JPS611679A - ビシクロオクタン誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般式 〔式中、 Ｒ１は保護されていてもよいカルボキシ基、保護されて
いてもよいヒドロキシメチル基、保護されていてもよい
ヒドロキシメチルカルボニル基、置換されていてもよい
カルバモイル基又はテトラゾール−５−イル基を示し、 Ｒ２及びＲ５は同一又は異なって水素原子又は水酸基の
保護基を示し、 Ｒ４は水素原子又は低級アルキル基金示し、Ｒ５は置換
されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいア
ルケニル基、置換されていてもよいアルキニル基、置換
されていてもよいシクロアルキル基、ヘテロシクリル基
、又は異なって水素原子又は低級アルキル基を示し、　
Ｒは置換されていてもよいシクロアルキル基、置換され
ていてもよいフェニル基又ハヘテロアリール基を示し、
２は単結合、メチレン基、酸素原子又は硫黄原子を示し
、ｍは０乃至６の整数を示す。）又はアダマンチル基を
示し、低級アルキル基、水酸基、低級アルコキシ基、ハ
ロゲン原子又はトリフルオロメチル基を示し、Ｑは酸素
原子、硫黄原子、イミノ基（−ＮＨ−）　　又は低級ア
ルキルイミノ基を示す。）′Ｊｋ示しＢはエチレン、ト
ランス−ビニレン又はエチニル基を示し、 ｎはＯ又＃−ｉｌの整数を示す。〕 を有する新規なビシクロオクタン誘導体及びその薬理上
許容される塩に関する。

上記式中、　Ｒ１のカルボキン基の保護基としては、通
常使用されるカルボキシ基の保護基なら特に限定されな
いが、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロ
ピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘ
キシル、ｎ−オクチル、ｎ−デシルのようなアルキル基
；ベンジル、ｐ−ブロモベンジル、フェネチルのような
アラルキル基；フェニル、ｐ−トリル、ｍ−トリル、ｐ
−クロロフェニル、ｐ−アセチルアミノフェニル、０−
アセチルアミノフェニル／Ｉ／　、ｐ　−ペンソイルア
ミノフェニル、ｐ−（ｐ−アセチルアミノベンゾイルア
ミノ）フェニル、ｐ−カルバモイルアミノフェニル、ｐ
−アセチルヒドラゾツメチルフェニル、ナフチルのよう
なアリール基；シクロプロピル、シクロブチ元、シクロ
ペンチル、シクロヘキシルのようなシクロアルキル基ニ
ジクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、シクロ
プロピルエチル、シクロペンチルエチル、シクロヘキシ
ルエチル、シクロペンチルプロピルのようなシクロアル
キル低級アルキル基；アセトキシメチル、プロピオニル
オキシメチル、ピバロイルオキシメチルのようなアルカ
ノイルオキシメチル基；メトキシカルボニルオキシメチ
ル、エトキシカルボニルオキシメチル、１−エトキシカ
ルボニルオキシエチル、１−プロポキシカルボニルオキ
シエチル、１−イソプロポキシオキシエチル、１−（ｎ
−ブトキシカルボニルオキシ）エチルのような１−低級
アルコキシカルボニルオキシ低級アルキル基；ペンツヒ
ドリル基；又はフェナシル、ｐ−ブロモフェナシルのよ
うな置換してもよいフェナシル基をあげることができ、
好適には低級アルキル基（炭素数１乃至４のアルキル基
をルカルボニル基の保護基、又はＲ２若しくはＲ５の水
酸基の保護基としては、通常使用される水酸基の保護基
なら特に限定されないが１例えばアセチル、プロピオニ
ル、ブチリル、イソブチリル、ベンゾイル、ナフトイル
のような低級゛脂肪原着しくけ芳香族アシル基；ベンジ
ル、ｐ−二トロベンジル、ｐ−メトキシベンジルのよう
なアラルキル基；２−テトラヒドロピラニル。

２−テトラヒドロフリル、−一メトキシテトラヒドロピ
ラン−４−イル、２−テトラヒドロチオピラニルのよう
なアルコキシ基を置換分として有するか有しない環内に
酸素原子又は硫黄原子を含有する５乃至Ｂ員環状の複素
環基；メトキシメチル、エトキシメチル、ベンジルオキ
シメチルのようなアルコキシ基若しくはアラルキルオキ
シ基を置換分として有するメチル基；１−メトキシエチ
ル、１−エトキシエチルのよりな１−アルコキシエチル
基；又社トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリｎ
−プロピルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、ジフェ
ニルｔ−ブチルシリルのようなトリ低級アルキル若しく
轄ジアリール低級アルキルシリル基をあげることができ
、好適にはＲ１におけるヒドロキシメチル基着しくけヒ
ドロキシメチルカルボニル基の保護基がベンジル又はｐ
−メトキシベンジル基であシ、Ｒ２及びＲ３の水酸基の
保護基が２−テトラヒドロピラニル基又＃ｉ２−テトラ
ヒドロフリル基である。

Ｒ１の置換されてもよいカルバモイル基としてはカルバ
そイル基又鉱モノ若しくはジ置換カルバモイル基をあげ
ることができ、その雪換基としては、例えばメチル、エ
チル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチルのよう
な低級アルキル基又はフェニル、トリルのような置換さ
れていてもよいフェニル基、アセチル、トリフルオロア
セチル、ベンゾイルのよりなアシル基又はメタンスルホ
ニル、ベンゼンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニルの
ヨウナスルホニル基ヲアげることができるが、好適には
カルバモイル基又はＮ−メタンスルホニルカルバモイル
基であり、特に好適にはＮ−メタンスルホニルカルバモ
イル基である。

只の置換されてもよいアルキル基のアルキル基としては
例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、
ｎ−ブチル、イソブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル
、１−メチルペンチル、２−メチルペンチル、ｎ−ヘキ
シル、ｎ−ヘプチル、ｔｌ−ジメチルペンチル、１−メ
チルヘキシル、２−メチルヘキシル、２−エチルペンチ
ル、ｎ−オクチル、２−メチルオクチル、ｎ−ノニル、
２−メチルノニル、２−エチルオクチル、ｎ−デシル、
２−メチルデシルまたは２−エチルデシルのような炭素
数１乃至１２個のアルギル基をあげることができ、好適
には炭素数４乃至１０個を有するアルキル基、例えばｎ
−ブチル、イソブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、
１−メチルペンチル、２−メチルペンチル、ｎ−ヘキシ
ル、ｎ−ヘプチル、、１−ジメチルペンチル、１−メチ
ルヘキシル、２−メチルデシル、１２−エチルペンチル
、ｎ−オクチル、２−メチルオクチルまたは２−エチル
オクチル基であり、さらに好適にはｎ−ペンチル、１−
メチルペンチル、ｎ−ヘキシル％　　１１１−ジメチル
ペンチル、１−メチルヘキシル基または２−メチルヘキ
シル基で６．Ｂ。

Ｒ５の置換されてもよいアルキル基の置換分としては、
例えば弗１素、塩素、臭素のようなハロゲン原子；メト
キシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプ四ボキシ、ｎ
−ブトキシのような低級アルコキシ基（以下、同意義を
示す。）；水酸基；トリフルオロメチルのようなハロゲ
ン化アルキル基；又はアセチルのようなアシル基をあげ
ることができ、好□適には弗素原子、塩素原□子、水酸
基、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、トリフルオ
ロメチル基又はアセチル基である。

Ｒ５の置換−されていてもよいアルケニル基のアルケニ
ル基としては、例えば１−ブチルビニル、アリル、２−
プロピルアリル、２−ブテニル、２−ペンテニル、４−
ペンテニル、２−メチル−３−ペンテニル、４−メチル
−３−ペンテニル、１−メチル−４−ペンテニル＋　１
−へキセニル、５−へキセニル、、４−ジメチル−３−
ペンテニル、５−ヘフ０テニル、１−メｆルー５−へキ
セニル、６−メｆルー５−へフチニル、２３Ｂ−ジメチ
ル−５−へブテニル、、、６−１−ジメチル−５−ヘフ
テニル、６−、、ｌチル−５−オクテニル、２．６−シ
メチルー５−オクテニル、６−エチル−５−オクーｒニ
ル、２−メチル−６−エチル−５−オクーテニル、２．
６−シエチルー５−オクテニル、４．８−ジメチル−３
，７−ノナは分枝鎖状のアルケニル基をあげることがで
き、好４Ｋｄ１−ブチルビニル、２−プロピルアリル、
２−ペンテニル、４−ペンテニル、２−メチル−３−ペ
ンテニル、４−７ｉチル−３−ペンテニル、１−メチル
−４−ペンテニル、４−ヘキセニル、５−へキセニル、
、４−ジメｆルー３−ペンテニル、５−へブテニル、１
−メチル−５−ヘキセニル、６−、ｌチル−５−へフチ
ニル、２．６−シメチルー５−へフテニルノよウナ炭素
数５乃至９個のアルケニル基である。又、アルケニル基
の置換基は前記アルキル基の置換基と同様の基を示す。

Ｒ５の置換されていてもよいアルキニル基のアルキニル
基としては、例えばプロパルギル％　２−フチニル、２
−ペンチニル、３−ペンチニル、１−メｆルー２−フー
ｙ−ニル、２−へキシニル、１−メチル−２−ペンチニ
ル、１−７１チル−３−ペンチニル、、１−シ）１チル
−２−ペンチニル、、１−ジメチル−３−ペンチニル、
、１−ジメチル−２−ヘキシニル基のような炭素数３乃
至８個を有する直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキニル基
をあげることができ、好適には炭素数４乃至６個を有す
るアルキニル基、例えば２−フチニル、２−ペンチニル
　３　　（フチニル、１−メチル−２−ペンチニル基ま
たは１−メチル−３−ペンチニル基をあげることができ
、さラニ好適には１−メチル−３−ペンチニル基である
。又、アルキニル基の置換基は前記アルキル基の置換基
と同様の基である。

Ｒ又はＨの置換されてもよいシクロアルキル基のシクロ
アルキル基としては、例えばシクロプロピル、シクロブ
チル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチ
ルのような３乃至７員環のシクロアルキル基金あげるこ
とかでき、好適にはシクロペンチル基又はシクロヘキシ
ル基である。

シクロアルキル基の置換基としては、前述したＲ１のア
ルキル基の置換基と同様の基又はメチル、エチル、ｎ−
プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチルのような低級アル
キル基をあげることができるが、好適にはメチル基又は
エチル基である。

Ｒ５のへテロシクリル基としては１例えばテトラヒドロ
フリル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロチェニル
、テトラヒドロチオピラニルのような酸素原子若しくは
硫黄原子を環内に有する５乃至６員環状基をあげること
ができるが、好適にはテトラヒドロフリル基である。

Ｒ８の置換されていてもよいフェニル基としては、フェ
ニル、０−トリル、ｍ−トリル、ｐ−トリル、ｐ−エチ
ルフェニル、ｍ−ｎ−プロピルフェニル、ｍ−メ）キシ
フェニル、ｐ−メトキシフェニル％　〇−エトキシフェ
ニル、０−フルオロフェニル、ｍ−フルオロフェニル、
ｐ−フルオロフェニル、ｍ−クロロフェニル、ｐ−クロ
ロフェニル、ｐ−ブロモフェニル、ｐ−トリフルオロメ
チルフェニル、３．４−　ジメチルフェニル、３−フル
オロ−４−，７’チルフエニル、２．４−ジクロロフェ
ニルのような低級アルキル、いフェニル基をあげること
ができるが、好適にはメチル、弗素原子、塩素原子、又
はトリフルオロメチルで置換されてもよいフェニル基で
あり、さらに好適にはフェニル基である。

Ｒ８のへテロアリール基としては、例えばフリル、チェ
ニル、ピロリルのような酸素原子、硫黄原子又は窒素原
子を環内に含有する複素環芳香基をあげることができる
が、好適にはフリル基である。

Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ９の低級アルキル基及びＲ９の低
級アルコキシ基並びにＱの低級アルヤルイミノ基の低級
アルキル部分社前述したものと同様の基を示す。

Ｒ４；　Ｒ１１及びＲ７は好適には、水素原子、メチル
基又はエチル基を示し、さらに好適には水素原子を示す
。

ｍは好適には０を示す。

ｎは好適にＩＩ′ｉ、Ｏ含水す。

Ｑは好適には、酸素原子又は硫黄原子を示し、さらに好
適には硫黄原子を示す。

（式中、Ｑは酸素原子又祉硫黄原子を示す。）を示す。

Ｂは好適にはトランス−ビニレン基を示す。

本発明の前記一般式（Ｉ）　′ｔ−有する化合物のうち
、Ｒ１がカルボキシ基である化合物は必要に応じ薬理上
許容される塩の形にすることができる。薬理上許容され
る塩の形としては例えばす）　ＩＪウム、カリウム、マ
グネシウム、カルシウムのようなアルカリ金属またはア
ルカリ土類金属の塩；アンモニウム塩；テトラメチルア
ンモニウム、テトラエチルアンモニウム、ベンジルトリ
メチルアンモニウム、フェニルトリエチルアンモニウム
のような第四級アンモニウム塩；メチルアミン、エチル
アミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、トリメチル
アミン、トリエチルアミン、Ｎ−、＋１チルヘキシルア
ミン、シクロペンチルアミン、ジシクロヘキシルアミン
、ベンジルアミン、ジベンジルアミン、α−フェニルエ
チルアミン、エチレンジアミンのような低級脂肪族、低
級脂環式および低級芳香脂肪族アミンの塩；ピペリジン
、モルホリン、ビＵリジン、ピペラジン、ピリジン、１
−メチルビペラジン、４−エチルモルホリンのような複
素環式アミンおよびそれらの低級アルキル誘導体の塩；
モノエタノールアミン、エチルジェタノールアミン、２
−アミノ−１−ブタノールのような親水性の基を含むア
ミンの塩等をあげることができる。

又、本願発明の化合物（Ｉ）はα−１β−１ｒ−サイク
ロデキスリンのようなホスト化合物と包接化合物を形成
させ、使用することもできる。

なお、前記一般式（■）を有する化合物において。

シクロペンタン環側鎖の水酸基の配位等及びＲ５がアル
ケニル基である場合等における二重結合に基く立体異性
体が存在する。従って前記一般式（１）を有する化合物
がこれらの立体異性体の混合物で得られる場合には常法
により分離および分割して、それぞれの異性体を得るこ
とができる。前記一般式（Ｉ）においてはこれらの光学
異性体及び立体異性体等の混合物が全て単一の式で示さ
れているが、これによシ本発明の記載の範囲は限定され
るものではない。

又、一般式（Ｉ）において、好適な化合物として１）Ｒ
１が保護されてもよいヒドロキシメチル基、保護されて
もよいカルボキシ基又は置換されてもよいカルバモイル
基である化合物、 ２）Ｒ１がヒドロキシメチル基、保護されてもよいカル
ボキシ基又祉メタンスルホニルカルバモイル基であり、
Ｒ２及びＲ３が水素原子である化合物。

３）Ｒ４が水素原子である化合物、 ４）Ｒ５がハロゲン原子、水酸基、トリフルオロメチル
基、アセチル基又は低級アルコキシ基で置換されてもよ
い炭素数１乃至１２個を有するアルキル基、炭素数３乃
至１２個を有するアルケニル基、炭素数４乃至６個を有
するアルキニル基、５乃至６員環状のシクロアルキル基
又は式−〇Ｈ２−Ｚ−Ｒ８基（式中、２は単結合又は酸
素原子であシ、　Ｒ１１１才５乃至６員項状シクロアル
キル基又は低級アルキル基、ハロゲン原子若しくは低級
アルコキシ基で置換されてもよいフェニル基である。）
である化合物、 （式中、Ｑは酸素原子又は硫黄原子を示す。）である化
合物。

６）　　Ｂがトランス−ビニレン″Ｃある化合物、Ｔ）
ｎが０である化合物、 ８）Ｒ１がヒドロキシメチル基、保護されてもよいカル
ボキシ基又はメタンスルホニルカルバモイル基であシ、
Ｒ２及びＲ５が水素原子でおり、級アルコキシ基で置換
されてもよい炭素数１乃至１２個を有するアルキル基、
炭素数３乃至１２個を有するアルケニル基、炭素数４乃
至６個を有スルアルキニル基、５乃至６員環状のシクロ
アルキル基又は式−〇Ｈ２−Ｚ−Ｒ８（式中、２は単結
合又は酸素原子であり、　　Ｒ８＋ｔｓ乃至６員環状の
シクロアルキル基又は低級アルキル基、ハロゲン原子若
しくは低級アルコキシ基で置換されてもよいフェニル基
である。）であシ、Ａが式７［］、又は　支ｙ　基（式
中、ＱＶｉ酸素酸素原 子上硫黄原子を示す。）であシ、Ｂがトランス−ビニレ
ンであシ、ｎが０である化合物、９）　Ｒ’　ｂ”−保
護されてもよいカルボキシ基であシ。

Ｒ及びＲが水素原子であシ、　Ｒ４が水素原子でおシ、
　Ｒ６がフルオロ原子、塩素原子、水酸基又は低級アル
コキシ基で置換されてもよい炭素数４乃至１０個のアル
キル基、炭素数３乃至１２個を有するアルケニル基、炭
素数４乃至６個を有するアルキニル基、５乃至６員環状
の７クロアルキル基又は式−ＣＨ２−Ｚ−Ｉ（８（式中
、Ｚは単結合又は酸素原子であシ、　Ｒｅ　１才５乃至
６員環状のシクロアルキル基又はメチル基、フルオロ原
子、クロロ原子又はメトキシ基で置換されてもよいフェ
ニル基である。）であシ、Ａが式又は硫黄原子を示す。

）であり、Ｂがトランス−ビニレンであシ、ｎが０であ
る化合物、１０）　Ｒ’　カルボキシ基又はメトキシカ
ルボニル基であシ、旦２及びＲ５が水素原子であシ、　
Ｒ４が水素原子であシ、　Ｒ５が水酸基又はメトキシ基
で置換されてもよい炭素数４乃至１０個を有するアルキ
ル基、炭素数３乃至１２個を有するアルケニル基、炭素
数４乃至６個を有するアルキニル基、５乃至６員環状の
シクロアルキル基又は−〇Ｈ２−Ｚ−Ｒ８（式中、　Ｒ
８はシクロヘンチル基、シクロヘキシル基又はフェニル
基であシ、Ｚは単結合又は・酸素原子である。）であ勺
、Ａンス−ビニレンであり、ｎが０である化合物をあげ
ることができる。

最近、強力な血小板凝集阻害作用を表わすプロスタサイ
クリン（ＰＧ工２）が発見されてその生理作用が注目さ
れ、数多くのグループによってその類縁化合物の研究カ
ーなされているが、本発明者等は前記一般式（Ｉ）で表
わされる新規なカルバサイクリン誘導体を合成し、薬理
活性を検討したところ、これらの誘導体はすぐれた血小
板凝集阻害作用、気管支拡張作用、細胞保撫（Ｃｙｔｏ
ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ）作用例えば抗潰瘍作用及び／又
は制ガン作用を示し、特に抗潰瘍作用におい−Ｃ強い活
性を示すこと、並びに活性化合物の合成のための重要中
間体であること等を見出して本発明を完成した。

本発明によって得られる前記一般式（Ｉ）を有する化合
物としては例えば以下に記載する化合物があげられる。

番号Ｒ’　　　　Ａ　　　　Ｒ２ＲｓＨ’ｌ　Ｃｏ□Ｈ
・す、　　ＨＮＯＨ３ Ｈ−ＣＨ２ ５ＣＨＯＨＳ　　ＨＨ−Ｃ１２／’／’ＣＨ３７Ｃｏ２
Ｈ？　　ＨＨ’−ＣＭ２八シ晶。

１０　Ｃ！０２）！　　’；”　　ＨＨ−０Ｍ２尚ＣＨ
。

１７Ｃｏ２Ｈ”　　Ｈ，Ｈ−ＣＩ（２−ＱＣ４）！。

番号　　Ｒ’　　　　Ａ　　　　Ｒ２１’　　　　　　
Ｒ５１９’　Ｃｏ２Ｈ品ＨＨ−Ｃｏ２Ｃ１ＯＨ２述０　
Ｃｏ２Ｈ”　　Ｉ（Ｈ−ＣＨＱＣＨ。

３１　Ｃｏ２Ｃ１ＯＨ２，１ｇＬｌ’ｌ　　　Ｈ−ＣＨ
２１’ｆ”ＯＣＨ。

２４　ｃｏρ燗ＣＯＮＨ２ すＣＭ。

２９　・Ｃ０２Ｈ？　　Ｈ）！　−ｃＨ２Ｍ３′１ＣＯ
２Ｈ暴　Ｈ’　　　Ｈ刊Ｈ！シー３２、Ｃ０２Ｈ♀　Ｆ
Ｉ　　　Ｈ刊Ｈ２讐側。

ｓｓ　、ｃｏ２ｉ　　リ　１１　　　Ｈ癩Δ〜番号　　
ＲｌＡ　　　　Ｒ２Ｒ’　　　　　　Ｒ５ｙ、ｃｏ、、
号°慢 Ｌ′Ｈ５ ７４Ｃｏ２Ｈリ　ＨＨつ ７５　Ｃｏ２Ｈ品　ＨＨ心 ７６　Ｃ０２Ｈ亭　　　　Ｈつ ７７　Ｃｏ。Ｈ９℃　づ　つ ７８　ＣｏＣＨ品ＨＨつ ７９　Ｃｏ２Ｈ晶　ＨＨ−ＣＨ２−０ ａｎ　Ｃｏ２Ｈ”；）”　　ＨＨ−（ＣＨ２）４−０８
１　　Ｃｏ２Ｈ”；”　　ＨＨ−０Ｍ２（）８２Ｃｏ２
Ｈ阜　　　ＨべＲ２つ ８３　Ｃｏ２Ｈ’；’　　ＨＨ（ＣＨ２）２Ω８４　　
Ｃｏ２Ｈ暴ＨＨ−Ｃ；３ ８５’　Ｃｏ２Ｈ晶Ｈ’　　Ｈ−ＣＨ２＜Ｈ２噂８（ｉ
　、Ｃ０２Ｈ品　ＨＨ罐、Ｈつ ８７’　Ｃｏ２Ｈリ　ＨＨ’−ＣＨ□補樽８８ＣＯ２Ｈ
″ｌｌ；′１′ＨＨ−ｃＨ２（＋Ｆ８９　Ｃｏ２ＨリＨ
Ｈ−ａＨ２ｏ４” 、。。。２８　　♀　□　　ヨ　−一燭°°８５９１　
、、Ｃｏ２Ｈ晶ＨＨ−ＣＭ、−０−＠）”’９２　Ｃｏ
、、ＣＨ３Ａ　　ＨＨ−ＣＨ２０−＠）上記表中、すべ
ての化合物において　Ｒ４は水素原子を示し、ｎは０を
示し、Ｂはトランス−ビニレンを示す。さらに化合物２
，２０，２２゜３、’、，３２，３５，４０，４、５０
，５２゜５３．６０，６９．．７８．７９及び８６につ
い示す。

本発明に係る化合物（１）は以下に示す方法に従って、
製造することができる。

上記式中、Ｒ，Ｒ，Ｒ，Ｒ，Ｒ，ｎ、Ａ及びＢは前述し
たものと同意義を示し、ＲＩ　ＤはＲ５に含まれるカル
ボニル基が保護されたカルボニル基である以外はＲと同
様の基を示し、ＲはＲ１に含まれるカルボニル基が保護
されたカルボニル基である以外はＲと同様の基を示す。

Ｒ１０及びＲに含まれるカルボニル基の保護基としては
、例えば 低級アルキル２３−を示し、Ｙは酸素原子又は硫黄原子
を示し、Ｔはエチレン、プロピレン、トリメチレン、ブ
チレン、テトラメチレン、２．２−ジメチルトリメチレ
ンのような炭素数２乃至５のアルキレン基を示す。）を
あげることができる０ 第１工程は一般式（Ｉａ）を有する化合物を製造する工
程で、一般式（ＩＩ）を有するケトン誘導体に一般式 ％式％ 又は一般式 （式中、Ｒ、Ａ及びｎは前述したものと同意膨を示し、
Ｒはフェニルのようなアリール基又はメチル、ニーブチ
ルのようなアルキル基を示し、Ｍはリチウム、ナトリウ
ム、カリウムのようなアルカリ金属原子を示す。）を有
するウイテツヒ又は変法ウイテツヒ試剤を反応させるこ
とによって達成される。

本工程の原料化合物（１）は刊行物、例えば特開昭５４
−９５５５２号、特開昭５４−１３０５４３号、特開昭
５５−２Ｆｊ９４−５；号又は特開昭５５−５７５５９
号等圧記載されているか又は上記刊行物記載のされたカ
ルボキシ基又は保護されたヒドロキシ反応に使用される
ｌｒｌ前記一般式（幻又は（至）を有するウイテツヒ又
は変法ウイテツヒ試剤は、常法に従って溶剤の存在下で
一般式 又は一般式 （式中、Ｒ，、Ａ及びｎは前述したも のと同意義を示し、又は塩素、臭素、沃素のようなハロ
ゲン原子を示す。） を有する化合物に水素化ナトリウム、水素化カリウムの
ような水素化アルカリ金属あるいはナトリウムメトキシ
ド、ナトリムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシ
ドのようなアルカリ金属アルコキシド、ナトリウムアミ
ド、カリウムアミドのようなアルカリ金属アミド、ｎ−
ブチルリチウムのようなアルキルアルカリ金属、ナトリ
ウムジメチルスルホキシドアニオンのようなアルカリ金
属ジメチルスルホキシドアニオンなどのアルカリ金属塩
基を反応させることによって得ることができる。使用さ
れる溶剤としては一般のウイテツヒ反応に用いられる溶
剤が特に限定なく用いられ、例えばエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタンのよ
うなエーテル類：スルホランのようなチオエーテル類；
ベンゼン、トルエン、ヘキサンのような炭化水素類；ジ
メチルスルホキシドのようなジアルキルスルホキシド類
；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのよう
な脂肪酸ジアルキルアミド類ニジクロルメタン、クロロ
ホルムのような・・ロゲン化炭化水素類；ヘキサメチル
ホスホルトリアミド（ＨＭＰＡ）のようなリン酸トリア
ミド類等の不活性有機溶剤又はそれらの混合溶剤をあげ
ることができる。

また反応は窒素、アルゴン、ヘリウムのような不活性ガ
ス中で好適に行なわれる。反応温度には特に限定はなく
、通常は一１０℃乃至溶剤の還流温度で行なわれ、好適
には室温付近で行なわれる。反応時間は反応時間は反応
温度などによって異なるが、通常は１乃至５０時間であ
る。

反応終了後、ウィテツヒ反応の目的化合物は常法に従っ
て反応混合物から採取される。例えば反応終了後、反応
混合物に氷水を加え、次いで必要に応じて酸処理を行な
い、エーテルのような有機溶剤を加えて抽出し、得られ
る有機溶剤層を水洗し乾燥した後、有機溶剤層より溶剤
を留去するととＫよって得られる。

第２工程は所望に応じて行う工程で、Ｒに含まれる水酸
基の保護基若しくはカルボキシ基の保護基の除去反応、
Ｒ２及び／又はＲ３の水酸基の保護基の除去反応、Ｒ１
１に含まれる水酸基の保護基を除去して得たヒドロキシ
メチル基をカルボキシ基に変換する反応、カルボキシ基
をエステル化する反応、カルボン酸若しくはエステルを
ヒドロキシメチル体に還元する反応、カルボン酸若しく
はエステルをアミド化する反応、Ｒ１０及びＲＫ含まれ
るカルボニル基の保護基の除去反応又はカルボキシ基を
ヒドロキシメチルカルボニル基に変換する反応を含む。

これらの反応は必要に応じて適宜順序を選択して行うこ
とができる。

水酸基の保護基が低級脂肪族若しくは芳香族アシ、ル基
の場合には、その除去は通常の加水分解反応によって行
なわれる。使用される酸または塩基としては一般の加水
分解反応に使用される酸または塩基が特に限定なく使用
されるが、通常は例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化バリ
ウムのようなアルカリ金属およびアルカリ土類金属の水
酸化物を用いて塩基性条件下で好適に行なわれる。使用
される溶剤としては加水分解反応に用いられる溶剤が特
に限定なく用いられ、例えばメタノール、エタノール、
ｎ−プロパツール、イソプロピルアルコールのようなア
ルコール類；エチルエーテル、テトラヒドロフ２ン、ジ
オキサン、ジメトキシエタンのようなエーテル類；ジメ
チルスル小キシドの本うなジアルキルスルホキシド類お
よびこれらの有機溶剤と水との混合溶剤をあげることが
できる。

反応温度には特に限定はなく、通常は室温付近乃至溶剤
の還流温度で行なわれる。反応時間は。

反応温度などによって異なるが、通常は１乃至１２時間
である。この際、カルボキシ基の保護基が低級アルキル
基又はアリール基の場合には同時に除去される。

水酸基の保護基のアラルキル基の場合には相当する化合
物を不活性ガス中還四剤と接触することによって達成さ
れる。

使用される還元剤としては、リチウム、ナトリウム、カ
リウムΩようなアルカリ金属、硫化ナトリウム若しくは
硫化カリウムのようなアルカリ金属硫化物又は亜鉛等を
あげることができるが、好適にはアルカリ金属である。

アルカリ金属との反応は液体アンそニア又は液体アンモ
ニアとエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル
類との混合溶剤中で好適に行われ、アルカリ金属硫化物
との反応はメタノール、エタノールのようなアルコール
類、テトラヒドロ７ラン、ジオキサンのようなエーテル
類又はこれら有機溶剤と水の混合溶剤中で好適に行なわ
れる。亜鉛との反応はアルコール又は酢酸の存在下不活
性溶媒中で行なわれる。

反応温度はアルカリ金属との反応では一１８℃乃至−２
０℃であり、アルカリ金属硫化物との反応ではＯ℃乃ｉ
　１００℃であり、亜鉛との反応では０℃乃至５０℃で
あり、反応に要する時間は通常２０分間乃至６時間であ
る。

この際、カルボキシ基の保護基がアラルール、ベンツヒ
ドリル又はフェナシル基の場合には同時に除去される。

さらに保護基が、ｐ−メトキシベンジル基の場合−はセ
リウムアンモニウムフルオライドと含水アセトン中室温
付近で処理することによっても除去され、又は、ジクロ
ロジシアノベンゾ中ノン、過硫酸ナトリウム等の酸化剤
によっても除去される。

水酸基の保護基が複素環基、アルコキシ若しくはアラル
キルオキシを置換分として有するメチル基又は１−アル
コキシエチル基の場合は酸と接触させることにより容易
に達成される。使用される酸としては例えばギ酸、酢酸
、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸、酪酸、シュウ酸、
マロン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン［ｔ２
、ｐ’−’−）ルエンスルホン酸、カンファースルホン
酸などの有機酸；塩酸、臭化水素酸、硫酸などの鉱酸が
好適に使用される。反応は溶剤の存在下または不存在下
で実施されるが、反応を円滑に行なうには溶剤を使用す
る方が好ましく、使用される溶剤としては本反応に関与
しなければ特に限定はなく例えば水；メタノール、エタ
ノールなどのアルコール類；テトラヒドロフラン、ジオ
キサンなどのエーテル類；アセトン、メチルエチルケト
ンのよりなケトン類またはこれらの有機溶剤と水との混
合溶剤が好適に使用される。反応温度には特に限定はな
く室温乃至溶剤の還流温度で行なわれる。又、反応に要
する時間は３０分間乃至１０時間である。

水酸基の保訛基がトリ低級アルキル若しくはジアリール
低級アルキルシリル基の場合は水あるいは酸または塩基
を含有する水と接触させることにより容易に達成される
。酸または塩基を含有する水を使用する場合に含有され
る酸または塩基としては例えばギ酸、酢酸、プロピオン
酸、酪酸、シュウ酸、マロン酸などの有機酸；塩酸、臭
化水素酸、硫酸などの鉱酸のような酸または水酸化カリ
ウム、水酸化カルシウムなどのアルカリ金属およびアル
カリ土類金属の水酸化物；炭酸カリウム、炭酸カルシウ
ムなどのアルカリ金属およびアルカリ土類金属の炭酸塩
のような塩基が特に限定なく使用される。反応は溶剤と
して水を使用すれば他の溶剤は特に必要ではない。他の
溶剤を使用する場合は例えばテトラヒドロフラン、ジオ
キサンなどのエーテル類；メタノール、エタノールなど
のアルコール類等の有機溶剤と水との混合溶剤が使用さ
れる。

反応温度には特に限定はないが通常は室温で好適に行な
われる。反応に要する時間は３０分間乃至５時間である
。又保護基がｔ−ブチルジメチルシリル基の場合にはテ
トラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類の存
在下フッ化テトラブチルアンモニウムで処理することに
よっても達成される。

反応終了後、水酸基の保護基を除去する反応の目的化合
物は常法に従って反応混合物から採取される。例えば反
応終了後、適宜溶剤を減圧で留去するか、留去しないで
反応混合物を氷水にあけ必要に応じて中和して、次いで
適当な有機溶剤を加えて抽出を行ない、抽出液を水洗し
乾燥した後、抽出液より溶剤を留去することによって得
られる。

Ｒ１１に含まれる水酸基の保護基、Ｒ及びｎが同一の保
護基の場合には上記の保護基の除去反応により同時に除
去される。又、保護基を適宜選択することにより、選択
的に脱保請することもできる。

カルボキシ基の保護基がアルキル基、アＩＪ−ル基、＝
亡ナーた奈、シクロアルキル基、シクロアルキル低級ア
ルキル基、アルカツルオキシメチル基又は１−低級アル
コキシカルボニルオキシ低級アルキル基の場合はその除
去は通常の加水分解反応によって行なわれる。本反応は
前記水酸基の保護基がアシル基の場合と同様に行なわれ
る。

カルボキシ基の保護基がアラルキル基、ベンツヒドリル
基又はフェナシル基の場合には、その除去反応は前記の
水酸基の保護基がアラルキル基の場合と同様な反応に従
って行なわれる。

反応終了後、目的のカルボキシ化合物は常法に従って反
応混合物から採取される。例えば反応終了後、反応混合
物を酸性とし、次いで適当な有機溶剤を加えて抽出を行
ない、抽出液を洗浄し乾燥した後、抽出液より溶剤を留
去することによって得られる。

本反応又は第１工程等で得られたＲがカルボキシ基であ
る化合物であって、Ｒ２及びＲ５が水酸基の保護基であ
る化合物の７位−ｇ、ｚ−異性体はシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーによって容易に分離される。

ヒドロキシメチル基をカルボキシ基に変換スる反応は１
級アルコールをカルボン酸に酸化する通常の方法に従っ
て行われる。この際、Ｒ２及びＲ気水酸基の保護基であ
る必要がある。

使用される酸化剤としては例えば無水クロム酸−濃硫酸
−水（Ｊｏｎｅｓ試薬）、過マンガン酸カリウム−水酸
化ナトリウム若しくは炭酸ナトリウム、酸化銀、重クロ
ム酸カリウム−硫酸等をあげることができる。

反応は通常アセトンのよりなケトン類、水又は水とメタ
ノール、エタノールのようなアルコールとの混合溶剤中
で行なわれる。

反応温度は一３０℃乃至１００℃であり、反応に要する
時間は通常３０分間乃至５時間である。

反応終了後、目的のカルボキシ化合物は常法に従って反
応混合物から採取される。例えば反応混合物を氷水にあ
け、溶液がアルカリの場合には、希酸で酸性とした後、
水不混和性有機溶液で抽出し、溶剤を留去することによ
って得ることができる。

カルボキシ基をエステル化する反応のうち、低級アルキ
ルエステルを製造する反応は溶剤の存在下または不存在
下でエステル化剤と接触させることによって行われる。

使用されるエステル化剤としては、通常のカルボキシル
基をアルコキシカルボニル基に変換する際に使用される
エステル化剤が特に限定なく用いられる。使用されるエ
ステル化剤としては、例えばジアゾメタン、ジアゾエタ
／、ジアゾ−ｎ−プロパン、ジアゾイソプロパン、ジア
ゾ−ｎ−ブタンなどのジアゾアルカン類；メタノール、
エタノール、ｎ−７６０パノール、イソプロピルアルコ
ール、ｎ−ブタノールなどのエステル基を形成するアル
コール類と塩酸、臭化水素酸若しくは硫酸などの鉱酸ま
たはメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸ｉＬ＜はｐ
−）ルエンスルホン酸などの有機酸；臭化メチル、臭化
エチルのような低級アルキルハライドと水酸化ナトリウ
ム、水酸適に用いられる。ジアゾアルカン類を用いる場
合は反応は溶剤の存在下で好適に行なわれる。

使用される溶剤としては本゛反応に関与しなければ特に
限定はなく例えばエチルエーテル、ジオキーンなどのエ
ーテル類が好適である。反応温度には限定はないが副反
応を抑え且つジアゾアルカン類の分解を防ぐため比較的
低温で行なうのが望ましく通常は水冷下で好適に行なわ
れる。

酸の存在下でアルコール類を用いる場合−通常溶剤とし
て過剰のアルコール類が好適に使用声れる。反応温度は
特に限定はな′いが室温乃至使用されるアルコ−↑類の
還流温度付近で好適に行なわれる。反応時間は主艷反応
引り使用されるアルコール類の種類によって異なるが約
１時間乃至２日間である。

カルボキシ基をエステル化する反応のうち、゛　　　　
　　アルキルエステル、アラルキルエステル、アリール
エステル−シクロアルキルエステル、シクロアルキル低
級アールキルエステルを製造する反応は、カルボン酸を
炭酸活性体又はカルボキシ、活性体と反応させ混合酸無
水物に変換させた後、相当するヒドロキシ化合物と反応
させることによって行なわれる。

使用される炭酸活性体又はカルボン酸活性体としては、
例えばり９ル炭酸エチル、ブロム炭酸エチル、クロル炭
酸ｎ−プロピル、クロル炭酸イソプロピル、クロル炭酸
イソブチルのようなハロゲン化炭酸低級アルキル又はピ
バロイルクロリド、インバレリルクロリドのようなカル
ボン酸ハライドをあげることができる。

カルボン酸と上記活性体の反応は、好適には不活性溶剤
中、塩基の存在で行なわれる。

使用される塩基としては、例えば、トリエチルアミン、
Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、ピ
リジン、４−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジンのよ
うな有機アミンをあげることができ、使用される不活性
溶剤としては、例えばエーテル、テトラヒドロフラン、
ジメトキシエタンのようなエーテル類又はメチレンクロ
リド、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類をあ
げることができる。

反応温度は通常−１０℃乃至室温であり、反応に要する
時間は１時間乃至２４時間でおる。

又、混合酸無水物は単離することなく次の反応に使用す
ることもできる。・ カルボン酸の混合酸無水物とヒドロキシ化合物との反応
は好適には不活性溶剤中、塩基の存在下で行われる。使
用される溶剤及び塩基は上記混合酸無水物を製造する反
応に使用されるものと同様のものであり、又、塩基を溶
剤を兼ねて大過剰に使用することもできる。

反応温度は通常０℃乃至８０℃であり、反応に要する時
間は３０分間乃至１０時間である。

カルボキシ基をエステル化する反応のうち、アルカノイ
ルオキシメチルエステル、１−低級アルコキシカルボニ
ルオキシ低級アルキルエステル又はフェナシルエステル
を製造する反応は、カルボン酸塩を相当するエステル残
基のクロリド、プロミドのようなハライドと反応させる
ことによって行なわれる。使用されるカルボン酸塩とし
ては、例えばナトリウム、カリウムのような金属との塩
、トリエチルアミン、ジシクロヘキシルアミンのような
有機アミンとの塩等があげられる。反応は適当な溶媒中
で行なうのが好ましく、そのような溶媒としては本反応
に悪影響をおよぼさないもの例えばジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘ
キサメチルドリアミドホスフェート、アセトニトリル等
或いは他の不活性有機溶媒との混合溶媒があげられる。

反応は通常室温または冷却下に行なうのが好ましい。反
応に要反応終了後、エステル化反応の目的化合物は常法
に従って反応混合物から採取される。例えば反応終了後
、反応混合物より溶剤を留去することＫよって、さらに
必要に応じて生成物を有機溶剤に溶解し、有機溶剤層を
重炭酸ナトリウム水溶液あるいは炭酸ナトリウム水溶淑
女どの炭酸アルカリ水溶液を用いて洗浄し乾燥した後、
有機溶剤層よシ溶剤を留去することｋよって得られる。

カルボン酸若しくはエステルをヒドロキシメチル基に還
元する反応は不活性溶剤中、相当する化合物を還元剤と
接触するととＫよって行なわれる。

使用される還元剤としては、カルボキシ基、エステル基
をヒドロキシメチル基に変換する還元剤なら特に限定さ
れないが、好適には水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ
素ナトリウム−塩化アルミニウム、三水素化ホウ素−シ
クロヘキシルアミンのようなホウ素化合物又は水素化リ
チウムアルミニウム、水素化リチウムアルミニウムー塩
化アルミニウム、ジイソブチルアルミニウム水素のよう
なアルミニウム化合物をあげることができるが、特に好
適には水素化リチウムアルミニウムである。

使用される不活性溶剤としては、反応に関与しなければ
％に限定されないが、好適にはエーテル、テトラヒト四
フラン、ジオキサンのようなエーテル類である。

反応温度は０℃乃至５０℃であシ、反応に要する時間は
通常３０分間乃至３時間である。

反応終了後、反応目的物は常法に従って反応混合物から
採取される。例えば、反応混合物に希水酸化ナトリウム
水溶液又は氷水を加えて、水不混和性有機溶剤で抽出し
、有機溶剤を留去するととＫよって得ることができる、 エステルをアミド化する反応は溶剤の存在下でエステル
をアミン化合物と接触させることＫよって行なわれる。

使用されるアミン化合物としてはエステル基なアミド化
する際使用されるものなら特に限定されない。使用され
るアミン化合物としては、例えばアンモニア又はメチル
アミン、エチルアミン、ｎ−ブチルアミン、イソプロピ
ルアミン、ｎ−ブチルアミン、アニリン、ｐ−メチルア
ニリン、ジメチルアミン、メチルエチルアミン、ジエチ
ルアミン、Ｎ−メチルアニリン、Ｎ−エチルアニリン、
Ｎ−メチル−ｍ−メチルアニリンのような１級若しくは
２級アミンをあげることができる。使用される溶剤は反
応に関与しなければ特に限定されないが、例えば水又は
エーテル、テトラヒト日フラン、ジオキサンのようなエ
ーテル類をあげることができる。

反応は通常ｏｈ乃至１００℃で行なわれ、反応に要する
時間は１時間乃至２４時間である。

又、カルボン酸と上記アミン化合物をジシクロへキシル
カルボジイミドのような縮合剤の存“布下反応させると
と又はカルボン酸を前述した混合酸無水物に変換させた
後アミン化合物と反応させるととｋよ−りても、アミド
化合物が製造される。本反応は前述のエステル化におけ
る相当する反応と同様に行なわれる。

カルボキシ基をＮ−アシルカルバモイルＭｋ変換する反
応は不活性溶剤中、アセチルイソシアネート、トリフル
オロアセチルイソシアネート、ベンゾイルイソシアネー
トのようなアシルイソシアネートと接触させるととｋよ
りて行なわれる。使用される溶剤は、例えばベンゼン、
トルエン、キシレンのような炭化水素類又はエーテル、
テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンのようカニ−チ
ル類である。反応温度は通常室温であ〕、反応に要する
時間は３０分間乃至１０時間寸ある。

カルボキシ基をＮ−スルホニルカルバモイル基に変換す
る反応は不活性溶剤中、活性アミド誘導体に変換した後
、メタンスルホン酸アミド、ベンゼンスルホン酸アミド
、ｐ−トルエンスルホン酸アミドのよう表スルホン酸ア
ミドと反応させるととｋよって行なわれる。活性アミド
誘導体は相当する化合物を゛ジシクロへキシルカルボジ
イミドのようま縮合剤の存在下、Ｎ−ヒドロキシコハク
酸アミド、Ｎ−ヒトルキシフタル酸了ミドのようなＮ−
Ｅドロキシアミドと通常室温付近で３０分間乃至１０時
間反応するととｋよって製造される。活性アミド誘導体
とスルホン酸了ミドとの反応はナトリウムメトキシド、
ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシドのよう
な、塩基の存在下室温付近で３０分間乃至１５時間反応
するととｋよりて行なわれる。

上記両反応は好適には不活性溶剤中で行われ。

使用される溶剤としては、例えば、ベンゼン、トルエン
、キシレンのような芳香族炭化水素類又はエーテル、テ
トラヒドロンラン、ジメトキシエタンのようなエーテル
類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのよ
うなアミド類；又はジメチルスルホキシドのようなスル
ホキシド類をあげることができる。

反応終了後、目的のアミド化合物は常法に従って反応混
合物から採取される。例えば、反応混合物を氷水にあけ
、必要に応じて中和した後、水不混和性有機溶剤で抽出
し、溶剤を留去することｋよって得ることができる。さ
らに必要なら、常法、例えばシリカゲルカラムクロマト
グラフィー、再結晶法等によって精製すること亀できる
。

カルボニル基の保護基において、Ｙが酸素原子である場
合には、相当する化合物を例えば酢酸−水、希塩酸−含
水アセトン、希塩酸−含水アセトニトリル、希硫酸−含
水アセトンのような酸および水性溶媒と０℃乃至ｔｏｏ
　ｔで３Ｑ　分間乃至３時間接触させるととｋよって除
去される、 この反応において、Ｒのヒドロキシメチル基の保護基が
複素環基、アルコキシ基若しくはアラルキルオキシ基を
置換分として有するメチル基又はトリ低級アルキル若し
くはジアリール低級アルキルシリル基である場合には、
通常、当該保護基も同時に除去される。　　　　−カル
ボニル基の保護基において、Ｙが硫黄原子である場合に
は、相当する化合物を、テトラヒドロフラン、エーテル
のようなエーテル類、塩化メチレン、クロロホルムのよ
うなハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノールの
ようなアルコール類又は水或いはそれらの混合溶剤中、
酢酸水銀、塩化水銀又は酸化水銀（赤）と０℃乃至６０
℃で接触させるととＫよって除去される。この反応では
必要によシボロントリフルオライド−エーテル錯体等の
ルイス酸を触媒として用いることができる。

カルボキシ基をヒドロキシメチルカルボニル基に変換さ
せる反応はカルボキシ基を常法に従って、ホルミル基に
変換させ、保護されたヒドロキシメチル錫化合物のアニ
オンと反応させ、２位の水酸基が保護された１、２−ジ
−ヒドロキシエチル基に変換させた後、酸化し、保護基
を除去するととＫよって行なわれる。

カルボン酸をホルミル体に変換させる工程は、カルボン
酸又はそのエステル、例えハ低級アルキルエステルをテ
トラヒドロフランのような不活性溶剤中、還元剤、例え
ばリチウム水素化アルミニウムと室温で３０分間乃至３
時間処理し、ヒドロキシメチル体を製造し、メチレンク
ロリドのような不活性溶剤中、酸化剤、例えば無水クロ
ム酸−ピリジン錯塩（コリンズ試薬）と０℃乃至室温で
３０分間乃至３時間処理することによって行なわれる。

ホルミル体を２位の水酸基が保護された１゜２−ジヒド
ロキシエチル体に変換する反応は、ホルミル体を不活性
溶剤中、一般式 ％式％（） （式中、Ｒ１５及びＭは前述したものと同意義を示し、
Ｒは１−メトキシエチル、　１−エトキシエチルのよう
な１−低級アルコキシ低級アルキル基を示す６　） を有するアニオンと反応させることＫよって達成される
。

化合物（Ｖ）は公知の方法、例えばザ・ジャーナル・ア
メリカン・ケミカル・ソサエティ、１００巻、１４８１
頁（１９７８年）　：　、ｒ、　Ａｍ、Ｏｈｅｍ、　８
ｏｃ、。

１００、　１４８１　（１９１８）と同様の方法に従っ
て、反応液中で調製される。

使用される不活性溶剤としては、例えば、エーテル、テ
トラヒドロフラン、ジメトキシエタンのようなエーテル
類又はベキサメチルホスホリルトリアミドのようなアミ
ド類をあげることができ、反応温度は一７８℃乃至０℃
であり、反応に要する時間は５分間乃至２時間である。

２位の水酸基が保護された１、２−ジヒドロキシエチル
体の酸化は常法に従って上記コリンズ試薬と処理するこ
とによシ行なわれ、水酸基の脱保護反応は前述のＢ１１
　の相当する脱保護反応と同様に行なわれる。

以上の２つの方法における目的のカルボニル化合物は常
法に従って反応混合物から採取される。例えば、反応混
合物を氷水にあけ適宜中和し、水不混和性有機溶剤で抽
出した後、溶剤を留去することによシ得ることができる
。さらに必要ならば常法、例えばカラムクロマトグラフ
ィー、薄層クロマトグラフィー、再結晶などを用いてさ
らに精製することができる。

このようにして得られる目的化合物が種々の幾何異性体
および光学異性体の混合物で得られる場合には、適当な
合成段階においてこれらの異性体を分離および分割する
ことができる。

前記一般式（１）を有する化合物及びその薬理上許容さ
れる塩は抗血小板剤及び又は抗潰瘍剤として有用で血栓
性疾患及び又は潰瘍の治療および予防薬として用いるこ
とができる。その投与形態としては例えば錠剤、カプセ
ル剤、顆粒剤、散剤、シロップ剤などＫよる経口投与ま
たは静脈注射による非経口投与等をあげることができる
。その使用量は症状、年令、体重等によって異なるが、
通常は成人に対して１日約０．０Ｏ０１η乃至１１００
０ＴＩＩ、好適には１日約０．０１■乃至１００　Ｎで
あシ、１回または数回に分けて投与することができる。

次に実施例及び参考例をあげて、本発明をさらに具体的
に説明する。

実施例１゜ （１ａ） テニルオキシ）−ｓ、’ｓ−ジメチルデカー、８−９６
５岬の油性５５％ナトリウム水素をヘキサンで洗浄後、
ジメチルスルホキシド４０ｍを加え、６０〜６５℃で攪
拌し透明な溶液とする。この溶液にトリブチル５−カル
ボキシ−２−テニルホスホニウムプロミド５．２ｆを粉
末で加えた。２０分間、室温で攪拌したのち　２β−〔
３α−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−５，１−
ジメチルデカ−１，８−ジェニル〕−３α−（２−テト
ラヒドロピラニルオキシ）−１−オキソーシスービシク
０（３，＆’Ｏ）オクタン、Ｏｆのジメチルスルホキシ
ド１２−の溶液を加え攪拌スる。

１０分後、反応液を＆５％塩酸水を含む氷水に稀釈し、
酢酸エチルで抽出する。抽出液を飽和食塩某で洗浄後゛
、無水硫酸ナトリウ・□と共に乾燥する。溶媒を留去し
、得られ艶残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で精製すると、より極性の小さい（７Ｚ）−２β−〔３
α−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）　−Ｓ、　Ｓ
−ジメチルデカ−１，８−ジェニル〕−３α−（２−テ
トラヒドロピラニルオキシ）−ｙ−（ｓ−カルボキシ−
２−テニリデン）−シス−ビシクロ〔３、＆　Ｏ）オク
タン４１Ｏ！及びよル極性の大きい（７Ｂ）−２β−〔
３α−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−５，１１
−ジメチルデカ−１，８−ジェニル〕−３α−（２−テ
トラヒドロピラニルオキシ）−ｒ−（ｓ−カルボキシ−
２−テニリデン）−シス−ビシクロ（Ｓ、ａ、Ｏ）オク
タン３４３１１９を得た。

１ｚ一体 ＩＲスペクトル（液状フィルム）シｍａｘ’ｍ−’　　
；１７０８　、　１６６８　、　１５２１１ＴＥ一体 ＩＩＬスペクトル（液状フィルム）νｍａｘＣｍ’　；
１７０８、　１１１ｇ！８．　１５２７．　１０２２．
　１０３２．　　！１７５（１ｂ） （７Ｂ）−２β−（３α−ヒドロキシ−ｓ、　ｓ（Ｔｇ
）−ピラニル体（実施例１ａの化合物、＠２Ｔ　ａｌｌ
　）をアセトン９．８ｄＫ溶解し、カンファースルホン
酸１２Ｍｇ及び水５Ｉｄを加え、Ｓｏ℃で４時間“３０
分攪拌する。その量水を５，３−追加した。反応終了後
、反応液に水を加え酢酸エチルで抽出する。抽出液を水
洗後、硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を留去し得られ
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製す
ると１７２　Ｉｆの油状の目的化合物を得た。

ＩＲスペクトル（ヌジョール）νｍａｘ””　　’１Ｂ
７０　、　１５３０　、　１３１１０　、９７５ＮＭＢ
スペクトル（ＯＤＯＪ３）δｐｐｍ’：　０．９１　（
３Ｈ，ｄ）、６０（３Ｈ，ｓ）’　、６８（３Ｈ，ｓ）
　３．８４（ＩＨ，ｍ）　４．１７’（ＩＨ。

ｍ）　５．１２（ＩＨ，ｔ’）　５．５３（２Ｈ，ｍ）
　６．５２（ＩＨ，８）　６．０（ＩＨ，ｄ）　７．７
２（ｉＨ，ｄ） （１Ｃ） （７ｚ）−２β−（３ａ−ヒドロキシ−５，９（７ｚ）
−ピラニル体（実施例１ａの化合物；４７０　＃　）を
用い実施例１ｂと同様に反応処理すると１８７岬のガラ
メ状の目的化合物が得られた。

ＩＲスペクトル（メジ１−ル）νｍａｘ””−’　；　
−１１１１１０、１５８０，１４８０，１３７＠、　　
８７０　　　　　　　’ＮＭＲ、’Ｃベクトル（ＯＤＯ
Ｊ、ｌ）　ａｐｐｍ　：　ｏ、５２（ｓｕ、ｍ）、６０
（３Ｈ，８）　、６７（３Ｈ，ｓ）　３．８５（ＩＨ，
ｍ）　５．５６（シＨ１ｍ）　　　ｔ５５（ＩＨ，ｓ）
　　　６．１１５（ＩＨ，ｄ）　　　了、ｒｓ（１Ｈ；
ａ）実施例２゜ （２ａ） ン及びそのγ儲）−異性体 ９６５■の５５％油性ナトリウム水素、５４２ｆのトリ
ブチル　５−カルホキシー３−テニルホスホニウムプロ
ミド及び１１（１’）’ｌβ−〔３α−（２−テトラヒ
ドロピラニルオキシ）　−５，９−ジメチルデカ−１，
８−ジェニル〕−３α−（２−テトラヒドロピラニルオ
キシ）−７−オキソ−７スービシクロ（：　３．３．０
　）オクタンを用い実施例１ａと同様に反応処理すると
、（ｙｚ）　−２β−〔３α−（２−テトラヒドロピラ
ニルオキシ）＝５，９−ジメチルデカ−１，８−ジェニ
ル〕−３α−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−７
−（５−カルボキシ−３−テニリデン）−シス−ビシク
ロ［３，３，０）オクタン４５４η及び（７Ｂ）　−２
β−〔３α−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）　−
５，９−ジメチル−デカ−１，８−ジェニル〕−３α−
（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−７−（５−カル
ボキシ−３−テニリデン）−シスービシクｏ（３，ａ、
ｏ）オクタン２７５１９が得られた。

（ＴＺ）−ピラニル体 ＩＲスペクトル（ＯＨＯｊ３）νｍａｘＣｍ’　　：　
１７０３　。

１５２５　、　１４４３．　１０３２　、　１０２２　
、　９７５（７Ｂ）−ピラニル体 ’ｌスペクトル（ＯＨＯＪ５）輻ａｘｃｍ−’　　；　
１７０２　。

１５２５　、　１４４２　、　１０３１　、　１０２２
　、　９７５（２ｂ） （７Ｅり一ピテニル体（実施例２ａの化合物；２７５　
ｑ　）を用い実施例１ｂと同様に反応処理すると１２１
岬の結晶性の目的化合物が得られた。

融点Ｔ５℃ ＩＲスペクトル（ヌシチール）νｍａｘＣｍ。

３３８０　、　１６８０　、　１５５ＯＮＭＲスペクト
ル（０ＤＯＪ　５）δ：　０．９２（３Ｈ，ｄ）、６０
（３Ｈ，ｓ）　、　、６７（３Ｈ，ｓ）　、　１８０（
１Ｈ，ｍ）　。

４．２０（１）ｔ、ｍ）　、　５．１１（ＩＨ，ｄ）　
、　５．５６（２Ｈ，ｍ）　。

６．３０（ＩＨ，ｓ）、７．２８（ＩＨ２ｓ）、７．７
８（ＩＨ，５）（２Ｃ） （７ｚ）−ピラニル体（実施例２ａの化合物＝４５４■
）を用い実施例１ｂと同様に反応処理すると２８４岬の
ガラス状の目的化合物が得られた。

■几スペクトル（ヌジョール）νｍ３ｘｃｍ。

３３Ｂ０　、　１６８０　、　１５４０　、　１４４２
　、　９７４ＮＭＲスペクトル（０ＤＯＪ５　）６９９
ｍ　：　０．９１（３Ｈ，ｄ）、６０（３Ｈ，ｓ）、、
６７（３Ｈ，ｓ）、３．８０（ＩＨ，ｍ）、４．１９（
ＩＨ。

ｍ）、５．１０（ＩＨ，ｔ）、５．５６（２Ｈ，ｍ）、
６．３０（ＩＨ，ｓ）。

７．２９（ＩＨ，Ｓ）、７．７９（ＩＨ，Ｓ）実施例３
゜ テニリデン）−シス−ビシクロ（３，３，０）オクタン カルボキシ体（実施例１ｂの化合物＝５０■）を過剰の
ジアゾメタンのエーテル溶液で処理し溶媒を留去すると
５２畔の目的化合物が得られた。

ＩＲスペクトル（０ＨＯＪ　、）νｍａｘＣｍ、３４０
０゜Ｔ１０ 実施例４゜ ヱＺ カルボキシ体（実施例２ｂの化合物：４５ｍ１）を過剰
のジアゾメタンのエーテル溶液で処理し溶媒を留去する
と４８１１９の目的化合物が得られた。

ＩＲスペクトル（ＯＨＯＪ３）νｍａｘｃｍ　　、　３
４０Ｇ　。

実施例５． ９７０　ｑの油性５５％ナトリウム水素、５．２３ｆの
トリブチル　５−カルボキシ−２−テニルホスホニウム
プロミドト°　　及び＄８５４の２β−〔３β−（２−
テトラヒドロピラニルオキシ）　−Ｓ、　Ｓ。

−ジメｆルテカーｔ、ｓ−ジェニル）−３α−（２−テ
トラヒドロピラニルオキシ）−Ｔ−オキソ−シス−ビシ
クロ（３，３，０）オクタンを用い実施例１ａ、次いで
実施例１ｂと同様に反応処理すると２１５９の目的化合
物が得られた。

Ｉｎスペクトル（ａｎｏｊ５）シｍａｘＣｍ−’　：　
１６７０　。

１５３０　、　９７５ ＮＭＲＩｎスペクトルＤｏｊ、）６９９ｍ　：　Ｏ，５
ｌ（３Ｈ，ａ）、６０　（ａＨｔｓ）　、　、６８（３
ＨＩ　８）　ｌ　３．８２（ＩＨ，ｍ）　、　４１５（
１ｔＬｍ）−５，１２（１ｎ＊　ｔ）、５．５４（２Ｈ
，ｍ）、６．５２（ＩＨ。

ｓ）、６．８３（ＩＨ，ｄ）、７．７２（ＩＨ，ｄ）実
施例６゜ （６ａ） ｓｓｏ　Ｍｇの５５％油性ナトリウム水素、５２１のト
リフチル　５−カルボキシ−２−テニルホスホニウムプ
ロミド及び、Ｏｆの２β−〔３α−（２−テトラヒドロ
ピラニルオキシ）−９−メチルデカ−１，８−ジェニル
〕−３α−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−１−
オキソーシスービシク０　（＆＆０）オクタンを用い実
施例１ａと同様に反応処理すると（７Ｚ）　−２β−〔
３α−（２−テトラヒト−ピラニルオキシ）−Ｓ−メチ
ルデカ−１，８−ジェニル〕−３α−（２−テトラヒド
ロピラニルオキシ）−７−（５−カルボキシ−２−テニ
リデン）−シス−ビシクロ、ｃ　ａ、　ａ、　０　）オ
クタン４騙２キ及び（７Ｂ）　−２β−〔３α−（２−
テトラヒドロピラニルオキシ）−３−メチルデカ−１，
８−ジェニル〕−３α−（２−テトラヒドロピラニルオ
キシ）−４−（Ｓ−カルボキシ−２−テニリデン）−シ
ス−ビシクロ（３，３，０）オクタン８２１　ｍｇが得
られた。

７ｚ−異性体 Ｉｎスペクトル（ａｎｏｊ、５）シｍａｘＣｍ−’　：
　１７０２　。

１５２５　、　１４５０　、　１０３１　、　１０２２
　、　９７４１Ｂ−異性体 Ｉｎスペクトル（ａｎｏｊり　ｖ−ａｘｃｍ−１：、１
７０３゜１５２５　、　１４５０　、　１０３１　、　
１０２２　、　９７５（６ｂ） 一シスービシタロ（＆　３．０　）オクタン１Ｅピラニ
ル体（実施例３ａの化合物：３Ｈ＊）を世い実施例１ｂ
と同様に反応処理すると１５４叩の目的化合物が得られ
た。

Ｉｎスペクトル（０ＨＯＪ　５）シｍａｘＣｍ、３３８
０゜１６７８　、　１５２５　、　９７２ ＮＭＲスペクトルＣ０ＤＯＪ５）−６９９ｍ　：　、６
１（３）、ｓ）。

、６８（３Ｈ，Ｓ）、１８４（ＩＨ，ｍ）、４．１６（
ＩＨ，ｍ）、＆１２（ＩＨ。

ｔ）、５゜５４（２Ｈ，ｍ）、１５２（ＩＨ，５）ｔｓ
、８２（ｌＨ＠ａＬ７．７２（ＩＨ，ｄ） 実施例７゜ ａｓｓ　＊の５Ｓ％油性ナトリウム水素、ｓ、２１　ｆ
のトリブチル　Ｓ−カルボキシ−２−テニルホスホニウ
ムプロミド、及びＳＳＳ　叩の２β−〔３α−（２−テ
トラヒドロピラニルオキシ）−４、４，９−）リメチル
デカ−１，８・−ジェニル〕−３α−ヒドロキシ−７−
（５−カルボキシ−２−テニリデン）−シス−ビシクロ
［３，３，０〕オクタンを用い実施例１ａ、次いで実施
例１ｂと同様に反応処理すると１２１１１Ｆの目的化合
物が得られた。

ＩＲスペクトル（ＯＨＯＪ３）νｍａＸｃｍ　’　：　
３３８０　。

１６７７　、　１５２５　、　９７４ ＮＭＲスペクトル（ＯＤＯＪ３）６９９ｍ　：　０．８
Ｂ（３Ｈ，ｓ）。

０．８９（３Ｈ，Ｓ）、、６１（３Ｈ，８）、、６８（
３Ｈ，８）、５．５４（２Ｈ。

ｍ）、６．５２（ＩＨ，ｓ）’、６．８２（ＩＨ，ｄ）
、７．１３（ＩＨ，ｄ）実施例８ （８ａ） ９６５　ｗｉＩの５５％油性ナトリウム水素、５．２ｊ
’ノドリブチル　５−カルボキシ−２−テニルホスホニ
ウムプロミド及び９８０　ｗｉの２β−〔３α−（２−
テトラヒドロピラニルオキシ）−４−メチルノナ−１，
８−ジェニル〕−３α−（２−テトラヒドロピラニルオ
キシ）−７−オキソ−シス−ビシクロ（３，３，０）オ
クタンを用い実施例１ａと同様に反応処理すると（７Ｚ
）　−２β−［３α−（２−テトラヒドロピラニルオキ
シ）−４−メチルノナ−１，８−ジェニル〕−３α−（
２−テトラヒドロピラニルオキシ）−７−（５−カルボ
キシ−２−テニリデン）−シス−ビシクロ（３，３，０
〕オクタン４３１　ＩＨ９及び（７Ｋ）　−２β−〔３
α−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−４−メチル
ノナ−１，８−ジェニル〕−３α−（２−テトラヒドロ
ピラニルオキシ）−７−（ｓ−カルボキシ−２−テニリ
デン）−シス−ビシクロ（３，３，（１〕オクタン２９
３　Ｎを得た。

７ｚ−異性体 ＩＲスペクトル（０ＨＯＪ　３　）シｍａｘＣｍ−１＝
１Ｔ０３゜１６４０、　１５２５．　１４５０．　１０
３２．　１０２２．　９７３７Ｅ−異性体 ＩＲスペクトル（ｏｘ＊ｏ１５　）νｍａｚＣｍ’　：
　１７０３　。

１Ｂ４０．　１５２５．　１４５０．　１０３２．１０
２２．　９７３（８ｂ） （７Ｂ）−ピラニル体（実施例８ａの化合物：２７０■
）を用い実施例１ｂと同様に反応処理すると１３９１ｍ
ｇの目的化合物が得られた。

ＩＲスペクトル（ＯＨＯＪ５）νｍａｘｃｍ　’　：　
３３８０　。

１６７６　、　１６４０　、　１５２５　、　９７３Ｎ
ＭＲスヘクトＡ　　（０ＤＯＪ　５　）６９９ｍ　：　
０．９０　（３Ｈ。

ｍ）、３６〜４４（２Ｉ（１ｍ）、４４〜６．１（５Ｈ
９ｍ）、６．５１（１Ｈ１ｓ）、６．８３（１Ｈ，ｄ）
、７．７２（１ｕ、ｄ）実施例８ （５−カルボキシ−２−テニリデン）−シス−９６５ｑ
の５５％油性ナトリウム水素、５．２０　ｆのトリブチ
ル　５−カルボキシ−２−テニルホスホニウムプロミド
、及び９６０■の２β−〔３α−（２−ｆト’ｉヒドロ
ピラニルオキシ）オクタ−１，５−ジェニル〕−３α−
（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−７−オキンーシ
スービシクロ［３，３，０）オクタンを用い、実施例１
ａ１次いで実施例１ｂと同様に反応処理すると１１９岬
の目的化合物が得られた。

ＩＲスペクトル（ＯＨＯＪ　３）　ｖｍａ　ｘ　Ｃｍ１
３３　Ｂ　Ｏ＋１６７６　、１５２５　、　９７４ ＮＭＲスペクトル（ＯＤＯＪ５）６９９ｍ　：　０．９
７（３Ｉ＋、ｔ）。

５．１〜５．８（４Ｈ，ｍ）、６．５２（ＩＨ，ｓ）、
６．８３（ＩＨ，ｄ）。

７．７２（ＩＨ，ｄ） 実施例１０゜ ドロキシ−７−（５−カルボキシ−２−テニリ４７５増
の５５％油性ナトリウム水素、２６２９のトリブチル　
５−カルボキシ−２−テニルホスホニウムプロミド及び
４６６ｑの２β−〔３α−（２−テトラヒドロピラニル
オキシ）　−４，７−シメチルオクトー、６−ジェニル
〕−３α−ヒト四キシ−ｙ−（ｓ−カルボキシ−２−テ
ニリデン）−シス−ビシクロ（３，３，０）オクタンを
用い、実施例１ａ次いで実施例１ｂと同様に反応処理す
るとｅｓｗｇの目的化合物が得られた。

ＩＲスペクトル（０ＨＯ）、）シｍａｘ’ｍ−’　：　
３３８０　。

１６１６、　１５２５．　９７３ 実施例１１゜ ４８１１１１Ｐの５５％油性ナトリウム水素、２．１Ｈ
ｆのトリブチル　５−カルボキシ−２−テニルホスホニ
ウムプロミド　及び４５０　叩の２β−〔３α−（２−
テトラヒドロピラニルオキシ）−ノナ−１，６−ジェニ
ル〕−３α−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−１
−オキソ−シス−ビシクロ［３，３，０）オクタンを用
い、実施例１８次いで実施例１ｂと同様に反応処理する
と６９岬の目的化合物が得られた。

ＩＲスペクトル（ＯＨＯＪ、）νｍａ　ｘｃｍ″″’　
：　３３８０　ｔ１６７７　、　１５２８　、　１４５
０　、　９７３実施例１２゜ （１Ｚａ） 体 ■Ｏ叩の５５％油性ナトリウム水素、５．２ｆのトリブ
チ″　５−力ぐ′キシー２−テ°″＊　Ｘホニウムプロ
ミド　及び　、０ｊＦの２β−〔３α−（２−テトラヒ
ドロピラニルオキシ）−１−オクテニル〕−３α−（２
−テトラヒドロピラニルオキシ）−Ｔ−オキソ−シス−
ビシクロ（ａ、　Ｓ、　Ｏ）オクタンを用い、実施例１
ａと同様に反応処理するとよシ極性の小穿い部分よシ（
Ｔｚ）　−２β−〔３α−（２−テトラヒドロピラニル
オキシ）−１−オクテニル〕−３α−（２−テトラヒド
ロピラニルオキシ）−ｒ−（５−カルボキシ−２−テニ
リデン）−シス−ビシクロ（３，３，０）オクタン４１
５１１ｇ及びよル極性の大きい部分よ？）　（７ｇ）　
−２β−〔３α−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）
−１−オクテニル〕−３α−（２−テトラヒドロピラニ
ルオキシ）−ｙ−（ｓ−カルボキシ−２−テニリテン）
−シス−ビシクロ（：＆＆Ｏ）オクタン３１１キが得ら
れた。

ＩＲスペクトル（ＯＨＯＪ５）シｍａｘｃｍ−’　：　
１７２０　。

１５２５、　１４５０．　１０３２．１０２２．　　！
１７５７Ｂ−異性体 ＩＲスペクトル（ＯＨＯＪ３）シｍａＸＣｍ−１＝１Ｔ
ｏ３゜１５２５、　１４５０．　１Ｇ３２．　１０２２
．　９７５（１２ｂ） （ＴＢ）−ピラニル体（実施例１２ａの化合物；２τａ
ＳＷ）を用い、実施例１ｂと同様に反応処理すると１１
５岬の目的化合物が得られた。

！几スペクトル（ａｎｏｊ５　）シｍａＸＣｍ−１＝３
３８０゜１”６７’５　＊、　１，５２５．９７．２Ｈ
ＭＲスペクトル（ＯＤＯＪ３）δｐ、１）ｍ　：　３．
８ｍ（ＩＨ，ｍ）ｔｔｓ（１ｕ、ｍ）　、　ｓ、５４（
ｚｕ、ｍ）　＊　６．５１　（ＩＨ，Ｓ）　、　６．８
３（ＩＨ，ｄ）、７．７１　（ＩＨ，ｄ）実施例１３゜ −１−エニル）−３α−ヒトルキシ−Ｔ−（５９１０■
の５５％油性ナトリウム水素、５．２１　Ｆのトリブチ
ル　５−カルボキシ−２−テニルホスホニウムプロミド
　及び９４６岬の２β−〔３α。

Ｔ−ジー（２−テトラヒドロピラニルオキシ）オクト−
１−エニル〕−３α−（２−テトラヒドロピラニルオキ
シ）−７−オキソ−シス−ビシクロ〔３，３，０）オク
タンを用い、実施例１ａ　　次いで実施例１ｂと同様に
反応処理すると１７９ｍｇの目的化合物が得られた。

化スペクトル（ｏＨａｌ　、　）νｍａｘ””　’　：
　３３７０　。

１６７４　、　１５２５　、　１４５０　、　９７４実
施例１４゜ ９７０哩の５５％油性ナトリウム水素、５．２５１のト
リブチル　５−カルボキシ−２−テニルホスホニウムプ
ロミド　及び９５０■の２β−〔３α−（２−テトラヒ
ドロピラニルオキシ）−８−メトキシオクト−１−エニ
ル〕−３α−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−Ｔ
−オキソ−シス−ビシクロ（１３，０）オクタンを用い
、実施例１３次いで実施例１ｂと同様に反応処理すると
１９５１１Ｆの目的化合物が得られた、ＩＲスペクトル
（ａＨｏｊ３）シ、、ａｘｃｍ　　、　３３Ｂ０　。

１６７６　、　１５２６　、　１４５０　、　９７４実
施例１５゜ ４７０　ｍｇの５５％油性ナトリウム水素、２．６１９
のトリブチル　５−カルボキシ−２−テニルホスホニウ
ムプロミド及び４５０ηの２β−〔３α−（２−テトラ
ヒドロピラニルオキシ）−オクト−６−イン−１−エニ
ル〕−３α−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）ニア
−オキソ−シス−ビシクロ［３，３，０）オクタンを用
い、実施例１ａ次いで実施例１ｂと同様に反応処理する
と６５ηの目的化合物が得られた。

ｉｕスペクトル（ＯＨＯＪ、）νｍａｘＣｍ、３３８０
゜１６７７、　１５２５．　１４５０．　９７４実施例
１６゜ ９６０ηの５５％油性ナトリウム水素、５．２Ｆのトリ
ブチル　５−カルボキシル２−テ二ルホスホニウムプロ
ミド、及びｓｅｓ　Ｉｌｖの２β−〔３α−（２−テト
ラヒドロピラニルオキシ）−３−シクロヘキシル−１−
プロベニ、ル〕−３α−（２−テトラヒドロピラニルオ
キシ）−７−オキソ−シス−ビシクロ（３，３，０）オ
クタンを用い、実施例１ａ次いで実施例１ｂと同様に反
応処理すると１５７Ｍｇの目的化合物が得られた。

ＨＬスペクトル（ＯＨＯＪ１５）νｍａｘｃｍ　’　：
　３３８０　。

１６７７、　１５２５．　９７３ 哩ＭＲスペクトル（ＯＤＯＪ５）δＪ）Ｊ）ｍ　：　３
Ｊ３（ＩＨ，ｍ）４．１５（ＩＨ，ｍ）、５．５３（２
Ｈ，ｍ）、６．５１　（ＩＨ，８）、６．８２（ＩＨ。

ｄ）、７．７２（ＩＨ，ｄ） 実施例１７゜ ４７５■の５５％油性ナトリウム水素、２．６１　ｆの
トリブチル　５−カルボキシ−２−テニルホスホニウム
プロミド、及び４８０９の　２β−〔３α−（２−テト
ラヒドロピラニルオキシ）−４−シクロベンチルー１−
フｆニル）　−３α−（２−テトラヒドロピラニルオキ
シ）−７−オキソ−シス−ビシクロ［１０）オクタンを
用い、実施例１ａ次いで実施例１ｂと同様に反応処理す
ると７ＴｗＩＩｉの目的化合物が得られた。

ｔＲスペクトル（ｏａａｊ３）シｍａｘｃｍ−’　：　
３３８０　。

１６７７、　１５２５．　９Ｔ４ ＮＭＲスペクトル（ｃＤＯｊ３　）δｌ）ｐｍ　：　３
．８３（ＩＨ，ｍ）。

４１４（ＩＨ，ｍ）　、　５．５３（２Ｈ，ｍ）　、　
６．５１　（ＩＨ，８）　、　８．８１（ＩＨ，ｄ）、
７．７２（ＩＨ，ｄ） 実施例１８゜ ｓｙｏ　ｗｅの５５％油性ナトリウム水素、　５．２１
Ｎノドリフチル　５−カルボキシ−２−テニルホスホニ
ウムプロミド、及び９１１１１１９の２β−〔３α−（
２−テトラヒドロピラニルオキシ）−４−７二ノキシー
１−ブテニル〕−３α−（２−テトラヒドロピラニルオ
キシ）−７−オキソ−シス−ビシクロ（３，３，０３オ
クタンを用い、実施例１８次いで実施例１ｂと同様に反
応処理すると１４３岬の目的化合物が得られた。

ＩＢスペクトル（ＯＨＯＪ！ｌ）シｍａｚ’ｍ−１：　
３３８０　。

１８８０　、　１５２６　、　１４５０　、　９７４Ｎ
ＭＲスペクトル（ＣＤＯＪ３）δｐｐｍ　：　３．６〜
４．８（４Ｈ。

ｒｎ　）　＊　５．５６　（２Ｈ、−Ｉｎ　）　６６−
５３　（ＩＨ＊　ｓ　）　１６１〜７．２　（６Ｈ＊”
）　ｓ７．７１（ＩＨ，ｄ） 実施例１９゜ （１９ａ） ５５％油性水素化ナトリウム４１４１１ＩＩの油分をｎ
−へキサンにて洗浄した後、無水テトラヒドロフラン３
０ｓ／、ジメチルホルムアミド１０ｍ。

ヘキサメチルホスホルアミド２ｄと５−メトキシカルボ
ニル−フルフリル−）リーｎ−７’チルホスホニウム　
プロミド４．０１を加えて室温に１時間攪拌する。次い
で、２−（３α−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）
−５β、９−ジメチル−１，８−デカジェニル〕−３α
−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−７−オキソビ
シクロ［３，３，０）オクタンＬＯＩを加えて室温に７
時間攪拌した後、−夜装置する。反応液を２００−ｊの
氷水に希釈して、酢酸エチル抽出、抽出液を水洗、芒硝
乾燥して溶媒を減圧留去と順次行ない５．１ＳＦの油状
残渣を得た。この残渣をアルミナのカラムクロマトグラ
フィに付し２．３６９の目的化合物を得た。

ＩＲスペクトル（液状フィルム）シｍａＸＣｍ−１：１
６６０、　１７３Ｏ ＮＭＲスペクトル（ａＤｏｊ３）δｐｐｍ　：　３．ｆ
１５（３Ｈ，ｓ）＊５．０５（ＩＨ，ｔ）、５．５（２
Ｈ，ｍ）、６．１５（２Ｈ，ｍ）、７．０６（ＩＨ。

ｄ） ←１９ｂ） ピラニルオキシ）−５β、９−ジメチル−１，８メチル
エステル体（実施例１９ａで得られた化合物：２．３６
ＩＩ）をメタノール６０ｄＫ溶解して、５０℃に加温し
、攪拌しながら、５％水酸化す、トリウム水溶液３０ｍ
を白濁しない程度に加えて、１時間反応する、埠応液を
、氷水に希釈して７％塩酸２２−を加えて酸性とし、酢
酸エチル抽出、抽出液を水洗、芒硝乾燥後、溶媒を減圧
、留去と順次行ない２．３ｆの油状残渣を得た。この残
渣を、７０ｆのシリカゲルを用いたカラムクロマトグラ
フィーに付して目的とするＴ＠体ｏｓｏ、ｙと１（６）
体、１０’　ｆを得た。ここで得られた７＠体を、通常
の酸処理（脱ピラニル）を行なうことによりジヒドロキ
シ体を得た。

！Ｂスペクトル（０Ｈｏｊ３　）νｍａ　ｘＣ１’ｌ’
１　　ｍ　１７００　ｇ１０Ｂ２　ｅ、１０１０ ２２Ｎスペクトル（ＯＤＯＪ５）δＩ）ｐｍ　：　４．
６３（２Ｈ。

ｂｒ、ｓ）、５．０５（ＩＨ，ｔ）、５．．５０（２Ｈ
，ｍ）、６．２０（２Ｈ，ｍ）。

、２０（ＩＨ，ｄ）、９．３０（ＩＨ，ｍ）（１９ｃ） ジビテニル体〔実施例１９ｂで得たＴ＠化合物：ｏ、５
ｏｙ）をジアゾメタン−エーテル溶液で処理シテメチル
エステル体とした後、酢酸５１／とテトラヒドロフラン
５ｄに溶解して５０℃に攪拌しながら水を白濁しない程
度に加えて、５時間反応する、反応液を、水に希釈して
酢酸エチル抽出し、抽出液を水洗、芒硝乾燥、溶媒を減
圧留去と順次行ない０．４５Ｆの油状残渣を得た。この
残渣を１５ｙのシリカゲルを用いたカラムクロマトグラ
フィーに付し精製することＫよｊ５０．２２１の油状目
的化合物を得た。このエステル体は、水酸化ナトリウム
水溶液にて処理することＫよりナトリウム塩が得られた
。

〔α）　　　ニー）−１５０，６°（０＝、０　、　Ｏ
Ｈ○Ｊ３）ＩＲスペクトル（０ＨｏＪ３）νｍａＸｃｍ
　”　：　１１４０　。

１＄１（１，１７１５，３４０Ｏ ＮＭＲスペクトル（０ＤＯＪ、　）δｐｐｍ　：　０．
９２（３Ｈ，ｄ）３．９０（３Ｈ，８）、５．１４（Ｉ
Ｈ，’　ｔ）、５．５５（２Ｈ，ｍ）、６．２７（２ｎ
＋ｍＬγ、ＩＣＩ（ＩＨ，ｄ） 参考例１゜ メチル　５−メチル−２−フロエートをＮ−ブロモスク
シンイミドにてブロム化することによって得られるメチ
ル　５−ブロモメチル−２−フロエート４．７８９をア
セトニトリル２５ｓ？に溶解してトリーｎ−ブチルホス
フィン４．４２ｆを加えて１時間放置した。その後、ア
セトニトリルを留去し、エーテルを加えて再結晶するこ
とによυ融点９７〜９８℃を有する目的化合物ｒ、ｏｙ
　　を得た。

ＩＲスペクトル（ヌジョール）νｍａｘ””　　’１２
００、　１３０７．　　ＩＴ２５ 診考例２ Ｓ−メチルチオフェン−２−カルボン酸をＮ−ブロモス
クシンイミドによジブロム化することにより得られる５
−カルボキシテニルプロミド４．Ｏｆをアセトニトリル
４０Ｗｌに溶解し、トリーｎ−ブチルホスフィン３．９
５９を加え１時間１００℃に加熱攪拌した。反応液を濃
縮し、エーテルを加え析出した結晶をＰ取すると６．０
７Ｆの目的化合物が得られた。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一般式 〔式中、 Ｒ＾１は保護されていてもよいカルボキシ基、保護され
   ていてもよいヒドロキシメチル基、保護されていてもよ
   いヒドロキシメチルカルボニル基、置換されていてもよ
   いカルバモイル基又はテトラゾール−５−イル基を示し
   、 Ｒ＾２及びＲ＾３は同一又は異なつて水素原子又は水酸
   基の保護基を示し、 Ｒ＾４は水素原子又は低級アルキル基を示し、Ｒ＾５は
   置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよ
   いアルケニル基、置換されていてもよいアルキニル基、
   置換されていてもよいシクロアルキル基、ヘテロシクリ
   ル基、 式 ▲数式、化学式、表等があります▼基（式中、Ｒ＾６及
   びＲ＾７は同一 又は異なつて水素原子又は低級アルキル基を示し、Ｒ＾
   ８は置換されていてもよいシクロアルキル基、置換され
   ていてもよいフエニル基又はヘテロアリール基を示し、
   Ｚは単結合、メチレン基、酸素原子又は硫黄原子を示し
   、ｍは０乃至６の整数を示す。）又はアダマンチル基を
   示し、Ａは式▲数式、化学式、表等があります▼基（式
   中、Ｒ＾９は水素原子、低級アルキル基、水酸基、低級
   アルコキシ基、ハロゲン原子又はトリフルオロメチル基
   を示し、Ｑは酸素原子、硫黄原子、イミノ基（−ＮＨ−
   ）又は低級アルキルイミノ基を示す。）を示し、Ｂはエ
   チレン、トランス−ビニレン又はエチニル基を示し、 ｎは０又は１の整数を示す。〕 を有するビシクロオクタン誘導体及びその薬理上許容さ
   れる塩。