いて皮膜管(2)によって得ることができるH2純度を試験した。気体混合物を反応器(3)に連続注入しながら、外部排出口(5)の調節弁(7)を反応器(3)内部で5絶対気圧の圧力が維持されるようにさらに調製した。得られる圧力差の下で、反応器(3)内のH2は皮膜管(2)を通して皮膜管の内部排出口(4)まで透過した。この場合、326ml/分のH2流速が皮膜管(2)の外部排出口で測定され、純度は99.997%を上回っていた(CO、CO2およびCH4は10ppm未満の濃度)。皮膜管の外部排出口(5)で測定されたH2流速は465ml/分であって、H2の含有率は57.5%から75%に減少しており、これは55%の回収率を表していた。
図8に示すように、蒸気改質反応器(8)および(実施例1から得られる皮膜管を含む)パラジウム皮膜管反応器(9)を直列に接続した。2.5℃/分の速度で、蒸気改質反応器(8)の温度を室温から280℃まで上昇させ、それに対してパラジウム皮膜管反応器(9)の温度は室温から350℃まで上昇させた。温度が上昇したとき、Arを保護気体として反応器に注入した。ひとたび温度設定が達成されたら、メタノールおよび水の混合液をポンプ(10)によって供給することで蒸気改質反応器(8)内でメタノールを水と反応させ、H2およびCO2を生成させた。その後、生じた気体混合物に、パラジウム皮膜管反応器(9)を通過させることにより、分離のためのH2精製プロセスを施した。調節弁(12)をパラジウム皮膜管反応器(9)内部で10絶対気圧の圧力が維持されるように調整した。結果として、毎時30リットルのH2透過速度が測定され、H2純度は99.95%であった。
Claims (40)
- パラジウム含有電気メッキ液であって、
約2g/Lないし約200g/Lの硫酸パラジウム中のパラジウム、
約10g/Lないし約200g/Lの反応性導電性塩、
約10g/Lないし約150g/Lの錯化剤、および、
電気メッキ液に約9ないし約12のpHをもたらすのに十分な緩衝剤、
を含むパラジウム含有電気メッキ液。 - 約5g/Lないし約50g/Lの硫酸パラジウム中のパラジウム、約70g/Lないし約150g/Lの前記反応性導電性塩、約30g/Lないし約70g/Lの前記錯化剤および電気メッキ液に約10ないし約11のpHをもたらすのに十分な緩衝剤を含む請求項1の電気メッキ液。
- 前記反応性導電性塩がSO4 2-イオン供給性化合物である請求項1の電気メッキ液。
- 前記反応性導電性塩が、IA族金属の塩、アンモニウム塩およびそれらの組み合わせからなる群より選択される請求項1の電気メッキ液。
- 前記反応性導電性塩が、塩化ナトリウム、塩化カリウム、硫酸ナトリウム、硫酸アンモニウム、塩化アンモニウム、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウム、クエン酸アンモニウムおよびそれらの組み合わせからなる群より選択される請求項1の電気メッキ液。
- 前記反応性導電性塩が硫酸アンモニウムである請求項1の電気メッキ液。
- 前記錯化剤が、ホウ酸、リン酸塩、次リン酸塩、硝酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩、エチレンジアミン四酢酸(EDTA)の塩およびそれらの組み合わせからなる群より選択される請求項1の電気メッキ液。
- 前記錯化剤が、ホウ酸、リン酸ナトリウム、リン酸水素ナトリウム、次リン酸水素ナトリウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、酒石酸カリウムナトリウム、クエン酸ナトリウム、クエン酸カリウム、クエン酸アンモニウム、エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩(EDTA−Na2)、エチレンジアミン四酢酸四ナトリウム塩(EDTA−Na4)、エチレンジアミン四酢酸二カリウム塩(EDTA−K2)、エチレンジアミン四酢酸三カリウム塩(EDTA−K3)、エチレンジアミン四酢酸マグネシウム塩(EDTA−Mg)およびそれらの組み合わせからなる群より選択される請求項1の電気メッキ液。
- 前記錯化剤が、硝酸カリウム、クエン酸アンモニウム、EDTA−Na2、EDTA−Na4およびそれらの組み合わせからなる群より選択される請求項1の電気メッキ液。
- 前記緩衝剤が水酸化物である請求項1の電気メッキ液。
- 前記緩衝剤が、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化アンモニウムおよびそれらの組み合わせからなる群より選択される請求項1の電気メッキ液。
- 前記緩衝剤が水酸化アンモニウムである請求項1の電気メッキ液。
- 硫酸をさらに含む請求項1の電気メッキ液。
- 前記硫酸が電気メッキ液中のSO4 2-の濃度をリットルあたり約0.2モルないし約4モルとするのに十分な量である請求項13の電気メッキ液。
- 硫酸パラジウム以外の第2の金属塩をさらに含む請求項1の電気メッキ液。
- 前記第2の金属塩が銅塩、銀塩、金塩、ニッケル塩、白金塩、インジウム塩およびそれらの組み合わせからなる群より選択される請求項15の電気メッキ液。
- 前記第2の金属塩が、硫酸銅、塩化銅およびそれらの組み合わせからなる群より選択される銅塩である請求項15の電気メッキ液。
- 前記銅塩が電気メッキ液にリットルあたり約0.2gないし約100gの銅を含ませるのに十分な量である請求項17の電気メッキ液。
- 多孔性金属支持体上にパラジウムもしくはパラジウム合金皮膜を提供するための方法であって、
多孔性金属支持体を準備することと、
パラジウム含有電気メッキ液を用いてパラジウムもしくはパラジウム合金皮膜を前記金属支持体上に電気メッキすることと、
を含み、
前記パラジウム含有電気メッキ液が、
約2g/Lないし約200g/Lのパラジウム塩中のパラジウム、
約10g/Lないし約200g/Lの反応性導電性塩、
約10g/Lないし約150g/Lの錯化剤、および、
前記電気メッキ液に約9ないし12のpHをもたらすのに十分な緩衝剤、
を含むことを特徴とする、方法。 - 前記多孔性金属支持体が、鉄、鉄合金、銅、銅合金、ニッケル、ニッケル合金およびそれらの組み合わせからなる群より選択される材料で構成される請求項19の方法。
- 前記多孔性金属支持体がステンレス鋼で構成される請求項19の方法。
- 前記電気メッキ工程を約40℃ないし約90℃の範囲の電気メッキ浴温度で行う請求項19の方法。
- 前記電気メッキ工程を約0.01A/dm2ないし約1.5A/dm2の範囲の電流密度の下で行う請求項19の方法。
- 前記電気メッキ工程を約0.2A/dm2ないし約1.0A/dm2の範囲の電流密度の下で行う請求項19の方法。
- 前記金属支持体を前記電気メッキ工程の最中に回転させる請求項19の方法。
- 前記金属支持体を約1000rpm以下の速度で回転させる請求項25の方法。
- 前記金属支持体を約100rpmないし約500rpmの範囲の速度で回転させる請求項25の方法。
- 前記パラジウム塩が、硫酸パラジウム、塩化テトラアミンパラジウム(Pd(NH4)4Cl2)、塩化アンモニウムパラジウム(Pd(NH4)2Cl4)、塩化パラジウムおよびそれらの組み合わせからなる群より選択される請求項19の方法。
- 前記パラジウムもしくはパラジウム合金皮膜を電気メッキする工程に先立って前記金属支持体上に中間層をコーティングすることをさらに含む請求項19の方法。
- 前記中間層が電気メッキ法によって前記金属支持体上にコートされ、かつニッケル、銅、銀、金、白金およびそれらの組み合わせからなる群より選択される材料で構成される請求項29の方法。
- 前記中間層がニッケル層である請求項30の方法。
- 前記電気メッキ工程が2段階電気メッキ工程である請求項19の方法。
- 前記2段階電気メッキ工程の一方の段階が硫酸パラジウムを前記パラジウム塩として用い、かつ他方が塩化パラジウムを前記パラジウム塩として用いる請求項32の方法。
- パラジウムもしくはパラジウム合金皮膜を有する複合体であって、
多孔性金属基体、
前記基体の表面上にコートされた中間層、および
前記中間層上にコートされたパラジウムもしくはパラジウム合金皮膜、
を含み、前記パラジウムもしくはパラジウム合金皮膜は前記複合体の前記基体側での圧力がそのパラジウムもしくはパラジウム合金皮膜側での圧力より約3絶対気圧まで高い条件下で実質的に剥離がない、複合体。 - 前記多孔性金属基体が、鉄、鉄合金、銅、銅合金、ニッケル、ニッケル合金およびそれらの組み合わせからなる群より選択される材料で構成される請求項34の複合体。
- 前記多孔性金属基体がステンレス鋼で構成される請求項34の複合体。
- 前記中間層が、ニッケル、銅、銀、金、白金およびそれらの組み合わせからなる群より選択される材料で構成される請求項34の複合体。
- 前記中間層がニッケルで構成される請求項34の複合体。
- 前記パラジウムもしくはパラジウム合金皮膜が、前記複合体の前記基体側での圧力がそのパラジウムもしくはパラジウム合金皮膜側での圧力より約5絶対気圧まで高い条件下で実質的に剥離がない請求項34の複合体。
- 前記パラジウムもしくはパラジウム合金皮膜が、前記複合体の前記基体側での圧力がそのパラジウムもしくはパラジウム合金皮膜側での圧力より約10絶対気圧まで高い条件下で実質的に剥離がない請求項34の複合体。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW096113137 | 2007-04-13 | ||
TW096113137A TWI354716B (en) | 2007-04-13 | 2007-04-13 | Palladium-containing plating solution and its uses |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008261045A true JP2008261045A (ja) | 2008-10-30 |
JP4866372B2 JP4866372B2 (ja) | 2012-02-01 |
Family
ID=39854000
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008003930A Expired - Fee Related JP4866372B2 (ja) | 2007-04-13 | 2008-01-11 | 多孔性金属支持体上にパラジウムもしくはパラジウム合金皮膜を提供するための方法及びそれを有する複合体 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20080254311A1 (ja) |
JP (1) | JP4866372B2 (ja) |
KR (1) | KR100950411B1 (ja) |
TW (1) | TWI354716B (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012011170A1 (ja) * | 2010-07-21 | 2012-01-26 | トヨタ自動車株式会社 | 触媒微粒子、及び触媒微粒子の製造方法 |
JP2014108427A (ja) * | 2012-11-30 | 2014-06-12 | Eurecat Sa | 不飽和炭化水素の水素化のための担持された金属触媒の調製方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114408858B (zh) * | 2022-01-05 | 2023-03-17 | 北京科技大学 | 一种室温可吸氢锆基复合材料的制备方法 |
Citations (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50123532A (ja) * | 1974-01-23 | 1975-09-29 | ||
JPS57126989A (en) * | 1980-12-17 | 1982-08-06 | Hooker Chemicals Plastics Corp | White palladium plating bath composition and method |
JPS58500289A (ja) * | 1981-02-27 | 1983-02-24 | ウエスタ−ン エレクトリツク カムパニ−,インコ−ポレ−テツド | パラジウムとパラジウム合金の電気メツキ方法 |
JPH0390590A (ja) * | 1989-08-29 | 1991-04-16 | American Teleph & Telegr Co <Att> | 電気メッキ方法 |
JPH05137979A (ja) * | 1991-11-25 | 1993-06-01 | Mitsubishi Kakoki Kaisha Ltd | 水素分離膜の製造方法 |
JPH06340983A (ja) * | 1993-06-02 | 1994-12-13 | Takamatsu Mekki Kogyo Kk | パラジウムー銅メッキ被覆を有する装身具 |
JPH07188973A (ja) * | 1993-08-16 | 1995-07-25 | Enthone Omi Inc | ホワイトパラジウムの電気めっき浴と方法 |
JPH08193290A (ja) * | 1995-01-18 | 1996-07-30 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 光沢パラジウム系めっき浴およびめっき方法 |
JPH1018077A (ja) * | 1996-07-01 | 1998-01-20 | Electroplating Eng Of Japan Co | パラジウム・銀合金めっき浴 |
JPH1143796A (ja) * | 1997-05-30 | 1999-02-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | パラジウムめっき液とこれを用いたパラジウムめっき皮膜及びこのパラジウムめっき皮膜を有する半導体装置用リードフレーム |
JPH11217690A (ja) * | 1997-11-19 | 1999-08-10 | Lucent Technol Inc | 電気メッキパラジウム合金組成物及びその組成物を用いる電気メッキ法 |
JP2000303199A (ja) * | 1999-02-17 | 2000-10-31 | Nisshin Kasei Kk | パラジウム合金めっき液、パラジウム−銅合金めっき部材及び殺菌性部材 |
JP2005256129A (ja) * | 2004-03-15 | 2005-09-22 | Research Institute Of Innovative Technology For The Earth | パラジウム−銀合金電気めっき浴 |
JP2005262082A (ja) * | 2004-03-18 | 2005-09-29 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 水素分離膜、その製造方法並びに水素の分離方法 |
WO2006031080A1 (en) * | 2004-09-15 | 2006-03-23 | Korea Institute Of Energy Research | Preparation method of palladium alloy composite membrane for hydrogen separation |
JP2008081765A (ja) * | 2006-09-26 | 2008-04-10 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | パラジウム合金めっき液及びそのめっき液を用いためっき方法。 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3993802A (en) * | 1971-07-29 | 1976-11-23 | Photocircuits Division Of Kollmorgen Corporation | Processes and products for making articles for electroless plating |
US4849303A (en) * | 1986-07-01 | 1989-07-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Alloy coatings for electrical contacts |
US5272295A (en) * | 1991-01-23 | 1993-12-21 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Electric contact and method for producing the same |
KR100247557B1 (ko) * | 1997-12-24 | 2000-03-15 | 김충섭 | 수소기체 분리용 복합막의 제조방법 |
JP4588173B2 (ja) * | 2000-06-14 | 2010-11-24 | 松田産業株式会社 | パラジウム電気めっき液、およびそれを用いためっき方法 |
DE10033434A1 (de) * | 2000-07-10 | 2002-01-24 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von goldfarbenen Oberflächen von Aluminium oder Aluminium-Legierungen mittels silbersalzhaltigen Formulierungen |
DE10222568B4 (de) * | 2002-05-17 | 2007-02-08 | W.C. Heraeus Gmbh | Kompositmembran und Verfahren zu deren Herstellung |
US20040118699A1 (en) * | 2002-10-02 | 2004-06-24 | Applied Materials, Inc. | Homogeneous copper-palladium alloy plating for enhancement of electro-migration resistance in interconnects |
-
2007
- 2007-04-13 TW TW096113137A patent/TWI354716B/zh not_active IP Right Cessation
- 2007-12-20 KR KR1020070134107A patent/KR100950411B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2007-12-20 US US11/960,975 patent/US20080254311A1/en not_active Abandoned
-
2008
- 2008-01-11 JP JP2008003930A patent/JP4866372B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50123532A (ja) * | 1974-01-23 | 1975-09-29 | ||
JPS57126989A (en) * | 1980-12-17 | 1982-08-06 | Hooker Chemicals Plastics Corp | White palladium plating bath composition and method |
JPS58500289A (ja) * | 1981-02-27 | 1983-02-24 | ウエスタ−ン エレクトリツク カムパニ−,インコ−ポレ−テツド | パラジウムとパラジウム合金の電気メツキ方法 |
JPH0390590A (ja) * | 1989-08-29 | 1991-04-16 | American Teleph & Telegr Co <Att> | 電気メッキ方法 |
JPH05137979A (ja) * | 1991-11-25 | 1993-06-01 | Mitsubishi Kakoki Kaisha Ltd | 水素分離膜の製造方法 |
JPH06340983A (ja) * | 1993-06-02 | 1994-12-13 | Takamatsu Mekki Kogyo Kk | パラジウムー銅メッキ被覆を有する装身具 |
JPH07188973A (ja) * | 1993-08-16 | 1995-07-25 | Enthone Omi Inc | ホワイトパラジウムの電気めっき浴と方法 |
JPH08193290A (ja) * | 1995-01-18 | 1996-07-30 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 光沢パラジウム系めっき浴およびめっき方法 |
JPH1018077A (ja) * | 1996-07-01 | 1998-01-20 | Electroplating Eng Of Japan Co | パラジウム・銀合金めっき浴 |
JPH1143796A (ja) * | 1997-05-30 | 1999-02-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | パラジウムめっき液とこれを用いたパラジウムめっき皮膜及びこのパラジウムめっき皮膜を有する半導体装置用リードフレーム |
JPH11217690A (ja) * | 1997-11-19 | 1999-08-10 | Lucent Technol Inc | 電気メッキパラジウム合金組成物及びその組成物を用いる電気メッキ法 |
JP2000303199A (ja) * | 1999-02-17 | 2000-10-31 | Nisshin Kasei Kk | パラジウム合金めっき液、パラジウム−銅合金めっき部材及び殺菌性部材 |
JP2005256129A (ja) * | 2004-03-15 | 2005-09-22 | Research Institute Of Innovative Technology For The Earth | パラジウム−銀合金電気めっき浴 |
JP2005262082A (ja) * | 2004-03-18 | 2005-09-29 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 水素分離膜、その製造方法並びに水素の分離方法 |
WO2006031080A1 (en) * | 2004-09-15 | 2006-03-23 | Korea Institute Of Energy Research | Preparation method of palladium alloy composite membrane for hydrogen separation |
JP2008081765A (ja) * | 2006-09-26 | 2008-04-10 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | パラジウム合金めっき液及びそのめっき液を用いためっき方法。 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012011170A1 (ja) * | 2010-07-21 | 2012-01-26 | トヨタ自動車株式会社 | 触媒微粒子、及び触媒微粒子の製造方法 |
JP5510462B2 (ja) * | 2010-07-21 | 2014-06-04 | トヨタ自動車株式会社 | 燃料電池用電極触媒微粒子、及び燃料電池用電極触媒微粒子の製造方法 |
JP2014108427A (ja) * | 2012-11-30 | 2014-06-12 | Eurecat Sa | 不飽和炭化水素の水素化のための担持された金属触媒の調製方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200840887A (en) | 2008-10-16 |
TWI354716B (en) | 2011-12-21 |
KR100950411B1 (ko) | 2010-03-29 |
JP4866372B2 (ja) | 2012-02-01 |
KR20080092828A (ko) | 2008-10-16 |
US20080254311A1 (en) | 2008-10-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1983076A2 (en) | Palladium-containing plating solution and its uses | |
US20040256236A1 (en) | Compositions and coatings including quasicrystals | |
TW201325905A (zh) | 鋁或鋁合金表面處理方法及製品 | |
TW200909608A (en) | Plated article having a metallic thin film form by electroless plating and method for making such plated article | |
JP4866372B2 (ja) | 多孔性金属支持体上にパラジウムもしくはパラジウム合金皮膜を提供するための方法及びそれを有する複合体 | |
JP2011157610A (ja) | Dlc膜被覆部材およびその製造方法 | |
JP5937086B2 (ja) | 高アルカリ性めっき浴を用いた無電解金属析出法 | |
Allahyarzadeh et al. | Electrodeposition on superalloy substrates: a review | |
CN109477233B (zh) | 在基材上形成Pd-Au合金层的方法 | |
JP3589090B2 (ja) | 成膜方法 | |
CN111910179A (zh) | 一种在SiCp/Al复合材料表面镀厚Ni-P膜的方法 | |
Chou et al. | Deposition and characterization of thin electroless palladium films from newly developed baths | |
CN101445906A (zh) | 一种在钛及其合金表面制备铂涂层方法 | |
JP5891512B2 (ja) | 多孔性フィルター、その製造方法、多孔性フィルターを支持体とする水素分離膜、欠陥の封止方法、及び水素分離方法 | |
CN111876797B (zh) | 一种高防腐中性镍镀液及中性镍打底工艺 | |
Wang et al. | Preparation and characterization of Ni–P/Ni3. 1B composite alloy coatings | |
Taherkhani et al. | The Effect of Electroplating Time on Microstructural Properties and Hardness of Silver Coating on C10100 Alloy | |
FR2471426A1 (fr) | Procede d'electrodeposition de palladium et bain electrolytique pour la mise en oeuvre de ce procede | |
Xu et al. | Novel electroless plating of ruthenium for fabrication of palladium-ruthenium composite membrane on PSS substrate and its characterization | |
Li et al. | Novel Pd-catalyzed electroless Au deposition method using a sulfite solution | |
JP6524459B1 (ja) | 無電解めっき用銀触媒付与剤用添加剤 | |
CN109440090B (zh) | 一种硬质合金基底表面化学镀磷化镍-金刚石复合涂层的方法 | |
JP5205606B2 (ja) | Dlc膜被覆部材およびその製造方法 | |
Dabalà et al. | Surface hardening of Ti–6Al–4V alloy using combined electroless Ni–B plating and diffusion treatments | |
JP2009185308A (ja) | Pd−Agの同時メッキによる水素分離用薄膜及びその作製方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100218 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100302 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100527 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100615 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101012 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101015 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20101027 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20110311 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111007 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111111 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141118 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |