JPH1018077A - パラジウム・銀合金めっき浴 - Google Patents
パラジウム・銀合金めっき浴Info
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- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 21
- SWELZOZIOHGSPA-UHFFFAOYSA-N palladium silver Chemical compound [Pd].[Ag] SWELZOZIOHGSPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 7
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 54
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 10
- 150000002940 palladium Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 6
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims abstract description 5
- QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N N,N-bis{2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl}glycine Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(=O)O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N palladium(ii) nitrate Chemical compound [Pd+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims description 11
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N Guanidine Chemical compound NC(N)=N ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 claims description 4
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 claims description 3
- WRIRWRKPLXCTFD-UHFFFAOYSA-N malonamide Chemical compound NC(=O)CC(N)=O WRIRWRKPLXCTFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- FCKYPQBAHLOOJQ-UWVGGRQHSA-N 2-[[(1s,2s)-2-[bis(carboxymethyl)amino]cyclohexyl]-(carboxymethyl)amino]acetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)[C@H]1CCCC[C@@H]1N(CC(O)=O)CC(O)=O FCKYPQBAHLOOJQ-UWVGGRQHSA-N 0.000 claims description 2
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N N-methyl-guanidine Natural products CNC(N)=N CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N dimethylaminoamidine Natural products CN(C)C(N)=N SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N iminodiacetic acid Chemical compound OC(=O)CNCC(O)=O NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 claims description 2
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 229960003330 pentetic acid Drugs 0.000 claims description 2
- QLNJFJADRCOGBJ-UHFFFAOYSA-N propionamide Chemical compound CCC(N)=O QLNJFJADRCOGBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229940080818 propionamide Drugs 0.000 claims description 2
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- YPNVIBVEFVRZPJ-UHFFFAOYSA-L silver sulfate Chemical compound [Ag+].[Ag+].[O-]S([O-])(=O)=O YPNVIBVEFVRZPJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 229910000367 silver sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 abstract description 13
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N Carbamic acid Chemical compound NC(O)=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 6
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 5
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M Thiocyanate anion Chemical compound [S-]C#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 238000001479 atomic absorption spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J diphosphate(4-) Chemical compound [O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 235000011180 diphosphates Nutrition 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N hydrogen thiocyanate Natural products SC#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- WYSXJFIFFXPGAP-UHFFFAOYSA-N nitrous acid hydrobromide Chemical compound N(=O)O.Br WYSXJFIFFXPGAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 150000003378 silver Chemical class 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
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- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
の面で優れたパラジウム・銀合金めっき浴を提供する。 【構成】 この発明のパラジウム・銀合金めっき浴は、
パラジウム塩をPd量として1.0〜30g/l含有
し、銀塩をAg量として0.01〜15g/l含有し、
錯形成剤としてアミノポリカルボン酸を1.0〜300
g/l含有して成るものである。
Description
めっき浴に関するものである。
り、耐変色性および耐腐食性が良好であることから、接
点およびコネクター等の電子品用のめっきとして、使用
されている。また、この合金は金と比べて材料コストが
低いため、従来から用いられている金の代替材料として
優れている。
は、パラジウム−アンモニウム錯体を含む浴、ピロリン
酸錯体やチオシアン酸錯体を含む中性浴、エチレンジア
ミンパラジウム−シアン系銀浴、臭化物塩−亜硝酸塩浴
などがある(参考資料として、特開平7−233496
号公報参照)。
うな従来のパラジウム・銀合金めっき浴により得られた
析出物は、緻密な結晶を得ることができなかった。ま
た、従来の浴においては、銀とパラジウムの析出電位が
大きく離れているため、銀或いはパラジウムの析出過程
が金属イオンの拡散支配となるため、密着性及び外観品
質の面で問題があった。更に、浴自体の安定性も悪く、
銀又はパラジウムの含有率が10%程度越えると析出物
表面は粉末状或いは粗い突起状となった。
なされたものであり、析出物の密着性及び外観品質、浴
の安定性の面で優れたパラジウム・銀合金めっき浴を提
供するものである。
に、この発明のパラジウム・銀合金めっき浴は、パラジ
ウム塩をPd量として1.0〜30g/l含有し、銀塩
をAg量として0.01〜15g/l含有し、錯形成剤
としてアミノポリカルボン酸を1.0〜300g/l含
有して成るものである。
ジウム、硫酸パラジウム、塩化パラジウム、ジアミノジ
クロロパラジウム、テトラアンミンパラジウムが好適で
ある。パラジウム塩の含有量は、前述のように、Pd量
として1.0〜30g/lであり、1.0g/l未満だ
と、有意な合金比率が得られず、30g/lを超えると
くみ出しによるPdの消費が多くなる。
硫酸銀が好適である。銀塩の含有量は、前述のように、
0.01〜15g/lであり、0.01g/l未満だ
と、有意な合金比率が得られず、15g/lを超えると
コストが高くなり実用上不適となる。
ントリアミン五酢酸、trans−1,2−シクロヘキ
サンジアミン四酢酸、エチレンジアミン四酢酸、イミノ
二酢酸、ニトリロ三酢酸が好適である。アミノポリカル
ボン酸の含有量は、前述の通り、1.0〜300g/l
であり、1.0未満だと浴が不安定となり、300g/
lを超えるとくみ出しによる消費が多くなる。
1〜100g/l含有しても良い。アミド系薬品として
は、マロンアミド、グアニジン、プロピオンアミドが好
適である。このアミド系薬品を添加することにより、パ
ラジウム及び銀の第2の錯化剤となり、浴が高い温度及
び高い電流密度においても安定する。
しくは、8〜13)が好適である。尚、pH調整剤とし
て水酸化アルカリ金属を1.0〜300g/l程度添加
しても良い。水酸化アルカリ金属としては、水酸化カリ
ウム、水酸化ナトリウム等が好適である。
(より好ましくは20〜60℃)で、電流密度0.1〜
50A/dm2 (より好ましくは、0.5〜10A/d
m2 )が好適である。
す組成のパラジウム・銀合金めっき浴で電解めっきを行
った。
により調べたところ、実施例1〜11はどの析出物も確
実にPdとAgの合金組成になっていた。また、析出物
の表面は金属光沢で、外観品質に優れていた。これに対
し、比較対象としての実施例12、13の場合は、とも
に表面が粉末状或いは黒い皮膜で外観品質の面で劣って
いる。
ープによるピーリングテストを行った。実施例1〜11
の場合は、どのテストピースも析出物が剥がれず、密着
性に優れていることが判明した。これに対して、比較対
象としての実施例12、13場合は、析出物の剥離が生
じ、密着性の面で劣っていた。
して、下記表2に示す組成の浴で電解めっきを行った。
そして、浴安定剤としてのアミド系薬品を添加した浴
(実施例14、15、16)と、添加しない浴(実施例
17、18、19)の浴安定について調べてみた。
添加したものの方が、添加しないものに比べて、浴自身
が安定であった。これは、アミド系薬品が、第2の錯化
剤として作用しているものと思われる。
量+Ag量)と、析出物中のAg量/(Pd量+Ag
量)との関係を調べた。浴には安定剤としてマロンアミ
ドをPd量+Ag量に応じて添加した。また、電流密度
は1A/dm2 とした。
g量)に応じて、析出物中のAg量/(Pd量+Ag
量)が高まることが分かった。そして、浴中のPd量/
(Pd量+Ag量)を変化させることにより、Ag量/
(Pd量+Ag量)が20〜80%の範囲のパラジウム
・銀合金を得られることが判明した。
浴によれば、外観及び密着性に優れたパラジウム・銀合
金析出物を得ることができ、またアミド系薬品を浴に添
加することにより、浴の安定性を向上させることができ
るため、産業上大変に有益である。特に、このめっき浴
から得られためっき物は、リードフレームやコネクター
等の電子部品として好適である。
フ。
Claims (9)
- 【請求項1】 パラジウム塩をPd量として1.0〜3
0g/l含有し、銀塩をAg量として0.01〜15g
/l含有し、錯形成剤としてアミノポリカルボン酸を
1.0〜300g/l含有して成るパラジウム・銀合金
めっき浴。 - 【請求項2】 パラジウム塩が、硝酸パラジウム、硫酸
パラジウム、塩化パラジウム、ジアミノジクロロパラジ
ウム、テトラアンミンパラジウムの群から選ばれた1種
以上である請求項1記載のパラジウム・銀合金めっき
浴。 - 【請求項3】 銀塩が、硝酸銀、リン酸、酸化銀、硫酸
銀の群から選ばれた1種以上である請求項1又は請求項
2記載のパラジウム・銀合金めっき浴。 - 【請求項4】 アミノポリカルボン酸が、ジエチレント
リアミン五酢酸、trans−1,2−シクロヘキサン
ジアミン四酢酸、エチレンジアミン四酢酸、イミノ二酢
酸、ニトリロ三酢酸の群から選ばれた1種以上である請
求項1〜3のいずれか1項に記載のパラジウム・銀合金
めっき浴。 - 【請求項5】 浴安定剤としてアミド系薬品を0.1〜
100g/l含有している請求項1〜4のいずれか1項
に記載のパラジウム・銀合金めっき浴。 - 【請求項6】 アミド系薬品が、マロンアミド、グアニ
ジン、プロピオンアミドの群から選ばれた1種以上であ
る請求項1〜5のいずれか1項に記載のパラジウム・銀
合金めっき浴。 - 【請求項7】 pH調整剤として、水酸化アルカリ金属
を1.0〜300g/l含有している請求項1〜6のい
ずれか1項に記載のパラジウム・銀合金めっき浴。 - 【請求項8】 pHが2.0〜14.0である請求項1
〜7のいずれか1項に記載のパラジウム・銀合金めっき
浴。 - 【請求項9】 請求項1〜8いずれか1項に記載のパラ
ジウム・銀合金めっき浴を用い、浴温10〜90℃、電
流密度0.1〜50A/dm2 の条件でめっきするパラ
ジウム・銀合金めっき方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17138296A JP3685276B2 (ja) | 1996-07-01 | 1996-07-01 | パラジウム・銀合金めっき浴 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17138296A JP3685276B2 (ja) | 1996-07-01 | 1996-07-01 | パラジウム・銀合金めっき浴 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1018077A true JPH1018077A (ja) | 1998-01-20 |
JP3685276B2 JP3685276B2 (ja) | 2005-08-17 |
Family
ID=15922150
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17138296A Expired - Fee Related JP3685276B2 (ja) | 1996-07-01 | 1996-07-01 | パラジウム・銀合金めっき浴 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3685276B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008081765A (ja) * | 2006-09-26 | 2008-04-10 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | パラジウム合金めっき液及びそのめっき液を用いためっき方法。 |
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1996
- 1996-07-01 JP JP17138296A patent/JP3685276B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040414 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050203 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050329 |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050426 |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050525 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110610 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110610 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140610 Year of fee payment: 9 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |