JPH07110832B2 - ビシクロオクタン類 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 本発明は強い血小板凝集阻害作用等を有し、さらに、そ
の作用の持続性が優れているカルバサイクリン誘導体の
合成中間体に関するものである。

最近、強力な血小板凝集阻害作用を表わすプロスタサイ
クリン（PGI₂）が発見されてその生理作用が注目され、
数多くのグループによつてその類縁化合物の研究がなさ
れているが、本発明者等はα一側鎖に酸素原子又は硫黄
原子を有する新規なカルバサイクリン類を合成し、薬理
活性を検討したところ、これらの誘導体、例えば、式 （式中、R⁴は、アルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、シクロアルキル基又はフエノキシメチル基等を示
す。）を有するイソカルバサイクリン類（II）はすぐれ
た血小板凝集阻害作用等有し、その作用の持続性が優れ
ていることを見出した（特開昭60−181041号）。

そして、本発明者等は上記化合物の合成法について鋭意
検討し、合成中間体として有用であり、かつ光学異性体
及び幾何異性体の分離が容易な化合物を見出して、本発
明を完成した。

〔発明の構成〕

本発明に係る合成中間体は一般式（Ｉ）を有する化合物
である。

上記式中、R¹は、 式 を有する基（式中R²は、C₁−C₁₀のアルキル基、C₃−C₇
のシクロアルキル基又はアリール基を示す。）又は、 式 を有する基（式中、R³は、水素原子、C₁−C₁₀のアルキ
ル基、C₃−C₇のシクロアルキル基、アリール基、アラル
キル基又はトリ置換シリル基を示し、ｎは、０又は１の
整数を示す。）を示す。

R²及びR³のC₁−C₁₀のアルキル基は、例えば、メチル、
エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イ
ソブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ｎ−ヘキシ
ル、ｎ−ペプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デ
シルであり得、好適には、C₁−C₄のアルキル基である。

C₃−C₇のシクロアルキル基は、例えば、シクロプロピ
ル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル
（メチル、イソプロピルのようなC₁−C₄アルキル基で置
換されていてもよい。）シクロヘプチルであり得、好適
には、C₅−C₆のシクロアルキル基である。

R²及びR³のアリール基は、例えば、フエニル、インデニ
ル、ナフチルであり得、環上には置換基を有してもよ
く、それらは、例えば、前述したC₁−C₄のアルキル基、
メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキ
シ、ｎ−ブトキシのようなC₁−C₄のアルコキシ基、フル
オロ、クロロ、ブロモ、ヨードのようなハロゲン原子、
トリフルオロメチル基、ニトロ基又はホルミル、アセチ
ル、プロピオニル、ｎ−ブチリル、イソブチリルのよう
な脂肪族アシル基であり得る。

R³のアラルキル基は、C₁−C₄のアルキル−アリール基で
あり、C₁−C₄のアルキル及びアリールは、前述したもの
と同様の基であり得る。

R³のトリ置換シリル基は、例えば、トリメチルシリル、
トリエチルシリル、ジメチル−ｔ−ブチルシリル、ジメ
チルフエニルシリル、ジフエニル−ｔ−ブチルシリルの
ようなC₁−C₄のアルキル及びフエニル基から選らばれた
３個の基によつて置換されたシリル基であり得、好適に
は、ジメチル−ｔ−ブチルシリル、ジフエニル−ｔ−ブ
チルシリルである。

化合物（Ｉ）は、平面構造式で表わされているが環上の
２つの置換基に基づく立体異性体、不斉炭素に基づく光
学異性体を含む。本願発明は、特にこれに限定されるも
のではない。

本発明に係る化合物（Ｉ）は、以下の方法に従つて容易
に製造される。

Ａ法 Ｂ法 Ｃ法 上記式中、R²及びR³は、前述したものと同意義を示し、
R⁵及びR⁶は、同一又は異なつて水酸基の保護基を示し、
点線を含む結合は、２位又は３位の二重結合を示す。

R⁵及びR⁶の水酸基の保護基としては、通常使用される水
酸基の保護基なら特に限定されないが、例えばアセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ベンゾイ
ル、ナフトイルのような低級脂肪族若しくは芳香族アシ
ル基；ベンジル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−メトキシベ
ンジルのようなアラルキル基;2−テトラヒドロピラニ
ル、２−テトラヒドロフラニル、４−メトキシテトラヒ
ドロピラン−４−イル、２−テトラヒドロチオピラニル
のようなアルコキシ基を置換分として有するか有しない
環内に酸素原子又は硫黄原子を含有する５乃至６員環状
の複素環基；メトキシメチル、エトキシメチル、ベンジ
ルオキシメチルのようなアルコキシ基若しくはアラルキ
ルオキシ基を置換分として有するメチル基;1−メトキシ
エチル、１−エトキシエチルのような１−アルコキシエ
チル基；又はトリメチルシリル、トリエチルシリル、ト
リｎ−プロピルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、ジ
フエニルｔ−ブチルシリルのようなトリ低級アルキル若
しくはジアリール低級アルキルシリル基をあげることが
できるが、好適にはアラルキル基、５乃至６員環状の複
素環基、ベンゾイル基、ジ低級アルキルｔ−ブチルシリ
ル基又はジアリール−ｔ−ブチルシリル基である。

Ａ法は、化合物（Ｉ）において、R¹が式 を有する基（式中、R³は、前述したものと同意義を示
す。）である化合物（Ia）を製造する方法である。

Ａ法第１工程は一般式（IV）を有する化合物を製造する
工程で、一般式（III）を有するケトン誘導体に一般式 又は一般式 〔式中、R³は前述したものと同意義を示し、R⁷はフエニ
ルのようなアリール基又はメチル、ｎ−ブチルのような
アルキル基を示し、Ａは式 を有する基（式中、R⁷は、前述したものと同意義を示
す。）又は式 を有する基を示し、Ｍはリチウム、ナトリウム、カリウ
ムのようなアルカリ金属原子を示す。〕を有するウイテ
ツヒ又は変法ウイテツヒ試剤を反応させることによつて
達成される。

本工程の原料化合物（IV）は刊行物、例えば特開昭54−
95552号、特開昭54−130543号、特開昭55−28945号又は
特開昭55−57559号等に記載されているか又は上記刊行
物記載の方法によつて容易に得られる化合物である。

反応に使用される前記一般式（IX）又は（Ｘ）を有する
ウイテツヒ又は変法ウイテツヒ試剤は、常法に従つて溶
剤の存在下で一般式 又は一般式 Ａ−CH₂CO₂R₃ （Ｘ′） （式中、R³，R⁷及びＡは前述したものと同意義を示し、
Ｘは塩素、臭素、沃素のようなハロゲン原子を示す。） を有する化合物に水素化ナトリウム、水素化カリウムの
ような水素化アルカリ金属あるいはナトリウムメトキシ
ド、ナトリウムエトキシド、カリウムtert−ブトキシド
のようなアルカリ金属アルコキシド、ナトリウムアミ
ド、カリウムアミドのようなアルカリ金属アミド、ｎ−
ブチルリチウムのようなアルキルアルカリ金属、ナトリ
ウムジメチルスルホキシドアニオンのようなアルカリ金
属ジメチルスルホキシドアニオンなどのアルカリ金属塩
基を反応させることによつて得ることができる。使用さ
れる溶剤としては一般にウイテツヒ反応に用いられる溶
剤が特に限定なく用いられ、例えばエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタンのよ
うなエーテル類；スルホランのようなチオエーテル類；
ベンゼン、トルエン、ヘキサンのような炭化水素類；ジ
メチルスルホキシドのようなジアルキルスルホキシド
類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのよ
うな脂肪酸ジアルキルアミド類；ジクロルメタン、クロ
ロホルムのようなハロゲン化炭化水素類；ヘキサメチル
ホスホルトリアミド（HMPA）のようなリン酸トリアミド
類等の不活性有機溶剤又はそれらの混合溶剤をあげるこ
とができる。また反応は窒素、アルゴン、ヘリウムのよ
うな不活性ガス中で好適に行なわれる。反応温度には特
に限定はなく、通常は−10℃乃至溶剤の還流温度で行な
われ、好適には室温付近で行われ、反応時間は、反応温
度などによつて異なるが、通常は１乃至50時間である。

反応終了後、ウイテツヒ反応の目的化合物は常法に従つ
て反応混合物から採取される。例えば反応終了後、反応
混合物に氷水を加え、次いで必要に応じて酸処理を行な
い、エーテルのような有機溶剤を加えて抽出し、得られ
る有機溶剤層を水洗し乾燥した後、有機溶剤層より溶剤
を留去することによつて得られる。

第２工程は、一般式（Ｖ）を有する環上に二重結合を有
する化合物を製造する工程で、化合物（IV）を、不活性
溶剤中、塩基と処理することによつて達成される。本工
程の目的化合物（Ｖ）は、通常２−エン体と３−エン体
の混合物で得られる。

使用される塩基としては、ジイソプロピルアミノリチウ
ム、イソプロピルシクロヘキシルアミノリチウム、ジシ
クロヘキシルアミノリチウム、ビス（トリメチルシリ
ル）アミノリチウムのようなアミノリチウム又はナトリ
ウムメトキシド、ナトリウム、エトキシド、カリウム、
エトキシド、ナトリウム ｎ−プロポキシド、カリウム
ｔ−ブトキシド、ナトリウムｔ−ペントキシドのような
アルカリ金属 アルコキシドをあげることができるが、
好適には、アミノリチウム類である。

使用される不活性溶剤としては、反応に関与しなければ
特に制限されないが、好適には、エーテル、テトラヒド
ロフラン、ジメトキシエタンのようなエーテル類であり
添加物として、ヘキサメチルホスホリツクトリアミド
（HMPA）又はテトラメチルエチレンジアミン等のアミン
類を加えることができる。

反応温度は通常、−70℃乃至０℃であり、反応に要する
時間は30分間乃至３時間である。

反応終了後、反応目的物は常法に従つて反応混合物から
採取される。例えば、反応混合物を氷水にあけ、水不混
和性有機溶剤で抽出し、有機溶剤を留去することによつ
て得ることができる。

さらに、必要に応じて、常法、例えばカラムクロマトグ
ラフイー、再結晶法等によりさらに精製することもでき
る。

又、所望により、２−エン体と３−エン体の混合物を、
常法、例えば分取高速液体クロマトグラフイー等によつ
て分離し、２−エン体を次の第３工程の原料とすること
もできる。

第３工程は、化合物（Ｖ）の水酸基の保護基であるR⁵及
びR⁶を除去して、目的化合物（Ia）を製造する工程であ
る。

水酸基の保護基が低級脂肪族若しくは芳香族アシル基の
場合には、その除去は通常の加溶媒又は加水分解反応に
よつて行なわれる。使用される酸または塩基としては一
般の加水分解反応に使用される酸または塩基が特に限定
なく使用されるが、通常は例えば水酸化リチウム、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水
酸化バリウムのようなアルカリ金属およびアルカリ土類
金属の水酸化物又は炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸
塩を用いて塩基性条件下で好適に行なわれる。使用され
る溶剤としては加水分解反応に用いられる溶剤が特に限
定なく用いなれ、例えばメタノール、エタノール、ｎ−
プロパノール、イソプロピルアルコールのようなアルコ
ール類；エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジメトキシエタンのようなエーテル類；ジメチル
スルホキシドのようなジアルキルスルホキシド類および
これらの有機溶剤と水との混合溶剤をあげることができ
る。反応時間には特に限定はなく、通常は室温付近乃至
溶剤の還流温度で行なわれる。反応時間は反応温度など
によつて異なるが、通常は１乃至12時間である。

水酸基の保護基のアラルキル基の場合には相当する化合
物を不活性溶剤中、還元剤と接触することによつて達成
される。

使用される還元剤としては、リチウム、ナトリウム、カ
リウムのようなアルカリ金属又は硫化ナトリウム若しく
は硫化カリウムのようなアルカリ金属硫化物をあげるこ
とができるが、好適にはアルカリ金属である。アルカリ
金属との反応は、液体アンモニア又は液体アンモニアと
エーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル類との
混合溶剤中で好適に行われ、アルカリ金属硫化物との反
応は、メタノール、エタノールのようなアルコール類、
テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類又
はこれら有機溶剤と水の混合溶剤中で好適に行われる。

反応温度はアルカリ金属との反応では−78℃乃至−20℃
であり、アルカリ金属硫化物との反応では０℃乃至100
℃であり、反応に要する時間は通常20分間乃至６時間で
ある。

さらに、保護基がｐ−メトキシベンジル基の場合には、
セリウムアンモニウムフルオライドと含水アセトン中、
室温付近で処理することによつても除去れ、又はジクロ
ロジシアノキノン、過硫酸ナトリウム等の酸化剤によつ
ても除去される。

水酸基の保護基が複素環基、アルコキシ若しくはアラル
キルオキシを置換分として有するメチル基又は１−アル
コキシエチル基の場合は酸と接触させることにより容易
に達成される。使用される酸としては例えばギ酸、酢
酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸、酪酸、シユウ
酸、マロン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、ｐ−トルエンスルホン酸、カンフアースルホン酸な
どの有機酸；塩酸、臭化水素酸、硫酸などの鉱酸が好適
に使用される。反応は溶剤の存在下または不存在下で実
施されるが、反応を円滑に行なうには溶剤を使用する方
法が好ましく、使用される溶剤としては本反応に関与し
なければ特に限定はなく例えば水；メタノール、エタノ
ールなどのアルコール類；テトラヒドロフラン、ジオキ
サンなどのエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン
のようなケトン類またはこれらの有機溶剤と水との混合
溶剤が好適に使用される。反応温度には特に限定はなく
室温乃至溶剤の還流温度で行なわれる。

又、反応に要する時間は30分間乃至10時間である。

水酸基の保護基がトリ低級アルキル若しくはジアリール
低級アルキルシリル基の場合は水あるいは酸または塩基
を含有する水と接触させること又は不活性溶剤中、トリ
ブチルアンモニウムフルオライドのようなフルオライド
類と反応させることにより容易に達成される。酸または
塩基を含有する水を使用する場合に含有される酸または
塩基としては例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、
シユウ酸、マロン酸などの有機酸；塩酸、臭化水素酸、
硫酸などの鉱酸のような酸または水酸化カリウム、水酸
化カルシウムなどのアルカリ金属およびアルカリ土類金
属の水酸化物；炭酸カリウム、炭酸カルシウムなどのア
ルカリ金属およびアルカリ土類金属の炭酸塩のような塩
基が特に限定なく使用される。酸又は塩基との反応では
溶剤として水を使用すれば他の溶剤は特に必要ではな
い。他の溶剤を使用する場合は例えばテトラヒドロフラ
ン、ジオキサンなどのエーテル類；メタノール、エタノ
ールなどのアルコール類等の有機溶剤と水との混合溶剤
が使用される。フルオライドとの反応において使用され
る溶剤は、例えばエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエーテル類である。反応温度には特に限
定はないが通常は室温で好適に行なわれる。反応に要す
る時間は30分間乃至５時間である。

反応終了後、水酸基の保護基を除去する反応の目的化合
物は常法に従つて反応混合物から採取される。例えば反
応終了後、適宜溶剤を減圧で留去するか、留去しないで
反応混合物を氷水にあけ必要に応じて中和して、次いで
適当な有機溶剤を加えて抽出を行ない、抽出液を水洗し
乾燥した後、抽出液より溶剤を留去することによつて得
られる。

R⁵及びR⁶が異なる保護基であり、かつ異なる反応条件で
除去されるものである場合には、保護基は段階的に除去
され、同一の反応条件で除去される保護基の場合には、
R⁵及びR⁶は同時に除去される。

本工程において、２−エン体と３−エン体の混合物であ
る化合物（Ｖ）を原料として使用した場合には、R⁵又は
R⁶が除去された化合物及びR⁵とR⁶が除去された化合物
は、２−エン体及び３−エン体の混合物で得られる。

これらの２−エン体と３−エン体の混合物は、常法、例
えば、分取薄層クロマトグラフイー、分取高速液体クロ
マトグラフイー等によつて分離される。特に、R⁵とR⁶が
除去されたジオール体の混合物の分離は、容易に行なわ
れ、より簡便な方法、例えば再結晶法によつても、分離
できる。従つて、第２工程で得られた２−エン体と３−
エン体の混合物を原料として、第３工程の反応を行い、
得られた異性体の混合物を再結晶法等により分離する方
法は、大量合成に適し、工業的に有用であるばかりでな
く、光学活性体の製造にも有用な方法であり、又化合物
（Ia）は、工業的に光学活性なイソカルバサイクリン類
を製造するために有用な合成中間体である。

さらに、所望により、化合物（Ia）は、後述する第９工
程の同様な方法に従つて、水酸基の保護化反応を行い、
化合物（Ｖ）において、二重結合が２位に存在する化合
物を製造することもできる。

Ｂ法は、化合物（Ｉ）において、R¹が式 を有する基（式中、R²は、前述したものと同意義を示
す。）である化合物（Ib）を製造する方法である。

Ｂ法第４工程は、一般式（VI）を有するアルコール体を
製造する工程で、不活性溶剤中、化合物（Ｖ）を還元剤
と処理することによつて達成される。

使用される還元剤としては、カルボキシ基、アルコキシ
カルボニル基等をヒドロキシメチル基に還元するものな
ら特に制限されないが、好適には、水素化リチウムアル
ミニウム、水素化ホウ素リチウムのようなリチウム水素
化合物、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化ジイ
ソプロピルアルミニウムのような水素化アルミニウム化
合物をあげることができる。

使用される不活性溶剤としては、反応に関与しなければ
特に制限されないが、好適にはエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサンのようなエーテル類、ベンゼン、ト
ルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類をあげるこ
とができる。

反応温度は通常、−70℃乃至50℃であり、反応に要する
時間は30分間乃至５時間である。

反応終了後、反応目的物は常法に従つて反応混合物から
採取される。例えば、反応混合物を氷水にあけ、水不混
和性有機溶剤で抽出し、有機溶剤を留去することによつ
て得ることができる。

さらに、必要に応じて、常法、例えばカラムクロマトグ
ラフイー、再結晶法等によりさらに精製することもでき
る。

第５工程は、一般式（VII）を有するアシルオキシ体を
製造する工程で、化合物（VI）をアシル化することによ
つて達成される。

アシル化は、常法に従つて不活性溶剤中、塩基の存在
下、一般式 又は、 （式中、R²及びＸは、前述したものと同意義を示す。） を有する化合物を化合物（VI）と反応させることによつ
て行なわれる。

使用される不活性溶剤としては、反応に関与しなければ
特に制限されないが、好適には、ヘキサン、ベンゼン、
トルエンのような炭化水類、エーテル、テトラヒドロフ
ランのようなエーテル類又はメチレンクロリド、クロロ
ホルムのようなハロゲン化炭化水素類をあげることがで
きる。

本反応は、塩基の存在下に好適に行われ、使用される塩
基としては、例えば、トリエチルアミン、N,N−ジメチ
ルアニリン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、
1,8−ジアザビシクロ〔5,4,0〕ウンデセン−７等の有機
塩基をあげることがでい、溶剤を兼ねて大過剰に使用す
ることもできる。

反応温度は、通常０℃乃至100℃であり、反応に要する
時間は、30分間乃至５時間である。

反応終了後、反応目的物は常法に従つて反応混合物から
採取される。例えば、反応混合物を水にあけ、必要に応
じて酸性にした後、水不混和性有機溶剤で抽出し、有機
溶剤を留去することによつて得ることができる。さら
に、必要に応じて、常法、例えばカラムクロマトグラフ
イー、再結晶法等によりさらに精製することもできる。

第６工程は、目的化合物（Ib）を製造する工程で、化合
物（VII）に含まれる水酸基の保護基R⁵及びR⁶を除去す
ることによつて行われる。

本工程は、前記Ａ法第３工程と同様に行われ２−エン体
と３−エン体の分離も、再結晶法等により容易に行われ
る。又、所望により水酸基の保護化も行うことができ
る。

Ｃ法は、化合物（Ｉ）において、R¹が式 を有する基（式中、R³は、前述したものと同意義を示
す。）である化合物（Ic）を製造する方法である。

Ｃ法第７工程は、一般式（VIII）を有する化合物を製造
する工程で、不活性溶剤中、化合物（VI）を塩基と処理
した後、一般式 Ｘ−CH₂−CO₂R³ （XIII） （式中、R³及びＸは前述したものと同意義を示す。）を
有する化合物又はそのアルカリ金属塩と反応させること
によつて達成される。

使用される塩基としては、例えばリチウム水素、ナトリ
ウム水素、カリウム水素のようなアルカリ金属水素化
物；カルシウム水素、バリウム水素のようなアルカリ土
類金属水素化物；メチルリチウム、ｎ−ブチルリチウ
ム、フエニルリチウムのような有機リチウム化合物；ナ
トリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム
エトキシド、ナトリウムｎ−プロポキシド、カリウムｔ
−ブトキシド、ナトリウムｔ−ペントキシドのようなア
ルカリ金属アルコキシド又は水酸化カリウム、水酸化ナ
トリウムのようなアルカリ金属水酸化物をあげることが
できるが、好適には有機リチウム化合物である。

使用される不活性溶剤としては、反応に関与しなければ
特に制限されないが、例えばヘキサン、ベンゼン、トル
エン、キシレンのような炭化水素類；エーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジグライムのような
エーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミド、ヘキサメチルホスホリルトリアミドのようなアミ
ド類；又はジメチルスルホキシドのようなスルホキシド
類或いはこれらの混合溶剤をあげることができるが、好
適いはエーテル類とアミド類、又はスルホキシド類の混
合溶剤である。

反応温度は塩基との反応においては−78℃乃至50℃であ
り、化合物（XIII）との反応においては０℃乃至50℃で
ある。反応に要する時間は塩基との反応においては10分
間乃至１時間であり、化合物（XIII）との反応において
は１時間乃至48時間である。又、この工程は相間移動触
媒存在下上記溶媒等と水との二層反応として行なうこと
もできる。

反応終了後、反応目的物は常法に従つて反応混合物から
採取される。例えば、反応混合物を水にあけ、必要に応
じて酸性にした後、水不混和性有機溶剤で抽出し、有機
溶剤を留去することによつて得ることができる。さら
に、必要に応じて、常法、例えばカラムクロマトグラフ
イー、再結晶法等によりさらに精製することもできる。

第８工程は、目的化合物（Ic）を製造する工程で、化合
物（VIII）に含まれる水酸基の保護基R⁵及びR⁶を除去す
ることによつて行われる。

本工程は、前記Ａ法第３工程と同様に行われ、２−エン
体と３−エン体の分離も、再結晶法等により容易に行わ
れる。又、所望により、水酸基の保護化も行うことがで
きる。

又、化合物（VI）において２位に二重結合を有する化合
物、（VI_a）は、化合物（III）を原料として、次に示す
方法に従つて別途に製造することができる。

上記式中、R⁵、R⁶、R⁷および点線を含む結合は、前述し
たものと同意義を示す。

第９′工程は、一般式（XIV′）を有する化合物を製造
する工程で、不活性溶剤中、化合物（III）を塩基と処
理した後、一般式 （式中、R⁷およびＸは、前述したものと同意義を示
す。） を有する化合物と反応させることによつて達成される。

使用される塩基としては、カルボニル基のα位にカルバ
ニオンを発生させる塩基なら特に制限されないが、好適
には、ジイソプロピルリチウムアミド、シクロヘキシル
イソプロピルリチウムアミド、ジシクロヘキシルリチ
ウムアミド、イソプロピル １−フエニルエチルリチウ
ムアミド、２、２、６、６−テトラメチルピペリジノリ
チウムのようなリチウム第２級アミド化合物をあげるこ
とができる。

使用される不活性溶剤としては、反応に関与しなければ
特に制限されないが、好適には、エーテル、テトラヒド
ロフラン、ジメトキシエタンのようなエーテル類、ヘキ
サン、ベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン
のような炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、ヘキサメチルホスホリルトリアミドのよ
うなアミド類またはジメチルスルホキシドのようなスル
ホキシド類をあげることができる。

反応温度は、塩基との処理では、−100℃乃至０℃（好
適には、−70℃乃至０℃）であり、化合物（XVIII′）
との反応では、−70℃乃至50℃（好適には、−50℃乃至
30℃）であり、反応に要する温度は、反応温度等により
異なるが、両反応とも、５分間乃至５時間（好適には、
10分間乃至２時間）である。

第10′工程は、一般式（XV′）を有する化合物を製造す
る工程で、不活性溶剤中、パラジウム触媒の存在下、化
合物（XIV′）をトリメチルアルミニウムと反応させる
ことによつて達成される。

使用されるパラジウム触媒としては、例えば、テトラキ
ス（トリフエニルホスフイン）パラジウム、テトラキス
（トリブチルホスフイン）パラジウム、テトラキス（ト
リトリルホスフイン）パラジウムをあげることができ
る。

使用される不活性溶剤は、例えば、前記第９′工程に使
用されるものまたはメチレンクロリド、クロロホルム、
１、２−ジクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類
をあげることができる。

反応温度は、−10℃乃至100℃（好適には、０℃乃至50
℃）であり、反応に要する時間は、反応温度等により異
なるが、30分間乃至10時間（好適には、１時間乃至５時
間）である。

第11′工程は、一般式（XVI′）を有する化合物を製造
する工程で、不活性溶剤中、化合物（XV′）を酸化剤と
接触させることによつて達成される。

使用される酸化剤としては、二重結合をエポキサイドに
酸化さる酸化剤なら特に制限されないが、好適には、過
酸化水素または過酢酸、トリフルオロ過酢酸、ｍ−クロ
ロ−過安息香酸、フタル酸−モノ過酸のような有機過酸
をあげることができる。

使用される不活性溶剤は、例えば、前述のハロゲン化炭
化水素類、炭化水素類、エーテル類である。

反応温度は、−20℃乃至70℃（好適には、０℃乃至25
℃）であり、反応に要する時間は、反応温度等により異
なるが、10分間乃至10時間（好適には、30分間乃至５時
間）である。

本反応において、２位および３位に二重結合を有する化
合物の混合物である化合物（XV′）を原料として使用す
る場合には、２、３−エポキシ体（XVI′）と３、４−
エポキシ体（XVI′_ａ）の混合物として生成物が得られ
るが、これらは、常法、例えばカラムクロマトグラフイ
ー等によつて容易に分離することができ、さらに、化合
物（XIV′）を高速液体クロマトグラフイー等により分
離して２位に二重結合を有する化合物を原料として使用
する場合には、化合物（XVI′）のみが得られる。

第12′工程は、一般式（XVII′）を有する化合物を製造
する工程で、不活性溶剤中、化合物（XVI′）を、一般
式 （式中、▲Ｒ⁷ _a▼は、メチル、ブチルのようなアルキル
基を示し、Ｑは、第９′工程の第２級アミノリチウムに
おいて述べた第２級アミノ基を示す。）を有するアルミ
ニウム化合物と処理することによつて達成される。

使用される不活性溶剤は、好適には、前述したエーテル
類または炭化水素類である。

反応温度は、−20℃乃至50℃（好適には、０℃乃至25
℃）であり、反応に要する時間は、反応温度等により異
なるが、10分間乃至５時間（好適には、30分間乃至２時
間）である。

また、化合物（XIX′）は、常法に従つて、第２級アミ
ンとジアルキルアルミニウムハライドから容易に製造さ
れる。

さらに、化合物（XVII′）は、公知の方法〔例えば、Te
trahedron、Letters、27、6353（1986）〕に従つて、α
側鎖の変換を行い、さらに水酸基の脱保護化を行うこと
によつて、次式に示すカルバサククリン誘導体を製造す
ることもできる。

（式中、R⁵は、前述したものと同意義を示す。） 第13′工程は、化合物（VIa）を製造する工程で、不活
性溶剤中、化合物（XVII′）を塩基と処理した後（第１
段階）、一般式 Ｘ−CH₂Sn（▲Ｒ⁷ _a▼）_３ （XX′） （式中、▲Ｒ⁷ _a▼およびＸは、前述したものと同義を示
す。） を有する化合物と反応させ（第２段階）、さらに塩基と
処理すること（第３段階）によつて達成される。本工程
は、通常、１つの反応液中で行われる。

使用される不活性溶剤は、前述したエーテル類、炭化水
素類またはアミド類である。

第１段階および第３段階で使用される塩基としては、好
適には、ナトリウム水素、カリウム水素のようなアルカ
リ金属水素化物、第９′工程で述べた第２級アミノリチ
ウム、メチルリチウム、ブチルリチウム、フエニルリウ
ムのような有機リチウムをあげることができ、さらに好
適には、第１段階においては、アルカリ金属水素化物で
あり、第３段階では、有機リチウムである。また、上記
両段階では、12−クラウン−４、15−クラウン−５、18
−クラウン−６のようなクラウンエーテルの存在下に、
好適に行われる。

反応温度は、第１段階および第２段階では、−20℃乃至
50℃（好適には、０℃乃至25℃）であり、第３段階で
は、−100℃乃至50℃（好適には、−70℃乃至25℃）で
あり、反応時間は、反応温度等によつて異なるが、第１
段階では、10分間乃至10時間（好適には、30分間乃至５
時間）であり、第２段階では、30分間乃至20時間（好適
には、１時間乃至10時間）であり、第３段階では、10分
間乃至20時間（好適には、30分間乃至10時間）である。

以上の各工程の反応終了後、各目的化合物は常法に従つ
て反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を氷
水にあけ不溶物が存在する場合には別した、溶液が酸
性又はアルカリ性の場合には適宜中和し、水不混和性有
機溶剤で抽出した後、溶剤を留去することにより得るこ
とができる。さらに必要ならば常法、例えばカラムクロ
マトグラフイー、薄層クロマトグラフイー、再結晶法等
によつて更に精製することができる。

〔発明の効果〕

本願発明の化合物（Ｉ）は、その二重結合の位置異性体
である３−エン体と簡便な方法で容易に分離されるた
め、２−エン体と３−エン体の混合物である化合物
（Ｖ）を原料として、容易に製造でき、かつ、以下に示
す通常の方法に従つて、優れた薬理活性を有するイソプ
ロスタサイクリン類（II）に容易に導くことができる。
従つて、本化合物（Ｉ）は、光学活性体等の単一構造を
有するイソカルバサイクリン類を工業的に製造するため
の重要中間体である。

次に本願発明の化合物（Ｉ）からイソカルバサイクリン
類に導く方法について説明する。

上記式中、R¹，R³，R⁴，R⁵及びR⁶は、前述したものと同
意義を示し、R¹ _aは、式 を有する基（式中、R²は、前述したものと同意義を示
す。）又は式 （式中、R³は前述したものと同意義を示す。）を示し、
R⁸は、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチルのよ
うな活性アシル基、ジ低級アルキル−ｔ−ブチル若しく
はジアリール−ｔ−ブチルシリル基のようなシリル基又
はトリチル基を示す。

R⁴のアルキル基としては例えばメチル、エチル、ｎ−プ
ロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｎ−
ペンチル、イソペンチル、１−メチルペンチル、２−メ
チルペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、1,1−ジ
メチルペンチル、１−メチルヘキシル、２−メチルヘキ
シル、２−エチルペンチル、ｎ−オクチル、２−メチル
オクチル、ｎ−ノニル、２−メチルノニル、２−エチル
オクチル、ｎ−デシル、２−メチルデシルまたは２−エ
チルデシルのような炭素数１乃至12個のアルキル基をあ
げることができ、好適には炭素数４乃至10個を有するア
ルキル基、例えばｎ−ブチル、イソブチル、ｎ−ペンチ
ル、イソペンチル、１−メチルペンチル、２−メチルペ
ンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、1,1−ジメチル
ペンチル、１−メチルヘキシル、２−メチルヘキシル、
２−エチルペンチル、ｎ−オクチル、２−メチルオクチ
ルまたは２−エチルオクチル基であり、さらに好適には
ｎ−ペンチル、１−メチルペンチル、ｎ−ヘキシル、1,
1−ジメチルペンチル、１−メチルヘキシル基または２
−メチルヘキシル基である。

R⁴のアルケニル基としては、１−ブチルビニル、アリ
ル,2−プロピルアリル、２−ブテニル、２−ペンテニ
ル、４−ペンテニル、２−メチル−３−ペンテニル、４
−メチル−３−ペンテニル、１−メチル−４−ペンテニ
ル、４−ヘキセニル、５−ヘキセニル、1,4−ジメチル
−３−ペンテニル、５−ヘプテニル、１−メチル−５−
ヘキセニル、６−メチル−５−ヘプテニル、2,6−ジメ
チル−５−ヘプテニル、1,1,6−トリメチル−５−ヘプ
テニル、６−メチル−５−オクテニル、2,6−ジメチル
−５−オクテニル、６−エチル−５−オクテニル、２−
メチル−６−エチル−５−オクテニル、2,6−ジエチル
−５−オクテニルのような炭素数３乃至12個を有する直
鎖状若しくは分枝鎖状のアルケニル基をあげることがで
き、好適には１−ブチルビニル、２−プロピルアリル、
２−ペンテニル、４−ペンテニル、２−メチル−３−ペ
ンテニル、４−メチル−４−ペンテニル、１−メチル−
４−ペンテニル、４−ヘキセニル、５−ヘキセニル、1,
4−ジメチル−３−ペンテニル、５−ヘプテニル、１−
メチル−５−ヘキセニル、６−メチル−５−ヘプテニ
ル、2,6−ジメチル−５−ヘプテルのような炭素数５乃
至９個のアルケニル基である。

R⁴のアルキニル基としては、例えばプロピルギル、２−
ブチニル、２−ペンチニル、３−ペンチニル、１−メチ
ル−２−ブチニル、２−ヘキセニル、１−メチル−２−
ペンチニル、１−メチル−３−ペンチニル、1,1−ジメ
チル−２−ペンチニル、1,1−ジメチル−３−ペンチニ
ル、1,1−ジメチル−２−ヘキシニルのような炭素数３
乃至８個を有するアルキニル基をあげることができ、好
適には炭素数４乃至６個を有するアルキニル基、例えば
２−ブチニル、２−ペンチニル、３−ペンチニル、１−
メチル−２−ペンチニル基または１−メチル−３−ペン
チニル基であり、さらに好適には１−メチル−３−ペン
チニル基である。

R⁴のシクロアルキル基としては、例えばシクロプロピ
ル、シクロブチル、シクロペンチル、３−エチルシクロ
ペンチル、シクロヘキシル、４−メチルシクロヘキシ
ル、シクロヘプチル、メンチルのような低級アルキル基
を置換分として有してもよい３乃至７員環のシクロアル
キル基をあげることができ、好適にはシクロペンチル基
又はシクロヘキシル基である。

又、化合物（II）は、リポ製剤としても使用できる。

第９工程は、一般式（XIV）を有する化合物を製造する
工程で、化合物（Ｉ）を一般式 R⁸−Ｘ （XXIII） （式中、R⁸及びＸは、前述したものと同意義を示す。）
を有するハライドと反応させることによつて達成され
る。

R⁸が活性アシル基である化合物（XXIII）と化合物
（Ｉ）の反応は、前記Ａ法第５工程の相当する反応と同
様に行われるが、温和な条件で活性アシルハライドを過
剰にならないように使用することによつて好適に行われ
る。又、R⁸がトリ置換シリル基又はトリチル基である化
合物（XXIII）と化合物（Ｉ）との反応は、温和な条件
で後述する第10工程の相当する反応と同様に行われる。

第10工程は、一般式（XV）を有する化合物を製造する工
程で、化合物（XIV）の水酸基を保護することによつて
達成される。

反応は常法に従つて化合物（XIV）を保護基を形成する
化合物と接触させることによつて行なわれる。使用され
る保護基を形成する化合物としては例えば酢酸、プロピ
オン酸、酪酸、安息香酸、ナフタリンカルボン酸のよう
なカルボン酸若しくはその反応性誘導体；ベンジルクロ
リド、ベンジルブロミド、ｐ−ニトロベンジルブロミ
ド、ｐ−メトキシベンジルブロミド、トリチルクロリド
のようなアラルキルハライド化合物；ジヒドロピラン、
ジヒドロチオピラン、ジヒドロチオフエン、４−メトキ
シ−5,6−ジヒドロ−（2H）ピランのような５若しくは
６員環状の複素環化合物；メトキシメチルクロリド、エ
トキシエチルクロリド、ベンジルオキシメチルクロリド
のようなアルコキシ若しくはアラルキルオキシ置換アル
キルハライド化合物；メチルビニルエーテル、エチルビ
ニルエーテルのような不飽和エーテル類；ヘキサメチル
ジシラサン、トリメチルシリルクロリド、トリ−ｎ−プ
ロピルシリルクロリド、ｔ−ブチルジメチルシリルクロ
リド、ジフエニルｔ−ブチルシリルクロリドのようなシ
リル化合物などをあげることができる。

カルボン酸化合物を使用する場合には、ジシクロヘキシ
ルカルボジイミドのような縮合剤の存在下に好適に行わ
れる。

カルボン酸の反応性誘導体としては、例えば酢酸クロリ
ド、酢酸ブロミド、ベンゾイルクロリド、ベンゾイルブ
ロミド、ナフトイルクロリドのような酸ハライド化合物
又は無水酢酸、無水プロピオン酸、無水安息香酸のよう
な酸無水物をあげることができ、本誘導体を使用する場
合には、トリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルア
ミノピリジン、キノリン、N,N−ジメチルアニリンのよ
うな有機塩基の存在下に好適に行われる。

本反応は溶剤の存在下で行われる。使用される溶剤とし
ては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、ｎ−ヘキ
サンのような炭化水素類、塩化メチレン、クロロホル
ム、四塩化炭素、クロルベンゼンのようなハロゲン化炭
化水素類、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン
のようなエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンの
ようなケトン類をあげることができるが、好適には炭化
水素類である。

反応温度は通常０℃〜100℃であり、反応に要する時間
は反応試剤、反応温度、溶剤等により異なるが、30分間
乃至６時間である。

アラルキルハライド化合物、アルコキシ若しくはアラル
キルオキシ置換アルキルハライド化合物又はシリル化合
物を使用する場合には、不活性溶剤中化合物（XIV）を
水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金
属水素化物と反応させ、化合物（XIV）のアルカリ金属
塩を製造した後に、相当するハライド化合物又はジシラ
ザンのようなシリル化試薬を反応させることによつて達
成される。

使用する不活性溶剤は反応に関与しなければ特に限定さ
れないが、例えばエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホリルトリアミ
ドのようなアミド類、アセトニトリル、ベンゾニトリル
のようなニトリル類又はジメチルスルホキシドのような
スルホキシド類をあげることができるが、好適にはアミ
ド類である。

反応温度は０℃乃至100℃であり、反応に要する時間は
反応試剤、反応温度等により異なるが通常10分間乃至３
時間である。

又、トリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミド
ピリジンのような有機塩基又は水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、炭酸カリウムのような無機塩基の存在下
に、化合物（XIV）と相当するハライド化合物を反応さ
せることもできる。

５若しくは６員環状の複素環化合物又は不飽和エーテル
類を使用する場合には、反応は不活性溶剤の存在下又は
不存在下少量の酸、例えば塩酸、臭化水素酸のような鉱
酸またはピクリン酸、トリフルオロ酢酸、ベンゼンスル
ホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、カンフアースルホン
酸のような有機酸の存在下で実施される。

使用される溶剤としては反応に関与しなければ特に制限
されないが、例えばエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンのようなエーテル類、塩化メチレン、クロロホ
ルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類又はベ
ンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類
をあげることができるが、好適にはハロゲン化炭化水素
類である。又、不活性溶剤の不存在下、溶剤を兼ねて複
素環化合物又はビニルエーテル化合物を過剰に使用する
ことによつても反応は行われる。

反応温度は通常０℃乃至50℃であり、反応に要する時間
は反応試剤、反応温度等により異なるが、30分間乃至３
時間である。

以上の各反応終了後、水酸基の保護された目的化合物は
常法に従つて反応混合物から採取される。例えば、反応
混合物を氷水にあけ不溶物が存在する場合には別した
後、溶液が酸性又はアルカリ性の場合には適宜中和し、
水不混和性有機溶剤で抽出した後、溶剤を留去すること
により得ることができる。さらに必要ならば常法、例え
ばカラムクロマトグラフイー、薄層クロマトグラフイ
ー、再結晶法等によつて更に精製することができる。

なお、R⁸がトリ置換シリル基又はトリチル基である場合
には、R⁵は、好適には５乃至６員環状複素環基又はアシ
ル基である。

第11工程は、一般式（XVI）を有する化合物を製造する
工程で、化合物（XV）のR⁸を除去することによつて達成
される。

R⁸が活性アシル基である場合には、R⁸の除去は、相当す
る化合物を、不活性溶剤中、弱塩基と温和な条件で反応
させることによつて行われる。

使用される弱塩基としては、例えば、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩；
酢酸ナトリウム、酢酸カリウムのような脂肪族カルボン
酸のアルカリ金属塩；塩基性アルミナ；又はトリエチル
アミン、ピリジンのような有機アミン類をあげることが
できるが、好適にはアルカリ金属重炭酸塩である。

使用される不活性溶剤は反応に関与しなければ特に制限
されないが、例えばメタノール、エタノール、ｎ−プロ
パノール、イソプロピルアルコールのようなアルコール
類；エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ジメトキシエタンのようなエーテル類；ジメチルス
ルホキシドのようなジアルキルスルホキシド類およびこ
れらの有機溶剤と水との混合溶剤をあげることができ
る。反応時間には特に限定はなく、通常は室温乃至50℃
で行われる。反応時間は反応時間などによつて異なる
が、通常は１乃至12時間である。

又、R⁸がトリ置換シリル基又はトリチル基である場合に
は、R⁸は、それぞれ前記Ａ法第３工程の相当する反応に
従つて除去される。又、R⁵とR⁸の保護基の組合せにより
適宜反応条件を選択することができる。

第12工程は一般式（XVII）を有するホルミル体を製造す
る工程で、化合物（XVI）を酸化することによつて達成
される。

本反応は１級アルコールをアルデヒドに酸化する通常の
方法に従つて行われる。

使用される酸化剤としては例えば無水クロム酸、無水ク
ロム酸−ピリジン錯塩（Collins試薬、）、無水クロム
酸−濃硫酸−水（Jones試薬）、重クロム酸ナトリウ
ム、重クロム酸カリウムなどのクロム酸類;N−ブロムア
セトアミド、Ｎ−ブロムスクシンイミド、Ｎ−ブロムフ
タルイミド、Ｎ−クロル−ｐ−トルエンスルホンアミ
ド、Ｎ−クロルベンゼンスルホンアミドなどの有機活性
ハロゲン化合物；アルミニウム−tert−ブトキシド、ア
ルミニウムイソプロポキシドなどのアルミニウムアルコ
キシド類；ジメチルスルホキシド−ジシクロカルボジイ
ミド；ピリジン−無水硫酸、チオアニソール−塩素など
が好適に用いられる。

反応は、不活性有機溶剤中、好適に行われ、使用され溶
剤としては、例えばメチレンクロリド、クロロホルム、
四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類、エーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサンようなエーテル類、ア
セトン、メチルエチルケトンのようなケトン類又はジメ
チルスルホキシドのようなスルホキシド類をあげること
ができる。必要ならばトリエチルアミン等の塩基を加え
ることができる。

反応温度は０℃乃至室温であり、反応に要する時間は通
常30分間乃至３時間である。

反応終了後、目的のホルミル化合物は常法に従つて反応
混合物から採取される。例えば反応終了後、不溶物が存
在する場合には別して、氷水にあけ、適宜中和した
後、水不混和性有機溶剤で抽出し、溶剤を留去すること
によつて得ることができる。

さらに、必要に応じて、常法、例えばカラムクロマトフ
ラフイー、再結晶法等によりさらに精製することもでき
る。

又、化合物（Ｉ）を直接上記方法により酸化し、ホルミ
ル化合物を製造し、次いで水酸基を保護することによつ
ても化合物（XVII）を製造できる。

第13工程は、一般式（XVIII）を有する化合物を製造す
る工程で、化合物（XVII）に、一般式 又は、 （式中、R⁴，R⁷及びＭは前述したものと同意義を示
す。） を有する化合物を反応させることによつて達成される。

本工程は、前記Ａ法第１工程と同様に行われる。

第14工程は一般式（XIX）を有するアルコール誘導体を
製造する工程で、化合物（XVIII）を還元剤と反応させ
ることによつて達成される。

本反応は通常不活性溶剤中で行われる。

使用される還元剤としてはカルボニル基のみを水酸基に
変換する還元剤であれば特に限定はなく、例えば水素化
ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ
素リチウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化トリ−tert−ブ
トキシアルミニウムリチウム、水素化トリメトキシアル
ミニウムリチウム、水素化シアノホウ素ナトリウムなど
の水素化金属化合物又はアルミニウムイソプロポキシ
ド、ジイソブチル−（2,6−ジ−ｔ−ブチル−４−メチ
ルフエノキシ）アルミニウムのようなアルミニウム化合
物をあげることができるが、好適には水素化ホウ素ナト
リウムである。

又、二重結合の還元を抑制するために、塩化セリウム等
を加えることもできる。

使用される不活性溶剤は反応に関与しなければ特に限定
されないが、例えばメタノール、エタノール、ｎ−プロ
パノール、ｎ−ブタノール、ｔ−ブタノールのようなア
ルコール類又はエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンのようなエーテル類又はこれらの混合溶剤をあげる
ことができるが、好適にはアルコール類、特にメタノー
ルである。

反応温度は通常０℃乃至室温であり、反応に要する時間
は反応試剤、反応温度等により異なるが10分間乃至２時
間である。

反応終了後、本工程の目的化合物は常法に従つて、反応
混合物から採取される。例えば反応終了後、溶剤を減圧
下で留去し、氷水を加えて水不混和性有機溶剤で抽出
し、有機溶剤を留去することによつて得られる。

第15工程は、化合物（II）を製造する工程で、化合物
（XIX）において、R¹が式 を有する基（式中、R³は、前述したものと同意義を示
す。）である化合物（XIX_a）の水酸基の保護基R⁵を除去
し、加水分解することによつて達成される。

R⁵の除去反応及び加水分解は、前記Ａ法第３工程の相当
する反応と同様に行われる。

第16工程は、一般式（XX）を有する化合物を製造する工
程で、化合物（XIX）において、R¹が式R¹ _a（式中、R¹ _a
は、前述したものと同意義を示す。）である化合物（XI
X_b）の水酸基を保護することによつて達成される。

本工程は、前記第10工程と同様に行われる。

第17工程は、一般式（XXI）を有する化合物を製造する
工程で、R¹ _aが式 を有する基（R²は前述したものと同意義を示す。）であ
る場合には、相当する化合物を加水分解することによ
り、又R¹ _aが式 を有する基（R³は、前述したものと同意義を示す。）で
ある場合には、相当する化合物を還元剤と処理すること
によつて達成される。

加水分解は、前記Ａ法第３工程の相当する反応と同様に
行われ、還元剤との反応は、前記Ｂ法第４工程と同様に
行われる。

第18工程は、一般式（XXII）を有する化合物を製造する
工程で、化合物（XXI）を前記化合物（XIII）と前記Ｃ
法第７工程と同様に反応させることによつて達成され
る。

第19工程は、化合物（II）を製造する工程で、化合物
（XXII）の水酸基の保護基を除去し加水分解することに
よつて達成される。

水酸基の除去反応及び加水分解は、前記Ａ法第３工程の
相当する反応と同様に行われる。

以下に実施例及び参考例をあげて、本発明をさらに具体
的に説明する。

実施例1. ６β−（２−テトラヒドロピラニルオキシメチル）−７
α−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−３−メトキ
シカルボニルメチレン−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オク
タン 55％ナトリウム水素1.43gをヘキサンで洗滌したのち、
テトラヒドロフラン67.5ml及びジメチルホルムアミド49
mlに懸濁する。氷冷した後、トリメチルホスホノアセテ
ート8.63gを加えた。次に６β−（２−テトラヒドロピ
ラニルオキシメチル）−７α−（２−テトラヒドロピラ
ニルオキシ）−３−オキソ−シス−ビシクロ〔3.3.0〕
オクタン8.21gのテトラヒドロフラン溶液14.5mlを加え
室温で４時間攪拌した。反応終了後、氷水150mlに稀釈
し酢酸エチルで抽出する。抽出液を食塩水で洗滌し硫酸
ナトリウムと共に乾燥した。溶媒を留去し得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフイーで精製すると8.
62gの油状の目的化合物が得られた。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 816,869,910,975,1032,1077,1130,1368,1656,1740 実施例2. ３−（メトキシカルボニルメチル）−６β−（２−テト
ラヒドロピラニルオキシメチル）−７α−（２−テトラ
ヒドロピラニルオキシ）−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オ
クト−２−エン及びオクト−３−エンの混合物 無水テトラヒドロフラン28mlにジシクロヘキシルアミン
1.13mlを溶解して−78℃に冷却し、15％ｎ−ブチルリチ
ウム（ヘキサン溶液）3.4mlを滴下して10分間攪拌後、
ヘキサメチルホスホルアミド1.08mlを滴下して10分間攪
拌する。次いで、エステル体（実施例1.の化合物:1.48m
l）をテトラヒドロフラン5mlに溶解して滴下し、30分間
−78℃に攪拌したのち、飽和塩化アンモニウム水溶液5m
lを加えて10分間攪拌後、室温に戻して水200mlに稀釈し
酢酸エチル抽出、抽出液を水洗、希塩酸水洗、水洗、無
水芒硝乾燥、溶媒を減圧下に留去と順次行なつて得られ
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイーに付すこ
とにより目的化合物1.45gを得た。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 818,870,910,980,1024,1038,1080,1122,1140,1260,144
0,1742 実施例3. ３−メトキシカルボニルメチル−６β−ヒドロキシメチ
ル−７α−ヒドロキシ−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オク
ト−２−エン ３−メトキシカルボニルメチル−６β−（２−テトラヒ
ドロピラニルオキシメチル）−７α−（２−テトラヒド
ロピラニルオキシ）−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オクト
−２−エンと３−エンの１対１の混合物10.4gをメタノ
ール300mlに溶解してｐ−トルエンスルホン酸3gを加え
て室温に50分間攪拌した。次いで、炭酸水素ナトリウム
水溶液を加えて中和後メタノールを減厚留去して得た残
渣に飽和硫安水溶液150mlを加えて酢酸エチルで抽出
し、抽出層を硫安水溶液にて洗浄後、無水芒硝乾燥、溶
媒を減圧留去と順次行つて得られた結晶性残渣5.9gを酢
酸エチルとｎ−ヘキサンよりの再結晶を４回繰返して行
い融点96−99℃を有する目的化合物2.3gを得た。

IRスペクトル（LBr）^νmax^cm-1： 1080,1170,1200,1215,1740,3300 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 3.10（2H,S）,3.69（3H,S）,5.54（1H,S） 〔ａ〕_ｂ＝−22.1°（Ｃ＝1,CDCl₃） 実施例4. ２β−ベンゾイルオキシメチル−３α−（２−テトラヒ
ドロピラニルオキシ）−７−メトキシカルボニルメチレ
ン−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オクタン 55％油性水素化ナトリウムの油分をｎ−ヘキサンにて洗
い取つたのちにテトラヒドロフラン30mlとジメチルホル
ムアミド20mlを加え攪拌下にトリメチルホスホノアセテ
ート2.3gを滴下し室温に30分間攪拌した。次いで、ケト
ン体（参考例22の化合物）2.3gをテトラヒドロフラン10
mlに溶解して加え室温に1.5時間攪拌した。反応液を水1
50mlに希釈して酢酸エチル抽出、抽出層を水洗、無水芒
硝乾燥、溶媒を減圧下に留去と順次行い得られた残渣を
シリカゲルクロマトグラフイーに付すことにより目的化
合物2.5gを得た。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 710,1025,1130,1205,1270,1660,1720 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 3.70（3H,S）,4.67（1H,m）,5.83（1H,br.s） 7.5（3H,m）,8.1（2H,m） 実施例5. ３−メトキシカルボニルメチル−６β−ベンゾイルオキ
シメチル−７α−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）
−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オクト−２−エンと３−エ
ンの混合物 ジシクロヘキシルアミン2.45mlを無水テトラヒドロフラ
ン60mlに溶解してチツ素ガス雰囲気下に−70℃に冷却攪
拌下にｎ−ブチルリチウム（15％−ｎ−ヘキサン溶液）
7.49mlを滴下して５時間攪拌し、ヘキサメチルホスホル
アミド2.35mlを滴下して５分間攪拌し、二重結合共役エ
ステル体（実施例４の化合物）2.53gをテトラヒドロフ
ラン10mlに溶解して加え３分間攪拌の後に飽和塩化アン
モニウム水溶液10mlを加えて室温に戻しつつ20分間攪拌
と順次行つた。反応液を水150mlに希釈して酢酸エチル
抽出、抽出層を希塩酸水洗、水洗、無水芒硝乾燥、溶媒
を減圧下に留去と順次行い得られた残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフイーに付すことにより目的化合物2.
46gを得た。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 710,1030,1120,1270,1720,1740 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 3.10（2H,s）,3.70（3H,s）,5.53（1H,br・ｓ）,7.5（3
H,m）,8.1（2H,m） 実施例6. ３−メトキシカルボニルメチル−６β−ヒドロキシメチ
ル−７α−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−シス
−ビシクロ〔3.3.0〕オクト−２−エンと３−エンの混
合物 ベンゾイルオキシ体（実施例5.の化合物）1.3gをメタノ
ール25mlに溶解して無水炭酸カリウム250mgを加えて室
温に16時間攪拌した。反応液を食塩水100mlに希釈して
酢酸エチル抽出、抽出層を水洗、無水芒硝乾燥、溶媒を
減圧下に留去と順次行い得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフイーに付すことにより目的化合物0.89
gを得た。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 1025,1075,1140,1205,1740,3450 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 3.08（2H,s）,3.68（3H,s）,4.7（1H,m）,5.50（1H,br.
s） 実施例7. ３−メトキシカルボニルメチル−６β−ヒドロキシメチ
ル−７α−ヒドロキシ−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オク
ト−２−エン ピラニル体（実施例６の化合物）1.5gを実施例３と同様
に処理して実施例３の化合物を同一の理化学的性質を有
する標記化合物0.52gを得た。

実施例8. ６β−（ジフエニル−ｔ−ブチルシリルオキシメチル）
−７α−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−３−メ
トキシカルボニルメチレン−シス−ビシクロ〔3.3.0〕
オクタン 55％油性水素化ナトリウムをヘキサンで洗滌後、テトラ
ヒドロフラン15mlおよびジメチルホルムアミド10mlに懸
濁し、トリメチルホスホノアセテート1.3mlを氷冷下に
滴下した。30分攪拌したのち、６β−（ジフエニル−ｔ
−ブチルシリルオキシメチル）−７α−（２−テトラヒ
ドロピラニルオキシ）−３−オキソ−シス−ビシクロ
〔3.3.0〕オクタン2.0gのテトラヒドロフラン溶液8mlを
加えた。室温に４時間攪拌後、氷水に稀釈し酢酸エチル
で抽出する。抽出液を飽和食塩水で洗滌したのち硫酸ナ
トリウムと共に乾燥する。溶媒を留去し得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフイーで精製すると2.26
gの油状の目的化合物が得られた。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 504,703,1113,1300,1590,1658,1710 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 1.08（9H,s）,3.68（3H,s）,5.78（1H,s）,7.3〜7.9（1
0H,m） 実施例9. ３−メトキシカルボニルメチル−６β−（ジフエニル−
ｔ−ブチルシリルオキシメチル）−７α−（２−テトラ
ヒドロピラニルオキシ）−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オ
クト−２−エンおよびオクト−３−エンの混合物 無水テトラヒドロフラン20mlにジシクロヘキシルアミン
0.84mlを溶解して−78℃に冷却し、15％ｎ−ブチルリチ
ウム（ヘキサン溶液）2.7mlを滴下して10分間攪拌後、
ヘキサメチルホスホルアミド0.69mlを滴下して10分間攪
拌する。次いで、エステル体（参考例11の化合物:914m
g）をテトラヒドロフラン5mlに溶解して滴下し、30分間
−78℃に攪拌したのち、飽和塩化アンモニウム水溶液5m
lを加えて10分間攪拌後、室温に戻して水200mlに希釈し
酢酸エチル抽出、抽出液を水洗、希塩酸水洗、水洗、無
水芒硝乾燥、溶媒を減圧下に留去と順次行なつて得られ
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイーに付すこ
とにより目的化合物をほぼ定量的に得た。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 503,700,1115,1590,1745 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 1.08（9H,s）,3.67（3H,s）,5.52（1H,br.s）,7.3〜7.9
（10H,m） 実施例10. ３−メトキシカルボニルメチル−６β−ヒドロキシメチ
ル−７α−（２−テトラヒドロピラニル）オキシ−シス
−ビシクロ〔3.3.0〕オクト−２−エン及び３−エンの
混合物 ３−（メトキシカルボニルメチル）−６β−（ジフエニ
ル−ｔ−ブチルシリルオキシメチル）−７α−（２−テ
トラヒドロピラニル）オキシ−シス−ビシクロ〔3.3.
0〕オクト−２−エンおよびオクト−３−エンの混合物
1.0gをテトラヒドロフラン5mlにとかし、１モルのテト
ラブチルアンモニウムフルオリドのテトラヒドロフラン
溶液4mlを加え室温で１時間反応する。反応終了後、飽
和食塩水にあけ酢酸エチルで抽出する。抽出液を飽和食
塩水で洗滌後乾燥する。溶媒を留去し得られた残渣をシ
リカゲルクロマトグラフイーで精製すると493mgの油状
の目的化合物が得られた。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 1025,1080,1740,3460 この化合物は実施例３と同様に処理すると実施例３の化
合物150mg（融点96−99℃）に変換された。

実施例11. ３−（メトキシカルボニルメチル）−６β−（ジフエニ
ル−ｔ−ブチルシリルオキシメチル）−７α−ヒドロキ
シ−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オクト−２−エン ３−（メトキシカルボニルメチル）−６β−（ジフエニ
ル−ｔ−ブチルシリルオキシメチル）−７α−（２−テ
トラヒドロピラニル）オキシ−シス−ビシクロ〔3.3.
0〕オクト−２−エンおよびオクト−３−エンの混合物
（956mg）と酢酸150ml、水50ml、テトラヒドロフラン
（THF）10mlの混合物を40〜50℃で５時間攪拌する。反
応終了後、飽和食塩水にあけ酢酸エチルで抽出する。抽
出液を水洗後、無水硫酸ナトリウムと共に乾燥する。溶
媒を留去し得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフイ
ーで精製すると123mgの油状の目的化合物が得られた。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 3450,1740,1590 実施例12. ３−（２−ヒドロキシエチル）−６β−（２−テトラヒ
ドロピラニルキシメチル）−７α−（２−テトラヒドロ
ピラニルオキシ）−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オクト−
２エンと３−エンの混合物 水素化アルミニウムリチウム1.6gをテトラヒドロフラン
170mlに加えて懸濁攪拌下にエステル体（実施例２の化
合物）8.4gをテトラヒドロフラン30mlに溶解して滴下し
30分間室温に攪拌した。次いで、４％水酸化ナトリウム
水溶液6.44mlを加えて室温に１時間攪拌したのち不溶物
をセライトを用いて去し液を減圧下に濃縮と順次行
い得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー
に付すことにより7.7gの目的化合物を得た。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 1020,1030,1070,1120,1135,3450 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 4.65（2H,br.s）,5.47（1H,br.s） 実施例13. ３−（２−ベンゾイルオキシエチル）−６β−（２−テ
トラヒドロピラニルオキシメチル）−７α−（２−テト
ラヒドロピラニルオキシ）−シス−ビシクロ〔3.3.0〕
オクト−２−エンと３−エンの混合物 ヒドロキシ体（実施例12の化合物）36.8gをピリジン100
mlに溶解して20℃攪拌下に塩化ベンゾイル15mlを滴下し
室温に20分間攪拌した。反応液を水400mlに希釈して酢
酸エチル抽出、抽出液を水洗、無水芒硝乾燥、溶媒を減
圧下に留去と順次行い目的化合物47gを得た。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 715,1030,1080,1120,1280,1720 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 4.44（2H,t）,4.64（2H,m）,5.47（1H,m）,7.4−8.2（5
H,m） 実施例14. ３−（２−ベンゾイルオキシエチル）−６β−ヒドロキ
シメチル−７α−ヒドロキシ−シス−ビシクロ〔3.3.
0〕オクト−２−エン ジピラニル体（実施例13の化合物）47gを実施例３と同
様に処理して得た残渣を塩化メチレンとシクロヘキサン
より再結晶を繰返し行うことにより融点87−89℃を有す
る目的化合物9.5gを得た。

IRスペクトル（KBr）^νmax^cm-1： 715,1080,1120,1280,1715,3220 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 4.43（2H,t）,5.46（1H,br.s）,7.48（3H,m）,8.05（2
H,m） ▲〔α〕²³ _D▼＝−2.8°（Ｃ＝1.0,CHCl₃） 実施例15 ３−（３−オキサ−４−メトキシカルボニルブチル）−
６β−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−７α−
（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−シス−ビシクロ
〔3.3.0〕オクト−２−エンと３−エンの混合物 ヒドロキシ体（実施例12の化合物）8.3gを後述する参考
例７と同様に処理したのちジアゾメタンのエーテル溶液
をジアゾメタン特有の黄色が消失しなくなるまで加えて
エーテルを留去することにより目的化合物8.8gを得た。
また目的化合物はモノブロム酢酸メチル等のモノハロゲ
ン酢酸メチルを用いることにより直接得ることができ
る。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 980,1030,1080,1140,1205,1740, NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 3.76（3H,s）,4.09（2H,s）,4.64（2H,m）,5.40（2H,
m） 実施例16. ３−（３−オキサ−４−メトキシカルボニルブチル）−
６β−ヒドロキシメチル−７α−ヒドロキシ−シス−ビ
シクロ〔3.3.0〕オクト−２−エン ジピラニル体（実施例15の化合物）8.8gを実施例3.と同
様に処理して融点63−64℃を有する目的化合物1.74gを
得た。

IRスペクトル（KBr）^νmax^cm-1： 1040,1075,1150,1215,1750,3260 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 3.76（3H,s）,4.10（2H,s）,5.44（1H,s） ▲〔α〕²⁵ _D▼＝−9.0°（Ｃ＝1.0,CHCl₃） 実施例17 ３−メチル−６β−（ｔ−ブチル−ジフエニルシリルオ
キシメチル）−７α−（２−テトラヒドロピラニルオキ
シ）ビシクロ〔3.3.0〕オクト−２−エンおよびオクト
−３−エンの混合物 ６β−（ｔ−ブチルジフエニルシリルオキシメチル）−
７α（２−テトラヒドロピラニルオキシン）−３−オキ
ソシス−ビシクロ〔3.3.0〕オクタン（10g）のテトラヒ
ドロフラン溶液（100ml）を、リチウムジシクロヘキシ
ルアミド溶液〔ジシクロヘキシルアミン（9.5ml）のテ
トラヒドロフラン溶液（300ml）および15％ｎ−ブチル
リチウム−ヘキサン溶液（25ml）より調製〕に氷冷下加
えた。10分間攪拌したのち、ジフエニル クロロホスフ
エート（9.0ml）を加え、室温で20分間攪拌した。反応
液を水で稀釈し、エーテルで抽出する。抽出液を飽和食
塩水で洗滌後、硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を留去
し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイ
ーで精製する。50％エーテル含有ヘキサン流出部より1
4.5gの油状のリン酸エステル体〔IRスペクトル（Liq）;
2940,1490,1190,1160,965cm^-1〕が得られた。上で得た
リン酸エステル体（14.5g）とテトラキストリフエニル
ホスフインパラジユウム（2.00g）の1.2−ジクロロエタ
ン懸濁液（200ml）に、15％トリメチルアルミニウムの
ヘキサン溶液（60ml）を加え室温３時間攪拌する。反応
液に水飽和エーテルを加え、析出物を過する。溶媒を
留出し得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
イーで精製する。３〜４％酢酸エチル含有ヘキサン流出
部より4.68gの油状の目的物が得られた。

IRスペクトル（Liq）;2920,1425,1110cm^-1 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm; 1.08（9H,s）、1.67（3H,5）、5.28（1Hbr.s）、7.3〜
7.5（6H,m）、7.6〜7.8（4H,m） 実施例18 2,3−エポキシ−３−メチル−６−（ジフエニル−ｔ−
ブチルシリルオキシメチル）−７−（２−テトラヒドロ
ピラニオキシ）−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オクタンお
よび3,4−エポキシ−３−メチル−６−（ジフエニル−
ｔ−ブチルシリルオキシメチル）−７−（２−テトラヒ
ドロピラニルオキシ）−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オク
タン メチル体（実施例17の化合物;300mg）のジクロルメタン
溶液（6ml）に85％メタクロロ過安息香酸（150mg）を氷
冷下加え、１時間撹拌した。反応液を酢酸エチルで稀釈
し、５％重曹水、飽和食塩水で洗滌後、硫酸ナトリウム
で乾燥する。溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフイーで精製するとより極性の小さ
い3,4−エポキシド（100mg）およびより極性の大きい2,
3−エポキシド（130mg）が得られた。

2,3−エポキシド； IRスペクトル（Liq）;2940,1430cm^-1， NMRスペクトル（CDCl₃）δppm; 1.08（9H,s）,1.41（3H,s）,7.3〜7.8（10H,m）， ▲〔α〕²⁶ _D▼＝−7.1°（Ｃ＝1.1,MeOH） 3,4−エポキシド； IRスペクトル（Liq）;2940,1430cm^-1， NMRスペクトル（CDCl₃）δppm; 1.08（9H,s）,1.42（3H,s）,7.3〜7.8（10H,m）， ▲〔α〕²⁶ _D▼＝−4.8°（Ｃ＝1.1,MeOH） 実施例19 ２β−ヒドロキシ−３−メチレン−６−（ジフエニル−
ｔ−ブチルシリルオキシメチル）−７−（２−テトラヒ
ドロピラニルオキシ）−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オク
タン 2,3−エポキシド（実施例18の化合物;50mg）のベンゼン
溶液（0.5mlをジエチルアルミニウム−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジニルアミド溶液（2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン（0.11ml）のベンゼン溶液（3ml）および1
5％ジエチルアルミニユウムクロリドのヘキサン溶液
（0.73ml）より調製）に氷冷下加え、30分撹拌した。反
応液を水で稀釈し、エーテルで抽出する。抽出液を水で
洗滌後、乾燥する。溶媒を留去し、得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフイーで精製すると36mgの油
状の目的物が得られた。

IRスペクトル（Liq）;3400,1110cm^-1， NMRスペクトル（CDCl₃）δppm; 1.08（9H,s）,4.94（1H,br.s）,5.06（1H,br.s）,7.3〜
7.8（10Hm）． ▲〔α〕²⁶ _D▼＝−22.6°（Ｃ＝1.1,MeOH）． 実施例20 ３−（２−ヒドロキシエチル）−６β−（２−ジフエニ
ル−ｔ−ブチルシリルオキシメチル）−７α−（２−テ
トラヒドロピラニルオキシ）−シス−ビシクロ〔3.3.
0〕オクト−２−エン 26mgの水酸化カリウムのテトラヒドロフラン懸濁液（6m
l）にアルコール体（実施例19の化合物:202mg）のテト
ラヒドロフラン溶液（4ml）を室温で加え、15分間撹拌
する。この反応液に18−クラウン−６（190mg）、次い
でトリブチルスズイオドメタン（0.2ml）を加え３時間
撹拌した。次いで反応液を−78℃に冷却し、15％ｎ−ブ
チルリチウムのヘキサン溶液（0.6ml）加え、同温度で2
0分撹拌した後、室温に放置した。反応液を水で稀釈
し、酢酸エチルで抽出した。反応液を水で洗滌したの
ち、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られ
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイーで精製す
ると50mgの油状の目的物が得られた。

IRスペクトル（Liq）;3420,2920,1110cm^-1， NMRスペクトル（CDCl₃）δppm; 1.08（9H,s）,4.62（1H,br.s）,5.40（1H,br.s）,7.3〜
7.8（10H,m）． ▲〔α〕²⁶ _D▼＝−15.9°（Ｃ＝1.1,MeOH） 実施例21 ３−（２−ベンゾイルオキシエチル）−６β−（ジフエ
ニル−ｔ−ブチルシリルオキシメチル）−７α−（２−
テトラヒドロピラニルオキシ）−シス−ビシクロ〔3.3.
0〕オクタン アルコール体（実施例20の化合物;32mg）およびベンゾ
イルクロリド（0.05ml）を用い、実施例13と同様に反
応、処理すると32mgの油状の目的化合物が得られた。

IRスペクトル（Liq）;2920,1720,1110cm^-1 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm; 1.05（9H,s）,4.38（2H,t,J＝7Hz）,5.42（1H,br.s）,
7.2〜8.2（15H,m）． ▲〔α〕²⁶ _D▼＋22.4°（Ｃ＝0.7,MeOH） 実施例22 ３−（２−ベンゾイルオキシエチル）−６β−ヒドロキ
シメチル−７α−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）
−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オクト−２−エン ピラニル体（実施例21の化合物;30mg）を実施例10と同
様に反応、処理すると18mgの油状の目的化合物が得られ
た。

IRスペクトル（Liq）;3420,2940,1715,1270cm^-1 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm; 3.02（1H,m）,4.45（2H,t,J＝6Hz）,5.46（1H,br.s） 実施例23 ３−（２−ベンゾイルオキシエチル）−６β−ヒドロキ
シメチル−７α−ヒドロキシ−シス−ビシクロ〔3.3.
0〕オクト−２−エン アルコール体（実施例22の化合物;18mg）を実施例14と
同様に反応、処理すると融点87−89℃を有する目的化合
物7mgが得られた。

参考例１ ３−メトキシカルボニルメチル−６β−トリクロルアセ
トキシメチル−７α−ヒドロキシ−シス−ビシクロ〔3.
3.0〕オクト−２−エン ジヒドロキシ体（実施例３の化合物）1.2gをベンゼン30
mlに溶解してトリエチルアミン2.22mlを加えたのち、室
温攪拌下にトリクロルアセチルクロリド0.62mlをベンゼ
ン10mlに溶解して滴下後室温に１時間攪拌した。次い
で、反応液を150mlの酢酸エチルに希釈して水洗、無水
芒硝乾燥、溶媒を減圧下に留去と順次行い1.97gの目的
化合物（ジアセチル化体と原料を含む）を得た。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 1740,1770,3430 参考例2. ３−メトキシカルボニルメチル−６β−ヒドロキシメチ
ル−７α−（２−テトラヒドロキシピラニルオキシ）−
シス−ビシクロ〔3.3.0〕オクト−２−エン トリクロルアセチル体（参考例1.の化合物）1.97gを無
水塩化メチレン4mlに溶解して2,3−ジヒドロピラン0.72
mlと少量のｐ−トルエンスルホン酸を加えて室温に20分
間攪拌した。次いで、無水炭酸カリウム400mgをメタノ
ール40mlに懸濁した溶液を加え室温に20分間攪拌した。
反応液を食塩水150mlに希釈して酢酸エチル抽出、抽出
層を水洗、無水芒硝乾燥、溶媒を減圧下に留去と順次行
つて得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイ
ーに付すことにより目的化合物1.17gを得た。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 1025,1080,1740,3460 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 3.08（2H,s）,3.70（3H,s）,3.5−3.75（1H,m）,5.52
（1H,br.s） 参考例3. ３−メトキシカルボニルメチル−６β−ホルミル−７α
−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−シス−ビシク
ロ〔3.3.0〕オクト−２−エン ヒドロキシ体（参考例2.の化合物）1.15gを11mlのジメ
チルスルホキシドに溶解してトリエチアミン5.37mlとサ
ルフアートリオキシド−ピリジンコンプレツクス3.2gを
ジメチルスルホキシド9mlに溶解して加え室温に１時間
攪拌した。反応液を150mlの水に希釈して酢酸エチル、
抽出層を水洗、無水芒硝乾燥及び溶媒を減圧下に留去と
順次行つて1.1gの目的化合物を得た。アルデヒドは不安
定である為に直ぐに次の反応に付した。

参考例4. ３−メトキシカルボニルメチル−６β−（３−オキソ−
１−オクテニル）−７α−（２−テトラヒドロピラニル
オキシ）−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オクト−２−エン 55％油性水素化ナトリウム252mgの油分をｎ−ヘキサン
にて洗浄後テトラヒドロフラン45mlを加えて懸濁攪拌下
にジメチル（２−オキソヘプチル）−ホスホネート1.35
gを加えて室温に１時間攪拌した。次いで、アルデヒド
体（参考例３の化合物（1.1g）をテトラヒドロフラン5m
lに溶解して加え室温に１時間攪拌した。反応液を150ml
の氷水に希釈して酢酸エチル抽出、抽出層を水洗、無水
芒硝乾燥、溶媒を減圧下に留去と順次行い得られた残渣
（1.4g）をシリカゲル30gを用いたカラムクロマトグラ
フイーに付すことにより油状目的化合物1.3gを得た。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 975,1020,1030,1075,1130,1160,1200,1625,1670,1695,1
740 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 0.90（3H,t）,3.08（2H,s）,3.68（3H,s）,4.57〜4.67
（1H,m）5.0（1H,br.s）,6.20（1H,q）,6.7〜7.0（1H,
m） 参考例5. ３−メトキシカルボニルメチル−６β−（３ヒドロキシ
−１−オクテニル）−７α−（２−テトラヒドロピラニ
ルオキシ）−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オクト−２−エ
ン エノン体（参考例４の化合物）1.08gと塩化第一セリウ
ム1.0gをメタノール25mlに溶解して氷冷却攪拌下に水素
化ホウ素ナトリウム50mgを加えて20分間攪拌した。反応
液を食塩水150mlに希釈して酢酸エチル抽出、抽出層を
水洗、無水芒硝乾燥、溶媒を減圧下に留去と順次行い得
られた油状残渣（1.1g）を30gのシリカゲルを用いたカ
ラムクロマトグラフイーに付すことにより目的化合物1.
07gを得た。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 970,1020,1030,1080,1140,1740,3440 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 0.90（3H,t）,3.07（2H,s）,3.68（3H,s）,4.66（1H,b
r.s）,5.48（1H,br.s）,5.63（2H,m） 参考例6. ３−（２−ヒドロキシエチル）−６β−〔３−（２−テ
トラヒドロピラニルオキシ）−１−オクテニル〕−７α
−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−シス−ビシク
ロ〔3.3.0〕オクト−２−エン ヒドロキシエステル体（参考例５の化合物）1.1gを無水
塩化メチレン2mlに溶解して2,3−ジヒドロピラン0.27ml
と少量のｐ−トルエンスルホン酸を加えて室温に30分間
攪拌したのち、水素化アルミニウムリチウム103mgを無
水テトラヒドロフラン30mlに懸濁した溶液に加え込み室
温に20分間攪拌した。次いで、４％水酸化ナトリウム水
溶液0.4mlを加えて室温に１時間攪拌したのち不溶物を
セライトを用いて去し液を減圧下に濃縮と順次行い
得られた残渣を15gのシリカゲルを用いたカラムクロマ
トグラフイーに付すことにより目的化合物1.19gを得
た。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 980,1020,1030,1080,1120,1230,1205,3470 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 4.70（2H,m）,5.3−5.7（3H,m） 参考例7. ３−（３−オキサ−４−カルボキシブチル）−６β−
〔３−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−１−オク
テニル〕−７α−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）
−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オクト−２−エン ヒドロキシ体（参考例６の化合物）1.18gを無水テトラ
ヒドロフラン3mlに溶解し氷冷攪拌下にｎ−ブチルリチ
ウム（15％ｎ−ヘキサン溶液）1.84mlを滴下したのちジ
メチルホルムアミド1.5ml、モノクロル酢酸リチウム塩
0.38g、ジメチルスルホキシド1.5ml、無水ヨウ化ナトリ
ウム1.15gと順次加えて45℃に50分間攪拌した。反応液
を氷水100mlに希釈し希塩酸水を加えて中和弱酸性とし
て酢酸エチル抽出、抽出層を水洗、無水芒硝乾燥、溶媒
を減圧下に留去と順次行い目的化合物1.56gを得た。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 970,1015,1030,1070,1130,1200,1730,1760,2650,3150 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 4.10（2H,s）,4.72（2H,m）,5.3−5.7（3H,m） 参考例8. ３−（３−オキサ−４−カルボキシブチル）−６β−
（３α−ヒドロキシ−１−オクテニル）−７α−ヒドロ
キシ−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オクト−２−エン ジピラニル体（参考例7.の化合物）1.55gをアセトン50m
lに溶解して水15mlとカンフア−スルホン酸0.33gを加え
て45℃に2.5時間攪拌した。反応液を食塩水150mlに希釈
してエーテル抽出、エーテル層を１％水酸化ナトリウム
水溶液100mlで酸性分を抽出、抽出水層に希塩酸水を加
えて中和酸性とし酢酸エチル抽出、抽出層を水洗、無水
芒硝乾燥、溶媒を減圧下に留去と順次行い得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフイーに付すことによ
り油状目的化合物0.36gと15β−ヒドロキシ体0.3gを得
た。それぞれを酢酸エチルとｎ−ヘキサンより再結晶す
ることにより融点6264℃を有する目的化合物0.25gと融
点57−59℃を有する15β−ヒドロキシ体0.16gを得た。

IRスペクトル（Nujol）^νmax^cm-1： 970,1105,1135,1210,1690,1730,3360 NMR（CDCl₃）δppm: 0.89（3H,t）,3.0（1H,m）,4.07（2H,s）,5.4−5.55（3
H,m） ▲〔α〕²⁵ _D▼＝＋6.2°（Ｃ＝1.0,MeOH） 参考例9. ３−（２−ベンゾイルオキシエチル）−６β−トリクロ
ルアセトキシメチル−７α−ヒドロキシ−シス−ビシク
ロ〔3.3.0〕オクト−２−エン ジヒドロキシ体（実施例14の化合物）4.0gを参考例１と
同様に処理して得た残渣をシリカゲルクロマトグラフイ
ーに付すことにより目的化合物4.8gを得た。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 680,715,830,1120,1250,1275,1720,1765,3430 参考例10 ３−（２−ベンゾイルオキシエチル）−６−β−ヒドロ
キシメチル−７α−（２−テトラヒドロピラニルオキ
シ）−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オクト−２−エン トリクロルアセトキシ体（参考例９の化合物）3.05gを
参考例２と同様に処理して目的化合物2.6gを得た。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 710,970,1020,1070、1110,1270,1600,1715,3420 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 4.45（2H,t）,4.68（1H,m）,5.46（1H,br.s）,7.5（3H,
m）,8.05（2H,m） 参考例11. ３−（２−ベンゾイルオキシエチル）−６β−（ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシメチル）−７α−ヒドロキシ
−シス−ビシクロ−〔3.3.0〕オクト−２−エン ジヒドロキシ体（実施例14の化合物）100mgを無水塩化
メチレン3mlに溶解してトリエチルアミン0.05ml、４−
ジメチルアミノピリジン2mg、ｔ−ブチルジメチルシリ
ルクロリド109mgを加えて溶解し室温に４時間放置し
た。反応液を水50mlに希釈して酢酸エチル抽出、抽出層
を水洗、無水芒硝乾燥、溶媒を減圧下に留去と順次行い
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイーに
付すことにより目的化合物126mgを得た。この化合物
は、ピラニル化反応に続いてシリル基をテトラブチルア
ンモニウムフロリドを用いて除去することにより参考例
10の化合物が得られる。

NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 0.9（9H,s）,4.40（2H,t）,5.45（1H,br.s）7.5（3H,
m）,8.1（2H,m） 参考例12. ３−（２−ベンゾイルオキシエチル）−６β−ホルミル
−７α−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−シス−
ビシクロ−〔3.3.0〕オクト−２−エン ヒドロキシ体（参考例10の化合物）2.5gを参考例３と同
様に処理して目的化合物2.3gを得た。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 715,975,1030,1070,1120,1280,1720,2720 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 4.44（2H,t）,4.64（1H,br.s）,5.46（1H,br.s）,7.5
（3H,m）,8.05（2H,m）,9.78（1H,m） 参考例13. ３−（３−オキサ−４−メトキシカルボニルブチル）−
６β−トリクロルアセトキシメチル−７α−ヒドロキシ
−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オクト−２−エン ジヒドロキシ体（実施例16の化合物）1.0gを参考例１と
同様に処理して目的化合物1.48gを得た。

参考例14 ３−（３−オキサ−４−メトキシカルボニルブチル）−
６β−ヒドロキシメチル−７α−（２−テトラヒドロピ
ラニルオキシ）−シス−ビシクロ−〔3.3.0〕オクト−
２−エン トリクロルアセチル体（参考例13の化合物）1.48gを参
考例2.と同様に処理して目的化合物0.97gを得た。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 980,1020,1040、1080,1140,1210,1750,3480 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 3.77（3H,s）,4.10（2H,s）,4.6−4.75（1H,m）,5.40
（1H,br.s） 参考例15 ３−（３−オキサ−４−メトキシカルボニルブチル）−
６β−ホルミル−７α−（２−テトラヒドロピラニルオ
キシ）−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オクト−２−エン ヒドロキシ体（参考例14の化合物）0.95gを参考例３と
同様に処理して目的化合物0.95gを得た。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 1030,1135,1210,1720,1735,1750 参考例16 ３−（３−オキサ−４−メトキシカルボニルブチル）−
６β−（３−オキソ−１−オクテニル）−７α−（２−
テトラヒドロピラニルオキシ）−シス−ビシクロ〔3.3.
0〕オクト−２−エン ホルミル体（参考例15の化合物）0.95gを参考例４と同
様に処理して目的化合物1.08gを得た。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 980,1035,1080,1140,1205,1625,1670,1695,1760 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 0.90（3H,t）,3.76（3H,s）,4.09（2H,s）,4.64（1H,
m）,5.40（1H,br.s）,4.20（1H,q）,6.7−7.0（1H,m） 参考例17. ３−（３−オキサ−４−メトキシカルボニルブチル）−
６β−（３−ヒドキシ−１−オクテニル）−７α−（２
−テトラヒドロピラニルオキシ）−シス−ビシクロ〔3.
3.0〕オクト−２−エン エノン体（参考例16の化合物）1.06gを参考例５と同様
に処理して目的化合物1.06gを得た。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 980,1020,1025,1080,1140,1205,1760,3450 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 0.90（3H,t）,3.76（3H,s）,4.10（2H,s）,4.67（1H,b
r.s）,5.40（1H,br.s）,5.6（2H,m） 参考例18. ３−（３−オキサ−４−メトキシカルボニルブチル）−
６β−（３α−ヒドロキシ−１−オクテニル）−７α−
ヒドロキシ−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オクト−２−エ
ン ピラニル体（参考例17の化合物）1.05gをテトラヒドフ
ラン15mlに溶解して酢酸30mlと水60mlを加えて45℃に1.
5時間攪拌した。反応液を食塩水150mlに希釈して酢酸エ
チル抽出、抽出層を冷却した１％水酸化ナトリウム水溶
液にて酢酸を除去、水洗、無水芒硝乾燥、溶媒を減圧下
に留去と順次行い得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフイーに付すことにより目的化合物0.41gと15
β−ヒドロキシ体0.25gを得た。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 965,1090,1135,1205,1750,3350 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 0.89（3H,t）,3.76（3H,s）,4.09（2H,s）,5.39（1H,b
r.s）,5.5（2H,m） ▲〔α〕²⁵ _D▼＝＋5.8°（Ｃ＝1.0,MeOH） 参考例19. ３−（３−オキサ−４−カルボキシブチル）−６β−
（３α−ヒドロキシ−１−オクテニル）−７α−ヒドロ
キシ−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オクト−２−エン エステル体（実施例18）の化合物400mgをメタノール20m
lに溶解して５％水酸化ナトリウム水溶液6.6mgを加えて
０℃に１時間攪拌した。反応液を氷水150mlに希釈して
希塩酸水にて中和し、弱酸性として酢酸エチル抽出、抽
出層を水洗、無水芒硝乾燥、溶媒を減圧下に留去と順次
行い得られた残渣を酢酸エチルとｎ−ヘキサンより再結
晶することにより参考例８の化合物と同じ物性を示す目
的化合物286mgを得た。

参考例20. ２β−ベンゾイルオキシメチル−３α−（２−テトラヒ
ドロピラニルオキシ）7,7−エチレンジオキシ−シス−
ビシクロ〔3.3.0〕オタタン ２β−ヒドロキシメチル−３α−（２−テトラヒドロピ
ラニルオキシ）−7,7−エチレンジオキシ−シス−ビシ
クロ〔3.3.0〕オクタン2.0gを実施例13と同様に処理し
て目的化合物2.7gを得た。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 710,1030,1120,1270,1720 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 3.90（4H,s）,7.5（3H,m）,8.1（2H,m） 参考例21. ２β−ベンゾイルオキシメチル−３α−ヒドロキシ−７
−オキソ−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オクタン ピラニル体（参考例20の化合物）2.7gをメタノール80ml
に溶解して水20mlとｐ−トルエンスルホン酸2gを加えて
室温に２時間攪拌した。反応液を食塩水150mlに希釈し
て酢酸エチル抽出、抽出層を水洗、無水芒硝乾燥、溶媒
を減圧下に留去と順次行い得られた残渣をシリカゲルク
ロマトグラフイーに付すことにより目的化合物1.79gを
得た。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 715,1120,1280、1720,1740,3450 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 4.15（1H,q）,4.45（2H,m）,7.5（3H,m）,8.1（2H,m） 参考例22. ２β−ベンゾイルオキシメチル−３α−（２−テトラヒ
ドロピラニルオキシ）−７−オキソ−シス−ビシクロ
〔3.3.0〕オクタン ヒドロキシ体（参考例21の化合物）1.76gを無水塩化メ
チレン3mlに溶解して2,3−ジヒドロピラン0.76mlを加え
たのちｐ−トルエンスルホン酸少量を加えて室温に30分
間攪拌した。反応液を150mlの酢酸エチルに希釈して水
洗、無水芒硝乾燥、溶媒を減圧下に留去と順次行い目的
化合物2.3gを得た。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 710,1025,1120,1270,1720,1740 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 4.68（1H,br.s） 参考例23 3,3−エチレンジオキシ−６β−（ジフエニル−ｔ−ブ
チルシリルオキシ）−７α−（２−テトラヒドロピラニ
ル）オキシ−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オクタン 3,3−エチレンジオキシ−６β−ヒドロキシメチル−７
α−（２−テトラヒドロピラニル）オキシ−シス−ビシ
クロ〔3.3.0〕オクタン30gをジメチルホルムアミド90ml
に溶解しイミダゾール10.3gとジフエニル−ｔ−ブチル
シリルクロリド39.3ml、次いで４−ジメチルアミノピリ
ジン300mgを加え室温にて50分攪拌する。水を加えたの
ち酢酸エチルで抽出する。抽出液を水洗、乾燥後溶媒を
留去する。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフイ
ーで精製すると51gの油状の目的化合物が得られた。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 1022,1590 参考例24 ３−オキソ−６β−（ジフエニル−ｔ−ブチルシリルオ
キシ）−７α−（２−テトラヒドロピラニル）オキシ−
シス−ビシクロ〔3.3.0〕オクタン 3,3−エチレンジオキサン−６β−（ジフエニル−ｔ−
ブチルシリルオキシ）−７α−（２−テトラヒドロピラ
ニル）オキシ−ビシクロ〔3.3.0〕オクタン17.8gをテト
ラヒドロフラン30ml、酢酸60ml、水60mlより成る混液に
溶解し、45〜50℃で３時間攪拌する。反応液を、水酸化
ナトリウム水溶液で中和後、酢酸エチルで抽出する。抽
出液を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルク
ロマトグラフイーで精製する。30〜40％酢酸エチルエス
テル含有ヘキサン流出部より6.31gの油状の目的化合物
を得た。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 1735,1430,1115,1025,755 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 4.08（9H,s）,3.70（2H,t,J＝7.0Hz）． 7.30〜7.55（6H,m）,7.55〜7.80（4H,m） 参考例25 ３−オキソ−６β−ヒドロキシメチル−７α−（２−テ
トラヒドロピラニル）オキシ−シス−ビシクロ〔3.3.
0〕オクタン 3,3−エチレンジオキソ−６β−ヒドロキシメチル−７
α−（２−テトラヒドロピラニル）オキシ−シス−ビシ
クロ〔3.3.0〕オクタン1.0gをテトラヒドロフラン20ml
にとかし酢酸20ml、水5mlを加えた。室温で260時間放置
したのち食塩水を加え酢酸エチルエステルで抽出する。
抽出液を食塩水で洗滌したのち芒硝で乾燥する。溶媒を
留去し得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフイーで
精製すると550mgの油状の目的化合物が得られた。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 1023,1735,3440 参考例26 ３−（３−オキサ−４−カルボキシブチル）−６β−
（３α−ヒドロキシ−３−シクロヘキシル−１−プロペ
ニル）−７α−ヒドロキシ−シス−ビシクロ〔3.3.0〕
オクタト−２−エン ３−メトキシカルボニルメチル−６β−ホルミル−７α
−（２−テトラヒドロピラニル）オキシ−シス−ビシク
ロ〔3.3.0〕オクト−２−エン1.1g及びジメチル ２−
オキソ−２−シクロヘキシルエチルホスホネート1.46g
を用い参考例4,5,6,7および８と同様に反応、処理し、
酢酸エチル−ヘキサンの混合物から再結晶すると0.22g
の目的化合物が得られた。融点92−94℃ ▲〔α〕²⁴ _D▼＝＋6.5°（Ｃ＝1,CHCl₃） IRスペクトル（Nujol）^νmax^cm-1： 973,1741,3450,3550 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 3.0（1H,br）,4.08（2H,s）,5.40（1H,s）,5.52（2H,
m） 参考例27 ３−（３−オキサ−４−カルボキシブチル）−６β−
（３α−ヒドロキシ−4,4−ジメチル−１−オクテニ
ル）−７α−ヒドロキシ−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オ
クタト−２−エン ３−メトキシカルボニルメチル−６β−ホルミル−７α
−（２−テトラヒドロピラニル）オキシ−シス−ビシク
ロ〔3.3.0〕オクト−２−エン1.1g及びジメチル ２−
オキソ−3,3−ジメチルヘプチルホスホネート1.45gを用
い参考例4,5,6,7および８と同様に反応、処理すると0.1
9gの油状の目的化合物が得られた。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 973,1738,3420 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 0.7〜1.1（9H,m）.4.08（2H,s）,5.42（1H,s）5.56（2
H,m） 参考例28 ３−（３−オキサ−４−カルボキシブチル）−６β−
（３α−ヒドロキシ−4,4−ジメチル−1,8−ノナジエニ
ル）−７α−ヒドロキシ−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オ
クタト−２−エン ３−メトキシカルボニルメチル−６β−ホルミル−７α
−（２−テトラヒドロピラニル）オキシ−シス−ビシク
ロ〔3.3.0〕オクト−２−エン1.1g及びジメチル ２−
オキソ−3,3−ジメチルオクト−７−エニルホスホネー
ト1.49gを用い参考例4,5,6,7および８と同様に反応、処
理すると0.21gの油状の目的化合物が得られた。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 975,1642,1738,3400 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 0.85（3H,s）,0.90（3H,s）,3.0（1H,br）,3.5〜4.0（4
H,m）,4.09（2H,s）,4.8〜6.1（6H,m） 参考例29 ３−（３−オキサ−４−カルボキシブチル）−６β−
（３α−ヒドロキシ−４−メチル−１−オクテニル）−
７α−ヒドロキシ−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オクタト
−２−エン ３−メトキシカルボニルメチル−６β−ホルミル−７α
−（２−テトラヒドロピラニル）オキシ−シス−ビシク
ロ〔3.3.0〕オクト−２−エン1.1g及びジメチル ２−
オキソ−３−メチルヘプチルホスホネート1.49gを用い
参考例4,5,6,7および８と同様に反応、処理すると0.29g
の油状の目的化合物が得られた。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 970,1738,3350 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 0.7〜1.10（6H,m）.3.0（1H,br）.4.07（2H,s）,5.42
（1H,s）,5.55（2H,m） 参考例30 ３−（３−オキサ−４−カルボキシブチル）−６β−
（３α−ヒドロキシ−４−メチル−6,6,7,7−テトラヒ
ドロ−１−オクテニル）−７α−ヒドロキシ−シス−ビ
シクロ〔3.3.0〕オクタト−２−エン ３−メトキシカルボニルメチル−６β−ホルミル−７α
−（２−テトラヒドロピラニル）オキシ−シス−ビシク
ロ〔3.3.0〕オクト−２−エン1.1g及びジメチル ２−
オキソ−３−メチル−5,5,6,6−テトラヒドロヘプチル
ホスホネート1.49gを用い参考例4,5,6,7および８と同様
に反応、処理すると0.29gの油状の目的化合物が得られ
た。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 970,1128,1734,3380 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 0.98（3H,m）,1.78（3H,t）,4.09（2H,s）.5.42（1H
ｓ）,5.56（2H,m） 参考例31. ３−（３−オキサ−４−カルボキシブチル）−６β−
（３α−ヒドロキシ−４−メチル−1,8−ノナジエニ
ル）−７α−ヒドロキシ−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オ
クタト−２−エン ３−メトキシカルボニルメチル−６β−ホルミル−７α
−（２−テトラヒドロピラニル）オキシ−シス−ビシク
ロ〔3.3.0〕オクト−２−エン1.1g及びジメチル ２−
オキソ−３−メチルオクト−７−エニルホスホネート1.
57gを用い参考例4,5,6,7および８と同様に反応、処理す
ると0.27gの油状の目的化合物が得られた。

▲〔α〕²⁴ _D▼＝＋7.6°（Ｃ＝1,CHCl₃） IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 975,1645,1740,3380 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 0.89（3H,m）,3.0（1H,br）,4.07（2H,s）,4.8〜6.1（6
H,m） 参考例32. ３−（３−オキサ−４−カルボキシブチル）−６β−
（３α−ヒドロキシ−３−シクロペンチル−１−プロペ
ニル）−７α−ヒドロキシ−シス−ビシクロ〔3.3.0〕
オクタト−２−エン ３−メトキシカルボニルメチル−６β−ホルミル−７α
−（２−テトラヒドロピラニル）オキシ−シス−ビシク
ロ〔3.3.0〕オクタト−２−エン1.1g及びジメチル ２
−オキソ−２−シクロペンチルエチルホスホネート1.51
gを用い参考例4,5,6,7および８と同様に反応、処理し、
酢酸エチルエステルヘキサンの混合物から再結晶すると
0.21gの目的化合物が得られた。

▲〔α〕²⁴ _D▼＝＋4.2°（Ｃ＝1,CHCl₃） 融点98−101℃ IRスペクトル（CHCl₃）^νmax^cm-1： 973,1735,3400 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 3.00（1H,br）,4.07（2H,s）,5.40（1H,s）,5.52（2H,
m） 参考例33 ３−（３−オキサ−４−カルボキシブチル）−６β−
（３α−ヒドロキシ−４−フエノキシ−１−ブテニル）
−７α−ヒドロキシ−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オクタ
ト−２−エン ３−メトキシカルボニルメチル−６β−ホルミル−７α
−（２−テトラヒドロピラニル）オキシ−シス−ビシク
ロ〔3.3.0〕オクト−２−エン1.1g及びジメチル ２−
オキソ−３−フエノキシプロピルホスホネート1.67gを
用い50℃にて参考例４と同様に反応、処理し、次いで参
考例5,6,7および８と同様に反応、処理すると0.19gの油
状の目的化合物が得られた。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 975,1590,1600,1740,3350 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 3.01（1H,br）,3.4〜4.3（5H,m）.4.07（2H,s）,4.52
（1H,br）,5.42（1H,s）,5.72（2H,m）,6.8〜7.5（5H,
m） 参考例34. ３−（３−オキサ−４−カルボキシブチル）−６β−
（３α−ヒドロキシ−５α−メチル−１−ノネニル）−
７α−ヒドロキシ−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オクタト
−２−エン ３−メトキシカルボニルメチル−６β−ホルミル−７α
−（２−テトラヒドロピラニル）オキシ−シス−ビシク
ロ〔3.3.0〕オクト−２−エン1.1g及びジメチル ２−
オキソ−４（ｓ）−メチルオクチルホスホネート1.49g
を用い参考例4,5,6,7および８と同様に反応、処理する
と0.23gの油状の目的化合物が得られた。

IRスペクトル（Liq）^νmax^cm-1： 970,1132,1734,3335

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｆ 7/08 Ｋ // Ａ６１Ｋ 31/19 ＡＣＢ 31/215 31/22

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式 を有するビシクロオクタン類。 上記式中、R¹は、 式 を有する基（式中、R²は、C₁−C₁₀のアルキル基、C₃−C
   ₇のシクロアルキル基又はアリール基を示す。）又は 式 を有する基（式中、R³は、水素原子、C₁−C₁₀のアルキ
   ル基、C₃−C₇のシクロアルキル基、アリール基、アラル
   キル基又はトリ置換シリル基を示し,nは、０又は１の整
   数を示す。）を示す。