JPH07153869A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPH07153869A
JPH07153869A JP5300274A JP30027493A JPH07153869A JP H07153869 A JPH07153869 A JP H07153869A JP 5300274 A JP5300274 A JP 5300274A JP 30027493 A JP30027493 A JP 30027493A JP H07153869 A JPH07153869 A JP H07153869A
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hole
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layer
electrode
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Toshio Hamano
寿夫 浜野
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大 貫和
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Fujitsu Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明はランドグリッドアレイ型プリント配
線板パッケージに関し、動作周波数の高周波化にともな
つて発生し易くなるノイズを抑えることを目的とする。 【構成】 半導体素子12及び多層プリント配線板13
Aを有する。配線板13Aは、底面に、電源ランド電極
25,グランドランド電極26,信号ランド電極27を
有する。更に配線板13Aの底面に、電極25,26,
27を囲むように、帯状のグランドパターン60を有
し、且つこのグランドパターンの部位に、第2のグラン
ドスルーホール64を多数有して構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置に係り、特に
多層プリント配線基板を有する半導体装置に関する。
【0002】近年のコンピュータシステムの高速化に伴
い、これに使用される半導体装置の動作周波数は数10
MHzから数100MHzと高くなってきている。
【0003】このように、動作周波数が高くなると、半
導体装置は、ノイズを発生し易くなる。ノイズは、電源
系配線に付随するインダクタンスが原因でトランジスタ
のスイッチング時の過度的な電流変化にともなって生ず
る。
【0004】このノイズはコンピュータシステムに悪影
響を与えるため、最小限に抑える必要がある。
【0005】多層プリント配線基板内のベタのグランド
層(平面導体層)のうち実効的に電流が流れる領域が拡
大すると、上記の電源系配線に付随するインダクタンス
が低減される。このため、ノイズを低減するには、ベタ
のグランド層において実効的に電流が流れる領域を拡大
させることが有効である。
【0006】
【従来の技術】図6,図7は、従来のLGA(Land Gri
d Array )型プリント配線板パッケージ10を示す。
【0007】パッケージ10は、ヒートスプレッダ11
と、半導体素子12と、多層プリント配線板13と、蓋
14とを有する。
【0008】プリント配線板13は、内部に電源層1
5,ベタのグランド層16(図8参照)、信号用配線パ
ターン層17を有し、且つ、電源スルーホール18,グ
ランドスルーホール19,信号スルーホール20を有
し、中央に開口21を有し、且つ開口21の周囲の段部
22上にワイヤーボンディング用のインナーパターン2
3を有する。
【0009】プリント配線板13は、更に、底面24上
に、電源スルーホール18と電気的に接続された電源ラ
ンド電極25,グランドスルーホール19と電気的に接
続されたグランドランド電極26,及び信号スルーホー
ル20と電気的に接続された信号ランド電極27を、千
鳥足状に配してなる。
【0010】28はワイヤである。
【0011】パッケージ10は、電極25,26,27
を、ソケット30のピン31に突き当てて実装される。
【0012】電極25,26,27は、図6に示すよう
に蓋14の周囲の部分に千鳥足状に配されている。図示
の便宜上、一部については図示を省略してある。図6
中、ハッチングを付したものがグランドランド電極26
であり、略均一に分散させて配してある。
【0013】従来は、グランドランド電極26(グラン
ドスルーホール19)を略均一に分散させて配すること
により、グランドの強化を図ってノイズを抑えていた。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】上記のパッケージ10
において、グランド層16のうち、実効的に電流が流れ
る領域である実効電流領域40は、図8中、クロスハッ
チングで示す比較的狭い領域に限られていた。
【0015】このため、グランドパターンのインダクタ
ンスを十分に低減させることが困難であり、半導体装置
の動作周波数が数10MHzから数100MHzと高く
なってくると、ノイズを十分に抑えることが困難となっ
てきている。
【0016】そこで、本発明は上記課題を解決した半導
体装置を提供することを目的とする。
【0017】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、半導
体素子と、電源層、グランド層、信号用配線パターン層
を内部に有し、且つ該電源層と電気的に接続された電源
スルーホール、該グランド層と電気的に接続された第1
のグランドスルーホール、及び該信号用配線パターン層
と電気的に接続された信号スルーホールを有し、且つ底
面に上記電極スルーホールと電気的に接続された電源ラ
ンド電極、上記第1のグランドスルーホールと電気的に
接続されたグランドランド電極、及び上記信号スルーホ
ールと電気的に接続された信号ランド電極を有し、上記
半導体素子が電気的に接続されている基板を有する半導
体装置において、上記基板を、その底面の所定部位に、
グランドパターンを有し、且つ、該グランドパターンの
部位に、上記グランド層と電気的に接続された第2のグ
ランドスルーホールを複数有する構成としたものであ
る。
【0018】請求項2の発明は、半導体素子と、電源
層、グランド層、信号用配線パターン層を内部に有し、
且つ該電源層と電気的に接続された電源スルーホール、
該グランド層と電気的に接続された第1のグランドスル
ーホール、及び該信号用配線パターン層と電気的に接続
された信号スルーホールを有し、且つ底面に上記電極ス
ルーホールと電気的に接続された電源ボール電極、上記
第1のグランドスルーホールと電気的に接続された第1
のグランドボール電極、及び上記信号スルーホールと電
気的に接続された信号ボール電極を有し、上記半導体素
子が電気的に接続されている基板を有する半導体装置に
おいて、上記基板を、その底面の所定部位に、グランド
パターンを有し、且つ、該グランドパターンの部位に、
上記グランド層と電気的に接続された第2のグランドス
ルーホールを複数有し、且つ、該グランドパターンの部
位に第2のグランドボール電極を複数有する構成とした
ものである。
【0019】請求項3の発明は、半導体素子と、電源
層、グランド層、信号用配線パターン層を内部に有し、
且つ該電源層と電気的に接続された電源スルーホール、
該グランド層と電気的に接続された第1のグランドスル
ーホール、及び該信号用配線パターン層と電気的に接続
された信号スルーホールを有し、且つ底面に上記電極ス
ルーホールと電気的に固定された電源ピン電極、上記第
1のグランドスルーホールと電気的に固定された第1の
グランドピン電極、及び上記信号スルーホールに固定さ
れた信号ピン電極を有し、上記半導体素子が電気的に接
続されている基板を有する半導体装置において、上記基
板を、その底面の所定部位に、グランドパターンを有
し、且つ、該グランドパターンの部位に、上記グランド
層と電気的に接続された第2のグランドスルーホールを
複数有し、且つ、該第2のスルーホールに固定された第
2のグランドピン電極を有する構成としたものである。
【0020】請求項4の発明は、請求項1のグランドパ
ターンは、上記電源ランド電極、グランドランド電極、
信号ランド電極が配されている領域より外側の領域に、
上記基板の周囲に沿って帯状に形成してあり、4つの辺
部を有し、上記第2のグランドスルーホールは、上記辺
部に沿って並んだ構成としたものである。
【0021】請求項5の発明は、請求項2のグランドパ
ターンは、上記電源ボール電極、グランドボール電極、
信号ボール電極が配されている領域より外側の領域に、
上記基板の周囲に沿って帯状に形成してあり、4つの辺
部を有し、上記第2のグランドスルーホールは、上記辺
部に沿って並んだ構成としたものである。
【0022】請求項6の発明は、請求項3のグランドパ
ターンは、上記電源ピン電極、グランドピン電極、信号
ピン電極が配されている領域より外側の領域に、上記基
板の周囲に沿って帯状に形成してあり、4つの辺部を有
し、上記第2のグランドスルーホールは、上記辺部に沿
って並んだ構成としたものである。
【0023】請求項7の発明は、請求項4乃至請求項6
のうちいずれか一項の第2のグランドスルーホールを、
上記辺部のうち、中央部分に、他の部分に比べて密に設
けた構成としたものである。
【0024】
【作用】請求項1,請求項2,請求項3の基板の底面に
グランドパターンを設け、このグランドパターンの部位
に第2のグランドスルーホールを設けた構成は、第2の
グランドスルーホールを数多く形成し易くするように作
用すると共に、基板内部のグランド層のうち、実効的に
電流が流れる領域を拡大するように作用する。
【0025】グランドパターンの部位については、例え
ばソケットに固定して実装するときに多少の位置ずれが
あっても、接触不良を起きにくくするように作用する。
【0026】請求項4,請求項5,請求項6のグランド
パターンを、電源ランド電極、グランドランド電極及び
信号ランド電極等が配されている領域より外側の領域
に、基板の周囲に沿って形成した構成は、グランドパタ
ーンが合理的に配されるように作用し、且つ第2のグラ
ンドスルーホールが基板の周囲に沿うように作用する。
第2のグランドスルーホールが基板の周囲に沿って並ん
だ構成は、実効電流領域を効果的に拡げるように作用す
る。
【0027】請求項7の第2のグランドスルーホール
を、上記辺部のうち中央部分を密に設けた構成は、実効
電流領域を更に効果的に拡げるように作用する。
【0028】
【実施例】
〔第1実施例〕図1及び図2は、本発明の第1実施例に
なるLGA型プリント配線板パッケージ50を示す。
【0029】図示の便宜上、底面50aを上とした向き
で示してある。
【0030】各図中、図6及び図7に示す構成部分と対
応する部分には同一符号を付す。
【0031】電極25,27については図示の便宜上一
部図示を省略してある。
【0032】パッケージ50は、多層プリント配線板1
3Aを除いて、図6及び図7のパッケージ10と同じで
あり、パッケージ10と同じ大きさである。
【0033】半導体素子12は、接着剤51によって、
Cu製のヒートスプレッダ11の中央に接着してある。
【0034】多層プリント配線板13Aは、開口21内
に半導体素子12が位置するようにして、エポキシ接着
剤52によって、ヒートスプレッダ11上に接着固定し
てある。
【0035】半導体素子12とインナーパターン23と
の間に、ワイヤ28が張ってある。
【0036】半導体素子12の上方は、蓋14によって
覆われている。
【0037】19は第1のグランドスルーホールであ
る。
【0038】53はグランドライン、54は電源ライ
ン、55は半田である。
【0039】60は四角帯状のグランドパターンであ
り、図6及び図7中、電極25,26,27が配されて
いる領域より外側の空いている空き領域29の部分に、
多層プリント配線板13Aの全周に亘って形成してあ
る。
【0040】グランドパターン60は、4つの辺部61
-1〜61-4と、4つのコーナ部62 -1〜62-4とを有す
る。
【0041】63-1〜63-4はグランドスルーホール群
であり、夫々多数の第2のグランドスルーホール64よ
りなり、夫々上記の辺部61-1〜61-4に形成してあ
る。
【0042】夫々の第2のグランドスルーホール64
は、グランド層16と電気的に接続されており、且つ開
口の全周に亘る部分で、グランドベタ層60と電気的に
接続されている。
【0043】グランドスルーホール群63-1は、辺部6
-1のうちの中央部61-1a の密配置部63-1a と、辺
部61-1のうちコーナ部62-1,62-2寄りの部分61
-1b,61-1c の粗配置部63-1b ,63-1c とよりな
る。
【0044】密配置部63-1a においては、第2のグラ
ンドスルーホール64は、4列9行で密に並んでいる。
【0045】粗配置部63-1b ,63-1c においては、
第2のグランドスルーホール64は、一列おき、一行お
きの4列8行で千鳥足状に粗に並んでいる。
【0046】他のグランドスルーホール群63-2〜63
-4も、上記のグランドスルーホール群63-1と同じく、
各辺部61-2〜61-4の中央部の密配置部63-2a 〜6
-4 a と、コーナ部寄りの部分の粗配置部63-2b 〜6
-4b ,63-2C 〜63-4Cとを有する構成である。
【0047】このグランドスルーホール群63-1〜63
-4についてみると、グランドパターン60が各第2のグ
ランドスルーホール64に対するランド電極として機能
する。
【0048】このため、個々の第2のグランドスルーホ
ール64について一のランド電極を設ける必要がなく、
然して、第2のグランドスルーホール64は、前記の第
1のグランドスルーホール19のように一のスルーホー
ル毎に一のランド電極を設けた構成に比べて高い密度で
配置される。
【0049】従って、グランドパターン60の幅W1
比較的狭いけれども第2のグランドスルーホール64は
数多く形成されている。
【0050】ソケット30Aは、ピン31に加えて、ピ
ン32を有する。
【0051】ピン32は、ピン31より外側の領域、即
ち、パッケージ50を取り付けたときに、グランドパタ
ーン60のうち第2のグランドスルーホール64の個所
からずれた部位に対応する部位に複数設けてある。
【0052】パッケージ50は、ランド電極25,2
6,27をピン31と接触させて、且つグランドパター
ン60をピン32と接触させて、ソケット30Aに固定
されて実装され、この状態で動作される。
【0053】次に、上記パッケージ50のノイズの抑制
について説明する。
【0054】第1には、第1のグランドスルーホール1
9に加えて、第2のグランドスルーホール64が設けら
れていることにより、第2には、第2のグランドスルー
ホール64が数多く設けられていることにより、第3に
は、第2のグランドスルーホール64がパッケージ50
の各辺の中央部分の方がコーナ側の部分より高い密度で
設けられていることによって、グランドパターン16の
うち実効的に電流が流れる領域が従来に比べて拡大し、
図3にクロスハッチングを付して示すように、グランド
パターン16の略全面が実効電流領域70となる。
【0055】これにより、ノイズは、従来に比べて更に
小さく抑えられる。
【0056】また、グランドパターン60の部分につい
てみると、パッケージ50がソケット30Aに対して多
少位置ずれしていても、グランドパターン60はピン3
2に確実に接触する。
【0057】また、本発明は、以下に説明するように、
BGA(Ball Grid Array )及びPGA(Pin Grid Arr
ay)のものにも適用しうる。 〔第2実施例〕図4は本発明の第2実施例によるBGA
型プリント配線板パッケージ80を示す。
【0058】図4中、図2に示す構成部分と対応する部
分には同一構成部分には同一符号を付し、その説明は省
略する。
【0059】パッケージ80は、半導体素子12と多層
プリント配線板13Bとを有する。
【0060】81は電源ボール電極であり、電源スルー
ホール18の隣りの部位に設けてある。
【0061】82は第1のグランドボール電極であり、
第1のグランドスルーホール19の隣りの部位に設けて
ある。
【0062】83は、信号ボール電極であり、信号スル
ーホール20の隣りの部位に設けてある。
【0063】84は第2のグランドボール電極であり、
グランドパターン60の部位であって且つ、第2のグラ
ンドスルーホール64の隣りの部位に、多数設けてあ
る。
【0064】85はソルダレジスト膜であり、ボール電
極81〜84が取り付けられている部分以外の部分に形
成してある。
【0065】なお、ボール電極81〜84は、まず、ソ
ルダレジスト膜85をボール電極が取り付けられる予定
の部分だけが欠けた所定のパターンで形成し、次いで、
ソルダレジスト膜85が欠けている部分にボール電極を
取り付ける手順によって取り付けられる。
【0066】このパッケージ80も、前記第1実施例の
パッケージ50と同じく、グランド層の略全面が実効電
流領域となり、ノイズが効果的に抑制された特性を有す
る。 〔第3実施例〕図5は本発明の第3実施例になるPGA
型プリント配線板パッケージ90を示す。
【0067】図5中、図2に示す構成部分と対応する部
分には同一符号を付し、その説明は省略する。
【0068】パッケージ90は、半導体素子12と多層
プリント配線板13Cとを有する。
【0069】91は電源ピン電極であり、電源スルーホ
ール18に差込まれて、半田95により半田付けされて
固定してある。
【0070】92は第1のグランドピン電極であり、第
1のグランドスルーホール19に差込まれて半田付けさ
れて固定してある。
【0071】93は信号ピン電極であり、信号スルーホ
ール20に差込まれて半田付けされて固定してある。
【0072】94は第2のグランドピン電極であり、グ
ランドパターン60の部位において、第2のグランドス
ルーホール64に差込まれて半田付けされて、多数設け
てある。
【0073】ピン電極91〜94は、ソルダレジスト膜
96を、各スルーホールを避けた所定のパターンで形成
し、次いで、ピン電極91〜94を各スルーホール1
8,19,20,64に差し込み、最後に一括して半田
付けする手順によって固定される。
【0074】このパッケージ90も、前記第1実施例の
パッケージ50と同じく、グランド層の略全面が実効電
流領域となり、ノイズが効果的に抑制された特性を有す
る。
【0075】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1,請求項
2及び請求項3の発明によれば、基板内部のグランド層
の略全面を、実効的に電流が流れる領域とすることが出
来、これによって、動作周波数が数10MHzから数1
00MHzと高い場合に発生し易いノイズを効果的に抑
えることが出来る。
【0076】また、グランドパターンの部分についてみ
ると、半導体装置とソケットとの間に多少の位置ずれが
ある場合であっても、グランドパターンとソケットのピ
ンとの電気的接続を確実にとることが出来る。
【0077】請求項4,請求項5,請求項6の発明によ
れば、第2のグランドスルーホールが基板の周囲に沿っ
て並んでいるため、グランド層のうち実効的に電流が流
れる領域を効果的に拡大することが出来、その分ノイズ
の発生を抑制することが出来る。
【0078】請求項7の発明によれば、グランド層のう
ち実効的に電流が流れる領域を更に効果的に拡大するこ
とが出来、その分ノイズの発生を抑制することが出来
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例になるLGA型プリント配
線板パッケージの底面図である。
【図2】図1中、II−II線に沿う拡大断面図である。
【図3】図1及び図2のパッケージにおける実効電流領
域を説明する図である。
【図4】本発明の第2実施例になるBGA型プリント配
線板パッケージの断面図である。
【図5】本発明の第3実施例になるPGA型プリント配
線板パッケージの断面図である。
【図6】従来の1例の半導体装置の底面図である。
【図7】図6中、VII −VII 線に沿う拡大断面図であ
る。
【図8】図6及び図7のパッケージにおける実効電流領
域を説明する図である。
【符号の説明】
11 ヒートスプレッダ 12 半導体素子 13A,13B,13C 多層プリント配線板 14 蓋 15 電源層 16 ベタのグランド層 17 信号用配線パターン層 18 電源スルーホール 19 第1のグランドスルーホール 20 信号スルーホール 21 開口 22 段部 23 インナーパターン 24 底面 25 電源ランド電極 26 グランドランド電極 27 信号ランド電極 28 ワイヤ 29 空き領域 30A ソケット 31,32 ピン 50 LGA型プリント配線板パッケージ 50a 底面 51 接着剤 52 エポキシ接着剤 53 グランドライン 54 電源ライン 55 半田 60 四角帯状のグランドパターン 61-1〜61-4 辺部 62-1〜62-4 コーナ部 63-1〜63-4 グランドスルーホール群 63-1a 〜63-4a 密配置部 63-1b 〜63-4b 粗配置部 64 第2のグランドスルーホール 70 実効電流領域 80 BGA型プリント配線板パッケージ 81 電源ボール電極 82 第1のグランドボール電極 83 信号ボール電極 84 第2のグランドボール電極 85,96 ソルダレジスト膜 90 PGA型プリント配線板パッケージ 91 電源ピン電極 92 第1のグランドピン電極 93 信号ピン電極 94 第2のグランドピン電極 95 半田

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体素子(12)と、 電源層(15)、グランド層(16)、信号用配線パタ
    ーン層(17)を内部に有し、且つ該電源層と電気的に
    接続された電源スルーホール(18)、該グランド層と
    電気的に接続された第1のグランドスルーホール(1
    9)、及び該信号用配線パターン層と電気的に接続され
    た信号スルーホール(20)を有し、且つ底面(24)
    に上記電極スルーホールと電気的に接続された電源ラン
    ド電極(25)、上記第1のグランドスルーホールと電
    気的に接続されたグランドランド電極(26)、及び上
    記信号スルーホールと電気的に接続された信号ランド電
    極(27)を有し、上記半導体素子が電気的に接続され
    ている基板(13A)を有する半導体装置において、 上記基板(13A)を、 その底面の所定部位に、グランドパターン(60)を有
    し、 且つ、該グランドパターンの部位に、上記グランド層と
    電気的に接続された第2のグランドスルーホール(6
    4)を複数有する構成としたことを特徴とする半導体装
    置。
  2. 【請求項2】 半導体素子(12)と、 電源層(15)、グランド層(16)、信号用配線パタ
    ーン層(17)を内部に有し、且つ該電源層と電気的に
    接続された電源スルーホール(18)、該グランド層と
    電気的に接続された第1のグランドスルーホール(1
    9)、及び該信号用配線パターン層と電気的に接続され
    た信号スルーホール(20)を有し、且つ底面(24)
    に上記電極スルーホールと電気的に接続された電源ボー
    ル電極(81)、上記第1のグランドスルーホールと電
    気的に接続された第1のグランドボール電極(82)、
    及び上記信号スルーホールと電気的に接続された信号ボ
    ール電極(83)を有し、上記半導体素子が電気的に接
    続されている基板(13B)を有する半導体装置におい
    て、 上記基板(13B)を、 その底面の所定部位に、グランドパターン(60)を有
    し、 且つ、該グランドパターンの部位に、上記グランド層と
    電気的に接続された第2のグランドスルーホール(6
    4)を複数有し、且つ、該グランドパターンの部位に第
    2のグランドボール電極(84)を複数有する構成とし
    たことを特徴とする半導体装置。
  3. 【請求項3】 半導体素子(12)と、 電源層(15)、グランド層(16)、信号用配線パタ
    ーン層(17)を内部に有し、且つ該電源層と電気的に
    接続された電源スルーホール(18)、該グランド層と
    電気的に接続された第1のグランドスルーホール(1
    9)、及び該信号用配線パターン層と電気的に接続され
    た信号スルーホール(20)を有し、且つ底面(24)
    に上記電極スルーホールと電気的に固定された電源ピン
    電極(91)、上記第1のグランドスルーホールと電気
    的に固定された第1のグランドピン電極(92)、及び
    上記信号スルーホールに固定された信号ピン電極(9
    3)を有し、上記半導体素子が電気的に接続されている
    基板(13C)を有する半導体装置において、 上記基板(13C)を、 その底面の所定部位に、グランドパターンを有し、 且つ、該グランドパターンの部位に、上記グランド層と
    電気的に接続された第2のグランドスルーホール(6
    4)を複数有し、且つ、該第2のスルーホールに固定さ
    れた第2のグランドピン電極(94)を有する構成とし
    たことを特徴とする半導体装置。
  4. 【請求項4】 請求項1のグランドパターン(60)
    は、上記電源ランド電極、グランドランド電極、信号ラ
    ンド電極が配されている領域より外側の領域(29)
    に、上記基板の周囲に沿って帯状に形成してあり、4つ
    の辺部(61-1〜61-4)を有し、 上記第2のグランドスルーホール(64)は、上記辺部
    に沿って並んだ構成としたことを特徴とする半導体装
    置。
  5. 【請求項5】 請求項2のグランドパターン(60)
    は、上記電源ボール電極、グランドボール電極、信号ボ
    ール電極が配されている領域より外側の領域(29)
    に、上記基板の周囲に沿って帯状に形成してあり、4つ
    の辺部(61-1〜61-4)を有し、 上記第2のグランドスルーホール(64)は、上記辺部
    に沿って並んだ構成としたことを特徴とする半導体装
    置。
  6. 【請求項6】 請求項3のグランドパターン(60)
    は、上記電源ピン電極、グランドピン電極、信号ピン電
    極が配されている領域より外側の領域(29)に、上記
    基板の周囲に沿って帯状に形成してあり、4つの辺部
    (61-1〜61-4)を有し、 上記第2のグランドスルーホール(64)は、上記辺部
    に沿って並んだ構成としたことを特徴とする半導体装
    置。
  7. 【請求項7】 請求項4乃至請求項6のうちいずれか一
    項の第2のグランドスルーホール(64)を、上記辺部
    のうち、中央部分に、他の部分に比べて密に設けた構成
    としたことを特徴とする半導体装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7151319B2 (en) 2003-06-27 2006-12-19 Hitachi, Ltd. Semiconductor device

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7321485B2 (en) 1997-04-08 2008-01-22 X2Y Attenuators, Llc Arrangement for energy conditioning
US7336468B2 (en) 1997-04-08 2008-02-26 X2Y Attenuators, Llc Arrangement for energy conditioning
US9054094B2 (en) 1997-04-08 2015-06-09 X2Y Attenuators, Llc Energy conditioning circuit arrangement for integrated circuit
US6195268B1 (en) * 1997-06-09 2001-02-27 Floyd K. Eide Stacking layers containing enclosed IC chips
US6058022A (en) * 1998-01-07 2000-05-02 Sun Microsystems, Inc. Upgradeable PCB with adaptable RFI suppression structures
US6297565B1 (en) 1998-03-31 2001-10-02 Altera Corporation Compatible IC packages and methods for ensuring migration path
JP3206561B2 (ja) * 1998-10-01 2001-09-10 日本電気株式会社 多層配線基板
JP3179420B2 (ja) * 1998-11-10 2001-06-25 日本電気株式会社 半導体装置
JP3368870B2 (ja) * 1999-06-25 2003-01-20 日本電気株式会社 パッケージ基板及びこれを備えた半導体装置
US6407564B1 (en) * 1999-08-04 2002-06-18 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Universal BGA board for failure analysis and method of using
US6553555B1 (en) * 1999-08-27 2003-04-22 Dell Products L.P. Maintaining signal guard bands when routing through a field of obstacles
GB2377080B (en) * 2001-09-11 2003-05-07 Sendo Int Ltd Integrated circuit package and printed circuit board arrangement
US20040080917A1 (en) * 2002-10-23 2004-04-29 Steddom Clark Morrison Integrated microwave package and the process for making the same
GB2439862A (en) 2005-03-01 2008-01-09 X2Y Attenuators Llc Conditioner with coplanar conductors
US9713258B2 (en) * 2006-04-27 2017-07-18 International Business Machines Corporation Integrated circuit chip packaging
KR102214509B1 (ko) * 2014-09-01 2021-02-09 삼성전자 주식회사 반도체 장치용 테스트 소켓 및 그를 포함하는 테스트 장치

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4498122A (en) * 1982-12-29 1985-02-05 At&T Bell Laboratories High-speed, high pin-out LSI chip package
JPS63272059A (ja) * 1987-04-30 1988-11-09 Sumitomo Electric Ind Ltd 半導体装置および半導体装置を基板に実装した装置
JPH0775279B2 (ja) * 1987-06-25 1995-08-09 イビデン株式会社 半導体装置
US4922325A (en) * 1987-10-02 1990-05-01 American Telephone And Telegraph Company Multilayer ceramic package with high frequency connections
US4860165A (en) * 1988-04-27 1989-08-22 Prime Computer, Inc. Semiconductor chip carrier package
JPH02125650A (ja) * 1988-11-04 1990-05-14 Nec Corp 半導体装置用パッケージ
JPH02246235A (ja) * 1989-03-20 1990-10-02 Fujitsu Ltd 集積回路装置
JP2995484B2 (ja) * 1990-04-24 1999-12-27 日本軽金属株式会社 有機フッ素化合物合成用無水フッ化カリウムの製造方法
EP0459179B1 (de) * 1990-05-28 1995-04-05 Siemens Aktiengesellschaft IC-Gehäuse, bestehend aus drei beschichteten dielektrischen Platten
US5293072A (en) * 1990-06-25 1994-03-08 Fujitsu Limited Semiconductor device having spherical terminals attached to the lead frame embedded within the package body
JPH0468598A (ja) * 1990-07-09 1992-03-04 Hitachi Ltd 多層配線回路基板
JPH05160292A (ja) * 1991-06-06 1993-06-25 Toshiba Corp 多層パッケージ
JPH04372206A (ja) * 1991-06-21 1992-12-25 Mitsubishi Electric Corp マイクロ波帯ic用パッケージ
JPH0575313A (ja) * 1991-09-11 1993-03-26 Oki Electric Ind Co Ltd 混成集積回路装置
CA2089435C (en) * 1992-02-14 1997-12-09 Kenzi Kobayashi Semiconductor device
JP3023265B2 (ja) * 1992-09-26 2000-03-21 日本特殊陶業株式会社 集積回路用パッケージ本体
US5315069A (en) * 1992-10-02 1994-05-24 Compaq Computer Corp. Electromagnetic radiation reduction technique using grounded conductive traces circumscribing internal planes of printed circuit boards
US5450046A (en) * 1992-10-29 1995-09-12 Nec Corporation Composite microwave circuit module assembly and its connection structure
US5338570A (en) * 1993-02-18 1994-08-16 Westinghouse Electric Corp. Method for finishing wood slatted articles of furniture
US5291062A (en) * 1993-03-01 1994-03-01 Motorola, Inc. Area array semiconductor device having a lid with functional contacts

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7151319B2 (en) 2003-06-27 2006-12-19 Hitachi, Ltd. Semiconductor device

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