JP2571250B2 - プロスタグランジン化合物 - Google Patents
プロスタグランジン化合物Info
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- JP2571250B2 JP2571250B2 JP63007835A JP783588A JP2571250B2 JP 2571250 B2 JP2571250 B2 JP 2571250B2 JP 63007835 A JP63007835 A JP 63007835A JP 783588 A JP783588 A JP 783588A JP 2571250 B2 JP2571250 B2 JP 2571250B2
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Indole Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
- Furan Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 本願発明は、選択的に優れた抗潰瘍作用を有する新規
なプロスタグランジン化合物及びその塩に関する。
なプロスタグランジン化合物及びその塩に関する。
α側鎖にカルボニル基を有するプロスタグランジン誘
導体としては、例えば次に示す６−オキソ体及び７−オ
キソ体等が抗潰瘍作用等を有することが知られている
（特開昭52−83524号、特開昭58−4762号等）。
導体としては、例えば次に示す６−オキソ体及び７−オ
キソ体等が抗潰瘍作用等を有することが知られている
（特開昭52−83524号、特開昭58−4762号等）。
しかしながら、これらの化合物は、抗潰瘍作用と同時
に血小板凝集阻害作用等をも有し、作用の分離が十分で
なく、望ましい抗潰瘍剤として、必ずしも満足なものと
はいえない。
に血小板凝集阻害作用等をも有し、作用の分離が十分で
なく、望ましい抗潰瘍剤として、必ずしも満足なものと
はいえない。
本願発明者等は、プロスタグランジン誘導体の合成と
その抗潰瘍作用について、長年に亘り鋭意検討を重ねた
結果、α側鎖の特異な位置にカルボニル基を有する化合
物が優れた抗潰瘍作用を示し、かつ極めて弱い血小板凝
集阻害作用等しか示さないこと見出して本願発明を完成
させた。
その抗潰瘍作用について、長年に亘り鋭意検討を重ねた
結果、α側鎖の特異な位置にカルボニル基を有する化合
物が優れた抗潰瘍作用を示し、かつ極めて弱い血小板凝
集阻害作用等しか示さないこと見出して本願発明を完成
させた。
本願発明に係る新規化合物は、一般式 式中、 R1は、保護されていてもよいカルボキシ基、テトラゾ
リル基、置換されていてもよいカルバモイル基、保護さ
れていてもよいヒドロキシメチルカルボニル基又は保護
されていてもよいヒドロキシメチル基を示し、 R2及びR3は、同一又は異なって水素原子又は水酸基の
保護基を示し、 R4は、水素原子又はC1〜C4のアルキル基を示し、 R5は、置換されていてもよいアルキル基、置換されて
いてもよいアルケニル基（ジエニル基を含む）、置換さ
れていてもよいアルキニル基又は式−Ｂ−R6を有する基
〔式中、Ｂは単結合又は酸素原子、硫黄原子若しくはビ
ニレン基を含んでいてもよいC1〜C6のアルキレン基（直
鎖又は分枝状）を示し、 R6は、置換されていてもよいC3〜C10のシクロアルキ
ル基、アリール基、ヘテロシクリル基又はヘテロアリー
ル基を示す。〕を示し、 Ａは、エチレン基、ビニレン基、エチニレン基又は式
−Ｏ−CH2−若しくは−Ｓ−CH2−を有する基を示し、 ｍは、０乃至５の整数を示し、 ｎは、２乃至５の整数を示す。
リル基、置換されていてもよいカルバモイル基、保護さ
れていてもよいヒドロキシメチルカルボニル基又は保護
されていてもよいヒドロキシメチル基を示し、 R2及びR3は、同一又は異なって水素原子又は水酸基の
保護基を示し、 R4は、水素原子又はC1〜C4のアルキル基を示し、 R5は、置換されていてもよいアルキル基、置換されて
いてもよいアルケニル基（ジエニル基を含む）、置換さ
れていてもよいアルキニル基又は式−Ｂ−R6を有する基
〔式中、Ｂは単結合又は酸素原子、硫黄原子若しくはビ
ニレン基を含んでいてもよいC1〜C6のアルキレン基（直
鎖又は分枝状）を示し、 R6は、置換されていてもよいC3〜C10のシクロアルキ
ル基、アリール基、ヘテロシクリル基又はヘテロアリー
ル基を示す。〕を示し、 Ａは、エチレン基、ビニレン基、エチニレン基又は式
−Ｏ−CH2−若しくは−Ｓ−CH2−を有する基を示し、 ｍは、０乃至５の整数を示し、 ｎは、２乃至５の整数を示す。
R1のカルボキシ基の保護基としては、通常使用される
カルボキシ基の保護基なら特に限定されないが、例えば
メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブ
チル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−
ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシルのよ
うなC1−C10のアルキル基；後述するC3−C7シクロアル
キル基；ベンジル、４−ブロモベンジル、ベンツヒドリ
ルのようなアラルキル基；フェニル、ナフチルのような
アリール基（該アリール基は、置換分を有してもよく、
それらは、C1〜C4アルキル基、アセチルアミノ、プロピ
オニルアミノのようなC2−C5脂肪族アシルアミノ基、ベ
ンゾイルアミノ、４−メチルベンブイルアミノ、３−メ
トキシベンゾイルアミノ、４−メトキシベンゾイルアミ
ノ、４−ヒドロキシベンゾイルアミノのようなC1−C4ア
ルキル、C1−C4アルコキシ若しくはヒドロキシで置換さ
れていてもよいベンゾイルアミノ基、カルバモイル基又
はメチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ジメチル
カルバモイルのようなモノ若しくはジC1−C4アルキルカ
ルバモイル基である。）；フェナシル基又はゲラニル基
をあげることができ、好適にはC1−C10のアルキル基、
置換されていてもよいフェニル基又はナフチル基であ
る。
カルボキシ基の保護基なら特に限定されないが、例えば
メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブ
チル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−
ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシルのよ
うなC1−C10のアルキル基；後述するC3−C7シクロアル
キル基；ベンジル、４−ブロモベンジル、ベンツヒドリ
ルのようなアラルキル基；フェニル、ナフチルのような
アリール基（該アリール基は、置換分を有してもよく、
それらは、C1〜C4アルキル基、アセチルアミノ、プロピ
オニルアミノのようなC2−C5脂肪族アシルアミノ基、ベ
ンゾイルアミノ、４−メチルベンブイルアミノ、３−メ
トキシベンゾイルアミノ、４−メトキシベンゾイルアミ
ノ、４−ヒドロキシベンゾイルアミノのようなC1−C4ア
ルキル、C1−C4アルコキシ若しくはヒドロキシで置換さ
れていてもよいベンゾイルアミノ基、カルバモイル基又
はメチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ジメチル
カルバモイルのようなモノ若しくはジC1−C4アルキルカ
ルバモイル基である。）；フェナシル基又はゲラニル基
をあげることができ、好適にはC1−C10のアルキル基、
置換されていてもよいフェニル基又はナフチル基であ
る。
R1の置換されていてもよいカルバモイル基としては、
カルバモイル基又はモノ若しくはジ置換カルバモイル基
をあげることができ、その置換基としては、例えば置換
されていてもよいC1〜C4アルキル基〔（C1〜C4アルキル
基としては、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イ
ソプロピル、ｎ−ブチルのような直鎖又は分枝状のアル
キル基を示し、該置換分としては、カルボキシ基、C1〜
C4アルコキシカルボニル基、水酸基、フェニル基等をあ
げることができる。）、以下、C1〜C4アルキル基は同意
義を示す。〕、フェニル、トリルのような置換されてい
てもよいフェニル基、アセチル、トリフルオロアセチ
ル、ベンゾイルのようなアシル基又はメタンスルホニ
ル、エタンスルホニル、ベンゼンスルホニル、４−トリ
エンスルホニルのようなC1〜C4アルカン若しくはアリー
ルスルホニル基をあげることができるが、好適にはモノ
（置換されていてもよいC1〜C4アルキル基）置換カルバ
モイル基、カルバモイル基又はメタンスルホニルカルバ
モイル基であり、特に好適にはモノ（置換されていても
よいC1〜C4アルキル基）置換カルバモイル基又はメタン
スルホニルカルバモイル基である。
カルバモイル基又はモノ若しくはジ置換カルバモイル基
をあげることができ、その置換基としては、例えば置換
されていてもよいC1〜C4アルキル基〔（C1〜C4アルキル
基としては、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イ
ソプロピル、ｎ−ブチルのような直鎖又は分枝状のアル
キル基を示し、該置換分としては、カルボキシ基、C1〜
C4アルコキシカルボニル基、水酸基、フェニル基等をあ
げることができる。）、以下、C1〜C4アルキル基は同意
義を示す。〕、フェニル、トリルのような置換されてい
てもよいフェニル基、アセチル、トリフルオロアセチ
ル、ベンゾイルのようなアシル基又はメタンスルホニ
ル、エタンスルホニル、ベンゼンスルホニル、４−トリ
エンスルホニルのようなC1〜C4アルカン若しくはアリー
ルスルホニル基をあげることができるが、好適にはモノ
（置換されていてもよいC1〜C4アルキル基）置換カルバ
モイル基、カルバモイル基又はメタンスルホニルカルバ
モイル基であり、特に好適にはモノ（置換されていても
よいC1〜C4アルキル基）置換カルバモイル基又はメタン
スルホニルカルバモイル基である。
R1のヒドロキシメチル基又はヒドロキシメチルカルボ
ニル基の保護基又はR2若しくR5の水酸基の保護基として
は、通常使用される水酸基の保護基なら特に限定されな
いが、例えばアセチル、プロピオニル、ブチリル、イソ
ブチリル、バレリル、ベンゾイル、ナフトイルのような
C2〜C5の脂肪族若しくは芳香族アシル基；ベンジル、４
−ニトロベンジル、４−メトキシベンジルのようなアラ
ルキル基;2−テトラヒドロピラニル、２−テトラヒドロ
フラニル、４−メトキシテトラヒドロピラン−４−イ
ル、２−テトラヒドロチオピラニルのようなアルコキシ
基を置換分として有するか有しない環内に酸素原子又は
硫黄原子を含有する５乃至６員環状の複素環基；メトキ
シメチル、メチルチオメチル、エトキシメチル、ベンジ
ルオキシメチルのようなアルコキシ基、アルキルチオ基
若しくはアラルキルオキシ基を置換分として有するメチ
ル基;1−メトキシエチル、１−エトキシエチルのような
１−アルコキシエチル基；トリメチルシリル、トリエチ
ルシリル、トリ−ｎ−プロピルシリル、ｔ−ブチルジメ
チシリル、ジフェニルｔ−ブチルシリルのようなトリC1
〜C4のアルキル若しくはジアリール−C1〜C4アルキルシ
リル基又はトリチル基をあげることができ、好適にはR1
におけるヒドロキシメチル基の保護基がシリル基であ
り、R2及びR3の水酸基の保護基が２−テトラヒドロピラ
ニル基又は２−テトラヒドロフラニル基である。
ニル基の保護基又はR2若しくR5の水酸基の保護基として
は、通常使用される水酸基の保護基なら特に限定されな
いが、例えばアセチル、プロピオニル、ブチリル、イソ
ブチリル、バレリル、ベンゾイル、ナフトイルのような
C2〜C5の脂肪族若しくは芳香族アシル基；ベンジル、４
−ニトロベンジル、４−メトキシベンジルのようなアラ
ルキル基;2−テトラヒドロピラニル、２−テトラヒドロ
フラニル、４−メトキシテトラヒドロピラン−４−イ
ル、２−テトラヒドロチオピラニルのようなアルコキシ
基を置換分として有するか有しない環内に酸素原子又は
硫黄原子を含有する５乃至６員環状の複素環基；メトキ
シメチル、メチルチオメチル、エトキシメチル、ベンジ
ルオキシメチルのようなアルコキシ基、アルキルチオ基
若しくはアラルキルオキシ基を置換分として有するメチ
ル基;1−メトキシエチル、１−エトキシエチルのような
１−アルコキシエチル基；トリメチルシリル、トリエチ
ルシリル、トリ−ｎ−プロピルシリル、ｔ−ブチルジメ
チシリル、ジフェニルｔ−ブチルシリルのようなトリC1
〜C4のアルキル若しくはジアリール−C1〜C4アルキルシ
リル基又はトリチル基をあげることができ、好適にはR1
におけるヒドロキシメチル基の保護基がシリル基であ
り、R2及びR3の水酸基の保護基が２−テトラヒドロピラ
ニル基又は２−テトラヒドロフラニル基である。
R5の置換されてもよいアルキル基のアルキル部分とし
ては例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチ
ル、イソペンチル、１−メチルペンチル、２−メチルペ
ンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、1,1−ジメチル
ペンチル、1,1−ジメチルヘキシル、1,1−ジメチルヘプ
チル、２−メチルヘキシル、2,6−ジメチルヘプチル、
ｎ−オクチル、1,1,6−トリメチルヘプチル、２−メチ
ルオクチル、ｎ−ノニル、２−メチルノニル、２−エチ
ルオクチル、ｎ−デシル、２−メチルデシルまたは２−
エチルデシルのようなC1〜C12のアルキル基をあげるこ
とができ、好適にはC3〜C10のアルキル基、例えばイソ
プロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ｎ−
ペンチル、イソペンチル、１−メチルペンチル、２−メ
チルペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、1,1−ジ
メチルペンチル、1,1−ジメチルヘキシル、２−メチル
ヘキシル、1,1−ジメチルヘプチル、2,6−ジメチルヘプ
チル、ｎ−オクチル、1,1,6−トリメチルヘプチル、２
−メチルオクチルまたは２−エチルオクチル基であり、
さらに好適にはｎ−ペンチル、1,1−ジメチルペンチ
ル、ｎ−ヘキシル、1,1−ジメチルヘキシル、1,1−ジメ
チルヘプチル、２−メチルヘキシルまたは1,1,6−トリ
メチルヘプチル基である。
ては例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチ
ル、イソペンチル、１−メチルペンチル、２−メチルペ
ンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、1,1−ジメチル
ペンチル、1,1−ジメチルヘキシル、1,1−ジメチルヘプ
チル、２−メチルヘキシル、2,6−ジメチルヘプチル、
ｎ−オクチル、1,1,6−トリメチルヘプチル、２−メチ
ルオクチル、ｎ−ノニル、２−メチルノニル、２−エチ
ルオクチル、ｎ−デシル、２−メチルデシルまたは２−
エチルデシルのようなC1〜C12のアルキル基をあげるこ
とができ、好適にはC3〜C10のアルキル基、例えばイソ
プロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ｎ−
ペンチル、イソペンチル、１−メチルペンチル、２−メ
チルペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、1,1−ジ
メチルペンチル、1,1−ジメチルヘキシル、２−メチル
ヘキシル、1,1−ジメチルヘプチル、2,6−ジメチルヘプ
チル、ｎ−オクチル、1,1,6−トリメチルヘプチル、２
−メチルオクチルまたは２−エチルオクチル基であり、
さらに好適にはｎ−ペンチル、1,1−ジメチルペンチ
ル、ｎ−ヘキシル、1,1−ジメチルヘキシル、1,1−ジメ
チルヘプチル、２−メチルヘキシルまたは1,1,6−トリ
メチルヘプチル基である。
R5の置換されてもよいアルキル基、アルケニル基若し
くはアルキニル基の置換分としては、例えば弗素、塩
素、臭素のようなハロゲン原子又はメトキシ、エトキ
シ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシの
ようなC1〜C4アルコキシ基をあげることができ、好適に
は、弗素原子、塩素原子、メトキシ基又はエトキシ基で
ある。
くはアルキニル基の置換分としては、例えば弗素、塩
素、臭素のようなハロゲン原子又はメトキシ、エトキ
シ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシの
ようなC1〜C4アルコキシ基をあげることができ、好適に
は、弗素原子、塩素原子、メトキシ基又はエトキシ基で
ある。
R5の置換されていてもよいアルケニル基のアルケニル
部分としては、１−ブチルビニル、アリル、２−プロピ
ルアリル、２−ブテニル、２−ペンテニル、４−ペンテ
ニル、２−メチル−３−ペンテニル、４−メチル−３−
ペンテニル、１−メチル−４−ペンテニル、1,1−ジメ
チル−４−ペンテニル、４−ヘキセニル、５−ヘキセニ
ル、1,4−ジメチル−３−ペンテニル、５−ヘプテニ
ル、１−メチル−５−ヘキセニル、1,1−ジメチル−５
−ヘキセニル、６−メチル−５−ヘプテニル、1,6−ジ
メチル−５−ヘプテニル、2,6−ジメチル−５−ヘプテ
ニル、1,1,6−トリメチル−５−ヘプテニル、６−メチ
ル−５−オクテニル、2,6−ジメチル−５−オクテニ
ル、６−エチル−５−オクテニル、２−メチル−６−エ
チル−５−オクテニル、2,6−ジエチル−５−オクテニ
ル、3,8−ジメチル−ノナ−3,7−ジエニルのようなC3〜
C12のアルケニル基をあげることができ、好適にはC5〜C
10のアルケニル基、例えば、１−ブチルビニル、２−プ
ロピルアリル、２−ペンテニル、４−ペンテニル、２−
メチル−３−ペンテニル、４−メチル−３−ペンテニ
ル、１−メチル−４−ペンテニル、1,1−ジメチル−４
−ペンテニル、４−ヘキセニル、５−ヘキセニル、1,4
−ジメチル−３−ペンテニル、５−ヘプテニル、１−メ
チル−５−ヘキセニル、1,1−ジメチル−５−ヘキセニ
ル、６−メチル−５−ヘプテニル、1,6−ジメチル−５
−ヘプテニル、2,6−ジメチル−５−ヘプテニル、1,1,6
−トリメチル−５−ヘプテニルである。
部分としては、１−ブチルビニル、アリル、２−プロピ
ルアリル、２−ブテニル、２−ペンテニル、４−ペンテ
ニル、２−メチル−３−ペンテニル、４−メチル−３−
ペンテニル、１−メチル−４−ペンテニル、1,1−ジメ
チル−４−ペンテニル、４−ヘキセニル、５−ヘキセニ
ル、1,4−ジメチル−３−ペンテニル、５−ヘプテニ
ル、１−メチル−５−ヘキセニル、1,1−ジメチル−５
−ヘキセニル、６−メチル−５−ヘプテニル、1,6−ジ
メチル−５−ヘプテニル、2,6−ジメチル−５−ヘプテ
ニル、1,1,6−トリメチル−５−ヘプテニル、６−メチ
ル−５−オクテニル、2,6−ジメチル−５−オクテニ
ル、６−エチル−５−オクテニル、２−メチル−６−エ
チル−５−オクテニル、2,6−ジエチル−５−オクテニ
ル、3,8−ジメチル−ノナ−3,7−ジエニルのようなC3〜
C12のアルケニル基をあげることができ、好適にはC5〜C
10のアルケニル基、例えば、１−ブチルビニル、２−プ
ロピルアリル、２−ペンテニル、４−ペンテニル、２−
メチル−３−ペンテニル、４−メチル−３−ペンテニ
ル、１−メチル−４−ペンテニル、1,1−ジメチル−４
−ペンテニル、４−ヘキセニル、５−ヘキセニル、1,4
−ジメチル−３−ペンテニル、５−ヘプテニル、１−メ
チル−５−ヘキセニル、1,1−ジメチル−５−ヘキセニ
ル、６−メチル−５−ヘプテニル、1,6−ジメチル−５
−ヘプテニル、2,6−ジメチル−５−ヘプテニル、1,1,6
−トリメチル−５−ヘプテニルである。
R5の置換されていてもよいアルキニル基のアルキニル
部分としては、例えばプロパルギル、２−ブチニル、２
−ペンチニル、３−ペンチニル、１−メチル−２−ブチ
ニル、２−ヘキシニル、１−メチル−２−ペンチニル、
１−メチル−３−ペンチニル、1,1−ジメチル−２−ペ
ンチニル、1,1−ジメチル−３−ペンチニル、1,1−ジメ
チル−２−ヘキシニル、１−メチル−３−ヘキシニル、
1,1−ジメチル−５−ヘキシニル、1,1−ジメチル−３−
オクチニルのようなC3〜C10のアルキニル基をあげるこ
とができ、好適にはC5〜C10のアルキニル基、例えば２
−ペンチニル、３−ペンチニル、1,1−ジメチル−２−
ペンチニル、1,1−ジメチル−５−ヘキシニル、1,1−ジ
メチル−３−ペンチニルまたは1,1−ジメチル−３−オ
クチニル基であり、さらに好適には１−メチル−３−ペ
ンチニル基である。
部分としては、例えばプロパルギル、２−ブチニル、２
−ペンチニル、３−ペンチニル、１−メチル−２−ブチ
ニル、２−ヘキシニル、１−メチル−２−ペンチニル、
１−メチル−３−ペンチニル、1,1−ジメチル−２−ペ
ンチニル、1,1−ジメチル−３−ペンチニル、1,1−ジメ
チル−２−ヘキシニル、１−メチル−３−ヘキシニル、
1,1−ジメチル−５−ヘキシニル、1,1−ジメチル−３−
オクチニルのようなC3〜C10のアルキニル基をあげるこ
とができ、好適にはC5〜C10のアルキニル基、例えば２
−ペンチニル、３−ペンチニル、1,1−ジメチル−２−
ペンチニル、1,1−ジメチル−５−ヘキシニル、1,1−ジ
メチル−３−ペンチニルまたは1,1−ジメチル−３−オ
クチニル基であり、さらに好適には１−メチル−３−ペ
ンチニル基である。
R5におけるＢの酸素原子、硫黄原子若しくはビニレン
基を含んでいてもよいC1〜C6のアルキレン基（直鎖又は
分枝状）としては、例えば、メチレン、エチレン、メチ
ルメチレン、トリメチレン、ジメチルメチレン、テトラ
メチレン、１−メチルトリメチレン、1,1−ジメチルエ
チレン、ペンタメチレン、1,1−ジメチルトリメチレ
ン、ヘキサメチレン、オキシメチレン（−CH2−Ｏ
−）、オキシエチリデン チオメチレン（−CH2−Ｓ−）、メチレンオキシメチレ
ン（−CH2−Ｏ−CH2−）、アリレン（−CH2−CH＝CH
−）をあげることができるが、好適には、酸素原子又は
硫黄原子を含んでもよいC1〜C4のアルキレン基、例えば
メチレン、エチレン、メチルメチレン、トリメチレン、
ジメチルメチレン、オキシメチレン、オキシエチリデン
又はチオメチレンである。
基を含んでいてもよいC1〜C6のアルキレン基（直鎖又は
分枝状）としては、例えば、メチレン、エチレン、メチ
ルメチレン、トリメチレン、ジメチルメチレン、テトラ
メチレン、１−メチルトリメチレン、1,1−ジメチルエ
チレン、ペンタメチレン、1,1−ジメチルトリメチレ
ン、ヘキサメチレン、オキシメチレン（−CH2−Ｏ
−）、オキシエチリデン チオメチレン（−CH2−Ｓ−）、メチレンオキシメチレ
ン（−CH2−Ｏ−CH2−）、アリレン（−CH2−CH＝CH
−）をあげることができるが、好適には、酸素原子又は
硫黄原子を含んでもよいC1〜C4のアルキレン基、例えば
メチレン、エチレン、メチルメチレン、トリメチレン、
ジメチルメチレン、オキシメチレン、オキシエチリデン
又はチオメチレンである。
R6の置換されてもよいC3〜C10シクロアルキル基とし
ては、例えばシクロプロピル、１−ｎ−ペンチルシクロ
プロピル、シクロブチル、シクロペンチル、３−エチル
シクロペンチル、シクロヘキシル、３−プロピルシクロ
ヘキシル、４−メチルシクロヘキシル、シクロヘプチ
ル、ビシクロ〔4,3,0〕ノナン−７−イル、アダマンチ
ルのようなC1〜C6のアルキル基を置換分として有しても
よく、縮環してもよいC3〜C10のシクロアルキル基をあ
げることができ、好適にはC5〜C10のシクロアルキル基
であり、さらに好適にはシクロペンチル基又はシクロヘ
キシル基である。
ては、例えばシクロプロピル、１−ｎ−ペンチルシクロ
プロピル、シクロブチル、シクロペンチル、３−エチル
シクロペンチル、シクロヘキシル、３−プロピルシクロ
ヘキシル、４−メチルシクロヘキシル、シクロヘプチ
ル、ビシクロ〔4,3,0〕ノナン−７−イル、アダマンチ
ルのようなC1〜C6のアルキル基を置換分として有しても
よく、縮環してもよいC3〜C10のシクロアルキル基をあ
げることができ、好適にはC5〜C10のシクロアルキル基
であり、さらに好適にはシクロペンチル基又はシクロヘ
キシル基である。
R6のアリール基としては、フェニル、４−ヒドロキシ
フェニル、２−トリル、３−トリル、４−トリル、４−
エチルフェニル、2,5−ジメチルフェニル、３−ｎ−プ
ロピルフェニル、４−ｎ−プロピルフェニル、３−ｎ−
ブチルフェニル、２−メトキシフェニル、３−メトキシ
フェニル、４−メトキシフェニル、２−エトキシフェニ
ル、３−メチルチオフェニル、４−メチルチトフェニ
ル、４−エチルチオフェニル、２−フルオロフェニル、
３−フルオロフェニル、４−フルオロフェニル、２−ク
ロロフェニル、３−クロロフェニル、４−クロロフェニ
ル、４−ブロモフェニル、４−トリフルオロメチルフェ
ニル、3,4−ジメチルフェニル、３−フルオロ−４−メ
チルフェニル、2,4−ジクロロフェニル、3,4−ジクロロ
フェニル、２−アミノフェニル、３−アミノフェニル、
４−アミノフェニル、Ｎ−アセチル−２−アミノフェニ
ル、Ｎ−アセチル−３−アミノフェニル、Ｎ−アセチル
−４−アミノフェニルのようなヒドロキシ、C1〜C4アル
キル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、ハロゲ
ン原子、トリフルオロメチル若しくは窒素原子がC2〜C5
脂肪族アシル基で置換されていてもよいアミノ基を１乃
至２個置換分として有してもよいフェニル基、ナフチル
基又はビフェニル基をあげることができるが、好適には
C1〜C4アルキル基、C1〜C4アルコキシ基、ハロゲン原子
又はトリフルオロメチルで置換されてもよいフェニル基
であり、さらに好適にはメチル、エチル、メトキシ、弗
素原子、塩素原子又はトリフルオロメチルで置換されて
もよいフェニル基である。
フェニル、２−トリル、３−トリル、４−トリル、４−
エチルフェニル、2,5−ジメチルフェニル、３−ｎ−プ
ロピルフェニル、４−ｎ−プロピルフェニル、３−ｎ−
ブチルフェニル、２−メトキシフェニル、３−メトキシ
フェニル、４−メトキシフェニル、２−エトキシフェニ
ル、３−メチルチオフェニル、４−メチルチトフェニ
ル、４−エチルチオフェニル、２−フルオロフェニル、
３−フルオロフェニル、４−フルオロフェニル、２−ク
ロロフェニル、３−クロロフェニル、４−クロロフェニ
ル、４−ブロモフェニル、４−トリフルオロメチルフェ
ニル、3,4−ジメチルフェニル、３−フルオロ−４−メ
チルフェニル、2,4−ジクロロフェニル、3,4−ジクロロ
フェニル、２−アミノフェニル、３−アミノフェニル、
４−アミノフェニル、Ｎ−アセチル−２−アミノフェニ
ル、Ｎ−アセチル−３−アミノフェニル、Ｎ−アセチル
−４−アミノフェニルのようなヒドロキシ、C1〜C4アル
キル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、ハロゲ
ン原子、トリフルオロメチル若しくは窒素原子がC2〜C5
脂肪族アシル基で置換されていてもよいアミノ基を１乃
至２個置換分として有してもよいフェニル基、ナフチル
基又はビフェニル基をあげることができるが、好適には
C1〜C4アルキル基、C1〜C4アルコキシ基、ハロゲン原子
又はトリフルオロメチルで置換されてもよいフェニル基
であり、さらに好適にはメチル、エチル、メトキシ、弗
素原子、塩素原子又はトリフルオロメチルで置換されて
もよいフェニル基である。
R6のヘテロシクリル基としては、例えば、テトラヒド
ロフリル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロチオフ
ェニル、ピロリジニル、ピペリジル、モルホリルニル、
モルホリノのような酸素、硫黄又は／及び窒素原子を含
有する５乃至６員複素環基をあげることができるが、好
適には、２−テトラヒドロフリル基又は２−テトラヒド
ロピラニル基である。
ロフリル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロチオフ
ェニル、ピロリジニル、ピペリジル、モルホリルニル、
モルホリノのような酸素、硫黄又は／及び窒素原子を含
有する５乃至６員複素環基をあげることができるが、好
適には、２−テトラヒドロフリル基又は２−テトラヒド
ロピラニル基である。
R6のヘテロアリール基としては、例えば、フリル、チ
オフェニル、ピロリル、イミダゾリル、オキサゾリル、
チアゾリル、イソオキサゾリル、ピリジル、キノリン、
インドリルのような酸素、硫黄又は／及び窒素原子を含
有する縮環していてもよい５乃至10員環状芳香複素環基
をあげることができるが、好適には、２−チオフェニル
基、３−チオフェニル基、３−インドリル又は１−イミ
ダゾリル基である。
オフェニル、ピロリル、イミダゾリル、オキサゾリル、
チアゾリル、イソオキサゾリル、ピリジル、キノリン、
インドリルのような酸素、硫黄又は／及び窒素原子を含
有する縮環していてもよい５乃至10員環状芳香複素環基
をあげることができるが、好適には、２−チオフェニル
基、３−チオフェニル基、３−インドリル又は１−イミ
ダゾリル基である。
R4は好適には、水素原子又はメチル基である。
Ａは、好適にはトランス−ビニレン基である。
ｍおよびｎは、好適にはｍが２乃至５で、ｎが２又は
３である場合である。
３である場合である。
本発明の前記一般式（Ｉ）を有する化合物のうち、R1
がカルボキシ基である化合物は必要に応じ、塩の形にす
ることができる。かかる塩の形としては例えばナトリウ
ム、カリウム、マグネシウム、カルシウムのようなアル
カリ金属またはアルカリ土類金属の塩；アンモニウム
塩；テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニ
ウム、ベンジルトリメチルアンモニウム、フェニルトリ
エチルアンモニウムのような第四級アンモニウム塩、メ
チルアミン、エチルアミン、ジメチルアミン、ジエチル
アミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ−メ
チルヘキシルアミン、シクロペンチルアミン、ジシクロ
ヘキシルアミン、ベンジルアミン、ジベンジルアミン、
α−フェニルエチルアミン、エチルレンジアミンのよう
なアルキル、シクロアルキル又はアラルキルアミンの
塩；ピペリジン、モルホリン、ピロリジン、ピペラジ
ン、ピリジン、１−メチルピペラジン、４−エチルモル
ホリンのような複素環式アミンおよびそれらのC1〜C4の
アルキル誘導体の塩；モノエタノールアミン、エチルジ
エタノールアミン、２−アミノ−１−ブタノールのよう
な親水性の基を含むアミンの塩等をあげることができ
る。
がカルボキシ基である化合物は必要に応じ、塩の形にす
ることができる。かかる塩の形としては例えばナトリウ
ム、カリウム、マグネシウム、カルシウムのようなアル
カリ金属またはアルカリ土類金属の塩；アンモニウム
塩；テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニ
ウム、ベンジルトリメチルアンモニウム、フェニルトリ
エチルアンモニウムのような第四級アンモニウム塩、メ
チルアミン、エチルアミン、ジメチルアミン、ジエチル
アミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ−メ
チルヘキシルアミン、シクロペンチルアミン、ジシクロ
ヘキシルアミン、ベンジルアミン、ジベンジルアミン、
α−フェニルエチルアミン、エチルレンジアミンのよう
なアルキル、シクロアルキル又はアラルキルアミンの
塩；ピペリジン、モルホリン、ピロリジン、ピペラジ
ン、ピリジン、１−メチルピペラジン、４−エチルモル
ホリンのような複素環式アミンおよびそれらのC1〜C4の
アルキル誘導体の塩；モノエタノールアミン、エチルジ
エタノールアミン、２−アミノ−１−ブタノールのよう
な親水性の基を含むアミンの塩等をあげることができ
る。
又、本願発明の化合物（Ｉ）はα−，β−，γ−サイ
クロデキストリンのようなホスト化合物と包接化合物を
形成させ、使用することもできる。
クロデキストリンのようなホスト化合物と包接化合物を
形成させ、使用することもできる。
なお、前記一般式（Ｉ）を有する化合物において、シ
クロペンタン環及びその側鎖の不斉炭素に基づく光学異
性体又はR5がアルケニル基である場合における二重結合
に基づく幾何異性体が存在する。従って前記一般式
（Ｉ）を有する化合物がこれらの立体異性体の混合物で
得られる場合には常法により分離および分割して、それ
ぞれの異性体を得ることができる。前記一般式（Ｉ）に
おいてはこれらの光学異性体及び立体異性体等の混合物
が全て単一の式で示されているが、これにより本発明の
記載の範囲は限定されるものではない。
クロペンタン環及びその側鎖の不斉炭素に基づく光学異
性体又はR5がアルケニル基である場合における二重結合
に基づく幾何異性体が存在する。従って前記一般式
（Ｉ）を有する化合物がこれらの立体異性体の混合物で
得られる場合には常法により分離および分割して、それ
ぞれの異性体を得ることができる。前記一般式（Ｉ）に
おいてはこれらの光学異性体及び立体異性体等の混合物
が全て単一の式で示されているが、これにより本発明の
記載の範囲は限定されるものではない。
又、一般式（Ｉ）において、好適な化合物としては、 １） R1が、カルボキシ基、C2〜C10アルコキシカルボ
ニル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニル
基、ナフトイルオキシカルボニル基、カルバモイル基モ
ノ若しくはジ置換カルバモイル基（該置換基は、置換さ
れていてもよいC1〜C4のアルキル基、フェニル基又はメ
タンスルホニル基である。）、ヒドロキシメチルカルボ
ニル基又はヒドロキシメチル基である化合物、 ２） R2及びR3が水素原子である化合物、 ３） R4が、水素原子又はメチル基である化合物、 ４） R5が、弗素原子、塩素原子若しくはC1〜C4のアル
コキシ基で置換されていてもよいC3〜C10のアルキル
基、C5〜C10のアルケニル基、C5〜C10のアルキニル基又
は式−Ｂ−R6を有する基（式中、Ｂが、単結合又は炭素
原子若しくは硫黄原子を含んでいてもよいC1〜C4のアル
キレン基であり、R6が、C5〜C10のシクロアルキル基、
ヘテロアリール基又はC1〜C4のアルキル基、C1〜C4のア
ルコキシ基、トリフルオロメチル基、C2〜C5脂肪族アシ
ルアミノ基若しくはハロゲン原子で置換されていてもよ
いフェニル基である。）である化合物、 ５） Ａが、トランス−ビニレンである化合物、 ６） ｍが２乃至５であり、ｎが２又は３である化合
物、 ７） R1が、カルボキシ基、C2〜C10アルコキシカルボ
ニル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニル
基、ナフトイルオキシカルボニル基、カルバモイル基、
モノ若しくはジ置換カルバモイル基（該置換基は、置換
されていてもよいC1〜C4アルキル基、フェニル基又はメ
タンスルホニル基である。）、ヒドロキシメチルカルボ
ニル基又はヒドロキシメチル基であり;R2及びR3が水素
原子であり;R4が、水素原子又はメチル基であり;R5が、
弗素原子、塩素原子若しくはC1〜C4のアルコキシ基で置
換されていてもよいC3〜C10のアルキル基、C5〜C10のア
ルケニル基、C5〜C10のアルキニル基又は式−Ｂ−R6を
有する基（式中、Ｂが、単結合又は酸素原子若しくは硫
黄原子を含んでいてもよいC1〜C4のアルキレン基であ
り、R6が、C5〜C10のシクロアルキル基、ヘテロアリー
ル基、又はC1〜C4のアルキル基、C1〜C4のアルコキシ
基、トリフルオロメチル基、C2〜C5脂肪族アシルアミン
基若しくはハロゲン原子で置換されていてもよいフェニ
ル基である。）であり;Aがトランス−ビニレン基であ
り;mが２乃至５であり、ｎが２又は３である化合物、 ８） R1が、カルボキシ基、C2〜C10アルコキシカルボ
ニル基、モノ置換カルバモイル基又は置換されていても
よいフェノキシカルボニル基であり;R2及びR3が水素原
子であり;R4が、水素原子又はメチル基であり;R5が、C5
〜C10アルキル基、C5〜C10のアルケニル基、C5〜C10の
アルキニル基又は式−Ｂ−R6を有する基（式中、Ｂが、
単結合又は酸素原子若しくは硫黄原子を含んでいてもよ
いC1〜C4のアルキレン基であり、R6が、C5〜C10シクロ
アルキル基、ヘテロアリール基又はハロゲン、トリフル
オロメチル、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ若しく
はC2〜C5脂肪族アシルアミノで置換されていてもよいフ
ェニル基である。）であり、Ａは、トランス−ビニレン
であり、ｍが３であり、ｎが２であるか、ｍが２であ
り、ｎが３である化合物をあげることができる。
ニル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニル
基、ナフトイルオキシカルボニル基、カルバモイル基モ
ノ若しくはジ置換カルバモイル基（該置換基は、置換さ
れていてもよいC1〜C4のアルキル基、フェニル基又はメ
タンスルホニル基である。）、ヒドロキシメチルカルボ
ニル基又はヒドロキシメチル基である化合物、 ２） R2及びR3が水素原子である化合物、 ３） R4が、水素原子又はメチル基である化合物、 ４） R5が、弗素原子、塩素原子若しくはC1〜C4のアル
コキシ基で置換されていてもよいC3〜C10のアルキル
基、C5〜C10のアルケニル基、C5〜C10のアルキニル基又
は式−Ｂ−R6を有する基（式中、Ｂが、単結合又は炭素
原子若しくは硫黄原子を含んでいてもよいC1〜C4のアル
キレン基であり、R6が、C5〜C10のシクロアルキル基、
ヘテロアリール基又はC1〜C4のアルキル基、C1〜C4のア
ルコキシ基、トリフルオロメチル基、C2〜C5脂肪族アシ
ルアミノ基若しくはハロゲン原子で置換されていてもよ
いフェニル基である。）である化合物、 ５） Ａが、トランス−ビニレンである化合物、 ６） ｍが２乃至５であり、ｎが２又は３である化合
物、 ７） R1が、カルボキシ基、C2〜C10アルコキシカルボ
ニル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニル
基、ナフトイルオキシカルボニル基、カルバモイル基、
モノ若しくはジ置換カルバモイル基（該置換基は、置換
されていてもよいC1〜C4アルキル基、フェニル基又はメ
タンスルホニル基である。）、ヒドロキシメチルカルボ
ニル基又はヒドロキシメチル基であり;R2及びR3が水素
原子であり;R4が、水素原子又はメチル基であり;R5が、
弗素原子、塩素原子若しくはC1〜C4のアルコキシ基で置
換されていてもよいC3〜C10のアルキル基、C5〜C10のア
ルケニル基、C5〜C10のアルキニル基又は式−Ｂ−R6を
有する基（式中、Ｂが、単結合又は酸素原子若しくは硫
黄原子を含んでいてもよいC1〜C4のアルキレン基であ
り、R6が、C5〜C10のシクロアルキル基、ヘテロアリー
ル基、又はC1〜C4のアルキル基、C1〜C4のアルコキシ
基、トリフルオロメチル基、C2〜C5脂肪族アシルアミン
基若しくはハロゲン原子で置換されていてもよいフェニ
ル基である。）であり;Aがトランス−ビニレン基であ
り;mが２乃至５であり、ｎが２又は３である化合物、 ８） R1が、カルボキシ基、C2〜C10アルコキシカルボ
ニル基、モノ置換カルバモイル基又は置換されていても
よいフェノキシカルボニル基であり;R2及びR3が水素原
子であり;R4が、水素原子又はメチル基であり;R5が、C5
〜C10アルキル基、C5〜C10のアルケニル基、C5〜C10の
アルキニル基又は式−Ｂ−R6を有する基（式中、Ｂが、
単結合又は酸素原子若しくは硫黄原子を含んでいてもよ
いC1〜C4のアルキレン基であり、R6が、C5〜C10シクロ
アルキル基、ヘテロアリール基又はハロゲン、トリフル
オロメチル、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ若しく
はC2〜C5脂肪族アシルアミノで置換されていてもよいフ
ェニル基である。）であり、Ａは、トランス−ビニレン
であり、ｍが３であり、ｎが２であるか、ｍが２であ
り、ｎが３である化合物をあげることができる。
本発明によって得られる前記一般式（Ｉ）を有する化
合物としては、例えば以下に記載する化合物をあげるこ
とができる。
合物としては、例えば以下に記載する化合物をあげるこ
とができる。
上記例示化合物のうち、好適な化合物としては、８、
11、36、51、52、71、75、85、102、104、106、114、11
9、131、133、143、147、148、150、151、155、161、16
7、178、179、181、182、189、220、223、224及び225の
化合物をあげることができる。
11、36、51、52、71、75、85、102、104、106、114、11
9、131、133、143、147、148、150、151、155、161、16
7、178、179、181、182、189、220、223、224及び225の
化合物をあげることができる。
更に、好適な化合物としては、36、102、104、115、1
31、147、148、150、151、181、219、223及び225の化合
物をあげることができる。
31、147、148、150、151、181、219、223及び225の化合
物をあげることができる。
本発明に係る化合物（Ｉ）は、以下の方法に従って製
造することができる。
造することができる。
Ａ法 Ｂ法 Ｃ法 上記式中、R1,R2,R3,R4,R5,m,A及びｎは、前述したも
のと同意義を示し、R1 aは、保護されていてもよいカル
ボキシ基、テトラゾリル基又は保護されていてもよいヒ
ドロキシメチル基を示し、R1 bは、保護されていてもよ
いカルボキシ基を示し、R2 a,R3 a,R7及びR8は、水酸基の
保護基を示し、Ａ′はビニレン又はエチニレン基を示
し、Ｙは水素原子又はハロゲン原子を示し、ｐは２又は
３の整数を示す。
のと同意義を示し、R1 aは、保護されていてもよいカル
ボキシ基、テトラゾリル基又は保護されていてもよいヒ
ドロキシメチル基を示し、R1 bは、保護されていてもよ
いカルボキシ基を示し、R2 a,R3 a,R7及びR8は、水酸基の
保護基を示し、Ａ′はビニレン又はエチニレン基を示
し、Ｙは水素原子又はハロゲン原子を示し、ｐは２又は
３の整数を示す。
Ａ法は、化合物（Ｉ）を製造する方法である。
Ａ法は第１工程は、一般式（III）を有する化合物を
製造する工程で、一般式（II）を有するアルデヒド誘導
体に一般式 又は一般式 （式中、R1 aおよびｍは前述したものと同意義を示し、R
9はメチル、ブチルのようなC1〜C4のアルキル基又はフ
ェニル、トリルのようなアリール基を示し、Ｍはリチウ
ム、ナトリウムのようなアルカリ金属を示す。）を有す
るウイテッヒ又は変法ウイテッヒ試剤を反応させること
によって達成される。
製造する工程で、一般式（II）を有するアルデヒド誘導
体に一般式 又は一般式 （式中、R1 aおよびｍは前述したものと同意義を示し、R
9はメチル、ブチルのようなC1〜C4のアルキル基又はフ
ェニル、トリルのようなアリール基を示し、Ｍはリチウ
ム、ナトリウムのようなアルカリ金属を示す。）を有す
るウイテッヒ又は変法ウイテッヒ試剤を反応させること
によって達成される。
反応に使用される前記一般式（XXVI）又は（XXVII）
を有するウイテッヒ又は変法ウイテッヒ試剤は、常法に
従って溶剤の存在下で一般式 又は一般式 （式中、R1 a,R9及びｍは前述したものと同意義を示し、
Ｘはクロル、プロムのようなハロゲン原子を示す。） を有する化合物に水素化ナトリウム、水素化カリウムの
ような水素化アルカリ金属あるいはナトリウムメトキシ
ド、ナトリウムエトキシド、カリウムtert−ブトキシド
のようなアルカリ金属アルコキシド、ナトリウムアミ
ド、カリウムアミドのようなアルカリ金属アミド、ｎ−
ブチルリチウムのようなアルキルアルカリ金属、ナトリ
ウムジメチルスルホキシドアニオンのようなアルカリ金
属ジメチルスルホキシドアニオン、水酸化カリウム、水
酸化ナトリウムのようなアルカリ金属水酸化物、炭酸カ
リウム、炭酸ナトリウムのようなアルカリ金属炭酸塩な
どのアルカリ金属塩基を反応させることによって得るこ
とができる。使用される溶剤としては一般のウイテッヒ
反応に用いられる溶剤が特に限定なく用いられ、例えば
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
メトキシエタンのようなエーテル類；スルホランのよう
なチオエーテル類；ベンゼン、トルエン、ヘキサンのよ
うな炭化水素類；ジメチルスルホキシドのようなジアル
キルスルホキシド類；ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミドのような脂肪酸ジアルキルアミド類；ジク
ロルメタン、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素
類；ヘキサメチルホスホリルトリアミド（HMPA）；メタ
ノール、エタノールのようなアルコール類；水又は上記
溶媒の２以上の混同溶媒のようなリン酸トリアミド類等
の不活性有機溶剤をあげることができる。また反応は窒
素、アルゴン、ヘリウムのような不活性ガス中で好適に
行なわれる。反応温度には特に限定はなく、通常は−10
℃乃至溶剤の還流温度で行なわれ、好適には室温付近で
行なわれる。反応時間は反応温度などによって異なる
が、通常は６乃至50時間である。
を有するウイテッヒ又は変法ウイテッヒ試剤は、常法に
従って溶剤の存在下で一般式 又は一般式 （式中、R1 a,R9及びｍは前述したものと同意義を示し、
Ｘはクロル、プロムのようなハロゲン原子を示す。） を有する化合物に水素化ナトリウム、水素化カリウムの
ような水素化アルカリ金属あるいはナトリウムメトキシ
ド、ナトリウムエトキシド、カリウムtert−ブトキシド
のようなアルカリ金属アルコキシド、ナトリウムアミ
ド、カリウムアミドのようなアルカリ金属アミド、ｎ−
ブチルリチウムのようなアルキルアルカリ金属、ナトリ
ウムジメチルスルホキシドアニオンのようなアルカリ金
属ジメチルスルホキシドアニオン、水酸化カリウム、水
酸化ナトリウムのようなアルカリ金属水酸化物、炭酸カ
リウム、炭酸ナトリウムのようなアルカリ金属炭酸塩な
どのアルカリ金属塩基を反応させることによって得るこ
とができる。使用される溶剤としては一般のウイテッヒ
反応に用いられる溶剤が特に限定なく用いられ、例えば
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
メトキシエタンのようなエーテル類；スルホランのよう
なチオエーテル類；ベンゼン、トルエン、ヘキサンのよ
うな炭化水素類；ジメチルスルホキシドのようなジアル
キルスルホキシド類；ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミドのような脂肪酸ジアルキルアミド類；ジク
ロルメタン、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素
類；ヘキサメチルホスホリルトリアミド（HMPA）；メタ
ノール、エタノールのようなアルコール類；水又は上記
溶媒の２以上の混同溶媒のようなリン酸トリアミド類等
の不活性有機溶剤をあげることができる。また反応は窒
素、アルゴン、ヘリウムのような不活性ガス中で好適に
行なわれる。反応温度には特に限定はなく、通常は−10
℃乃至溶剤の還流温度で行なわれ、好適には室温付近で
行なわれる。反応時間は反応温度などによって異なる
が、通常は６乃至50時間である。
なお、本工程の原料化合物（II）は、公知であるか又
は公知方法に従って容易に製造される（例えば、R.A.Jo
hhsonら、J.Org.Chem.45,1121（1980））。
は公知方法に従って容易に製造される（例えば、R.A.Jo
hhsonら、J.Org.Chem.45,1121（1980））。
反応終了後、ウイテッヒ反応の目的化合物は常法に従
って反応混合物から採取される。例えば反応終了後、反
応混合物に氷水を加え、次いで必要に応じて酸処理を行
ない、エーテルのような有機溶剤を加えて抽出し、得ら
れる有機溶剤層を水洗し乾燥した後、有機溶剤層より溶
剤を留去することによって得られる。
って反応混合物から採取される。例えば反応終了後、反
応混合物に氷水を加え、次いで必要に応じて酸処理を行
ない、エーテルのような有機溶剤を加えて抽出し、得ら
れる有機溶剤層を水洗し乾燥した後、有機溶剤層より溶
剤を留去することによって得られる。
第２工程は、一般式（IV）を有する化合物を製造する
工程で、化合物（III）のα，β−不飽和カルボニル基
の二重結合を還元することによって達成される。
工程で、化合物（III）のα，β−不飽和カルボニル基
の二重結合を還元することによって達成される。
本工程の反応は、α，β−不飽和カルボニル基の二重
結合を選択的に還元するものなら特に制限されないが、
好適には、接触還元反応をあげることができる。
結合を選択的に還元するものなら特に制限されないが、
好適には、接触還元反応をあげることができる。
使用される触媒は、例えば、パラジウム−炭素、白金
−炭素、ロジウム−炭素、酸化白金、RhCl（Ph3P）３等
をあげることができる。
−炭素、ロジウム−炭素、酸化白金、RhCl（Ph3P）３等
をあげることができる。
使用される溶剤は、例えば、メタノール、エタノール
のようなアルコール類、ヘキサン、ベンゼン、トルエン
のような炭化水素類又は酢酸エチルのようなエステル類
をあげることができる。
のようなアルコール類、ヘキサン、ベンゼン、トルエン
のような炭化水素類又は酢酸エチルのようなエステル類
をあげることができる。
反応温度は通常−30℃乃至室温であり、反応に要する
時間は反応試剤、反応温度等により異なるが10分間乃至
２時間である。
時間は反応試剤、反応温度等により異なるが10分間乃至
２時間である。
反応終了後、本工程の目的化合物は常法に従って、反
応混合物から採取される。例えば反応終了後、触媒を
別し、溶剤を減圧下で留去し、氷水を加えて水不混和性
有機溶剤で抽出し、有機溶剤を留去することによって得
られる。
応混合物から採取される。例えば反応終了後、触媒を
別し、溶剤を減圧下で留去し、氷水を加えて水不混和性
有機溶剤で抽出し、有機溶剤を留去することによって得
られる。
第３工程は、化合物（IV）の水酸基の保護基R7を除去
して、式（Ｖ）を有する化合物を製造する工程で、その
反応は、水酸基の保護基の性質によって異なる。
して、式（Ｖ）を有する化合物を製造する工程で、その
反応は、水酸基の保護基の性質によって異なる。
水酸基の保護基が低級脂肪族若しくは芳香族アシル基
の場合には、その除去は通常の加水分解又は加溶媒分解
反応によって行なわれる。使用される酸または塩基とし
ては一般の加水分解反応又は加溶媒分解反応に使用され
る酸または塩基が特に限定なく使用されるが、通常は例
えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化カルシウム、水酸化バリウムのようなアルカ
リ金属およびアルカリ土類金属の水酸化物又は炭酸カリ
ウムのようなアルカリ金属炭酸塩を用いて塩基性条件下
で好適に行なわれる。使用される溶剤としては加水分解
反応に用いられる溶剤が特に限定なく用いられ、例えば
メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロ
ピルアルコールのようなアルコール類；エチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタ
ンのようなエーテル類；ジメチルスルホキシドのような
ジアルキルスルホキシド類およびこれらの有機溶剤と水
との混合溶剤をあげることができる。反応温度には特に
限定はなく、通常は室温付近乃至溶剤の還流温度で行な
われる。反応時間は反応温度などによって異なるが、通
常は１乃至12時間である。
の場合には、その除去は通常の加水分解又は加溶媒分解
反応によって行なわれる。使用される酸または塩基とし
ては一般の加水分解反応又は加溶媒分解反応に使用され
る酸または塩基が特に限定なく使用されるが、通常は例
えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化カルシウム、水酸化バリウムのようなアルカ
リ金属およびアルカリ土類金属の水酸化物又は炭酸カリ
ウムのようなアルカリ金属炭酸塩を用いて塩基性条件下
で好適に行なわれる。使用される溶剤としては加水分解
反応に用いられる溶剤が特に限定なく用いられ、例えば
メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロ
ピルアルコールのようなアルコール類；エチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタ
ンのようなエーテル類；ジメチルスルホキシドのような
ジアルキルスルホキシド類およびこれらの有機溶剤と水
との混合溶剤をあげることができる。反応温度には特に
限定はなく、通常は室温付近乃至溶剤の還流温度で行な
われる。反応時間は反応温度などによって異なるが、通
常は１乃至12時間である。
水酸基の保護基がアラルキル基の場合には相当する化
合物を不活性溶剤中、還元剤と接触することによって達
成される。
合物を不活性溶剤中、還元剤と接触することによって達
成される。
使用される還元剤としては、リチウム、ナトリウム、
カリウムのようなアルカリ金属をあげることができる。
反応は液体アンモニア又は液体アンモニアとエーテル、
テトラヒドロフランのようなエーテル類との混合溶剤中
で好適に行われる。
カリウムのようなアルカリ金属をあげることができる。
反応は液体アンモニア又は液体アンモニアとエーテル、
テトラヒドロフランのようなエーテル類との混合溶剤中
で好適に行われる。
反応温度は、−78℃乃至−20℃であり、反応に要する
時間は通常20分間乃至６時間である。
時間は通常20分間乃至６時間である。
さらに保護基が４−メトキシベンジル基の場合にはセ
リウムアンモニウムナイトレイトと含水アセトン中、室
温付近で処理することによっても除去され、又は、ジク
ロロジシアノキノン、過硫酸ナトリウム等の酸化剤によ
っても除去される。
リウムアンモニウムナイトレイトと含水アセトン中、室
温付近で処理することによっても除去され、又は、ジク
ロロジシアノキノン、過硫酸ナトリウム等の酸化剤によ
っても除去される。
水酸基の保護基が複素環基、アルコキシ若しくはアラ
ルキルオキシを置換分として有するメチル基、１−アル
コキシエチル基又はトリチル基の場合は酸と接触させる
ことにより容易に達成される。使用される酸としては例
えばギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸、酪
酸、シュウ酸、マロン酸、メタンスルホン酸、ベンゼン
スルホン酸、４−トリエンスルホン酸、カンファースル
ホン酸などの有機酸；塩酸、臭化水素酸、硫酸などの鉱
酸が好適に使用される。反応は溶剤の存在下または不存
在下で実施されるが、反応を円滑に行なうには溶剤を使
用する方が好ましく、使用される溶剤としては本反応に
関与しなければ特に限定はなく例えば水；メタノール、
エタノールなどのアルコール類；テトラヒドロフラン、
ジオキサンなどのエーテル類；アセトン、メチルエチル
ケトンのようなケトン類またはこれらの有機溶剤と水と
の混合溶剤が好適に使用される。反応温度には特に限定
はなく室温乃至溶剤の還流温度で行なわれる。反応に要
する時間は30分間乃至10時間である。
ルキルオキシを置換分として有するメチル基、１−アル
コキシエチル基又はトリチル基の場合は酸と接触させる
ことにより容易に達成される。使用される酸としては例
えばギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸、酪
酸、シュウ酸、マロン酸、メタンスルホン酸、ベンゼン
スルホン酸、４−トリエンスルホン酸、カンファースル
ホン酸などの有機酸；塩酸、臭化水素酸、硫酸などの鉱
酸が好適に使用される。反応は溶剤の存在下または不存
在下で実施されるが、反応を円滑に行なうには溶剤を使
用する方が好ましく、使用される溶剤としては本反応に
関与しなければ特に限定はなく例えば水；メタノール、
エタノールなどのアルコール類；テトラヒドロフラン、
ジオキサンなどのエーテル類；アセトン、メチルエチル
ケトンのようなケトン類またはこれらの有機溶剤と水と
の混合溶剤が好適に使用される。反応温度には特に限定
はなく室温乃至溶剤の還流温度で行なわれる。反応に要
する時間は30分間乃至10時間である。
または、メチルチオメチル基は、含水アセトニトリル
中、塩化第二水銀と処理しても除去される。
中、塩化第二水銀と処理しても除去される。
水酸基の保護基がトリ低級アルキル若しくはジアリー
ル低級アルキルシリル基の場合は水あるいは酸または塩
基を含有する水と接触させることにより容易に達成され
る。酸または塩基を含有する水を使用する場合に含有さ
れる酸または塩基としては例えばギ酸、酢酸、プロピオ
ン酸、酪酸、シュウ酸、マロン酸などの有機酸；塩酸、
臭化水素酸、硫酸などの鉱酸のような酸または水酸化カ
リウム、水酸化カルシウムなどのアルカリ金属およびア
ルカリ土類金属の水酸化物；炭酸カリウム、炭酸カルシ
ウムなどのアルカリ金属およびアルカリ土類金属の炭酸
塩のような塩基が特に限定なく使用される。反応は溶剤
として水を使用すれば他の溶剤は特に必要ではない。他
の溶剤を使用する場合は例えばテトラヒドロフラン、ジ
オキサンなどのエーテル類；メタノール、エタノールな
どのアルコール類等の有機溶剤と水との混合溶剤が使用
される。反応温度には特に限定はないが通常は室温で好
適に行なわれる。反応に要する時間は30分間乃至５時間
である。又保護基がｔ−ブチルジメチルシリル基若しく
はジフェニル−ｔ−ブチルシリル基の場合にはテトラヒ
ドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類の存在下フ
ッ化テトラブチルアンモニウムで処理することによって
も達成される。
ル低級アルキルシリル基の場合は水あるいは酸または塩
基を含有する水と接触させることにより容易に達成され
る。酸または塩基を含有する水を使用する場合に含有さ
れる酸または塩基としては例えばギ酸、酢酸、プロピオ
ン酸、酪酸、シュウ酸、マロン酸などの有機酸；塩酸、
臭化水素酸、硫酸などの鉱酸のような酸または水酸化カ
リウム、水酸化カルシウムなどのアルカリ金属およびア
ルカリ土類金属の水酸化物；炭酸カリウム、炭酸カルシ
ウムなどのアルカリ金属およびアルカリ土類金属の炭酸
塩のような塩基が特に限定なく使用される。反応は溶剤
として水を使用すれば他の溶剤は特に必要ではない。他
の溶剤を使用する場合は例えばテトラヒドロフラン、ジ
オキサンなどのエーテル類；メタノール、エタノールな
どのアルコール類等の有機溶剤と水との混合溶剤が使用
される。反応温度には特に限定はないが通常は室温で好
適に行なわれる。反応に要する時間は30分間乃至５時間
である。又保護基がｔ−ブチルジメチルシリル基若しく
はジフェニル−ｔ−ブチルシリル基の場合にはテトラヒ
ドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類の存在下フ
ッ化テトラブチルアンモニウムで処理することによって
も達成される。
反応終了後、水酸基の保護基を除去する反応の目的化
合物は常法に従って反応混合物から採取される。例えば
反応終了後、適宜溶剤を減圧で留去するか、留去しない
で反応混合物を氷水にあけ必要に応じて中和して、次い
で適当な有機溶剤を加えて抽出を行ない、抽出液を水洗
し乾燥した後、抽出液より溶剤を留去することによって
得られる。
合物は常法に従って反応混合物から採取される。例えば
反応終了後、適宜溶剤を減圧で留去するか、留去しない
で反応混合物を氷水にあけ必要に応じて中和して、次い
で適当な有機溶剤を加えて抽出を行ない、抽出液を水洗
し乾燥した後、抽出液より溶剤を留去することによって
得られる。
本工程では、R7の保護基を選択し、除去反応を適宜酸
性、アルカリ性又は中性条件で行うことによって、他の
水酸基の保護基、即ちR1 aに含まれるもの、R2 a及びR3 a
と区別して、除去反応を行うことができる。
性、アルカリ性又は中性条件で行うことによって、他の
水酸基の保護基、即ちR1 aに含まれるもの、R2 a及びR3 a
と区別して、除去反応を行うことができる。
第４工程は、式（VI）を有する化合物を製造する工程
で、化合物（Ｖ）を酸化することによって達成される。
で、化合物（Ｖ）を酸化することによって達成される。
使用される酸化剤としては、例えば、無水クロム酸、
無水クロム酸−ピリジン錯塩（Collins試薬）、無水ク
ロム酸−濃硫酸−水（Jones試薬）、重クロム酸ナトリ
ウム、重クロム酸カリウムなどのクロム酸類;N−ブロム
アセトアミド、Ｎ−ブロムスクシンイミド、Ｎ−プロム
フタルイミド、Ｎ−クロル−４−トルエンスルホンアミ
ド、Ｎ−クロルベンゼンスルホンアミドなどの有機活性
ハロゲン化合物；アルミニウム−tert−ブトキシド、ア
ルミニウムイソプロポキシドなどのアルミニウムアルコ
キシド類；ジメチルスルホキシド−ジシクロルカルボジ
イミド；ピリジン−無水硫酸；活性アシル誘導体（例え
ば、修酸ジクロリド、無水トリフルオロ酢酸）−ジメチ
ルスルホキシド−有機アミン（例えば、トリエチルアミ
ン、ピリジン等）などがあげられ、好適には、無水クロ
ム酸−ピリジン錯塩、ピリジン−無水硫酸、修酸ジクロ
リド−ジメチルスルホキシド−有機アミンである。
無水クロム酸−ピリジン錯塩（Collins試薬）、無水ク
ロム酸−濃硫酸−水（Jones試薬）、重クロム酸ナトリ
ウム、重クロム酸カリウムなどのクロム酸類;N−ブロム
アセトアミド、Ｎ−ブロムスクシンイミド、Ｎ−プロム
フタルイミド、Ｎ−クロル−４−トルエンスルホンアミ
ド、Ｎ−クロルベンゼンスルホンアミドなどの有機活性
ハロゲン化合物；アルミニウム−tert−ブトキシド、ア
ルミニウムイソプロポキシドなどのアルミニウムアルコ
キシド類；ジメチルスルホキシド−ジシクロルカルボジ
イミド；ピリジン−無水硫酸；活性アシル誘導体（例え
ば、修酸ジクロリド、無水トリフルオロ酢酸）−ジメチ
ルスルホキシド−有機アミン（例えば、トリエチルアミ
ン、ピリジン等）などがあげられ、好適には、無水クロ
ム酸−ピリジン錯塩、ピリジン−無水硫酸、修酸ジクロ
リド−ジメチルスルホキシド−有機アミンである。
反応は、不活性有機溶剤中で、好適に行われ、使用さ
れる溶剤としては、例えばメチレンクロリド、クロロホ
ルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類、エー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテ
ル類、アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類
又はジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類をあ
げることができる。
れる溶剤としては、例えばメチレンクロリド、クロロホ
ルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類、エー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテ
ル類、アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類
又はジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類をあ
げることができる。
反応温度は−70℃乃至室温であり、反応に要する時間
は通常30分間乃至３時間である。
は通常30分間乃至３時間である。
反応終了後、目的のオキソ化合物は常法に従って反応
混合物から採取される。例えば反応終了後、不溶物が存
在する場合には別して、氷水にあけ、適宜中和した
後、水不混和性有機溶剤で抽出し、溶剤を留去すること
によって得ることができる。
混合物から採取される。例えば反応終了後、不溶物が存
在する場合には別して、氷水にあけ、適宜中和した
後、水不混和性有機溶剤で抽出し、溶剤を留去すること
によって得ることができる。
また、本工程の反応で、水酸基の保護基が同時に除去
されることがある。
されることがある。
第５工程は、所望に応じて行う工程で、R1 aに含まれ
る水酸基の保護基除去反応；得られたヒドロキシメチル
基をホルミル基に酸化し、さらにカルボキシ基に酸化す
る反応若しくは直接カルボキシ基に酸化する反応；得ら
れたカルボキシ基をエステル化する反応；カルボキシ若
しくはエステルを置換されていてもよいカルバモイル基
に変換する反応；エステルをカルボキシ基に変換する反
応;R2 a及び／又はR3 aの水酸基の保護基を除去する反
応；並びにヒドロキシメチル基をヒドロキシメチルカル
ボニル基に変換する反応（水酸基の保護化反応を含む）
を含み、これらの反応は、適宜順序を変えて行うことが
できる。又、第３工程および第４工程と順序を変えて行
うこともできる。
る水酸基の保護基除去反応；得られたヒドロキシメチル
基をホルミル基に酸化し、さらにカルボキシ基に酸化す
る反応若しくは直接カルボキシ基に酸化する反応；得ら
れたカルボキシ基をエステル化する反応；カルボキシ若
しくはエステルを置換されていてもよいカルバモイル基
に変換する反応；エステルをカルボキシ基に変換する反
応;R2 a及び／又はR3 aの水酸基の保護基を除去する反
応；並びにヒドロキシメチル基をヒドロキシメチルカル
ボニル基に変換する反応（水酸基の保護化反応を含む）
を含み、これらの反応は、適宜順序を変えて行うことが
できる。又、第３工程および第４工程と順序を変えて行
うこともできる。
水酸基の保護基を除去する反応は、前記Ａ法第３工程
と同様に行われる。
と同様に行われる。
ヒドロキシメチル基をカルボキシ基に変換する反応は
第１級アルコールをカルボン酸に酸化する通常の方法に
従って行われる。この際、R2 a,R3 aは水酸基の保護基で
あることが必要である。
第１級アルコールをカルボン酸に酸化する通常の方法に
従って行われる。この際、R2 a,R3 aは水酸基の保護基で
あることが必要である。
使用される酸化剤としては例えば無水クロム酸−濃硫
酸−水（Jones試薬）、無水クロム酸、過マンガン酸カ
リウム−水酸化ナトリウム若しくは炭酸ナトリウム、酸
化塩、重クロム酸カリウム−硫酸等があげることができ
る。
酸−水（Jones試薬）、無水クロム酸、過マンガン酸カ
リウム−水酸化ナトリウム若しくは炭酸ナトリウム、酸
化塩、重クロム酸カリウム−硫酸等があげることができ
る。
反応は通常アセトンのようなケトン類、水若しくは水
とメタノール、エタノールのようなアルコールの混合溶
剤又は水とピリジンの混合溶剤中で行われる。
とメタノール、エタノールのようなアルコールの混合溶
剤又は水とピリジンの混合溶剤中で行われる。
反応温度は−30℃乃至100℃であり、反応に要する時
間は通常30分間乃至50時間である。
間は通常30分間乃至50時間である。
また、ヒドロキシメチル基を有する化合物を前記第４
工程と同様に酸化し、ホルミル化合物を得た後、上記反
応と同様に処理して、カルボキシ化合物を得ることもで
きる。
工程と同様に酸化し、ホルミル化合物を得た後、上記反
応と同様に処理して、カルボキシ化合物を得ることもで
きる。
反応終了後、目的のカルボキシ化合物は常法に従って
反応混合物から採取される。例えば反応混合物を氷水に
あけ、溶液がアルカリの場合には、希酸で酸性とした
後、水不混和性有機溶液で抽出し、溶剤を留去すること
によって得ることができる。
反応混合物から採取される。例えば反応混合物を氷水に
あけ、溶液がアルカリの場合には、希酸で酸性とした
後、水不混和性有機溶液で抽出し、溶剤を留去すること
によって得ることができる。
カルボキシ基をエステル化する反応は溶剤の存在下ま
たは不存在下でエステル化剤と接触させることによって
行なわれる。使用されるエステル化剤としては、カルボ
ン酸をエステルに変換する際に使用されるエステル化剤
が特に限定なく用いられる。使用されるエステル化剤と
しては、例えばジアゾメタン、ジアゾエタン、ジアゾ−
ｎ−プロパン、ジアゾイソプロパン、ジアゾ−ｎ−ブタ
ンなどのジアゾアルカン類；メタノール、エタノール、
ｎ−プロパノール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタ
ノール、ｎ−ヘキサノール、ｎ−デカノール、シクロペ
ンタノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコー
ル、ゲラニオールなどのエステル基を形成するアルコー
ル類と塩酸、臭化水素酸若しくは硫酸などの鉱酸または
メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸若しくは４−ト
ルエンスルホン酸などの有機酸；臭化メチル、臭化エチ
ル、臭化ブチルのようなアルキルハライドと水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウムのような塩基
が好適に用いられる。ジアゾアルカン類を用いる場合は
反応は溶剤の存在下で好適に行なわれる。使用される溶
剤としては本反応に関与しなければ特に限定はなく例え
ばエチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル類が好適
である。反応温度には限定はないが副反応を抑え且つジ
アゾアルカン類の分解を防ぐため比較的低温で行なうの
が望ましく通常は氷冷下で好適に行なわれる。酸の存在
下でアルコール類を用いる場合は通常溶剤として過剰の
アルコール類が好適に使用される。反応温度は特に限定
はないが室温乃至使用されるアルコール類の還流温度付
近で好適で行なわれる。反応時間は主に反応温度、使用
されるアルコール類の種類によって異なるが約１時間乃
至２日間である。
たは不存在下でエステル化剤と接触させることによって
行なわれる。使用されるエステル化剤としては、カルボ
ン酸をエステルに変換する際に使用されるエステル化剤
が特に限定なく用いられる。使用されるエステル化剤と
しては、例えばジアゾメタン、ジアゾエタン、ジアゾ−
ｎ−プロパン、ジアゾイソプロパン、ジアゾ−ｎ−ブタ
ンなどのジアゾアルカン類；メタノール、エタノール、
ｎ−プロパノール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタ
ノール、ｎ−ヘキサノール、ｎ−デカノール、シクロペ
ンタノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコー
ル、ゲラニオールなどのエステル基を形成するアルコー
ル類と塩酸、臭化水素酸若しくは硫酸などの鉱酸または
メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸若しくは４−ト
ルエンスルホン酸などの有機酸；臭化メチル、臭化エチ
ル、臭化ブチルのようなアルキルハライドと水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウムのような塩基
が好適に用いられる。ジアゾアルカン類を用いる場合は
反応は溶剤の存在下で好適に行なわれる。使用される溶
剤としては本反応に関与しなければ特に限定はなく例え
ばエチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル類が好適
である。反応温度には限定はないが副反応を抑え且つジ
アゾアルカン類の分解を防ぐため比較的低温で行なうの
が望ましく通常は氷冷下で好適に行なわれる。酸の存在
下でアルコール類を用いる場合は通常溶剤として過剰の
アルコール類が好適に使用される。反応温度は特に限定
はないが室温乃至使用されるアルコール類の還流温度付
近で好適で行なわれる。反応時間は主に反応温度、使用
されるアルコール類の種類によって異なるが約１時間乃
至２日間である。
又、カルボン酸のナトリウムの塩をベンジルプロミ
ド、４−メトキシベンジルクロリド、フエナシルブロミ
ド、ベンツヒドリルクロリドのようなハライドと塩基、
例えばトリエチルアミン、ピリジン、４−（N,N−ジメ
チルアミノ）−ピリジンの存在下、常法に従って処理す
ることによって相当するアラルキル、フェナシル又はベ
ンツヒドリルエステルが製造され、又カルボン酸チオニ
ルクロリド、五塩化リン等のハロゲン化剤若しくはピバ
ロイルクロリド、クロルギ酸エチルのような酸ハライド
と常法に従って処理し、相当する酸ハライド、酸無水物
のような反応活性体に誘導した後、不活性溶剤中（例え
ば、エーテルのようなエーテル類、ジメチルホルムアミ
ドのようなアミド類、アセトニトリルのようなニトリル
類）、塩基の存在下（例えば、トリエチルアミン、DBU
のような有機アミン類）、置換されていてもよいフェノ
ール類または前述したアルコール類と室温付近で、30分
間乃至３時間反応させることによって、相当するエステ
ルが製造される。
ド、４−メトキシベンジルクロリド、フエナシルブロミ
ド、ベンツヒドリルクロリドのようなハライドと塩基、
例えばトリエチルアミン、ピリジン、４−（N,N−ジメ
チルアミノ）−ピリジンの存在下、常法に従って処理す
ることによって相当するアラルキル、フェナシル又はベ
ンツヒドリルエステルが製造され、又カルボン酸チオニ
ルクロリド、五塩化リン等のハロゲン化剤若しくはピバ
ロイルクロリド、クロルギ酸エチルのような酸ハライド
と常法に従って処理し、相当する酸ハライド、酸無水物
のような反応活性体に誘導した後、不活性溶剤中（例え
ば、エーテルのようなエーテル類、ジメチルホルムアミ
ドのようなアミド類、アセトニトリルのようなニトリル
類）、塩基の存在下（例えば、トリエチルアミン、DBU
のような有機アミン類）、置換されていてもよいフェノ
ール類または前述したアルコール類と室温付近で、30分
間乃至３時間反応させることによって、相当するエステ
ルが製造される。
反応終了後、エステル化反応の目的化合物は常法に従
って反応混合物から採取される。例えば反応終了後、反
応混合物より溶剤を留去することによって、さらに必要
に応じて生成物を有機溶剤に溶解し、有機溶剤層を重炭
酸ナトリウム水溶液あるいは炭酸ナトリウム水溶液など
の炭酸アルカリ水溶液を用いて洗浄し乾燥した後、有機
溶剤層より溶剤を留去することによって得られる。
って反応混合物から採取される。例えば反応終了後、反
応混合物より溶剤を留去することによって、さらに必要
に応じて生成物を有機溶剤に溶解し、有機溶剤層を重炭
酸ナトリウム水溶液あるいは炭酸ナトリウム水溶液など
の炭酸アルカリ水溶液を用いて洗浄し乾燥した後、有機
溶剤層より溶剤を留去することによって得られる。
カルボキシ若しくはエステルを置換されてもよいカル
バモイル基に変換する反応は、原料としてカルボキシ化
合物を用いる場合には、混合酸無水物を用いる方法又は
ジシクロヘキシルカルボジイミド（DCC）を用いる方法
等により、アミン化合物と反応させることによって行わ
れる。混合酸無水物を用いる方法は、例えば不活性有機
溶媒（クロロホルム、塩化メチレンのようなハロゲン化
炭化水素類、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエーテル類）中又は水或いは無溶媒で、三級
アミン（ピリジン、トリエチルアミン、N,N−ジメチル
アミンピリジン、ピコリン等）の存在下、酸ハライド
（ピアロイルハライド、トシルハライド、メシルハライ
ド、オキザリルハライド等）又は酸誘導体（エチルクロ
ロホルメート、イソプロピルクロロホルメート、イソブ
チルクロロホルメート等）と反応させ、得られた混合酸
無水物とアミン化合物を不活性有機溶媒中、反応させる
ことによって行われる。原料として、エステル化合物を
用いる場合には、アミン化合物の存在下に加熱すること
によって行なわれる。使用されるアミン化合物として
は、例えばアンモニア又はメチルアミン、エチルアミ
ン、ｎ−プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブ
チルアミン、アニリン、４−メチルアニリン、ジメチル
アミン、メチルエチルアミン、ジエチルアミン、Ｎ−メ
チルアニリン、Ｎ−エチルアニリン、Ｎ−メチル−３−
メチルアニリン、グリシン、アラニン、フェニルアラニ
ン、セリン、イソロイシンのようなアミノ酸及びそれら
のエステルのような１級若しくは２級アミンをあげるこ
とができる。
バモイル基に変換する反応は、原料としてカルボキシ化
合物を用いる場合には、混合酸無水物を用いる方法又は
ジシクロヘキシルカルボジイミド（DCC）を用いる方法
等により、アミン化合物と反応させることによって行わ
れる。混合酸無水物を用いる方法は、例えば不活性有機
溶媒（クロロホルム、塩化メチレンのようなハロゲン化
炭化水素類、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエーテル類）中又は水或いは無溶媒で、三級
アミン（ピリジン、トリエチルアミン、N,N−ジメチル
アミンピリジン、ピコリン等）の存在下、酸ハライド
（ピアロイルハライド、トシルハライド、メシルハライ
ド、オキザリルハライド等）又は酸誘導体（エチルクロ
ロホルメート、イソプロピルクロロホルメート、イソブ
チルクロロホルメート等）と反応させ、得られた混合酸
無水物とアミン化合物を不活性有機溶媒中、反応させる
ことによって行われる。原料として、エステル化合物を
用いる場合には、アミン化合物の存在下に加熱すること
によって行なわれる。使用されるアミン化合物として
は、例えばアンモニア又はメチルアミン、エチルアミ
ン、ｎ−プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブ
チルアミン、アニリン、４−メチルアニリン、ジメチル
アミン、メチルエチルアミン、ジエチルアミン、Ｎ−メ
チルアニリン、Ｎ−エチルアニリン、Ｎ−メチル−３−
メチルアニリン、グリシン、アラニン、フェニルアラニ
ン、セリン、イソロイシンのようなアミノ酸及びそれら
のエステルのような１級若しくは２級アミンをあげるこ
とができる。
反応は通常０℃乃至100℃で行なわれ、反応に要する
時間は１時間乃至24時間である。
時間は１時間乃至24時間である。
DCCを用いる方法は、上記アミン化合物を不活性有機
溶媒（上記と同じ）中、または無溶媒で三級アミンの存
在下もしくは非存在下、DCCを用いて、０℃〜100℃で反
応させることにより行なわれる。
溶媒（上記と同じ）中、または無溶媒で三級アミンの存
在下もしくは非存在下、DCCを用いて、０℃〜100℃で反
応させることにより行なわれる。
尚、これらの反応は、いずれも不活性ガス（アルゴ
ン、窒素等）雰囲気下、無水条件で行なうことが好まし
い。
ン、窒素等）雰囲気下、無水条件で行なうことが好まし
い。
カルボキシ基をＮ−アシルカルバモイル基に変換する
反応は不活性溶剤中、アセチルイソシアネート、トリフ
ルオロアセチルイソシアネート、ベンゾイルイソシアネ
ートのようなアシルイソシアネートと接触させることに
よって行われる。使用される溶剤は、例えばベンゼン、
トルエン、キシレンのような炭化水素類又はエーテル、
テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンのようなエーテ
ル類である。反応温度は通常室温であり、反応に要する
時間は30分間乃至10時間である。
反応は不活性溶剤中、アセチルイソシアネート、トリフ
ルオロアセチルイソシアネート、ベンゾイルイソシアネ
ートのようなアシルイソシアネートと接触させることに
よって行われる。使用される溶剤は、例えばベンゼン、
トルエン、キシレンのような炭化水素類又はエーテル、
テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンのようなエーテ
ル類である。反応温度は通常室温であり、反応に要する
時間は30分間乃至10時間である。
カルボキシ基をＮ−スルホニルカルバモイル基に変換
する反応は不活性溶剤中、活性アミド誘導体に変換した
後、メタンスルホン酸アミド、ベンゼンスルホン酸アミ
ド、４−トルエンスルホン酸アミドのようなスルホン酸
アミドの反応させることによって行われる。活性アミド
誘導体は相当する化合物をジシクロヘキシルカルボジイ
ミドのような縮合剤の存在下、Ｎ−ヒドロキシコハク酸
イミド、Ｎ−ヒドロキシフタル酸イミドのようなＮ−ヒ
ドロキシイミドと通常室温付近で30分間乃至10時間反応
することによって製造される。活性アミド誘導体とスル
ホン酸アミドとの反応はナトリウムメトキシド、ナトリ
ウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシドのような塩基
の存在下、室温付近で30分間乃至15時間反応することに
よって行われる。
する反応は不活性溶剤中、活性アミド誘導体に変換した
後、メタンスルホン酸アミド、ベンゼンスルホン酸アミ
ド、４−トルエンスルホン酸アミドのようなスルホン酸
アミドの反応させることによって行われる。活性アミド
誘導体は相当する化合物をジシクロヘキシルカルボジイ
ミドのような縮合剤の存在下、Ｎ−ヒドロキシコハク酸
イミド、Ｎ−ヒドロキシフタル酸イミドのようなＮ−ヒ
ドロキシイミドと通常室温付近で30分間乃至10時間反応
することによって製造される。活性アミド誘導体とスル
ホン酸アミドとの反応はナトリウムメトキシド、ナトリ
ウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシドのような塩基
の存在下、室温付近で30分間乃至15時間反応することに
よって行われる。
上記両反応は好適には不活性溶剤中で行われ使用され
る溶剤としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類；エーテル、テトラヒドロ
フラン、ジメトキシエタンのようなエーテル類；ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド
類；又はジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類
をあげることができる。
る溶剤としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類；エーテル、テトラヒドロ
フラン、ジメトキシエタンのようなエーテル類；ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド
類；又はジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類
をあげることができる。
反応終了後、目的のアミド化合物は常法に従って反応
混合物から採取される。例えば、反応混合物を氷水にあ
け、必要に応じて、中和した後、水不混和性有機溶剤で
抽出し、溶剤を留去することによって得ることができ
る。さらに必要なら、常法、例えばシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー、再結晶法等によって精製することも
できる。
混合物から採取される。例えば、反応混合物を氷水にあ
け、必要に応じて、中和した後、水不混和性有機溶剤で
抽出し、溶剤を留去することによって得ることができ
る。さらに必要なら、常法、例えばシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー、再結晶法等によって精製することも
できる。
エステルをカルボキシ基に変換する反応は、好適には
酵素を用いて実施する。即ち、エステル化合物をアセト
ン及びリン酸緩衝液のような緩衝液に溶かし（懸濁
し）、エステラーゼを用いて行われる。
酵素を用いて実施する。即ち、エステル化合物をアセト
ン及びリン酸緩衝液のような緩衝液に溶かし（懸濁
し）、エステラーゼを用いて行われる。
反応は通常室温付近で30分間乃至５時間反応すること
により行われる。
により行われる。
ヒドロキシメチル基をヒドロキシメチルカルボニル基
に変換させる反応はヒドロキシメチル基を前記第４工程
の反応と同様にして、ホルミル基に変換させ、保護され
たヒドロキシメチル錫化合物のアニオンと反応させ、２
位の水酸基が保護された1,2−ジ−ヒドロキシエチル基
に変換させた後、酸化し、保護基を除去することによっ
て行なわれる。
に変換させる反応はヒドロキシメチル基を前記第４工程
の反応と同様にして、ホルミル基に変換させ、保護され
たヒドロキシメチル錫化合物のアニオンと反応させ、２
位の水酸基が保護された1,2−ジ−ヒドロキシエチル基
に変換させた後、酸化し、保護基を除去することによっ
て行なわれる。
本工程では、好適には、化合物（VI）のカルボニル基
が保護され、その保護基としては、例えば 式 を有する基（式中、R10はC1〜C4のアルキル基を示し、
Ｔはエチレン、プロピレン、トリメチレン、ブチレン、
テトラメチレン、2,2−ジメチルトリメチレンのようなC
2〜C5のアルキレン基を示し、Ｇは酸素原子又は硫黄原
子を示す。）を有する基をあげることができる。保護
化、脱保護化は常法に従って行われる。
が保護され、その保護基としては、例えば 式 を有する基（式中、R10はC1〜C4のアルキル基を示し、
Ｔはエチレン、プロピレン、トリメチレン、ブチレン、
テトラメチレン、2,2−ジメチルトリメチレンのようなC
2〜C5のアルキレン基を示し、Ｇは酸素原子又は硫黄原
子を示す。）を有する基をあげることができる。保護
化、脱保護化は常法に従って行われる。
ホルミル体を２位の水酸基が保護された1,2−ジヒド
ロキシエチル体に変換する反応は、ホルミル体を不活性
溶剤中、一般式 （式中、R9及びＭは前述したものと同意義を示し、R11
は１−メトキシエチル、１−エトキシエチルのような１
−（C1−C4のアルコキシ）C1〜C4のアルキル基を示
す。） を有するアニオンと反応させることによって達成され
る。
ロキシエチル体に変換する反応は、ホルミル体を不活性
溶剤中、一般式 （式中、R9及びＭは前述したものと同意義を示し、R11
は１−メトキシエチル、１−エトキシエチルのような１
−（C1−C4のアルコキシ）C1〜C4のアルキル基を示
す。） を有するアニオンと反応させることによって達成され
る。
化合物（XXVIII）は公知の方法、例えばザ・ジャーナ
ル・オブ・アメリカン、ケミカル・ソサエティ、100
巻、1481頁（1978年）:J.Am.Chem.Soc.,100,1481（197
8）と同様の方法に従って、反応液中で調製される。
ル・オブ・アメリカン、ケミカル・ソサエティ、100
巻、1481頁（1978年）:J.Am.Chem.Soc.,100,1481（197
8）と同様の方法に従って、反応液中で調製される。
使用される不活性溶剤としては、例えば、エーテル、
テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンのようなエーテ
ル類又はヘキサメチルホスホリルトリアミドのようなア
ミド類をあげることができ、反応温度は−78℃乃至０℃
であり、反応に要する時間は５分間乃至２時間である。
２位の水酸基が保護された1,2−ジヒドロキシエチル体
の酸化は常法に従って上記コリンズ試薬と処理すること
により行なわれ、水酸基の脱保護反応は前述の相当する
水酸基の脱保護反応と同様に行なわれる。又は必要に応
じて、カルボニル基の脱保護化を行う。
テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンのようなエーテ
ル類又はヘキサメチルホスホリルトリアミドのようなア
ミド類をあげることができ、反応温度は−78℃乃至０℃
であり、反応に要する時間は５分間乃至２時間である。
２位の水酸基が保護された1,2−ジヒドロキシエチル体
の酸化は常法に従って上記コリンズ試薬と処理すること
により行なわれ、水酸基の脱保護反応は前述の相当する
水酸基の脱保護反応と同様に行なわれる。又は必要に応
じて、カルボニル基の脱保護化を行う。
目的のヒドロキシメチルカルボニル化合物は常法に従
って反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を
氷水にあけ適宜中和し、水不混和性有機溶剤で抽出した
後、溶剤を留去することにより得ることができる。さら
に、必要に応じて、常法、例えばカラムクロマトグラフ
ィー、再結晶法等によりさらに精製することもできる。
って反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を
氷水にあけ適宜中和し、水不混和性有機溶剤で抽出した
後、溶剤を留去することにより得ることができる。さら
に、必要に応じて、常法、例えばカラムクロマトグラフ
ィー、再結晶法等によりさらに精製することもできる。
Ｂ法は、化合物（VI）において、R1 aが保護されても
よいカルボキシ基（R1 b）であり、ｍ（ｐ）は２又は３
である化合物（VI a）を別途に製造する方法である。
よいカルボキシ基（R1 b）であり、ｍ（ｐ）は２又は３
である化合物（VI a）を別途に製造する方法である。
Ｂ法第６工程は、式（VIII）を有する化合物を製造す
る工程で、式（VII）を有する化合物をヨードラクトン
化することによって達成される。
る工程で、式（VII）を有する化合物をヨードラクトン
化することによって達成される。
本反応は、不活性溶剤中、塩基の存在下、化合物（VI
I）を沃素−沃化アルカリ（例えば、沃化ナトリウム、
沃化カリウム等）と処理することにより行われる。
I）を沃素−沃化アルカリ（例えば、沃化ナトリウム、
沃化カリウム等）と処理することにより行われる。
使用される塩基としては、例えば、炭酸ナトリウム、
炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム
のようなアルカリ金属炭酸塩をあげることができる。
炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム
のようなアルカリ金属炭酸塩をあげることができる。
使用される不活性溶剤としては、例えば、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノールのようなアルコール
類、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミドのようなアミド類、水又はそれらの混合溶媒をあ
げることができる。
ル、エタノール、イソプロパノールのようなアルコール
類、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミドのようなアミド類、水又はそれらの混合溶媒をあ
げることができる。
反応温度は通常０℃乃至50℃であり、反応に要する時
間は反応試剤、反応温度等により異なるが30分間乃至５
時間である。
間は反応試剤、反応温度等により異なるが30分間乃至５
時間である。
反応終了後、本工程の目的化合物は常法に従って、反
応混合物から採取される。例えば反応終了後、溶剤を減
圧下で留去し、氷水を加えて水不混和性有機溶剤で抽出
し、有機溶剤を留去することによって得られる。
応混合物から採取される。例えば反応終了後、溶剤を減
圧下で留去し、氷水を加えて水不混和性有機溶剤で抽出
し、有機溶剤を留去することによって得られる。
第７工程は、式（IX）を有する化合物を製造する工程
で、不活性溶剤中、化合物（VIII）を還元剤と処理する
ことによって達成される。
で、不活性溶剤中、化合物（VIII）を還元剤と処理する
ことによって達成される。
使用される還元剤としては、沃素原子を水素原子に還
元するものなら、特に制限されないが好適には、トリメ
チル水素化スズ、トリブチル水素化スズのようなトリ低
級アルキル水素化スズをあげることができる。
元するものなら、特に制限されないが好適には、トリメ
チル水素化スズ、トリブチル水素化スズのようなトリ低
級アルキル水素化スズをあげることができる。
使用される不活性溶剤としては、例えば、ヘキサン、
ベンゼン、トルエンのような炭化水素類、エーテル、テ
トラヒドロフランのようなエーテル類をあげることがで
きる。
ベンゼン、トルエンのような炭化水素類、エーテル、テ
トラヒドロフランのようなエーテル類をあげることがで
きる。
また本反応は、アゾビスイソブチロニトリル、過酸化
ベゾイルのようなラジカル開始剤を触媒として、好適に
行われる。
ベゾイルのようなラジカル開始剤を触媒として、好適に
行われる。
反応温度は通常０℃乃至60℃であり、反応に要する時
間は反応試剤、反応温度等により異なるが10分間乃至２
時間である。
間は反応試剤、反応温度等により異なるが10分間乃至２
時間である。
反応終了後、本工程の目的化合物は常法に従って、反
応混合物から採取される。例えば反応終了後、希アルカ
リ水を加えて水不混和性有機溶剤で抽出し、有機溶剤を
留去することによって得られる。
応混合物から採取される。例えば反応終了後、希アルカ
リ水を加えて水不混和性有機溶剤で抽出し、有機溶剤を
留去することによって得られる。
第８工程は、式（Ｘ）を有する化合物を製造する工程
で、化合物（IX）を加水分解又は加アルコール分解し、
必要に応じて水酸基の保護基R7を除去することによって
達成される。
で、化合物（IX）を加水分解又は加アルコール分解し、
必要に応じて水酸基の保護基R7を除去することによって
達成される。
加水分解反応は、前記Ａ法第３工程において、水酸基
の保護基がアシル基である場合の反応と同様に行われ
る。
の保護基がアシル基である場合の反応と同様に行われ
る。
加アルコール分解反応は、不活性溶剤中、塩基の存在
下、化合物（IX）を、一般式 R12OH （XXIX） （式中、R12は、C1〜C10のアルキル基、C3〜C7のシクロ
アルキル基、アラルキル基、フェナシル基又はゲラニル
基を示す。） を有する化合物と反応させることによって行われる。
下、化合物（IX）を、一般式 R12OH （XXIX） （式中、R12は、C1〜C10のアルキル基、C3〜C7のシクロ
アルキル基、アラルキル基、フェナシル基又はゲラニル
基を示す。） を有する化合物と反応させることによって行われる。
使用される塩基としては、例えば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸
塩、ナトリウムメトキシド、カリウム ｔ−ブトキシド
のようなアルカリ金属アルコキシド類をあげることがで
きる。
ム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸
塩、ナトリウムメトキシド、カリウム ｔ−ブトキシド
のようなアルカリ金属アルコキシド類をあげることがで
きる。
使用される不活性溶剤としては、例えば、ベンゼン、
トルエンのような芳香族炭化水素類、エーテル、テトラ
ヒドロフランのようなエーテル類をあげることができ
る。また、溶剤を兼ねてアルコール（XXIX）を大過剰利
用しても、好適に反応は進行する。
トルエンのような芳香族炭化水素類、エーテル、テトラ
ヒドロフランのようなエーテル類をあげることができ
る。また、溶剤を兼ねてアルコール（XXIX）を大過剰利
用しても、好適に反応は進行する。
反応温度は通常０℃乃至50℃であり、反応に要する時
間は反応試剤、反応温度等により異なるが１時間乃至24
時間である。
間は反応試剤、反応温度等により異なるが１時間乃至24
時間である。
反応終了後、本工程の目的化合物は常法に従って、反
応混合物から採取される。例えば反応終了後、氷水を加
えて水不混和性有機溶剤で抽出し、有効溶剤を留去する
ことによって得られる。
応混合物から採取される。例えば反応終了後、氷水を加
えて水不混和性有機溶剤で抽出し、有効溶剤を留去する
ことによって得られる。
また、上記反応で得られた化合物において、R7が除去
されない場合には、前記Ａ法第３工程に従ってR7を除去
することができ、R1 bがカルボキシ基の場合には、所望
により、後述するＣ法第13工程と同様にして水酸基を保
護し、前記Ａ法第５工程の相当する反応に従ってカルボ
キシ基をエステル化し、前記Ａ法第３工程に従って水酸
基の保護基を除去すること、またはカルボキシ基を例え
ばシリル基等で保護し、水酸基を保護した後、カルボキ
シ基の保護基を除去してから、カルボキシ基のエステル
化および水酸基の保護基の除去をすることもできる。
されない場合には、前記Ａ法第３工程に従ってR7を除去
することができ、R1 bがカルボキシ基の場合には、所望
により、後述するＣ法第13工程と同様にして水酸基を保
護し、前記Ａ法第５工程の相当する反応に従ってカルボ
キシ基をエステル化し、前記Ａ法第３工程に従って水酸
基の保護基を除去すること、またはカルボキシ基を例え
ばシリル基等で保護し、水酸基を保護した後、カルボキ
シ基の保護基を除去してから、カルボキシ基のエステル
化および水酸基の保護基の除去をすることもできる。
第９工程は、化合物（VI a）を製造する工程で、化合
物（Ｘ）を酸化することによって達成され、本工程は前
記Ａ法第４工程と同様に行われる。
物（Ｘ）を酸化することによって達成され、本工程は前
記Ａ法第４工程と同様に行われる。
Ｃ法は、化合物（Ｘ）において、Ａがビニレン又はエ
チニレン基（Ａ′）である化合物（X a）を別途に製造
する方法である。
チニレン基（Ａ′）である化合物（X a）を別途に製造
する方法である。
Ｃ法第10工程は、式（XII）を有する化合物を製造す
る工程で、式（XI）を有する化合物をヨードーラクトン
化させることによって達成され、本工程は、前記Ｂ法第
６工程と同様に行われる。
る工程で、式（XI）を有する化合物をヨードーラクトン
化させることによって達成され、本工程は、前記Ｂ法第
６工程と同様に行われる。
なお、本工程の原料化合物（XI）は、公知化合物であ
るか、公知の方法に従って、容易に製造することができ
る（例えば、Ogawa at al.,Tetrahedron Letters,25,10
67（1984））。
るか、公知の方法に従って、容易に製造することができ
る（例えば、Ogawa at al.,Tetrahedron Letters,25,10
67（1984））。
第11工程は、式（XIII）を有する化合物を製造する工
程で、化合物（XII）を還元することによって達成さ
れ、本工程は、前記Ｂ法第７工程と同様に行われる。
程で、化合物（XII）を還元することによって達成さ
れ、本工程は、前記Ｂ法第７工程と同様に行われる。
第12工程は、式（XIV）を有する化合物を製造する工
程で、化合物（XIII）を加水分解又は加アルコール分解
することによって達成され、本工程は、前記Ｂ法第８工
程と同様に行われる。
程で、化合物（XIII）を加水分解又は加アルコール分解
することによって達成され、本工程は、前記Ｂ法第８工
程と同様に行われる。
第13工程は、式（XV）を有する化合物を製造する工程
で、化合物（XIV）の水酸基を保護することによって達
成される。
で、化合物（XIV）の水酸基を保護することによって達
成される。
水酸基を保護する反応は常法に従って化合物（XIV）
を保護基を形成する化合物と接触させることによって行
なわれる。使用される保護基を形成する化合物としては
例えば酢酸、プロピオン酸、酪酸、安息香酸、ナフタリ
ンカルボン酸のようなカルボン酸若しくはその反応性誘
導体；ベンジルクロリド、ベンジルブロミド、４−ニト
ロベンジルブロミド、４−メトキシベンジルブロミドの
ようなアラルキルハライド化合物；トリチルクロリド、
トリチルブロミドのようなトリチルハライド；ジヒドロ
ピラン、ジヒドロチオピラン、ジヒドロチオフェン、４
−メトキシ−5,6−ジヒドロ−（2H）ピランのような５
若しくは６員環状の複素化合物；メトキシメチルクロリ
ド、メチルチオメチルクロリド、エトキシエチルクロリ
ド、ベンジルオキシメチルクロリドのようなアルコキ
シ、アルキルチオ若しくはアラルキルオキシ置換アルキ
ルハライド化合物；メチルビニルエーテル、エチルビニ
ルエーテルのような不飽和エーテル類；ヘキサメチルジ
シラザン、トリメチルシリルクロリド、トリ−ｎ−プロ
ピルシリルクロリド、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリ
ド、ジフェニルｔ−ブチルシリルクロリドのようなシリ
ル化合物などを好適な化合物としてあげることができ
る。
を保護基を形成する化合物と接触させることによって行
なわれる。使用される保護基を形成する化合物としては
例えば酢酸、プロピオン酸、酪酸、安息香酸、ナフタリ
ンカルボン酸のようなカルボン酸若しくはその反応性誘
導体；ベンジルクロリド、ベンジルブロミド、４−ニト
ロベンジルブロミド、４−メトキシベンジルブロミドの
ようなアラルキルハライド化合物；トリチルクロリド、
トリチルブロミドのようなトリチルハライド；ジヒドロ
ピラン、ジヒドロチオピラン、ジヒドロチオフェン、４
−メトキシ−5,6−ジヒドロ−（2H）ピランのような５
若しくは６員環状の複素化合物；メトキシメチルクロリ
ド、メチルチオメチルクロリド、エトキシエチルクロリ
ド、ベンジルオキシメチルクロリドのようなアルコキ
シ、アルキルチオ若しくはアラルキルオキシ置換アルキ
ルハライド化合物；メチルビニルエーテル、エチルビニ
ルエーテルのような不飽和エーテル類；ヘキサメチルジ
シラザン、トリメチルシリルクロリド、トリ−ｎ−プロ
ピルシリルクロリド、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリ
ド、ジフェニルｔ−ブチルシリルクロリドのようなシリ
ル化合物などを好適な化合物としてあげることができ
る。
カルボン酸化合物を使用する場合には、ジシクロヘキ
シルカルボジイミドのような縮合剤の存在下に好適に行
われる。
シルカルボジイミドのような縮合剤の存在下に好適に行
われる。
カルボン酸の反応性誘導体としては、例えば酢酸クロ
リド、酢酸ブロミド、ベンゾイルクロリド、ベンゾイル
ブロミド、ナフトイルクロリドのような酸ハライド化合
物又は無水酢酸、無水プロピオン酸、無水安息香酸のよ
うな酸無水物をあげることができ、本誘導体を使用する
場合には、トリエチルアミン、ピリジン、４−N,N−ジ
メチルアミノピリジン、キノリン、N,N−ジメチルアニ
リンのような有機塩基の存在下に好適に行われる。
リド、酢酸ブロミド、ベンゾイルクロリド、ベンゾイル
ブロミド、ナフトイルクロリドのような酸ハライド化合
物又は無水酢酸、無水プロピオン酸、無水安息香酸のよ
うな酸無水物をあげることができ、本誘導体を使用する
場合には、トリエチルアミン、ピリジン、４−N,N−ジ
メチルアミノピリジン、キノリン、N,N−ジメチルアニ
リンのような有機塩基の存在下に好適に行われる。
本反応は溶剤の存在下で行われる。使用される溶剤と
しては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、ｎ−ヘ
キサンのような炭化水素類、塩化メチレン、クロロホル
ム、四塩化炭素、クロルベンゼンのようなハロゲン化炭
化水素類、エーテル、テトロヒドロフラン、ジオキサン
のようなエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンの
ようなケトン類をあげることができるが、好適には炭化
水素類である。
しては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、ｎ−ヘ
キサンのような炭化水素類、塩化メチレン、クロロホル
ム、四塩化炭素、クロルベンゼンのようなハロゲン化炭
化水素類、エーテル、テトロヒドロフラン、ジオキサン
のようなエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンの
ようなケトン類をあげることができるが、好適には炭化
水素類である。
反応温度は通常０℃〜100℃であり、反応に要する時
間は反応試剤、反応温度、溶剤等により異なるが、30分
間乃至６時間である。
間は反応試剤、反応温度、溶剤等により異なるが、30分
間乃至６時間である。
アラルキルハライド化合物、トリチルハライド、アル
コキシ、アルキルチオ若しくはアラルキルオキシ置換ア
ルキルハライド化合物又はシリル化合物を使用する場合
には、不活性溶剤中、化合物（XIV）を水素化ナトリウ
ム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物と反
応させ、化合物（XIV）のアルカリ金属塩を製造した後
に、相当するハライド化合物又はジシラザンのようなシ
リル化試薬を反応させることによって達成される。
コキシ、アルキルチオ若しくはアラルキルオキシ置換ア
ルキルハライド化合物又はシリル化合物を使用する場合
には、不活性溶剤中、化合物（XIV）を水素化ナトリウ
ム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物と反
応させ、化合物（XIV）のアルカリ金属塩を製造した後
に、相当するハライド化合物又はジシラザンのようなシ
リル化試薬を反応させることによって達成される。
使用する不活性溶剤は反応に関与しなければ特に限定
されないが、例えばエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンのようなエーテル類、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホリルトリア
ミドのようなアミド類、アセトニトリル、ベンゾニトリ
ルのようなニトリル類又はジメチルスルホキシドのよう
なスルホキシド類をあげることができるが、好適にはア
ミド類である。
されないが、例えばエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンのようなエーテル類、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホリルトリア
ミドのようなアミド類、アセトニトリル、ベンゾニトリ
ルのようなニトリル類又はジメチルスルホキシドのよう
なスルホキシド類をあげることができるが、好適にはア
ミド類である。
反応温度は０℃乃至100℃であり、反応に要する時間
は反応試剤、反応温度により異なるが通常10分間乃至３
時間である。
は反応試剤、反応温度により異なるが通常10分間乃至３
時間である。
又、トリエチルアミン、ピリジン、４−N,N−ジメチ
ルアミノピリジン、イミダゾールのような有機塩基又は
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウムのよ
うな無機塩基の存在下に、化合物（XIV）と相当するハ
ライド化合物を反応させることもできる。５若しくは６
員環状の複素環化合物又は不飽和エーテル類を使用する
場合には、反応は不活性溶剤の存在下又は不存在下少量
の酸、例えば塩酸、臭化水素酸のような鉱酸またはピク
リン酸、トリフルオロ酢酸、ベンゼンスルホン酸、４−
トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸のような有
機酸の存在下で実施される。
ルアミノピリジン、イミダゾールのような有機塩基又は
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウムのよ
うな無機塩基の存在下に、化合物（XIV）と相当するハ
ライド化合物を反応させることもできる。５若しくは６
員環状の複素環化合物又は不飽和エーテル類を使用する
場合には、反応は不活性溶剤の存在下又は不存在下少量
の酸、例えば塩酸、臭化水素酸のような鉱酸またはピク
リン酸、トリフルオロ酢酸、ベンゼンスルホン酸、４−
トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸のような有
機酸の存在下で実施される。
使用される溶剤としては反応に関与しなければ特に制
限されないが、例えばエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサンのようなエーテル類、塩化メチレン、クロロ
ホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類又は
ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類をあげることができるが、好適にはハロゲン化炭化水
素類である。又、不活性溶剤の不存在下、溶剤を兼ねて
複素環化合物又はビニルエーテル化合物を過剰に使用す
ることによっても反応は行われる。
限されないが、例えばエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサンのようなエーテル類、塩化メチレン、クロロ
ホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類又は
ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類をあげることができるが、好適にはハロゲン化炭化水
素類である。又、不活性溶剤の不存在下、溶剤を兼ねて
複素環化合物又はビニルエーテル化合物を過剰に使用す
ることによっても反応は行われる。
反応温度は通常０℃乃至50℃であり、反応に要する時
間は反応試剤、反応温度等により異なるが、300分間乃
至３時間である。
間は反応試剤、反応温度等により異なるが、300分間乃
至３時間である。
以上の各反応終了後、水酸基の保護された目的化合物
は常法に従って反応混合物から採取される。例えば、反
応混合物を氷水にあけ不溶物が存在する場合には別し
た後、溶液が酸性又はアルカリ性の場合には適宜中和
し、水不混和性有機溶剤で抽出した後、溶剤を留去する
ことにより得ることができる。さらに必要ならば常法、
例えばカラムクロマトグラフィー、薄層クロマトグラフ
ィー、再結晶法などを用いてさらに精製することができ
る。
は常法に従って反応混合物から採取される。例えば、反
応混合物を氷水にあけ不溶物が存在する場合には別し
た後、溶液が酸性又はアルカリ性の場合には適宜中和
し、水不混和性有機溶剤で抽出した後、溶剤を留去する
ことにより得ることができる。さらに必要ならば常法、
例えばカラムクロマトグラフィー、薄層クロマトグラフ
ィー、再結晶法などを用いてさらに精製することができ
る。
また、R1 bがカルボキシ基の場合には、前記Ａ法第５
工程の相当する反応に従って、エステル化することもで
きる。
工程の相当する反応に従って、エステル化することもで
きる。
第14工程は、式（XVI）を有する化合物を製造する工
程で、化合物（XV）のR8を除去することによって達成さ
れ、本工程は、前記Ａ法第３工程と同様に行われる。
程で、化合物（XV）のR8を除去することによって達成さ
れ、本工程は、前記Ａ法第３工程と同様に行われる。
本工程において、他の水酸基の保護基R7およびR2 aを
適宜選択することによって、R8を選択的に除去すること
ができる。この場合の保護基の組合せは、R2 a,R7および
R8がそれぞれ酸性、アルカリ性及び中性条件で除去され
る保護基であり、例えば、R7がアシル基のような塩基性
条件で除去される基であり、R2 aが複素環基、置換メチ
ル基、１−アルコキシエチル基、トリチル基のような酸
性条件で除去さる基であり、R8がトリ置換シリル基（ジ
メチル−ｔ−ブチルシリル、ジフェニル−ｔ−ブチルシ
リル等）、アラルキル基のような中性条件で除去される
保護基である場合をあげることができる。
適宜選択することによって、R8を選択的に除去すること
ができる。この場合の保護基の組合せは、R2 a,R7および
R8がそれぞれ酸性、アルカリ性及び中性条件で除去され
る保護基であり、例えば、R7がアシル基のような塩基性
条件で除去される基であり、R2 aが複素環基、置換メチ
ル基、１−アルコキシエチル基、トリチル基のような酸
性条件で除去さる基であり、R8がトリ置換シリル基（ジ
メチル−ｔ−ブチルシリル、ジフェニル−ｔ−ブチルシ
リル等）、アラルキル基のような中性条件で除去される
保護基である場合をあげることができる。
第15工程は、式（XVI）を有する化合物を製造する工
程で、化合物（XIII）のR8を除去することによって達成
され、本工程は、前記Ａ法第３工程及びＣ法第14工程と
同様に行われる。
程で、化合物（XIII）のR8を除去することによって達成
され、本工程は、前記Ａ法第３工程及びＣ法第14工程と
同様に行われる。
第16工程は、式（XVIII）を有する化合物を製造する
工程で、化合物（XVII）を酸化することによって達成さ
れ、本工程は、前記Ｂ法第９工程と同様に行われる。
工程で、化合物（XVII）を酸化することによって達成さ
れ、本工程は、前記Ｂ法第９工程と同様に行われる。
第17工程は、式（XIX）を有する化合物を製造する工
程で、化合物（XVI）を酸化することによって達成さ
れ、本工程は前記Ｂ法第９工程及びＣ法第16工程と同様
に行われる。
程で、化合物（XVI）を酸化することによって達成さ
れ、本工程は前記Ｂ法第９工程及びＣ法第16工程と同様
に行われる。
第18工程は、式（XX）を有する化合物を製造する工程
で、化合物（XVIII）に一般式 又は一般式 （式中、R5,R9,M及びＹは、前述したものと同意義を示
す。） を有するウイテッヒ又は変法ウイテッヒ試薬を反応させ
ることによって達成され、本工程は、前記Ａ法第１工程
と同様に行われる。
で、化合物（XVIII）に一般式 又は一般式 （式中、R5,R9,M及びＹは、前述したものと同意義を示
す。） を有するウイテッヒ又は変法ウイテッヒ試薬を反応させ
ることによって達成され、本工程は、前記Ａ法第１工程
と同様に行われる。
第19工程は、式（XXI）を有する化合物を製造する工
程で、化合物（XIX）に一般式（XXX）又は（XXXI）を有
するウイテッヒ又は変法ウイテッヒ試薬を反応させるこ
とによって達成され、本工程は、前記Ｃ法第18工程と同
様に行われる。
程で、化合物（XIX）に一般式（XXX）又は（XXXI）を有
するウイテッヒ又は変法ウイテッヒ試薬を反応させるこ
とによって達成され、本工程は、前記Ｃ法第18工程と同
様に行われる。
第20工程は、式（XXI）を有する化合物を製造する工
程で、化合物（XX）を加水分解又は加アルコール分解し
た後、水酸基を保護することによって達成され、本工程
は前記Ｃ法第12工程及び第13工程と同様に行われる。
程で、化合物（XX）を加水分解又は加アルコール分解し
た後、水酸基を保護することによって達成され、本工程
は前記Ｃ法第12工程及び第13工程と同様に行われる。
第21工程は、式（XXII）を有する化合物を製造する工
程で、化合物（XX）を還元剤又は一般式 （式中、Ｘは、前述したものと同意義を示し、R4 aは、C
1〜C4アルキル基を示す。） を有する化合物と反応させることによってそれぞれR4が
水素原子である化合物及びR4がC1〜C4のアルキル基であ
る化合物が製造される。
程で、化合物（XX）を還元剤又は一般式 （式中、Ｘは、前述したものと同意義を示し、R4 aは、C
1〜C4アルキル基を示す。） を有する化合物と反応させることによってそれぞれR4が
水素原子である化合物及びR4がC1〜C4のアルキル基であ
る化合物が製造される。
還元剤との反応は通常不活性溶剤中で行われる。
使用される還元剤としてはカルボニル基のみを水酸基
に変換する還元剤であれば特に限定はなく、例えば水素
化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、水素化ホ
ウ素リチウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化トリ−tert−
ブトキシアルミニウムリチウム、水素化トリメトキシア
ルミニウムリチウム、水素化シアノホウ素ナトリウムな
どの水素化金属化合物又はアルミニウムイソプロポキシ
ド、ジイソブチル−（2,6−ジ−ｔ−ブチル−４−メチ
ルフェノキシ）アルミニウムのようなアルミニウム化合
物をあげることができるが、好適には水素化ホウ素ナト
リウムである。
に変換する還元剤であれば特に限定はなく、例えば水素
化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、水素化ホ
ウ素リチウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化トリ−tert−
ブトキシアルミニウムリチウム、水素化トリメトキシア
ルミニウムリチウム、水素化シアノホウ素ナトリウムな
どの水素化金属化合物又はアルミニウムイソプロポキシ
ド、ジイソブチル−（2,6−ジ−ｔ−ブチル−４−メチ
ルフェノキシ）アルミニウムのようなアルミニウム化合
物をあげることができるが、好適には水素化ホウ素ナト
リウムである。
又、二重結合の還元を抑制するために、塩化セリウム
等を加えることもできる。
等を加えることもできる。
使用される不活性溶剤は反応に関与しなければ特に限
定されないが、還元剤との反応では、例えばメタノー
ル、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、
ｔ−ブタノールのようなアルコール類又はエーテル、エ
トラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類又は
これらの混合溶剤をあげることができるが、好適にはア
ルコール類、特にメタノールであり、化合物（XXXII）
との反応では、エーテル類である。
定されないが、還元剤との反応では、例えばメタノー
ル、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、
ｔ−ブタノールのようなアルコール類又はエーテル、エ
トラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類又は
これらの混合溶剤をあげることができるが、好適にはア
ルコール類、特にメタノールであり、化合物（XXXII）
との反応では、エーテル類である。
反応温度は通常０℃乃至室温であり、反応に要する時
間は反応試剤、反応温度等により異なるが10分間乃至２
時間である。
間は反応試剤、反応温度等により異なるが10分間乃至２
時間である。
反応終了後、本工程の目的化合物は常法に従って、反
応混合物から採取される。例えば反応終了後、溶剤を減
圧下で留去し、氷水を加えて水不混和性有機溶剤で抽出
し、有機溶剤を留去することによって得られる。
応混合物から採取される。例えば反応終了後、溶剤を減
圧下で留去し、氷水を加えて水不混和性有機溶剤で抽出
し、有機溶剤を留去することによって得られる。
第22工程は、式（XXIII）を有する化合物を製造する
工程で、化合物（XXI）を還元剤又は一般式（XXXII）を
有する化合物と反応させることによって達成され、本工
程は前記Ｃ法第21公定と同様に行われる。
工程で、化合物（XXI）を還元剤又は一般式（XXXII）を
有する化合物と反応させることによって達成され、本工
程は前記Ｃ法第21公定と同様に行われる。
第23工程は、式（XXIII）を有する化合物を製造する
工程で、化合物（XXII）を加水分解又は加アルコール分
解した後、水酸基を保護することによって達成され、本
工程は前記Ｃ法第12工程及び第13工程と同様に行われ
る。
工程で、化合物（XXII）を加水分解又は加アルコール分
解した後、水酸基を保護することによって達成され、本
工程は前記Ｃ法第12工程及び第13工程と同様に行われ
る。
第24工程は、式（XXIV）を有する化合物を製造する工
程で、化合物（XXII）の水酸基を保護することにより達
成される。尚、Ｙがハロゲン原子を示す場合には、水酸
基の保護化に先立って、所望により、ハロビニレン基を
エチニレン基に変換することができる。
程で、化合物（XXII）の水酸基を保護することにより達
成される。尚、Ｙがハロゲン原子を示す場合には、水酸
基の保護化に先立って、所望により、ハロビニレン基を
エチニレン基に変換することができる。
所望の工程である、ハロビニレン基をエチニレン基に
変換する反応は、不活性溶剤中、相当する化合物（XXI
I）を塩基と処理することによって達成される。
変換する反応は、不活性溶剤中、相当する化合物（XXI
I）を塩基と処理することによって達成される。
使用される塩基としては、例えば、ナトリウムメトキ
シド、カリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド、
ナトリウムｔ−ペントキシドのようなアルカリ金属アル
コキシド又は水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのよう
なアルカリ金属水酸化物をあげることができるが、好適
には、カリウムｔ−ブトキシド、ナトリウムｔ−ペント
キシド、水酸化カリウムのような強塩基である。
シド、カリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド、
ナトリウムｔ−ペントキシドのようなアルカリ金属アル
コキシド又は水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのよう
なアルカリ金属水酸化物をあげることができるが、好適
には、カリウムｔ−ブトキシド、ナトリウムｔ−ペント
キシド、水酸化カリウムのような強塩基である。
使用される不活性溶剤としては、反応に関与しなけれ
ば特に制限されないが、好適には、メタノール、エタノ
ール、ｔ−ブタノールのようなアルコール類又はエーテ
ル、テトラヒドロフランのようなエーテル類をあげるこ
とができる。
ば特に制限されないが、好適には、メタノール、エタノ
ール、ｔ−ブタノールのようなアルコール類又はエーテ
ル、テトラヒドロフランのようなエーテル類をあげるこ
とができる。
反応温度は、通常室温乃至溶剤の還流温度であり、反
応に要する時間は30分間乃至５時間である。
応に要する時間は30分間乃至５時間である。
反応終了後、目的化合物は常法に従って反応混合物か
ら採取される。例えば反応終了後、適宜溶剤を減圧で留
去するか、留去しないで反応混合物を氷水にあけ必要に
応じて中和して、次いで適当な有機溶剤を加えて抽出を
行ない、抽出液を水洗し乾燥した後、抽出液より溶剤を
留去することによって得られる。さらに必要に応じて、
常法、例えばシリカゲルカラムクロマトグラフィーによ
ってさらに精製することもできる。
ら採取される。例えば反応終了後、適宜溶剤を減圧で留
去するか、留去しないで反応混合物を氷水にあけ必要に
応じて中和して、次いで適当な有機溶剤を加えて抽出を
行ない、抽出液を水洗し乾燥した後、抽出液より溶剤を
留去することによって得られる。さらに必要に応じて、
常法、例えばシリカゲルカラムクロマトグラフィーによ
ってさらに精製することもできる。
水酸基の保護化は、前記Ｃ法第13工程と同様に行われ
る。
る。
さらに、R1 bがカルボキシ基の場合は、前記Ａ法第５
工程の相当する反応と同様にエステル化して保護するこ
ともでき、R1 bが保護されたカルボキシ基である場合に
は、化水分解等により保護基を除去した後、エステル化
等により他の保護基で保護することもできる。
工程の相当する反応と同様にエステル化して保護するこ
ともでき、R1 bが保護されたカルボキシ基である場合に
は、化水分解等により保護基を除去した後、エステル化
等により他の保護基で保護することもできる。
第25工程は、式（XXV）を有する化合物を製造する工
程で、化合物（XXIII）の水酸基を保護することにより
達成される。尚、Ｙがハロゲン原子を示す場合には、水
酸基の保護化に先立って、所望により、ハロビニレン基
をエチニレン基に変換することができる。本工程は前記
Ｃ法第24工程と同様に行われる。
程で、化合物（XXIII）の水酸基を保護することにより
達成される。尚、Ｙがハロゲン原子を示す場合には、水
酸基の保護化に先立って、所望により、ハロビニレン基
をエチニレン基に変換することができる。本工程は前記
Ｃ法第24工程と同様に行われる。
第26工程は、式（XXV）を有する化合物を製造する工
程で、化合物（XXIV）を加水分解又はアルコール分解し
た後、水酸基を保護することによって達成され、本工程
は前記Ｃ法第12工程及び第13工程と同様に行われる。
程で、化合物（XXIV）を加水分解又はアルコール分解し
た後、水酸基を保護することによって達成され、本工程
は前記Ｃ法第12工程及び第13工程と同様に行われる。
第27工程は、式（X a）を有する化合物を製造する工
程で、化合物（XXIV）のR7を除去後、加水分解又は加ア
ルコール分解するか、又は、R7の除去と加水分解又は加
アルコール分解を同時に行なうことによって達成され、
本工程は、前記Ａ法第３工程及び／又はＣ法第12工程と
同様に行われる。
程で、化合物（XXIV）のR7を除去後、加水分解又は加ア
ルコール分解するか、又は、R7の除去と加水分解又は加
アルコール分解を同時に行なうことによって達成され、
本工程は、前記Ａ法第３工程及び／又はＣ法第12工程と
同様に行われる。
第28工程は、化合物（X a）を製造する工程で、化合
物（XXV）のR7を除去することによって達成され、本工
程は、前記Ａ法第３工程と同様に行われる。
物（XXV）のR7を除去することによって達成され、本工
程は、前記Ａ法第３工程と同様に行われる。
このようにして得られる目的化合物が種々の幾何異性
体および光学異性体の混合物で得られる場合には、適当
な合成段階においてこれらの異性体を分離および分割す
ることができる。
体および光学異性体の混合物で得られる場合には、適当
な合成段階においてこれらの異性体を分離および分割す
ることができる。
in vitroにおける血小板凝集抑制作用 日本白ウサギより採血し、直ちに1/10容の3.8％クエ
ン酸ソーダと混合した。室温下に95gで15分間遠心し、
上層より多血小板血漿（PRP）を得た。残りの血液を100
0gにてさらに15分間遠心し、上層より乏血小板血漿（PP
P）を得た。PRPとPPPを適量混合し、PRPの最終血小板数
をμあたり60万個に調整した。血小板の凝集はボーン
らの方法（G.V.R Born J.Physiol.62,67−68（1962））
によりアグリコメーターを用い透過光の増加により測定
した。250μのPRPに被検薬溶液25μを加えて２分後
に25μのADPを添加し、その後５分間観察し凝集抑制
作用をみた。抑制率は検液のかわりに生理食塩液を用い
た場合の凝集に対して求め、用量反応曲線によりIC50を
算出した。
ン酸ソーダと混合した。室温下に95gで15分間遠心し、
上層より多血小板血漿（PRP）を得た。残りの血液を100
0gにてさらに15分間遠心し、上層より乏血小板血漿（PP
P）を得た。PRPとPPPを適量混合し、PRPの最終血小板数
をμあたり60万個に調整した。血小板の凝集はボーン
らの方法（G.V.R Born J.Physiol.62,67−68（1962））
によりアグリコメーターを用い透過光の増加により測定
した。250μのPRPに被検薬溶液25μを加えて２分後
に25μのADPを添加し、その後５分間観察し凝集抑制
作用をみた。抑制率は検液のかわりに生理食塩液を用い
た場合の凝集に対して求め、用量反応曲線によりIC50を
算出した。
ラットのエタノール潰瘍に対する予防効果 動物は、SD系雄性ラット（チャールスリバー社）体重
約180−200gのラットを約42時間絶食し使用した。ラッ
トは各被検化合物を経口投与し、１時間後に無水エタノ
ールを1ml経口投与し胃粘膜損傷を誘起させた。エタノ
ール投与１時間後にラットはドライアイスにより致死せ
しめ胃を摘出した。胃はホルマリンで固定後エタノール
誘発による胃粘膜上に形成された損傷面積（mm2）をVIP
（video image processor）にて測定し、各被検化合物
における胃粘膜損傷の抑制率を算出した。
約180−200gのラットを約42時間絶食し使用した。ラッ
トは各被検化合物を経口投与し、１時間後に無水エタノ
ールを1ml経口投与し胃粘膜損傷を誘起させた。エタノ
ール投与１時間後にラットはドライアイスにより致死せ
しめ胃を摘出した。胃はホルマリンで固定後エタノール
誘発による胃粘膜上に形成された損傷面積（mm2）をVIP
（video image processor）にて測定し、各被検化合物
における胃粘膜損傷の抑制率を算出した。
尚、公知化合物である６−オキソ体及び７−オキソ体
等のうち、より本願発明の化合物に近似する６−オキソ
体の下記の化合物を、対象化合物として使用した。
等のうち、より本願発明の化合物に近似する６−オキソ
体の下記の化合物を、対象化合物として使用した。
上記２つの試験の結果を表２にまとめた。
上記のように、本願発明化合物（Ｉ）及びその塩は、
優れた抗エタノール潰瘍作用を示し、且つ、医薬品とし
て実施する場合に、重大な副作用となる血小板凝集抑制
作用が、対象化合物である６−オキソ体化合物に比べ、
極めて弱いという特徴を有し、潰瘍の治療及び予防薬と
して極めて有用である。その投与形態としては、例え
ば、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤、シロップ剤若し
くは脂肪乳剤（リポゾーム製剤）等による経口投与又は
注射剤若しくは坐剤等による非経口投与を挙げることが
できる。これらの製剤は、賦形剤、結合剤、崩壊剤、滑
沢剤、安定剤、矯味矯臭剤等の添加剤を用いて周知の方
法で製造される。その使用量は症状、年齢、体重等によ
り異なるが、通常は成人に対して１日約0.0001mg乃至10
0mg、好適には１日約0.001mg乃至10mgであり、１日１回
又は数回に分けて投与することができる。
優れた抗エタノール潰瘍作用を示し、且つ、医薬品とし
て実施する場合に、重大な副作用となる血小板凝集抑制
作用が、対象化合物である６−オキソ体化合物に比べ、
極めて弱いという特徴を有し、潰瘍の治療及び予防薬と
して極めて有用である。その投与形態としては、例え
ば、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤、シロップ剤若し
くは脂肪乳剤（リポゾーム製剤）等による経口投与又は
注射剤若しくは坐剤等による非経口投与を挙げることが
できる。これらの製剤は、賦形剤、結合剤、崩壊剤、滑
沢剤、安定剤、矯味矯臭剤等の添加剤を用いて周知の方
法で製造される。その使用量は症状、年齢、体重等によ
り異なるが、通常は成人に対して１日約0.0001mg乃至10
0mg、好適には１日約0.001mg乃至10mgであり、１日１回
又は数回に分けて投与することができる。
次に実施例をあげて、本発明を更に具体的に説明す
る。
る。
実施例１ ５−オキソ−16−フエノキシ−17,18,19,20−テトラノ
ルプロスタグラジンE1メチルエステル （ａ） １α−ヒドロキシ−２α−（６−カルボキシ−２（Ｚ）
−ヘキセニル）−３β−ジメチル−ｔ−ブチルシリルオ
キシメチル−４α−（２−テトラヒドロピラニル）オキ
シシクロペンタン １α−ヒドロキシ−２α−（６−メトキシカルボニル
−２（Ｚ）−ヘキセニル）−３β−ジメチル−ｔ−ブチ
ルシリルオキシメチル−４α−（テトラヒドロピラン−
２−イル）オキシシクロペンタン10.0gのメタノール溶
液（500ml）及び５％水酸化ナトリウム水（250ml）の混
合物を室温で1.5時間撹拌した。反応液に冷却下濃塩酸
を加え中和したのち、減圧下に溶媒を留去する。氷水を
加え濃塩酸で弱酸性として酢酸エチルエステルで抽出す
る。抽出液を食塩水で洗滌したのち、硫酸ナトリウムと
共に乾燥した。溶媒を留去すると8.67gの油状の標記化
合物が得られた。
ルプロスタグラジンE1メチルエステル （ａ） １α−ヒドロキシ−２α−（６−カルボキシ−２（Ｚ）
−ヘキセニル）−３β−ジメチル−ｔ−ブチルシリルオ
キシメチル−４α−（２−テトラヒドロピラニル）オキ
シシクロペンタン １α−ヒドロキシ−２α−（６−メトキシカルボニル
−２（Ｚ）−ヘキセニル）−３β−ジメチル−ｔ−ブチ
ルシリルオキシメチル−４α−（テトラヒドロピラン−
２−イル）オキシシクロペンタン10.0gのメタノール溶
液（500ml）及び５％水酸化ナトリウム水（250ml）の混
合物を室温で1.5時間撹拌した。反応液に冷却下濃塩酸
を加え中和したのち、減圧下に溶媒を留去する。氷水を
加え濃塩酸で弱酸性として酢酸エチルエステルで抽出す
る。抽出液を食塩水で洗滌したのち、硫酸ナトリウムと
共に乾燥した。溶媒を留去すると8.67gの油状の標記化
合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;3450,1708,1030cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;0.89（9H,s）,4.70（1H,b
r.s）,5.45（2H,m） （ｂ） １α−アセトキシ−２α−（６−カルボキシ−２（Ｚ）
−ヘキセニル）−３β−ジメチル−ｔ−ブチルシリルオ
キシメチル−４α−（２−テトラヒドロピラニルオキ
シ）シクロペンタン ヒドロキシ体（実施例１（ａ）の化合物;8.64g）のピ
リジン溶液（20ml）に無水酢酸（10ml）を加え、次いで
触媒量の４−ジメチルアミノピリジンを加え、０℃で10
0時間放置した。反応液に水（10ml）を加え30分間室温
で撹拌したのち、氷水にあけ３％塩酸で酸性として酢酸
エチルエステルで抽出する。抽出液を食塩水で洗滌した
のち硫酸ナトリウムと共に乾燥する。溶媒を留去し残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフイーで精製する。20
〜45％酢酸エチル含有ヘキサン流出部より8.23gの油状
の目的化合物が得られた。
r.s）,5.45（2H,m） （ｂ） １α−アセトキシ−２α−（６−カルボキシ−２（Ｚ）
−ヘキセニル）−３β−ジメチル−ｔ−ブチルシリルオ
キシメチル−４α−（２−テトラヒドロピラニルオキ
シ）シクロペンタン ヒドロキシ体（実施例１（ａ）の化合物;8.64g）のピ
リジン溶液（20ml）に無水酢酸（10ml）を加え、次いで
触媒量の４−ジメチルアミノピリジンを加え、０℃で10
0時間放置した。反応液に水（10ml）を加え30分間室温
で撹拌したのち、氷水にあけ３％塩酸で酸性として酢酸
エチルエステルで抽出する。抽出液を食塩水で洗滌した
のち硫酸ナトリウムと共に乾燥する。溶媒を留去し残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフイーで精製する。20
〜45％酢酸エチル含有ヘキサン流出部より8.23gの油状
の目的化合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;1742,1718,1252,1022cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;0.90（9H,s）,2.02（3H,
s）,4.65（1H,br.s）,5.08（1H,m）,5.45（2H,m）。
s）,4.65（1H,br.s）,5.08（1H,m）,5.45（2H,m）。
（ｃ） １α−アセトキシ−２α−〔２−ヨード−２（６−オキ
ソテトラヒドロピラン−２−イル）エチル〕−３β−ジ
メチル−ｔ−ブチルシリルオキシメチル−４α−（テト
ラヒドロピラン−２−イルオキシ）シクロペンタン カルボン酸（実施例１（ｂ）の化合物）;7.21g）のイ
ソプロパノール溶液（47.6ml）に0.5規定炭酸水素ナト
リウム溶液47.6mlを室温で加え、10分間撹拌する。反応
混合液に沃素−沃化カリウム溶液（沃素（11.01g）、沃
化カリウム（21.60g），水（65.0ml）から調製）を加え
た後、30〜38℃で２時間撹拌する。反応液を10％チオ硫
酸ナトリウム溶液（W/V:700ml）にあけ酢酸エチルで抽
出する。抽出液を食塩水で洗滌後、硫酸ナトリウムで乾
燥する。溶媒を留去すると油状の目的物（8.97g）が２
つの異性体の混合物として得られた。
ソテトラヒドロピラン−２−イル）エチル〕−３β−ジ
メチル−ｔ−ブチルシリルオキシメチル−４α−（テト
ラヒドロピラン−２−イルオキシ）シクロペンタン カルボン酸（実施例１（ｂ）の化合物）;7.21g）のイ
ソプロパノール溶液（47.6ml）に0.5規定炭酸水素ナト
リウム溶液47.6mlを室温で加え、10分間撹拌する。反応
混合液に沃素−沃化カリウム溶液（沃素（11.01g）、沃
化カリウム（21.60g），水（65.0ml）から調製）を加え
た後、30〜38℃で２時間撹拌する。反応液を10％チオ硫
酸ナトリウム溶液（W/V:700ml）にあけ酢酸エチルで抽
出する。抽出液を食塩水で洗滌後、硫酸ナトリウムで乾
燥する。溶媒を留去すると油状の目的物（8.97g）が２
つの異性体の混合物として得られた。
IRスペクトル（液膜状）;1740,1242,1022cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;0.91（9H,s）,2.09（3H,
s）,4.60（1H,br.s）,5.18（1H,m） （ｄ） １α−アセトキシ−２α−〔２−（６−オキソテトラヒ
ドロピラン−２−イル）エチル〕−３β−ジメチル−ｔ
−ブチルシリルオキシメチル−４α−（テトラヒドロピ
ラン−２−イルオキシ）シクロペンタン ヨード体（実施例１（ｃ）の化合物;8.94g）のベンゼ
ン溶液（180ml）に水素加トリブチルスズ（5.70ml）と
触媒量のα，α′−アゾビスジイソブチロニトリルを加
え、40℃に加温し20分間撹拌する。反応液を飽和炭酸水
素ナトリウム溶液で稀釈し酢酸エチルで抽出する。抽出
液を食塩水で洗滌したのち、硫酸ナトリウムと共に乾燥
する。溶媒を留去し残渣をシリカゲルクロマトグラフイ
ーで精製する。25〜35％酢酸エチル含有ヘキサン流出部
より5.83gの油状の目的物が得られた。
s）,4.60（1H,br.s）,5.18（1H,m） （ｄ） １α−アセトキシ−２α−〔２−（６−オキソテトラヒ
ドロピラン−２−イル）エチル〕−３β−ジメチル−ｔ
−ブチルシリルオキシメチル−４α−（テトラヒドロピ
ラン−２−イルオキシ）シクロペンタン ヨード体（実施例１（ｃ）の化合物;8.94g）のベンゼ
ン溶液（180ml）に水素加トリブチルスズ（5.70ml）と
触媒量のα，α′−アゾビスジイソブチロニトリルを加
え、40℃に加温し20分間撹拌する。反応液を飽和炭酸水
素ナトリウム溶液で稀釈し酢酸エチルで抽出する。抽出
液を食塩水で洗滌したのち、硫酸ナトリウムと共に乾燥
する。溶媒を留去し残渣をシリカゲルクロマトグラフイ
ーで精製する。25〜35％酢酸エチル含有ヘキサン流出部
より5.83gの油状の目的物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;1740,1250,1024cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;0.90（9H,s）,4.62（1H,b
r.s）,5.15（1H,m） （ｅ） １α−ヒドロキシ−２α−（３−ヒドロキシ−６−メト
キシカルボニルヘキシル）−３β−ジメチル−ｔ−ブチ
ルシリルオキシメチル−４α−（テトラヒドロピラン−
２−イルオキシ）シクロペンタン アセチル体（実施例１（ｄ）の化合物;6.67g）のメタ
ノール溶液（200ml）に無水炭酸カリウム3.80gを加え、
室温で20時間撹拌する。反応液を氷水にあけ、塩酸で酸
性として酢酸エチルで抽出する。抽出液を食塩水で洗滌
後、溶媒を留去する。残渣をエーテルに溶解し、一部加
水分解されたものをジアゾメタンでエステル化する。溶
媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフイーで精
製する。45〜90％酢酸エチル含有ヘキサン流出部より5.
15gの油状の目的化合物が２つの異性体の混合物として
得られた。
r.s）,5.15（1H,m） （ｅ） １α−ヒドロキシ−２α−（３−ヒドロキシ−６−メト
キシカルボニルヘキシル）−３β−ジメチル−ｔ−ブチ
ルシリルオキシメチル−４α−（テトラヒドロピラン−
２−イルオキシ）シクロペンタン アセチル体（実施例１（ｄ）の化合物;6.67g）のメタ
ノール溶液（200ml）に無水炭酸カリウム3.80gを加え、
室温で20時間撹拌する。反応液を氷水にあけ、塩酸で酸
性として酢酸エチルで抽出する。抽出液を食塩水で洗滌
後、溶媒を留去する。残渣をエーテルに溶解し、一部加
水分解されたものをジアゾメタンでエステル化する。溶
媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフイーで精
製する。45〜90％酢酸エチル含有ヘキサン流出部より5.
15gの油状の目的化合物が２つの異性体の混合物として
得られた。
IRスペクトル（液膜状）;3450,1746,1258,1022cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;0.90（9H,s）,3.68（3H,
s）,4.70（1H,br.s） （ｆ） １α−アセトキシ−２α−（３−アセトキシ−６−メト
キシカルボニルヘキシル）−３β−ジメチル−ｔ−ブチ
ルシリルオキシメチル−４α−（テトラヒドロピラン−
２−イルオキシ）シクロペンタン ヒドロキシ体（実施例１（ｅ）の化合物;5.14g）をピ
リジン（12ml）に溶解し、無水酢酸12mlを加え室温で７
時間、０℃で15時間放置する。反応終了後、水を加え、
次いで氷冷塩酸水を加えて酢酸エチルで抽出する。抽出
液を食塩水で洗滌したのち、硫酸ナトリウムと共に乾燥
する。溶媒を留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフイーで精製する。18〜26％酢酸エチル含有ヘキサン
流出部より5.49gの油状の目的化合物が得られた。
s）,4.70（1H,br.s） （ｆ） １α−アセトキシ−２α−（３−アセトキシ−６−メト
キシカルボニルヘキシル）−３β−ジメチル−ｔ−ブチ
ルシリルオキシメチル−４α−（テトラヒドロピラン−
２−イルオキシ）シクロペンタン ヒドロキシ体（実施例１（ｅ）の化合物;5.14g）をピ
リジン（12ml）に溶解し、無水酢酸12mlを加え室温で７
時間、０℃で15時間放置する。反応終了後、水を加え、
次いで氷冷塩酸水を加えて酢酸エチルで抽出する。抽出
液を食塩水で洗滌したのち、硫酸ナトリウムと共に乾燥
する。溶媒を留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフイーで精製する。18〜26％酢酸エチル含有ヘキサン
流出部より5.49gの油状の目的化合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;1742,1248,1020cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;0.90（9H,s）,2.04（6H,
s）,3.68（3H,s）,4.62（1H,br.s）,4.85（1H,m）,5.10
（1H,m） （ｇ） １α−アセトキシ−２α−（３−アセトキシ−６−メト
キシカルボニルヘキシル）−３β−ヒドロキシメチル−
４α−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）シクロ
ペンタン シリル体（実施例１（ｆ）の化合物;5.47g）のテトラ
ヒドロフラン溶液（110ml）に1Mテトラブチルアンモニ
ウムフルオリドのテトラヒドロフラン溶液（23.9ml）を
加え、室温で３時間撹拌する。反応液を食塩水にあけ酢
酸エチルで抽出する。抽出液を食塩水で洗滌後、硫酸ナ
トリウムと共に乾燥する。溶媒を留去し残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフイーで精製する。50〜80％酢酸
エチル含有ヘキサン流出部より4.29gの油状の目的化合
物が得られた。
s）,3.68（3H,s）,4.62（1H,br.s）,4.85（1H,m）,5.10
（1H,m） （ｇ） １α−アセトキシ−２α−（３−アセトキシ−６−メト
キシカルボニルヘキシル）−３β−ヒドロキシメチル−
４α−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）シクロ
ペンタン シリル体（実施例１（ｆ）の化合物;5.47g）のテトラ
ヒドロフラン溶液（110ml）に1Mテトラブチルアンモニ
ウムフルオリドのテトラヒドロフラン溶液（23.9ml）を
加え、室温で３時間撹拌する。反応液を食塩水にあけ酢
酸エチルで抽出する。抽出液を食塩水で洗滌後、硫酸ナ
トリウムと共に乾燥する。溶媒を留去し残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフイーで精製する。50〜80％酢酸
エチル含有ヘキサン流出部より4.29gの油状の目的化合
物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;3450,1732,1374,1240,1018cm
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;2.06（6H,s）,3.68（3H,
s）,4.4〜5.0（2H,m）,5.10（1H,m） （ｈ） １α−アセトキシ−２α−（３−アセトキシ−６−メト
キシカルボニルヘキシル）−３β−ホルミル−４α−
（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）シクロペンタ
ン アルコール体（実施例１（ｇ）の化合物;1.09g）をジ
メチルスルホキシド（10ml）に溶解し、トリエチルアミ
ン（6.1ml）を加えた。反応混合物に撹拌下ピリジン・
無水硫酸複合体（7.4g）のジメチルスルホキシド溶液
（5ml）を室温で加え、20分撹拌した。反応液を氷水に
あけ、酢酸エチルで抽出する。抽出液を食塩水、氷を含
んだ２％塩酸次いで食塩水で順次洗滌し、硫酸ナトリウ
ムと共に乾燥する。溶媒を留去すると油状の粗目的化合
物（1.03g）が得られた。
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;2.06（6H,s）,3.68（3H,
s）,4.4〜5.0（2H,m）,5.10（1H,m） （ｈ） １α−アセトキシ−２α−（３−アセトキシ−６−メト
キシカルボニルヘキシル）−３β−ホルミル−４α−
（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）シクロペンタ
ン アルコール体（実施例１（ｇ）の化合物;1.09g）をジ
メチルスルホキシド（10ml）に溶解し、トリエチルアミ
ン（6.1ml）を加えた。反応混合物に撹拌下ピリジン・
無水硫酸複合体（7.4g）のジメチルスルホキシド溶液
（5ml）を室温で加え、20分撹拌した。反応液を氷水に
あけ、酢酸エチルで抽出する。抽出液を食塩水、氷を含
んだ２％塩酸次いで食塩水で順次洗滌し、硫酸ナトリウ
ムと共に乾燥する。溶媒を留去すると油状の粗目的化合
物（1.03g）が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;2700,1730,1240,1020cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;2.03（3H,s）,2.07（3H,
s）,3.68（3H,s）,5.15（1H,m）,9.82（1H,m） （ｉ） 5,9α−ジアセトキシ−11α−（テトラヒドロピラ−２
−イルオキシ）−15−オキソ−16−フエノキシ−17,18,
19,20−テトラノルプロスト−13（Ｅ）−エン酸メチル
エステル 0.29gの55％油性水素化ナトリウムをヘキサンで洗滌
し、テトラヒドロフラン（45ml）に懸濁する。氷冷下、
ジメチル２−オキソ−３−フエノキシプロピルホスホネ
ート（2.54g）を加えたのち、室温で１時間撹拌する。
氷冷下、アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.34
g）のテトラヒドロフラン溶液（15ml）を加える。反応
液を２時間加熱還流したのち、冷却し、氷水で稀釈し、
濃塩酸で酸性として酢酸エチルで抽出する。抽出液を食
塩水で洗滌したのち、硫酸ナトリウムと共に乾燥する。
溶媒を留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイ
ーで精製する。30〜40％酢酸エチル含有ヘキサン流出部
より1.35gの油状の目的化合物が得られた。
s）,3.68（3H,s）,5.15（1H,m）,9.82（1H,m） （ｉ） 5,9α−ジアセトキシ−11α−（テトラヒドロピラ−２
−イルオキシ）−15−オキソ−16−フエノキシ−17,18,
19,20−テトラノルプロスト−13（Ｅ）−エン酸メチル
エステル 0.29gの55％油性水素化ナトリウムをヘキサンで洗滌
し、テトラヒドロフラン（45ml）に懸濁する。氷冷下、
ジメチル２−オキソ−３−フエノキシプロピルホスホネ
ート（2.54g）を加えたのち、室温で１時間撹拌する。
氷冷下、アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.34
g）のテトラヒドロフラン溶液（15ml）を加える。反応
液を２時間加熱還流したのち、冷却し、氷水で稀釈し、
濃塩酸で酸性として酢酸エチルで抽出する。抽出液を食
塩水で洗滌したのち、硫酸ナトリウムと共に乾燥する。
溶媒を留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイ
ーで精製する。30〜40％酢酸エチル含有ヘキサン流出部
より1.35gの油状の目的化合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;1738,1696,1624,1602,1592,12
42cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;2.00（3H,s）,2.07（3H,
s）,3.67（3H,s）,4.3〜5.3（5H,m）,6.3〜7.5（7H,m） （ｊ） 5.9α−ジアセトキシ−11α−（テトラヒドロピラン−
２−イルオキシ）−15α−ヒドロキシ−16−フエノキシ
−17,18,19,20−テトラノルプロスト−13（Ｅ）−エン
酸メチルエステル及びその15β−異性体 塩化セリウム・７水和物（850mg）のメタノール溶液
（8ml）に氷冷下、エノン体（実施例１（ｉ）の化合物;
1.33g）のメタノール溶液（12.0ml）を加える。次いで
水素化ホウ素ナトリウム（85mg）を内温−５−１℃にて
加え、15分間撹拌する。反応液を氷水に稀釈し、酢酸エ
チルで抽出する。抽出液を水洗後、硫酸ナトリウムと共
に乾燥する。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフイーで精製する。50％酢酸エチル含有ヘキ
サンで流出させるとより極性の低い部分より520mgの15
β−異性体およびより極性の高い部分より420mgの15α
−異性体が得られた。
42cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;2.00（3H,s）,2.07（3H,
s）,3.67（3H,s）,4.3〜5.3（5H,m）,6.3〜7.5（7H,m） （ｊ） 5.9α−ジアセトキシ−11α−（テトラヒドロピラン−
２−イルオキシ）−15α−ヒドロキシ−16−フエノキシ
−17,18,19,20−テトラノルプロスト−13（Ｅ）−エン
酸メチルエステル及びその15β−異性体 塩化セリウム・７水和物（850mg）のメタノール溶液
（8ml）に氷冷下、エノン体（実施例１（ｉ）の化合物;
1.33g）のメタノール溶液（12.0ml）を加える。次いで
水素化ホウ素ナトリウム（85mg）を内温−５−１℃にて
加え、15分間撹拌する。反応液を氷水に稀釈し、酢酸エ
チルで抽出する。抽出液を水洗後、硫酸ナトリウムと共
に乾燥する。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフイーで精製する。50％酢酸エチル含有ヘキ
サンで流出させるとより極性の低い部分より520mgの15
β−異性体およびより極性の高い部分より420mgの15α
−異性体が得られた。
15α−異性体： IRスペクトル（液膜状）;3460,1734,1600,1588,1242cm
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;2.00（3H,s）,2.06（3H,
s）,3.67（3H,s）,5.12（1H,m）,5.72（2H,m）,6.8〜7.
5（5H,m） 15β−異性体： IRスペクトル（液膜状）;3460,1736,1602,1588,1242cm
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;2.01（3H,s）,2.05（3H,
s）,3.68（3H,s）,5.13（1H,m）,5.63（2H,m）,6.8〜7.
5（5H,m） （ｋ） 5,9α−ジアセトキシ−11α,15α−ジ（テトラヒドロピ
ラン−２−イルオキシ）−16−フエノキシ−17,18,19,2
0−テトラノルプロスト−13（Ｅ）−エン酸メチルエス
テル 15α−アルコール体（実施例１（ｊ）の化合物;400m
g）のメチレンクロリド溶液（2ml）にジヒドロピラン
（0.1ml）および触媒量のｐ−トルエンスルホン酸を加
え、室温で20分放置する。反応終了後、酢酸エチルを加
え水洗したのち、硫酸ナトリウムと共に乾燥する。溶媒
を留去すると0.48gの油状の目的化合物が得られた。
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;2.00（3H,s）,2.06（3H,
s）,3.67（3H,s）,5.12（1H,m）,5.72（2H,m）,6.8〜7.
5（5H,m） 15β−異性体： IRスペクトル（液膜状）;3460,1736,1602,1588,1242cm
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;2.01（3H,s）,2.05（3H,
s）,3.68（3H,s）,5.13（1H,m）,5.63（2H,m）,6.8〜7.
5（5H,m） （ｋ） 5,9α−ジアセトキシ−11α,15α−ジ（テトラヒドロピ
ラン−２−イルオキシ）−16−フエノキシ−17,18,19,2
0−テトラノルプロスト−13（Ｅ）−エン酸メチルエス
テル 15α−アルコール体（実施例１（ｊ）の化合物;400m
g）のメチレンクロリド溶液（2ml）にジヒドロピラン
（0.1ml）および触媒量のｐ−トルエンスルホン酸を加
え、室温で20分放置する。反応終了後、酢酸エチルを加
え水洗したのち、硫酸ナトリウムと共に乾燥する。溶媒
を留去すると0.48gの油状の目的化合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;1738,1600,1588,1242,1033cm
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;1.95,1.97（3H,2ピー
ク）,2.03（3H,s）,3.65（3H,s）,5.15（1H,m）,5.65
（2H,m）,6.8〜7.5（5H,m） （ｌ） 5,9α−ジヒドロキシ−11α,15α−ジ（テトラヒドロピ
ラン−２−イルオキシ）−16−フエノキシ−17,18,19,2
0−テトラノルプロスト−13（Ｅ）−エン酸メチルエス
テル アセチル体（実施例１（ｋ）の化合物;460mg）のメタ
ノール溶液（9.2ml）に無水炭酸カリウム（190mg）を加
え、40℃で加熱撹拌する。２時間後、反応液を氷水で稀
釈し濃塩酸で中和したのち、酢酸エチルで抽出する。抽
出液を食塩水で洗滌し硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒
を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー
で精製する。60〜90％酢酸エチル含有ヘキサン流出部よ
り337mgの目的物が油状物として得られた。
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;1.95,1.97（3H,2ピー
ク）,2.03（3H,s）,3.65（3H,s）,5.15（1H,m）,5.65
（2H,m）,6.8〜7.5（5H,m） （ｌ） 5,9α−ジヒドロキシ−11α,15α−ジ（テトラヒドロピ
ラン−２−イルオキシ）−16−フエノキシ−17,18,19,2
0−テトラノルプロスト−13（Ｅ）−エン酸メチルエス
テル アセチル体（実施例１（ｋ）の化合物;460mg）のメタ
ノール溶液（9.2ml）に無水炭酸カリウム（190mg）を加
え、40℃で加熱撹拌する。２時間後、反応液を氷水で稀
釈し濃塩酸で中和したのち、酢酸エチルで抽出する。抽
出液を食塩水で洗滌し硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒
を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー
で精製する。60〜90％酢酸エチル含有ヘキサン流出部よ
り337mgの目的物が油状物として得られた。
IRスペクトル（液膜状）;3450,1738,1600,1588,1018cm
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.66（3H,s）,5.2〜5.9
（2H,m）,6.8〜7.5（5H,m） （ｍ） ５−オキソ−16−フエノキシ−17,18,19,20−テトラノ
ルプロスタグランジンE111,15−ジ（テトラヒドロピラ
ン−２−イル）エーテルメチルエステル 修酸ジクロリド（0.52ml）のメチレンクロリド溶液
（8ml）に−65℃で、ジメチルスルホキシド（0.85ml）
のメチレンクロリド溶液（1.6ml）を加える。次いでヒ
ドロキシ体（実施例１（ｌ）の化合物;320mg）のメチレ
ンクロリド溶液（3.2ml）を−65−−55℃で加え、15分
撹拌する。反応液に−70−−60℃でトリエチルアミン
（3.77ml）を加え室温で約30分撹拌する。食塩水で稀釈
し、酢酸エチルで抽出する。抽出液を食塩水、冷却した
２％塩酸、食塩水で洗滌したのち、硫酸ナトリウムと共
に乾燥する。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフイーで精製する。24〜40％酢酸エチル含有
ヘキサン流出部より264mgの油状の目的化合物が得られ
た。
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.66（3H,s）,5.2〜5.9
（2H,m）,6.8〜7.5（5H,m） （ｍ） ５−オキソ−16−フエノキシ−17,18,19,20−テトラノ
ルプロスタグランジンE111,15−ジ（テトラヒドロピラ
ン−２−イル）エーテルメチルエステル 修酸ジクロリド（0.52ml）のメチレンクロリド溶液
（8ml）に−65℃で、ジメチルスルホキシド（0.85ml）
のメチレンクロリド溶液（1.6ml）を加える。次いでヒ
ドロキシ体（実施例１（ｌ）の化合物;320mg）のメチレ
ンクロリド溶液（3.2ml）を−65−−55℃で加え、15分
撹拌する。反応液に−70−−60℃でトリエチルアミン
（3.77ml）を加え室温で約30分撹拌する。食塩水で稀釈
し、酢酸エチルで抽出する。抽出液を食塩水、冷却した
２％塩酸、食塩水で洗滌したのち、硫酸ナトリウムと共
に乾燥する。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフイーで精製する。24〜40％酢酸エチル含有
ヘキサン流出部より264mgの油状の目的化合物が得られ
た。
IRスペクトル（液膜状）;1738,1712,1600,1583,1028cm
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.65（3H,s）,5.6〜6.1
（2H,m）,6.8〜7.5（5H,m） （ｎ） ５−オキソ−16−フエノキシ−17,18,19,20−テトラノ
ルプロスタグランジンE1メチルエステル ピラニル体（実施例１（ｍ）の化合物;250mg）のテト
ラヒドロフラン溶液（1.0ml）に酢酸（2.5ml）と水（6.
8ml）を加え40℃に加熱し、３時間撹拌する。その間水3
3mlを追加した。反応終了後、反応液を食塩水に稀釈し
酢酸エチルで抽出する。抽出液を食塩水で洗滌後、硫酸
ナトリウムと共に乾燥する。溶媒を留去し残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイーで精製する。65〜90％酢
酸エチル含有ヘキサン流出部より134mgの油状の目的化
合物が得られた。
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.65（3H,s）,5.6〜6.1
（2H,m）,6.8〜7.5（5H,m） （ｎ） ５−オキソ−16−フエノキシ−17,18,19,20−テトラノ
ルプロスタグランジンE1メチルエステル ピラニル体（実施例１（ｍ）の化合物;250mg）のテト
ラヒドロフラン溶液（1.0ml）に酢酸（2.5ml）と水（6.
8ml）を加え40℃に加熱し、３時間撹拌する。その間水3
3mlを追加した。反応終了後、反応液を食塩水に稀釈し
酢酸エチルで抽出する。抽出液を食塩水で洗滌後、硫酸
ナトリウムと共に乾燥する。溶媒を留去し残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイーで精製する。65〜90％酢
酸エチル含有ヘキサン流出部より134mgの油状の目的化
合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;3400,1736,1720（sh）,1598,1
584,1240,970cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.63（3H,s）,5.77（2H,
m）,6.7〜7.5（5H,m） 実施例２ ５−オキソ−16,16−ジメチルプロスタグランジンE1メ
チルエステルおよびその15R−異性体 （ａ） 5,9α−ジアセトキシ−11α−（テトラヒドロピラン−
２−イルオキシ）−15−オキソ−16,16−ジメチルプロ
スト−13（Ｅ）−エン酸メチルエステル 0.12gの55％油性水素化ナトリウムをヘキサンで洗滌
し、テトラヒドロフラン（30ml）に懸濁する。氷冷下ジ
メチル２−オキソ−3,3−ジメチルヘプチルホスホネー
ト820mgを加えたのち、室温で１時間撹拌する。氷冷下
アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;960mg）のテト
ラヒドロフラン溶液（10ml）を加え、10℃で３時間撹拌
する。反応終了後、実施例１（ｉ）と同様に処理すると
1.12gの油状の目的化合物が得られた。
584,1240,970cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.63（3H,s）,5.77（2H,
m）,6.7〜7.5（5H,m） 実施例２ ５−オキソ−16,16−ジメチルプロスタグランジンE1メ
チルエステルおよびその15R−異性体 （ａ） 5,9α−ジアセトキシ−11α−（テトラヒドロピラン−
２−イルオキシ）−15−オキソ−16,16−ジメチルプロ
スト−13（Ｅ）−エン酸メチルエステル 0.12gの55％油性水素化ナトリウムをヘキサンで洗滌
し、テトラヒドロフラン（30ml）に懸濁する。氷冷下ジ
メチル２−オキソ−3,3−ジメチルヘプチルホスホネー
ト820mgを加えたのち、室温で１時間撹拌する。氷冷下
アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;960mg）のテト
ラヒドロフラン溶液（10ml）を加え、10℃で３時間撹拌
する。反応終了後、実施例１（ｉ）と同様に処理すると
1.12gの油状の目的化合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;1738,1692,1626,1240,1020cm
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;1.13（6H,s）,2.01（3H,
s）,2.07（3H,s）,3.68（3H,s）,4.55（1H,m）,4.70（1
H,m）,5.15（1H,m）,6.72（2H,m） （ｂ） 5.9α−ジアセトキシ−11α−（テトラヒドロピラン−
２−イルオキシ）−15−ヒドロキシ−16,16−ジメチル
プロスト−13（Ｅ）−エン酸メチルエステル ケトン体（実施例２（ａ）の化合物;1.10g）および水
素化ホウ素ナトリウムを用い実施例１（ｊ）と同様に反
応、処理すると、1.03gの油状の目的化合物が得られ
た。
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;1.13（6H,s）,2.01（3H,
s）,2.07（3H,s）,3.68（3H,s）,4.55（1H,m）,4.70（1
H,m）,5.15（1H,m）,6.72（2H,m） （ｂ） 5.9α−ジアセトキシ−11α−（テトラヒドロピラン−
２−イルオキシ）−15−ヒドロキシ−16,16−ジメチル
プロスト−13（Ｅ）−エン酸メチルエステル ケトン体（実施例２（ａ）の化合物;1.10g）および水
素化ホウ素ナトリウムを用い実施例１（ｊ）と同様に反
応、処理すると、1.03gの油状の目的化合物が得られ
た。
IRスペクトル（液膜状）;3530,1740,1242,1020cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;0.82（3H,s）,0.86（3H,
s）,2.00（3H,s）,2.05（3H,s）,3.66（3H,s）,5.15（1
H,m）,5.62（2H,m） （ｃ） 5.9α−ジアセトキシ−11α,15−ジ（テトラヒドロピラ
ン−２−イルオキシ）−16,16−ジメチルプロスト−13
（Ｅ）−エン酸メチルエステル アルコール体（実施例２（ｂ）の化合物;1.01g）およ
びジヒドロピランを用い実施例１（ｋ）と同様に反応、
処理すると、1.22gの油状の目的化合物が得られた。
s）,2.00（3H,s）,2.05（3H,s）,3.66（3H,s）,5.15（1
H,m）,5.62（2H,m） （ｃ） 5.9α−ジアセトキシ−11α,15−ジ（テトラヒドロピラ
ン−２−イルオキシ）−16,16−ジメチルプロスト−13
（Ｅ）−エン酸メチルエステル アルコール体（実施例２（ｂ）の化合物;1.01g）およ
びジヒドロピランを用い実施例１（ｋ）と同様に反応、
処理すると、1.22gの油状の目的化合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;1740,1242,1020cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;0.85（3H,s）,0.90（3H,
s）,2.01（3H,s）,2.05（3H,s）,3.66（3H,s）,5.45（2
H,m） （ｄ） 5.9α−ジヒドロキシ−11α,15−ジ（テトラヒドロピラ
ン−２−イルオキシ）−16,16−ジメチルプロスト−13
（Ｅ）−エン酸メチルエステル アセチル体（実施例２（ｃ）の化合物;1.20g）および
炭酸カリウムを用い実施例１（ｌ）と同様に反応、処理
すると、872mgの油状の目的化合物が得られた。
s）,2.01（3H,s）,2.05（3H,s）,3.66（3H,s）,5.45（2
H,m） （ｄ） 5.9α−ジヒドロキシ−11α,15−ジ（テトラヒドロピラ
ン−２−イルオキシ）−16,16−ジメチルプロスト−13
（Ｅ）−エン酸メチルエステル アセチル体（実施例２（ｃ）の化合物;1.20g）および
炭酸カリウムを用い実施例１（ｌ）と同様に反応、処理
すると、872mgの油状の目的化合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;3420,1740,1016cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.67（3H,s）,4.68（2H,b
r.s）,5.45（2H,m） （ｅ） ５−オキソ−16,16−ジメチルプロスタグランジンE111,
15−ジ（テトラヒドロピラン−２−イル）エーテルメチ
ルエステルと15R−異性体との混合物 アルコール体（実施例２（ｄ）の化合物;850mg）、修
酸ジクロリドおよびメチルスルホキシドを用い実施例１
（ｍ）と同様に反応、処理すると、526mgの油状の目的
化合物が得られた。
r.s）,5.45（2H,m） （ｅ） ５−オキソ−16,16−ジメチルプロスタグランジンE111,
15−ジ（テトラヒドロピラン−２−イル）エーテルメチ
ルエステルと15R−異性体との混合物 アルコール体（実施例２（ｄ）の化合物;850mg）、修
酸ジクロリドおよびメチルスルホキシドを用い実施例１
（ｍ）と同様に反応、処理すると、526mgの油状の目的
化合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;1746,1718,1022,978cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;0.7〜1.1（9H,m）,3.67
（3H,s）,4.68（2H,br.s）,5.55（2H,m） （ｆ） ５−オキソ−16,16−ジメチルプロスタグランジンE1メ
チルエステルおよびその15R−異性体 ケトン体（実施例２（ｅ）の化合物;520mg）および酢
酸を用い実施例１（ｎ）と同様に反応、処理すると、よ
り極性の低い部分より64mgの油状の15R異性体、次いで
より極性の高い部分より融点60−65℃を有する72mgの目
的化合物が得られた。
（3H,s）,4.68（2H,br.s）,5.55（2H,m） （ｆ） ５−オキソ−16,16−ジメチルプロスタグランジンE1メ
チルエステルおよびその15R−異性体 ケトン体（実施例２（ｅ）の化合物;520mg）および酢
酸を用い実施例１（ｎ）と同様に反応、処理すると、よ
り極性の低い部分より64mgの油状の15R異性体、次いで
より極性の高い部分より融点60−65℃を有する72mgの目
的化合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;3410,1738,972cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;0.7〜1.05（9H,m）,3.66
（3H,s）,5.67（2H,m） 15R−：異性体： IRスペクトル（液膜状）;3450,1740,975cm-1 実施例3. ５−オキソプロスタグラジンE1メチルエステル （ａ） ５−オキソプロスタグランジンE111,15−ジ（テトラヒ
ドロピラン−２−イル）エーテル メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物:1.09g）およ
びジメチル２−オキソヘプチルホスホネート（800mg）
を用い実施例２（ａ）−（ｅ）と同様に順次反応、処理
すると、342mgの油状の目的化合物が得られた。
（3H,s）,5.67（2H,m） 15R−：異性体： IRスペクトル（液膜状）;3450,1740,975cm-1 実施例3. ５−オキソプロスタグラジンE1メチルエステル （ａ） ５−オキソプロスタグランジンE111,15−ジ（テトラヒ
ドロピラン−２−イル）エーテル メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物:1.09g）およ
びジメチル２−オキソヘプチルホスホネート（800mg）
を用い実施例２（ａ）−（ｅ）と同様に順次反応、処理
すると、342mgの油状の目的化合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;1740,1716（sh）,1018,970cm
-1. NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.68（3H,s）,3.72（2H,
m）,5.60（2H,m）． （ｂ） ５−オキソプロスタグランジンE1メチルエステル ケトン体（実施例３（ａ）の化合物:330mg）および酢
酸を用い実施例２（ｆ）と同様に反応、処理すると、19
9mgの油状の目的化合物が得られた。
-1. NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.68（3H,s）,3.72（2H,
m）,5.60（2H,m）． （ｂ） ５−オキソプロスタグランジンE1メチルエステル ケトン体（実施例３（ａ）の化合物:330mg）および酢
酸を用い実施例２（ｆ）と同様に反応、処理すると、19
9mgの油状の目的化合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;3400,1738,970cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;0.88（3H,br.t）,3.66（3
H,s）,5.60（2H,m）。
H,s）,5.60（2H,m）。
実施例4. ５−オキソ−17（Ｓ）−メチル−20−イソプロピリデン
プロスタグランジンE1メチルエステル （ａ） ５−オキソ−17（Ｓ）−メチル−20−イソプロピリデン
プロスタグランジンE111,15−ジ（テトラヒドロピラン
−２−イル）エーテルメチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.01g）およ
びジメチル２−オキソ−４（Ｓ）,8−ジメチルノニルホ
スホネート（0.92g）を用い実施例２（ａ）−（ｅ）と
同様に順次反応、処理すると、356mgの油状の目的化合
物が得られた。
プロスタグランジンE1メチルエステル （ａ） ５−オキソ−17（Ｓ）−メチル−20−イソプロピリデン
プロスタグランジンE111,15−ジ（テトラヒドロピラン
−２−イル）エーテルメチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.01g）およ
びジメチル２−オキソ−４（Ｓ）,8−ジメチルノニルホ
スホネート（0.92g）を用い実施例２（ａ）−（ｅ）と
同様に順次反応、処理すると、356mgの油状の目的化合
物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;1740,1019,970cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.66（3H,s）,4.70（2H,b
r.s）,560（2H,m） （ｂ） ５−オキソ−17（Ｓ）−メチル−20−イソプロピリデン
プロスタグランジンE1メチルエステル ケトン体（実施例４（ａ）の化合物:350mg）および酢
酸を用い実施例２（ｆ）と同様に反応、処理すると、19
3mgの油状の目的化合物が得られた。
r.s）,560（2H,m） （ｂ） ５−オキソ−17（Ｓ）−メチル−20−イソプロピリデン
プロスタグランジンE1メチルエステル ケトン体（実施例４（ａ）の化合物:350mg）および酢
酸を用い実施例２（ｆ）と同様に反応、処理すると、19
3mgの油状の目的化合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;3400,1738,970cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;0.7〜1.1（3H,m）,1.60
（3H,s）,1.68（3H,s）,3.68（3H,s）,5.08（1H,br.
t）,5.60（2H,m）。
（3H,s）,1.68（3H,s）,3.68（3H,s）,5.08（1H,br.
t）,5.60（2H,m）。
実施例5. ５−オキソ−17（Ｓ）,20−ジメチルプロスタグランジ
ンE1メチルエステル （ａ） ５−オキソ−17（Ｓ）,20−ジメチルプロスタグランジ
ンE111,15−ジ（テトラヒドロピラン−２−イル）エー
テル メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.03g）およ
びジメチル２−オキソ−４（Ｓ）−メチルオクチルホス
ホネート（820mg）を用い実施例２（ａ）−（ｅ）と同
様に順次反応、処理すると、324mgの油状の目的化合物
が得られた。
ンE1メチルエステル （ａ） ５−オキソ−17（Ｓ）,20−ジメチルプロスタグランジ
ンE111,15−ジ（テトラヒドロピラン−２−イル）エー
テル メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.03g）およ
びジメチル２−オキソ−４（Ｓ）−メチルオクチルホス
ホネート（820mg）を用い実施例２（ａ）−（ｅ）と同
様に順次反応、処理すると、324mgの油状の目的化合物
が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;1739,1020,970cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.66（3H,s）,4.67（2H,b
r.s）,5.57（2H,m）． （ｂ） ５−オキソ−17（Ｓ）,20−ジメチルプロスタグランジ
ンE1メチルエステル ケトン体（実施例５（ａ）の化合物:310mg）および酢
酸用い実施例２（ｆ）と同様に反応、処理すると、166m
gの油状の目的化合物が得られた。
r.s）,5.57（2H,m）． （ｂ） ５−オキソ−17（Ｓ）,20−ジメチルプロスタグランジ
ンE1メチルエステル ケトン体（実施例５（ａ）の化合物:310mg）および酢
酸用い実施例２（ｆ）と同様に反応、処理すると、166m
gの油状の目的化合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;3400,1738,1716（sh）,970cm
-1. NMRスペクトル（CDCl3）δ;0.16〜1.05（6H,m）,3.68
（3H,s）,5.62（2H,m）． 実施例6. ５−オキソ−17（Ｒ）−メチル−20−イソプロピリデン
プロスタグランジンE1メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.05g）およ
びジメチル２−オキソ−４（Ｒ）,8−ジメチル−７−ノ
ネニルホスホネート（980mg）を用い実施例２（ａ）−
（ｆ）と同様に順次反応、処理すると、111mgの油状の
目的化合物が得られた。
-1. NMRスペクトル（CDCl3）δ;0.16〜1.05（6H,m）,3.68
（3H,s）,5.62（2H,m）． 実施例6. ５−オキソ−17（Ｒ）−メチル−20−イソプロピリデン
プロスタグランジンE1メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.05g）およ
びジメチル２−オキソ−４（Ｒ）,8−ジメチル−７−ノ
ネニルホスホネート（980mg）を用い実施例２（ａ）−
（ｆ）と同様に順次反応、処理すると、111mgの油状の
目的化合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;3400,1740,1716（sh）,972cm
-1. NMRスペクトル（CDCl3），δ;0.90（3H,d,J＝6Hz）,1.5
7（3H,s）,1.64（3H,s）,3.62（3H,s）,5.04（1H,br.
t）,5.56（2H,m）． メチルエステル体は加水分解酵素によりカルボン酸に
変換できる。
-1. NMRスペクトル（CDCl3），δ;0.90（3H,d,J＝6Hz）,1.5
7（3H,s）,1.64（3H,s）,3.62（3H,s）,5.04（1H,br.
t）,5.56（2H,m）． メチルエステル体は加水分解酵素によりカルボン酸に
変換できる。
実施例7. ５−オキソ−16,16−ジメチル−17−エトキシ−18,19,2
0−トリノルプロスタグランジンE1メチルエステル （ａ） ５−オキソ−16,16−ジメチル−17−エトキシ−18,19,2
0−トリノルプロスタグランジンE111,15−ジ（テトラヒ
ドロピラン−２−イル）エーテル メチルエステルとそ
の15R異性体の混合物 アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;990mg）およ
びジメチル２−オキソ−3,3−ジメチル−４−エトキシ
ブチルホスホネート（1.65g）を用い実施例１（ｉ）−
（ｍ）と同様に順次反応、処理すると、690mgの油状の
目的化合物が得られた。
0−トリノルプロスタグランジンE1メチルエステル （ａ） ５−オキソ−16,16−ジメチル−17−エトキシ−18,19,2
0−トリノルプロスタグランジンE111,15−ジ（テトラヒ
ドロピラン−２−イル）エーテル メチルエステルとそ
の15R異性体の混合物 アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;990mg）およ
びジメチル２−オキソ−3,3−ジメチル−４−エトキシ
ブチルホスホネート（1.65g）を用い実施例１（ｉ）−
（ｍ）と同様に順次反応、処理すると、690mgの油状の
目的化合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;1740,1716,1030cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.67（3H,s）,4.68（2H,b
r.s）,5.55（2H,m）． （ｂ） ５−オキソ−16,16−ジメチル−17−エトキシ−18,19,2
0−トリノルプロスタグランジンE1メチルエステル ケトン体（実施例７（ａ）の化合物:930mg）および酢
酸を用い実施例１（ｎ）と同様に反応、処理すると、14
4mgの油状の目的化合物が得られた。
r.s）,5.55（2H,m）． （ｂ） ５−オキソ−16,16−ジメチル−17−エトキシ−18,19,2
0−トリノルプロスタグランジンE1メチルエステル ケトン体（実施例７（ａ）の化合物:930mg）および酢
酸を用い実施例１（ｎ）と同様に反応、処理すると、14
4mgの油状の目的化合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;3425,1740,1718（sh）,972cm
-1。
-1。
NMRスペクトル（CDCl3），δ;0.91（6H,s）,3.67（3H,
s）,5.68（2H,m）。
s）,5.68（2H,m）。
実施例8. ５−オキソ−16,16−ジメチル−20−メチレンプロスタ
グランジンE1メチルエステル （ａ） ５−オキソ−16,16−ジメチル−20−メチレンプロスタ
グランジンE111,15−ジ（テトラヒドロピラン−２−イ
ル）エーテル メチルエステルとその15R−異性体の混
合物 アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;990mg）およ
びジメチル２−オキソ−3,3−ジメチル−６−ヘプテニ
ルホスホネート（820mg）を用い実施例２（ａ）−
（ｅ）と同様に順次反応、処理すると、830mgの油状の
目的化合物が得られた。
グランジンE1メチルエステル （ａ） ５−オキソ−16,16−ジメチル−20−メチレンプロスタ
グランジンE111,15−ジ（テトラヒドロピラン−２−イ
ル）エーテル メチルエステルとその15R−異性体の混
合物 アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;990mg）およ
びジメチル２−オキソ−3,3−ジメチル−６−ヘプテニ
ルホスホネート（820mg）を用い実施例２（ａ）−
（ｅ）と同様に順次反応、処理すると、830mgの油状の
目的化合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;1740,1714（sh）,1640,1020cm
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;0.90（3H,s）,0.93（3H,
s）,3.67（3H,s）,4.6〜6.1（7H,m）。
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;0.90（3H,s）,0.93（3H,
s）,3.67（3H,s）,4.6〜6.1（7H,m）。
（ｂ） ５−オキソ−16,16−ジメチル−20−メチレンプロスタ
グランジンE1メチルエステル ケトン体（実施例８（ａ）の化合物:820mg）および酢
酸を用い実施例２（ｆ）と同様に反応、処理すると、17
3mgの油状の目的化合物が得られた。
グランジンE1メチルエステル ケトン体（実施例８（ａ）の化合物:820mg）および酢
酸を用い実施例２（ｆ）と同様に反応、処理すると、17
3mgの油状の目的化合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;3425,1740,1718（sh）,1640,9
70cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;0.88（3H,s）,0.90（3H,
s）,3.68（3H,s）,4.7〜6.1（5H,m）． 実施例9. ５−オキソ−15−シクロペンチル−16,17,18,19,20−ペ
ンタノルプロスタグランジンE1メチルエステル （ａ） ５−オキソ−15−シクロペンチル−16,17,18,19,20−ペ
ンタノルプロスタグランジンE111,15−ジ（テトラヒド
ロピラン−２−イル）エーテル メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物:1.18g）およ
びジメチル２−オキソ−２−シクロペンチルエチルホス
ホネート（800mg）を用い実施例２（ａ）−（ｅ）と同
様に順次反応、処理すると、305mgの油状の目的化合物
が得られた。
70cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;0.88（3H,s）,0.90（3H,
s）,3.68（3H,s）,4.7〜6.1（5H,m）． 実施例9. ５−オキソ−15−シクロペンチル−16,17,18,19,20−ペ
ンタノルプロスタグランジンE1メチルエステル （ａ） ５−オキソ−15−シクロペンチル−16,17,18,19,20−ペ
ンタノルプロスタグランジンE111,15−ジ（テトラヒド
ロピラン−２−イル）エーテル メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物:1.18g）およ
びジメチル２−オキソ−２−シクロペンチルエチルホス
ホネート（800mg）を用い実施例２（ａ）−（ｅ）と同
様に順次反応、処理すると、305mgの油状の目的化合物
が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;1740,1712（sh）,1020cm-1. NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.70（3H,s）,4.71（2H,b
r.s）,5.58（2H,m）． （ｂ） ５−オキソ−15−シクロペンチル−16,17,18,19,20−ペ
ンタノルプロスタグランジンE1メチルエステル ケトン体（実施例９（ａ）の化合物:300mg）および酢
酸を用い実施例２（ｆ）と同様に反応、処理すると、16
9mgの油状の目的化合物が得られ、冷却すると結晶し
た。
r.s）,5.58（2H,m）． （ｂ） ５−オキソ−15−シクロペンチル−16,17,18,19,20−ペ
ンタノルプロスタグランジンE1メチルエステル ケトン体（実施例９（ａ）の化合物:300mg）および酢
酸を用い実施例２（ｆ）と同様に反応、処理すると、16
9mgの油状の目的化合物が得られ、冷却すると結晶し
た。
IRスペクトル（液膜状）;3410,1740,1720（sh）,975. NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.68（3H,s）,5.62（2H,
m）． 実施例10. ５−オキソ−16−メタ−クロルフェノキシ−17,18,19,2
0−テトラノルプロスタグランジンE1メチルエステル （ａ） ５−オキソ−16−メタ−クロロフェノキシ−17,18,19,2
0−テトラノルプロスタグランジンE111,15−ジ（テトラ
ヒドロピラン−２−イル）エーテル メチルエステルと
その15R−異性体の混合物 アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.50g）およ
びジメチル２−オキソ−３−メタ−クロルフェノキシプ
ロピルホスホネート（2.88g）を用い実施例１（ｉ）−
（ｍ）と同様に順次反応、処理すると、939mgの油状の
目的化合物が得られた。
m）． 実施例10. ５−オキソ−16−メタ−クロルフェノキシ−17,18,19,2
0−テトラノルプロスタグランジンE1メチルエステル （ａ） ５−オキソ−16−メタ−クロロフェノキシ−17,18,19,2
0−テトラノルプロスタグランジンE111,15−ジ（テトラ
ヒドロピラン−２−イル）エーテル メチルエステルと
その15R−異性体の混合物 アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.50g）およ
びジメチル２−オキソ−３−メタ−クロルフェノキシプ
ロピルホスホネート（2.88g）を用い実施例１（ｉ）−
（ｍ）と同様に順次反応、処理すると、939mgの油状の
目的化合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;1740,1714（sh）,1596,1580,1
020cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.68（3H,s）,5.80（2H,
m）,6.7〜7.4（5H,m）． （ｂ） ５−オキソ−16−メタ−クロルフェノキシ−17,18,19,2
0−テトラノルプロスタグランジンE1メチルエステル ケトン体（実施例10（ａ）の化合物:920mg）および酢
酸を用い実施例１（ｎ）と同様に反応、処理すると、26
0mgの油状の目的化合物および15S−異性体310mgが得ら
れた。
020cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.68（3H,s）,5.80（2H,
m）,6.7〜7.4（5H,m）． （ｂ） ５−オキソ−16−メタ−クロルフェノキシ−17,18,19,2
0−テトラノルプロスタグランジンE1メチルエステル ケトン体（実施例10（ａ）の化合物:920mg）および酢
酸を用い実施例１（ｎ）と同様に反応、処理すると、26
0mgの油状の目的化合物および15S−異性体310mgが得ら
れた。
IRスペクトル（液膜状）;3425,1735,1715（sh）,1594,1
580,970cm-1. NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.66（3H,s）,5.84（2H,
m）,6.8〜7.5（5H,m）． 15S−異性体； IRスペクトル（液膜状）;3425,1735,1595,1580,971c
m-1。
580,970cm-1. NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.66（3H,s）,5.84（2H,
m）,6.8〜7.5（5H,m）． 15S−異性体； IRスペクトル（液膜状）;3425,1735,1595,1580,971c
m-1。
実施例11. ５−オキソ−16−パラ−クロルフェノキシ−17,18,19,2
0−テトラノルプロスタグランE1メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;990mg）およ
びジメチル２−オキソ−３−パラ−クロルフェノキシプ
ロピルホスホネート（1.92g）を用い実施例１（ｉ）−
（ｎ）と同様に順次反応、処理すると、180mgの油状の
目的化合物および15S−異性体190mgが得られた。
0−テトラノルプロスタグランE1メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;990mg）およ
びジメチル２−オキソ−３−パラ−クロルフェノキシプ
ロピルホスホネート（1.92g）を用い実施例１（ｉ）−
（ｎ）と同様に順次反応、処理すると、180mgの油状の
目的化合物および15S−異性体190mgが得られた。
IRスペクトル（液膜状）;3425,1736,1718（sh）,1598,1
582,970cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.64（3H,s）,5.82（2H,
m）,6.7〜7.5（5H,m）． 15S−異性体： IRスペクトル（液膜状）;3425,1738,1598,1582,970cm-1 実施例12. ５−オキソ−16−オルト−クロルフェノキシ−17,18,1
9,20−テトラノルプロスタグランジンE1メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物:1.02g）およ
びジメチル２−オキソ−３−オルト−クロルフェノキシ
プロピルホスホネート（1.92g）を用い実施例１（ｉ）
−（ｎ）と同様に順次反応、処理すると、161mgの油状
の目的化合物および15S−異性体190mgが得られた。
582,970cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.64（3H,s）,5.82（2H,
m）,6.7〜7.5（5H,m）． 15S−異性体： IRスペクトル（液膜状）;3425,1738,1598,1582,970cm-1 実施例12. ５−オキソ−16−オルト−クロルフェノキシ−17,18,1
9,20−テトラノルプロスタグランジンE1メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物:1.02g）およ
びジメチル２−オキソ−３−オルト−クロルフェノキシ
プロピルホスホネート（1.92g）を用い実施例１（ｉ）
−（ｎ）と同様に順次反応、処理すると、161mgの油状
の目的化合物および15S−異性体190mgが得られた。
IRスペクトル（液膜状）;3425,1738,1718（sh）,1592,9
72cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.63（3H,s）,5.82（2H,
m）,6.7〜7.5（5H,m）． 15S−異性体： IRスペクトル（液膜状）;3425,1738,1592,972cm-1 実施例13. ５−オキソ−16,16,20−トリメチルプロスタダランジン
E1メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.0g）およ
びジメチル２−オキソ−3,3−ジメチルオクチルホスホ
ネート（900mg）を用い実施例２（ａ）−（ｆ）と同様
に順次反応、処理すると、78mgの油状の目的化合物が得
られた。
72cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.63（3H,s）,5.82（2H,
m）,6.7〜7.5（5H,m）． 15S−異性体： IRスペクトル（液膜状）;3425,1738,1592,972cm-1 実施例13. ５−オキソ−16,16,20−トリメチルプロスタダランジン
E1メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.0g）およ
びジメチル２−オキソ−3,3−ジメチルオクチルホスホ
ネート（900mg）を用い実施例２（ａ）−（ｆ）と同様
に順次反応、処理すると、78mgの油状の目的化合物が得
られた。
IRスペクトル（液膜状）;3420,1738,1717（sh）,972cm
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;0.7〜1.05（9H,m）,3.67
（3H,s）,5.66（2H,m）． 実施例14. ５−オキソ−16,16−ジメチル−20−エチルプロスタグ
ランジンE1メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物:1.0g）およ
びジメチル２−オキソ−3,3−ジメチルノニルホスホネ
ート（950mg）を用い実施例２（ａ）−（ｆ）と同様に
順次反応、処理すると、67mgの油状の目的化合物が得ら
れた。
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;0.7〜1.05（9H,m）,3.67
（3H,s）,5.66（2H,m）． 実施例14. ５−オキソ−16,16−ジメチル−20−エチルプロスタグ
ランジンE1メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物:1.0g）およ
びジメチル２−オキソ−3,3−ジメチルノニルホスホネ
ート（950mg）を用い実施例２（ａ）−（ｆ）と同様に
順次反応、処理すると、67mgの油状の目的化合物が得ら
れた。
IRスペクトル（液膜状）;3410,1738,1719（sh）,972cm
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;0.7〜1.05（9H,m）,3.66
（3H,s）,5.65（2H,m）． 実施例15. ５−オキソ−16−メチルプロスタグランジンE1メチルエ
ステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物:980mg）およ
びジメチル２−オキソ−３−メチルヘプチルホスホネー
ト（920mg）を用い実施例２（ａ）−（ｆ）と同様に順
次反応、処理すると、61mgの油状の目的化合物が得られ
た。
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;0.7〜1.05（9H,m）,3.66
（3H,s）,5.65（2H,m）． 実施例15. ５−オキソ−16−メチルプロスタグランジンE1メチルエ
ステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物:980mg）およ
びジメチル２−オキソ−３−メチルヘプチルホスホネー
ト（920mg）を用い実施例２（ａ）−（ｆ）と同様に順
次反応、処理すると、61mgの油状の目的化合物が得られ
た。
IRスペクトル（液膜状）;3420,1738,1718（sh）,971cm
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;0.7〜1.05（6H,m）,3.66
（3H,s）,5.66（2H,m）． 実施例16. ５−オキソ−16−メチル−20−イソプロピリデンプロス
タグランジンE1メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;980mg）およ
びジメチル２−オキソ−3,8−ジメチルオクチルホスホ
ネート910mgを用い実施例２（ａ）−（ｆ）と同様順次
反応処理すると、251mgの油状の目的化合物が得られ
た。
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;0.7〜1.05（6H,m）,3.66
（3H,s）,5.66（2H,m）． 実施例16. ５−オキソ−16−メチル−20−イソプロピリデンプロス
タグランジンE1メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;980mg）およ
びジメチル２−オキソ−3,8−ジメチルオクチルホスホ
ネート910mgを用い実施例２（ａ）−（ｆ）と同様順次
反応処理すると、251mgの油状の目的化合物が得られ
た。
IRスペクトル（液膜状）;3460,1742,1724（sh）,971cm
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;0.90（3H,d）,1.59（3H,
s）,1.67（3H,s）,3.67（3H,s）,5.10（1H,br.t）,5.68
（2H,m）． 実施例17. ５−オキソ−16,19−ジメチル−18,19−ジデヒドロプロ
スタグランジンE1メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.01g）およ
びジメチル２−オキソ−3,6−ジメチル−５−ヘプテニ
ルホスホネート820mgを用い実施例２（ａ）−（ｆ）と
同様順次反応処理すると、235mgの油状の目的化合物が
得られた。
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;0.90（3H,d）,1.59（3H,
s）,1.67（3H,s）,3.67（3H,s）,5.10（1H,br.t）,5.68
（2H,m）． 実施例17. ５−オキソ−16,19−ジメチル−18,19−ジデヒドロプロ
スタグランジンE1メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.01g）およ
びジメチル２−オキソ−3,6−ジメチル−５−ヘプテニ
ルホスホネート820mgを用い実施例２（ａ）−（ｆ）と
同様順次反応処理すると、235mgの油状の目的化合物が
得られた。
IRスペクトル（液膜状）;3425,1740,1720（sh）,972cm
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;0.89（3H,m）,1.62（3H,
s）,1.70（3H,s）,3.66（3H,s）,5.16（1H,br.m）,5.67
（2H,m）． 実施例18. ５−オキソ−16−メチル−16−フェノキシ−17,18,19,2
0−テトラノルプロスタグランジンE1メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.01g）およ
びジメチル２−オキソ−３−メチル−３−フェノキシプ
ロピルホスホネート890mgを用い実施例１（ｉ）−
（ｎ）と同様に順次反応、処理すると、165mgの油状の
目的化合物が得られた。
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;0.89（3H,m）,1.62（3H,
s）,1.70（3H,s）,3.66（3H,s）,5.16（1H,br.m）,5.67
（2H,m）． 実施例18. ５−オキソ−16−メチル−16−フェノキシ−17,18,19,2
0−テトラノルプロスタグランジンE1メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.01g）およ
びジメチル２−オキソ−３−メチル−３−フェノキシプ
ロピルホスホネート890mgを用い実施例１（ｉ）−
（ｎ）と同様に順次反応、処理すると、165mgの油状の
目的化合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;3430,1740,1710（sh）,971cm
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;1.28（3H,d）,3.66（3H,
s）,5.78（2H,m）,6.8−7.5（5H,m）． 実施例19. ５−オキソ−16−（４−フルオロフェノキシ）−17,18,
19,20−テトラノルプロスタグランジンE1メチルエステ
ル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.0g）およ
びジメチル２−オキソ−３−（４−フルオロフェノキ
シ）プロピルホスホネート910mgを用い実施例１（ｉ）
−（ｎ）と同様に順次反応、処理すると、210mgの油状
の目的化合物が得られた。
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;1.28（3H,d）,3.66（3H,
s）,5.78（2H,m）,6.8−7.5（5H,m）． 実施例19. ５−オキソ−16−（４−フルオロフェノキシ）−17,18,
19,20−テトラノルプロスタグランジンE1メチルエステ
ル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.0g）およ
びジメチル２−オキソ−３−（４−フルオロフェノキ
シ）プロピルホスホネート910mgを用い実施例１（ｉ）
−（ｎ）と同様に順次反応、処理すると、210mgの油状
の目的化合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;3420,1738,1720（sh）,1602,9
72cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.64（3H,s）,5.80（2H,
m）,6.7〜7.1（4H,m）． 実施例20. ５−オキソ−16−（３−フルオロフェノキシ）−17,18,
19,20−テトラノルプロスタグランジンE1メチルエステ
ル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.0g）およ
びジメチル２−オキソ−３−（３−フルオロフェノキシ
プロピルホスホネート910mgを用い実施例１（ｉ）−
（ｎ）と同様に順次反応、処理すると、213mgの油状の
目的化合物が得られた。
72cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.64（3H,s）,5.80（2H,
m）,6.7〜7.1（4H,m）． 実施例20. ５−オキソ−16−（３−フルオロフェノキシ）−17,18,
19,20−テトラノルプロスタグランジンE1メチルエステ
ル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.0g）およ
びジメチル２−オキソ−３−（３−フルオロフェノキシ
プロピルホスホネート910mgを用い実施例１（ｉ）−
（ｎ）と同様に順次反応、処理すると、213mgの油状の
目的化合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;3425,1740,1722（sh）,971cm
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.63（3H,s）,5.81（2H,
m）,6.68（3H,m）． 実施例21 ５−オキソ−16−（２−フルオロフェノキシ）−17,18,
19,20−テトラノルプロスタグランジンE1メチルエステ
ル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.0g）およ
びジメチル２−オキソ−３−（２−フルオロフェノキシ
プロピルホスホネート1.34gを用い実施例１（ｉ）−
（ｎ）と同様に順次反応、処理すると、147mgの油状の
目的化合物が得られた。
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.63（3H,s）,5.81（2H,
m）,6.68（3H,m）． 実施例21 ５−オキソ−16−（２−フルオロフェノキシ）−17,18,
19,20−テトラノルプロスタグランジンE1メチルエステ
ル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.0g）およ
びジメチル２−オキソ−３−（２−フルオロフェノキシ
プロピルホスホネート1.34gを用い実施例１（ｉ）−
（ｎ）と同様に順次反応、処理すると、147mgの油状の
目的化合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;3410,1737,1720（sh）,971cm
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.65（3H,s）,5.82（2H,
m）,6.8〜7.3（4H,m）。
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.65（3H,s）,5.82（2H,
m）,6.8〜7.3（4H,m）。
実施例22 ５−オキソ−16−（４−メトキシフェノキシ−17,18,1
9,20−テトラノルプロスタグランジンE1メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;2.0g）およ
びジメチル２−オキソ−３−（４−メトキシフェノキ
シ）プロピルホスホネート1.9gを用い実施例１（ｉ）−
（ｎ）と同様に順次反応、処理すると、232mgの油状の
目的化合物が得られた。
9,20−テトラノルプロスタグランジンE1メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;2.0g）およ
びジメチル２−オキソ−３−（４−メトキシフェノキ
シ）プロピルホスホネート1.9gを用い実施例１（ｉ）−
（ｎ）と同様に順次反応、処理すると、232mgの油状の
目的化合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;3430,1736,1716（sh）,972cm
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.65（3H,s）,3.77（3H,
s）,5.81（2H,m）,6.88（4H,s）。
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.65（3H,s）,3.77（3H,
s）,5.81（2H,m）,6.88（4H,s）。
実施例23 ５−オキソ−16−（3,5−ジメチルフェノキシ）−17,1
8,19,20−テトラノルプロスタグランジンE1メチルエス
テル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.0g）およ
びジメチル２−オキソ−３−（3,5−ジメチルフェノキ
シ）プロピルホスホネート950mgを用い実施例１（ｉ）
−（ｎ）と同様に順次反応、処理すると、251mgの油状
の目的化合物が得られた。
8,19,20−テトラノルプロスタグランジンE1メチルエス
テル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.0g）およ
びジメチル２−オキソ−３−（3,5−ジメチルフェノキ
シ）プロピルホスホネート950mgを用い実施例１（ｉ）
−（ｎ）と同様に順次反応、処理すると、251mgの油状
の目的化合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;3416,1738,1718（sh）,971cm
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;2.28（6H,s）,3.65（3H,
s）,5.82（2H,m）,6.55（2H,s）,6.65（1H,s）。
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;2.28（6H,s）,3.65（3H,
s）,5.82（2H,m）,6.55（2H,s）,6.65（1H,s）。
実施例24 ５−オキソ−16−ベンジルオキシ−17,18,19,20−テト
ラノルプロスタグランジンE1メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.0g）およ
びジメチル２−オキソ−３−ベンジルオキシプロピルホ
スホネート1.2gを用い実施例１（ｉ）−（ｎ）と同様に
順次反応、処理すると、230mgの油状の目的化合物が得
られた。
ラノルプロスタグランジンE1メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.0g）およ
びジメチル２−オキソ−３−ベンジルオキシプロピルホ
スホネート1.2gを用い実施例１（ｉ）−（ｎ）と同様に
順次反応、処理すると、230mgの油状の目的化合物が得
られた。
IRスペクトル（液膜状）;3420,1737,1712（sh）,972cm
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.65（3H,s）,4.58（2H,
s）,5.81（2H,m）,7.37（5H,s）。
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.65（3H,s）,4.58（2H,
s）,5.81（2H,m）,7.37（5H,s）。
実施例25 ５−オキソ−16−（3,4−ジクロロフェノキシ）−17,1
8,19,20−テトラノルプロスタグランジンE1メチルエス
テル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;2.0g）およ
びジメチル２−オキソ−３−（3,4−ジクロルフェノキ
シ）プロピルホスホネート2.18gを用い実施例１（ｉ）
−（ｎ）と同様に順次反応、処理すると、79mgの油状の
目的化合物が得られた。
8,19,20−テトラノルプロスタグランジンE1メチルエス
テル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;2.0g）およ
びジメチル２−オキソ−３−（3,4−ジクロルフェノキ
シ）プロピルホスホネート2.18gを用い実施例１（ｉ）
−（ｎ）と同様に順次反応、処理すると、79mgの油状の
目的化合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;3400,1741,1718（sh）,971cm
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.67（3H,s）,5.82（2H,
m）,6.7〜7.3（3H,m）。
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.67（3H,s）,5.82（2H,
m）,6.7〜7.3（3H,m）。
実施例26 ５−オキソ−16−（４−エチルフェノキシ）−17,18,1
9,20−テトラノルプロスタグランジンE1メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.0g）およ
びジメチル２−オキソ−３−（４−エチルフェノキシ）
プロピルホスホネート1.1gを用い実施例１（ｉ）−
（ｎ）と同様に順次反応、処理すると、210mgの油状の
目的化合物が得られた。
9,20−テトラノルプロスタグランジンE1メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.0g）およ
びジメチル２−オキソ−３−（４−エチルフェノキシ）
プロピルホスホネート1.1gを用い実施例１（ｉ）−
（ｎ）と同様に順次反応、処理すると、210mgの油状の
目的化合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;3420,1740,1710（sh）,972cm
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;1.23（3H,t）,3.64（3H,
s）,5.79（2H,m）,6.75〜7.3（4H,m）。
-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;1.23（3H,t）,3.64（3H,
s）,5.79（2H,m）,6.75〜7.3（4H,m）。
実施例27 ５−オキソ−16−（４−アセトアミノフェノキシ）−1
7,18,19,20−テトラノルプロスタグランジンE1メチルエ
ステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;2.0g）およ
びジメチル２−オキソ−３−（４−アストアミノフェノ
キシ）プロピルホスホネート2.6gを用い実施例１（ｉ）
−（ｎ）と同様に順次反応、処理すると、71mgの油状の
目的化合物が得られた。但し実施例１（ｉ）工程ではNa
H懸濁液をホスホネート体に加えた。
7,18,19,20−テトラノルプロスタグランジンE1メチルエ
ステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;2.0g）およ
びジメチル２−オキソ−３−（４−アストアミノフェノ
キシ）プロピルホスホネート2.6gを用い実施例１（ｉ）
−（ｎ）と同様に順次反応、処理すると、71mgの油状の
目的化合物が得られた。但し実施例１（ｉ）工程ではNa
H懸濁液をホスホネート体に加えた。
IRスペクトル（CHCl3）;3450,3420,1738,1720（sh）,16
80,1600,972cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;2.13（3H,s）,3.65（3H,
s）CH3,5.80（2H,m）,6.8〜7.5（4H,m）。
80,1600,972cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;2.13（3H,s）,3.65（3H,
s）CH3,5.80（2H,m）,6.8〜7.5（4H,m）。
実施例28 ５−オキソ−16−（β−インドーリル）−17,18,19,20
−テトラノルプロスタグランジンE1メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;2.0g）およ
びジメチル２−オキソ−３−（β−インドリール）プロ
ピルホスホネート2.8gを用い実施例１（ｉ）−（ｎ）と
同様に反応処理すると、59mgの油状の目的化合物が得ら
れた。但し実施例１（ｉ）工程ではNaH懸濁液をホスホ
ネート体に加えた。
−テトラノルプロスタグランジンE1メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;2.0g）およ
びジメチル２−オキソ−３−（β−インドリール）プロ
ピルホスホネート2.8gを用い実施例１（ｉ）−（ｎ）と
同様に反応処理すると、59mgの油状の目的化合物が得ら
れた。但し実施例１（ｉ）工程ではNaH懸濁液をホスホ
ネート体に加えた。
IRスペクトル（CHCl3）;3350,1730,972cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;3.65（3H,s）,5.6（2H,
m）,6.7−7.6（5H,m）,9.4（1H,br.s）。
m）,6.7−7.6（5H,m）,9.4（1H,br.s）。
実施例29 4,9−ジオキソ−11α,15α−ジヒドロキシプロスト−13
（Ｅ）−エン酸メチルエステル （ａ）１−デカルボキシ−１−ヒドロキシメチル−４−
オキソ−９−α−ヒドロキシ−11α,15α−ジ（テトラ
ヒドロピラン−２−イルオキシ）プロスト−５（Ｅ）,1
3（Ｅ）−ジエン酸ジ（ジメチル−ｔ−ブチルシリル）
エーテル １α−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）−２
β−（３α−テトラヒドロピラン−２−イルオキシ−１
−オクテニル）−３α−（２−オキソエチル）−４α−
（ジメチル−ｔ−ブチルシリルオキシ）シクロペンタン
500mg,ジメチル２−オキソ−５−（ジメチル−ｔ−ブチ
ルシリルオキシ）ペンチルホスホネート470mgを用い実
施例２（ａ）と同様に反応（反応温度は室温）、処理
し、637mgの油状の目的化合物を得た。
（Ｅ）−エン酸メチルエステル （ａ）１−デカルボキシ−１−ヒドロキシメチル−４−
オキソ−９−α−ヒドロキシ−11α,15α−ジ（テトラ
ヒドロピラン−２−イルオキシ）プロスト−５（Ｅ）,1
3（Ｅ）−ジエン酸ジ（ジメチル−ｔ−ブチルシリル）
エーテル １α−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）−２
β−（３α−テトラヒドロピラン−２−イルオキシ−１
−オクテニル）−３α−（２−オキソエチル）−４α−
（ジメチル−ｔ−ブチルシリルオキシ）シクロペンタン
500mg,ジメチル２−オキソ−５−（ジメチル−ｔ−ブチ
ルシリルオキシ）ペンチルホスホネート470mgを用い実
施例２（ａ）と同様に反応（反応温度は室温）、処理
し、637mgの油状の目的化合物を得た。
IRスペクトル（液膜状）;1692,1668,1626cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;0.91（18H,s）,4.66（2H,
br.s）,5.45（2H,m）,5.8〜7.2（2H,m）。
br.s）,5.45（2H,m）,5.8〜7.2（2H,m）。
（ｂ）１−デカルボキシ−１−ヒドロキシメチル−４−
オキソ−９α−ヒドロキシ−11α,15α−ジ（テトラヒ
ドロピラン−２−イルオキシ）プロスト−13（Ｅ）−エ
ン酸ジ（ジメチル−ｔ−ブチルシリル）エーテル エノン体（実施例29（ａ）の化合物;100mg）をベンゼ
ン5mlに溶解しクロロトリス（トリフェニルホスフィ
ン）ロジウム（Ｉ）200mgを加え水素雰囲気下15時間撹
拌する。反応液から触媒を除去し、触媒を酢酸エチルで
洗滌する。溶媒を留去すると210mgの残渣が得られシリ
カゲルクロマトグラフィー（溶出液:7−11％酢酸エチル
−ヘキサン）にて精製する。78mgの油状の目的化合物が
得られた。
オキソ−９α−ヒドロキシ−11α,15α−ジ（テトラヒ
ドロピラン−２−イルオキシ）プロスト−13（Ｅ）−エ
ン酸ジ（ジメチル−ｔ−ブチルシリル）エーテル エノン体（実施例29（ａ）の化合物;100mg）をベンゼ
ン5mlに溶解しクロロトリス（トリフェニルホスフィ
ン）ロジウム（Ｉ）200mgを加え水素雰囲気下15時間撹
拌する。反応液から触媒を除去し、触媒を酢酸エチルで
洗滌する。溶媒を留去すると210mgの残渣が得られシリ
カゲルクロマトグラフィー（溶出液:7−11％酢酸エチル
−ヘキサン）にて精製する。78mgの油状の目的化合物が
得られた。
IRスペクトル（液膜状）;1714cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;0.90（18H,s）,4.64（2H,
br.s）,5.38（2H,m）。
br.s）,5.38（2H,m）。
（ｃ）１−デカルボキシ−１−ヒドロキシメチル−４−
オキソ−９α−ヒドロキシ−11α,15α−ジ（テトラヒ
ドロピラン−２−イルオキシ）プロスト−13（Ｅ）−エ
ン酸 シリル体（実施例29（ｂ）の化合物:70mg）のテトラ
ヒドロフラン溶液（1.4ml）に1Mテトラブチルアンモニ
ウムフルオリドのテトラヒドロフラン溶液0.93mlを加え
室温で16時間撹拌する。反応終了後反応液を食塩水にあ
け酢酸エチルで抽出する。抽出液を食塩水で洗滌後硫酸
ナトリウムで乾燥する。溶媒を留去し残渣をシリカゲル
クロマトグラフィー（溶出液:70−100％酢酸エチル−ヘ
キサン）で精製すると、44mgの油状の目的物が得られ
た。
オキソ−９α−ヒドロキシ−11α,15α−ジ（テトラヒ
ドロピラン−２−イルオキシ）プロスト−13（Ｅ）−エ
ン酸 シリル体（実施例29（ｂ）の化合物:70mg）のテトラ
ヒドロフラン溶液（1.4ml）に1Mテトラブチルアンモニ
ウムフルオリドのテトラヒドロフラン溶液0.93mlを加え
室温で16時間撹拌する。反応終了後反応液を食塩水にあ
け酢酸エチルで抽出する。抽出液を食塩水で洗滌後硫酸
ナトリウムで乾燥する。溶媒を留去し残渣をシリカゲル
クロマトグラフィー（溶出液:70−100％酢酸エチル−ヘ
キサン）で精製すると、44mgの油状の目的物が得られ
た。
IRスペクトル（液膜状）;3450,1708cm-1 NMRスペクトル（CDCl3），δ;0.89（3H,br.t）,4.68（2
H,br.s）,5.42（2H,m）。
H,br.s）,5.42（2H,m）。
（ｄ）4,9−ジオキソ−11α,15α−ジ（テトラヒドロピ
ラン−２−イルオキシ）プロスト−13（Ｅ）−エン酸メ
チルエステル アルコール体（実施例29（ｃ）の化合物;310mg）の塩
化メチレン溶液5mlを無水クロム酸1.18gおよびピリジン
1.90ml、塩化メチレン11mlから調製したコリンズ試薬に
氷冷下に加え30分撹拌する。反応終了後エーテルにあけ
析出物を除去しエーテル層を水洗、乾燥する。溶媒を留
去し得られた残渣をアセトン8.1mlにとかしジョーンズ
試薬（0.58ml）のアセトン溶液（5.4ml）に−10〜−13
℃で加え30分撹拌する。反応終了後イソプロピルアルコ
ールを加え氷水にあけてエチルエーテルで抽出する。抽
出液を水洗、乾燥後溶媒を留去する。得られた残渣をジ
アゾメタンでエステル化したのちシリカゲルクロマトグ
ラフィー（溶出液:20−36％酢酸エチル−ヘキサン）で
精製する。240mgの油状の目的物が得られた。
ラン−２−イルオキシ）プロスト−13（Ｅ）−エン酸メ
チルエステル アルコール体（実施例29（ｃ）の化合物;310mg）の塩
化メチレン溶液5mlを無水クロム酸1.18gおよびピリジン
1.90ml、塩化メチレン11mlから調製したコリンズ試薬に
氷冷下に加え30分撹拌する。反応終了後エーテルにあけ
析出物を除去しエーテル層を水洗、乾燥する。溶媒を留
去し得られた残渣をアセトン8.1mlにとかしジョーンズ
試薬（0.58ml）のアセトン溶液（5.4ml）に−10〜−13
℃で加え30分撹拌する。反応終了後イソプロピルアルコ
ールを加え氷水にあけてエチルエーテルで抽出する。抽
出液を水洗、乾燥後溶媒を留去する。得られた残渣をジ
アゾメタンでエステル化したのちシリカゲルクロマトグ
ラフィー（溶出液:20−36％酢酸エチル−ヘキサン）で
精製する。240mgの油状の目的物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;1735,1714 NMRスペクトル（CDCl3）;0.87（3H,br.t）,3.64（3H,
s）,4.69（2H,br.s）,5.55（2H,m）。
s）,4.69（2H,br.s）,5.55（2H,m）。
（ｅ）4,9−ジオキソ−11α,15α−ジヒドロキシプロス
ト−13（Ｅ）−エン酸メチルエステル ピラニル体（実施例29（ｄ）の化合物;230mg）をテト
ラヒドロフラン1ml、酢酸2.4mlにとかし水（5.1ml）を
加え40℃にて３時間撹拌する。その間水13mlを追加し
た。反応液を氷水にあけ、酢酸エチルで抽出する。抽出
液を食塩水で洗滌、乾燥後溶媒を留去する。残渣をシリ
カゲルクロマトグラフィー（溶出液:60−100％酢酸エチ
ル−ヘキサン）で精製すると、134mgの油状の目的物が
得られた。
ト−13（Ｅ）−エン酸メチルエステル ピラニル体（実施例29（ｄ）の化合物;230mg）をテト
ラヒドロフラン1ml、酢酸2.4mlにとかし水（5.1ml）を
加え40℃にて３時間撹拌する。その間水13mlを追加し
た。反応液を氷水にあけ、酢酸エチルで抽出する。抽出
液を食塩水で洗滌、乾燥後溶媒を留去する。残渣をシリ
カゲルクロマトグラフィー（溶出液:60−100％酢酸エチ
ル−ヘキサン）で精製すると、134mgの油状の目的物が
得られた。
IRスペクトル（液膜状）;3330,1752,1740,1708cm-1 NMRスペクトル（CDCl3）δ;0.90（3H,br.t）,3.68（3H,
s）,5.66（2H,m）。
s）,5.66（2H,m）。
実施例30 4,9−ジオキソ−11α,15α−ジヒドロキシ−16−フェノ
キシ−17,18,19,20−テトラノルプロスト−13（Ｅ）−
エン酸メチルエステル １α−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）−２
β−〔（３α−テトラヒドロピラン−２−イル）オキシ
−４−フェノキシ−１−ブテニル〕−３α−（２−オキ
ソエチル）−４α−（ジメチル−ｔ−ブチルシリルオキ
シ）シクロペンタン1.97gを用い実施例29と同様に順次
反応を行なうと139mgの油状の目的化合物が得られた。
キシ−17,18,19,20−テトラノルプロスト−13（Ｅ）−
エン酸メチルエステル １α−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）−２
β−〔（３α−テトラヒドロピラン−２−イル）オキシ
−４−フェノキシ−１−ブテニル〕−３α−（２−オキ
ソエチル）−４α−（ジメチル−ｔ−ブチルシリルオキ
シ）シクロペンタン1.97gを用い実施例29と同様に順次
反応を行なうと139mgの油状の目的化合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;3400,1740,1718（sh）,972cm
-1 NMRスペクトル（CDCl3）δ;3.66（3H,s）,5.82（2H,
m）,6.8〜7.5（5H,m） 実施例31 4,9−ジオキソ−11α,15α−ジヒドロキシ−16,16−ジ
メチルプロスト−13（Ｅ）−エン酸メチルエステル １α−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）−２
β−〔（３α−テトラヒドロピラン−２−イル）オキシ
−4,4−ジメチル−１−オクテニル〕−３α−（２−オ
キソエチル）−４α−（ジメチル−ｔ−ブチルシリル−
オキシ）シクロペンタン0.60gを用い実施例29と同様に
順次反応処理を行なうと134mgの油状の目的化合物が得
られた。
-1 NMRスペクトル（CDCl3）δ;3.66（3H,s）,5.82（2H,
m）,6.8〜7.5（5H,m） 実施例31 4,9−ジオキソ−11α,15α−ジヒドロキシ−16,16−ジ
メチルプロスト−13（Ｅ）−エン酸メチルエステル １α−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）−２
β−〔（３α−テトラヒドロピラン−２−イル）オキシ
−4,4−ジメチル−１−オクテニル〕−３α−（２−オ
キソエチル）−４α−（ジメチル−ｔ−ブチルシリル−
オキシ）シクロペンタン0.60gを用い実施例29と同様に
順次反応処理を行なうと134mgの油状の目的化合物が得
られた。
IRスペクトル（液膜状）;3440,1738,1714（sh）,972cm
-1 NMRスペクトル（CDCl3）;0.85（3H,s）,0.87（3H,s）,
3.68（3H,s）,5.7（2H,m）。
-1 NMRスペクトル（CDCl3）;0.85（3H,s）,0.87（3H,s）,
3.68（3H,s）,5.7（2H,m）。
実施例32 4,9−ジオキソ−11α,15α−ジヒドロキシ−16−（４−
クロルフェノキシ）−17,18,19,20−テトラノルプロス
ト−13（Ｅ）−エン酸メチルエステル １α−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）−２
β−〔（３α−テトラヒドロピラン−２−イル）オキシ
−４−（４−クロルフェノキシ）−１−ブテニル〕−３
α−（２−オキソエチル）−４α−（ジメチル−ｔ−ブ
チルシリルオキシ）シクロペンタン2.23gを用い実施例2
9と同様に順次反応、処理を行なうと273mgの油状の目的
化合物が得られた。
クロルフェノキシ）−17,18,19,20−テトラノルプロス
ト−13（Ｅ）−エン酸メチルエステル １α−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）−２
β−〔（３α−テトラヒドロピラン−２−イル）オキシ
−４−（４−クロルフェノキシ）−１−ブテニル〕−３
α−（２−オキソエチル）−４α−（ジメチル−ｔ−ブ
チルシリルオキシ）シクロペンタン2.23gを用い実施例2
9と同様に順次反応、処理を行なうと273mgの油状の目的
化合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;3430,1738,1714（sh）,971cm
-1 NMRスペクトル（CDCl3）δ;3.65（3H,s）,5.82（2H,
m）,6.88（1H,d）,7.28（1H,d） 実施例33 ５−オキソ−16−（２−メトキシフェノキシ）−17,18,
19,20−テトラノルプロスタグランジンE1メチルエステ
ル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.0g）およ
びジメチル２−オキソ−３−（２−メトキシフェノキ
シ）プロピルホスホネート1.27gを用い実施例１（ｉ）
−（ｎ）と同様に順次反応、処理すると170mgの油状の
目的化合物が得られた。
-1 NMRスペクトル（CDCl3）δ;3.65（3H,s）,5.82（2H,
m）,6.88（1H,d）,7.28（1H,d） 実施例33 ５−オキソ−16−（２−メトキシフェノキシ）−17,18,
19,20−テトラノルプロスタグランジンE1メチルエステ
ル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.0g）およ
びジメチル２−オキソ−３−（２−メトキシフェノキ
シ）プロピルホスホネート1.27gを用い実施例１（ｉ）
−（ｎ）と同様に順次反応、処理すると170mgの油状の
目的化合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;3450,1737,1712（sh）,1584,9
76cm-1 NMRスペクトル（CDCl3）δ;3.65（3H,s）,3.85（3H,
s）,5.78（2H,m）,6.95（4H,s）。
76cm-1 NMRスペクトル（CDCl3）δ;3.65（3H,s）,3.85（3H,
s）,5.78（2H,m）,6.95（4H,s）。
実施例34 ５−オキソ−17−シクロヘキシル−18,19,20−トリノル
プロスタグランジンE1メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;980mg）およ
びジメチル２−オキソ−４−シクロヘキシルブチルホス
ホネート820mgを用い実施例２（ａ）〜（ｆ）と同様に
順次反応、処理すると152mgの油状の目的化合物が得ら
れた。
プロスタグランジンE1メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;980mg）およ
びジメチル２−オキソ−４−シクロヘキシルブチルホス
ホネート820mgを用い実施例２（ａ）〜（ｆ）と同様に
順次反応、処理すると152mgの油状の目的化合物が得ら
れた。
IRスペクトル（液膜状）;3420,1740,1720（sh）,972cm
-1 NMRスペクトル（CDCl3）δ;3.66（3H,s）,5.67（2H,
m）。
-1 NMRスペクトル（CDCl3）δ;3.66（3H,s）,5.67（2H,
m）。
実施例35 ５−オキソ−15−フェニル−16,17,18,19,20−ペンタノ
ルプロスタグランジンE1メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.0g）およ
びジメチル２−オキソ−２−フェニルエチルホスホネー
ト1.1gを用い実施例１（ｉ）〜（ｎ）と同様に反応、処
理すると79mgの油状の目的化合物が得られた。
ルプロスタグランジンE1メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.0g）およ
びジメチル２−オキソ−２−フェニルエチルホスホネー
ト1.1gを用い実施例１（ｉ）〜（ｎ）と同様に反応、処
理すると79mgの油状の目的化合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;3400,1738,1717（sh）,972cm
-1 NMRスペクトル（CDCl3）δ;3.67（3H,s）,5.77（2H,
m）。
-1 NMRスペクトル（CDCl3）δ;3.67（3H,s）,5.77（2H,
m）。
実施例36 Ｎ−〔5,9−ジオキソ−11,15−ジヒドロキシ−16−フェ
ノキシ−17,18,19,20−テトラノルプロスト−13（Ｅ）
−エノイル〕グリシンメチルエステル 5,9−ジオキソ−16−フェノキシ−11,15−ジヒドロキ
シ−17,18,19,20−テトラノルプロスト−13−エン酸メ
チルエステル11,15−ジテトラヒドロピラニルエーテル
（実施例１（ｍ）の化合物;720mg）を用い実施例37と同
様にエステラーゼにより加水分解すると580mgの5,9−ジ
オキソ−11,15−ジヒドロキシ−16−フェノキシ−17,1
8,19,20−テトラノルプロスト−13（Ｅ）−エン酸11,15
−ジテトラヒドロピラニルエーテル体が得られた。この
カルボン酸のアセトン溶液（7ml）に氷冷下トリエチル
アミン101mg、次いでイソプロピルクロロホルメート122
mgを加え15分撹拌した。反応液にトリエチルアミン110m
g、次いでグリシンメチルエステル115mgを加え室温で１
時間撹拌した。反応終了後酢酸エチルで稀釈し、水で洗
滌後、硫酸ナトリウムと共に乾燥した。溶媒を留去し残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液:40
−100％酢酸エチル−ヘキサン）で精製すると89mgの油
状のアミド体が得られた。このアミド体を実施例１
（ｎ）と同様に反応処理すると15mgの油状目的化合物が
得られた。
ノキシ−17,18,19,20−テトラノルプロスト−13（Ｅ）
−エノイル〕グリシンメチルエステル 5,9−ジオキソ−16−フェノキシ−11,15−ジヒドロキ
シ−17,18,19,20−テトラノルプロスト−13−エン酸メ
チルエステル11,15−ジテトラヒドロピラニルエーテル
（実施例１（ｍ）の化合物;720mg）を用い実施例37と同
様にエステラーゼにより加水分解すると580mgの5,9−ジ
オキソ−11,15−ジヒドロキシ−16−フェノキシ−17,1
8,19,20−テトラノルプロスト−13（Ｅ）−エン酸11,15
−ジテトラヒドロピラニルエーテル体が得られた。この
カルボン酸のアセトン溶液（7ml）に氷冷下トリエチル
アミン101mg、次いでイソプロピルクロロホルメート122
mgを加え15分撹拌した。反応液にトリエチルアミン110m
g、次いでグリシンメチルエステル115mgを加え室温で１
時間撹拌した。反応終了後酢酸エチルで稀釈し、水で洗
滌後、硫酸ナトリウムと共に乾燥した。溶媒を留去し残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液:40
−100％酢酸エチル−ヘキサン）で精製すると89mgの油
状のアミド体が得られた。このアミド体を実施例１
（ｎ）と同様に反応処理すると15mgの油状目的化合物が
得られた。
IRスペクトル（液膜状）;3400,1740,1710,1660,1598,97
2 NMRスペクトル（CDCl3）δ;3.79（3H,s）,4.01（2H,
d）,5.78（2H,m）,6.7〜7.5（5H,m）。
2 NMRスペクトル（CDCl3）δ;3.79（3H,s）,4.01（2H,
d）,5.78（2H,m）,6.7〜7.5（5H,m）。
実施例37 ５−オキソプロスタグランジンE1 ５−オキソプロスタグランジンE1メチルエステル（実
施例３の化合物;30mg）をアセトン（0.4ml）にとかしリ
ン酸緩衝液（pH8）4ml次いでエステラーゼ（No.E−312
8,Sigma）0.27mlを加え室温で２時間撹拌した。反応終
了後飽和食塩水を加え冷却した。稀塩酸で酸性として酢
酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗滌、乾燥
後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ーで精製した。酢酸エチル流出部より27mgの油状の目的
化合物が得られた。
施例３の化合物;30mg）をアセトン（0.4ml）にとかしリ
ン酸緩衝液（pH8）4ml次いでエステラーゼ（No.E−312
8,Sigma）0.27mlを加え室温で２時間撹拌した。反応終
了後飽和食塩水を加え冷却した。稀塩酸で酸性として酢
酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗滌、乾燥
後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ーで精製した。酢酸エチル流出部より27mgの油状の目的
化合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;3380,1738,1700（sh）,972cm
-1 NMRスペクトル（CDCl3）δ;0.89（3H,br.t）,5.62（2H,
m）。
-1 NMRスペクトル（CDCl3）δ;0.89（3H,br.t）,5.62（2H,
m）。
実施例38 ５−オキソ−16,16−ジメチル−20−メチレンプロスタ
グランジンE1 ５−オキソ−16,16−ジメチル−20−メチレンプロス
タグランジンE1メチルエステル（実施例８の化合物;13m
g）を用い実施例37と同様に反応処理すると8mgの油状の
目的化合物が得られた。
グランジンE1 ５−オキソ−16,16−ジメチル−20−メチレンプロス
タグランジンE1メチルエステル（実施例８の化合物;13m
g）を用い実施例37と同様に反応処理すると8mgの油状の
目的化合物が得られた。
IRスペクトル（液膜状）;3420,1730,1710（sh）,1640,9
72cm-1 NMRスペクトル（CDCl3）δ；〜0.89（3H×2,2−ピー
ク）,4.4〜6.1（8H,m）。
72cm-1 NMRスペクトル（CDCl3）δ；〜0.89（3H×2,2−ピー
ク）,4.4〜6.1（8H,m）。
実施例39 ５−オキソ−17（Ｓ）−メチル−20−イソプロピルプロ
スタグランジンE1メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.0g）およ
びジメチル２−オキソ−4,8−ジメチルノニルホスホネ
ート1.0gを用い実施例２（ａ）〜（ｆ）と同様に反応、
処理すると161mgの油状の目的化合物が得られた。
スタグランジンE1メチルエステル アルデヒド体（実施例１（ｈ）の化合物;1.0g）およ
びジメチル２−オキソ−4,8−ジメチルノニルホスホネ
ート1.0gを用い実施例２（ａ）〜（ｆ）と同様に反応、
処理すると161mgの油状の目的化合物が得られた。
IRスペクトル（Liq）;3400,1738,1710（sh）,970cm-1 NMRスペクトル（CDCl3）δ;0.7〜1.0（9H,m）,3.68（3
H,s）,5.60（2H,m）。
H,s）,5.60（2H,m）。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田端 敬一 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共 株式会社内 (72)発明者 岩田 宜芳 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共 株式会社内 (56)参考文献 特開 昭63−170354（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−158760（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】一般式 ｛式中、R1は、保護されていてもよいカルボキシ基、テ
トラゾリル基、置換されていてもよいカルバモイル基、
保護されていてもよいヒドロキシメチルカルボニル基又
は保護されていてもよいヒドロキシメチル基を示し、R2
及びR3は、同一又は異なって水素原子又は水酸基の保護
基を示し、R4は、水素原子又はC1〜C4のアルキル基を示
し、R5は、式−Ｂ−R6を有する基［式中、Ｂは酸素原子
を含むC1〜C6のアルキレン基（直鎖または分枝状）を示
し、R6は、アリール基を示す。］ を示し、 Ａは、エチレン基、ビニレン基、エチニレン基又は式−
Ｏ−CH2−若しくは−Ｓ−CH2−を有する基を示し、 ｍは、３乃至５の整数を示し、 ｎは、２又は３の整数を示す。｝ を有するプロスタグランジン化合物及びその塩。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63007835A JP2571250B2 (ja) | 1987-01-19 | 1988-01-18 | プロスタグランジン化合物 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP940687 | 1987-01-19 | ||
| JP62-9406 | 1987-01-19 | ||
| JP63007835A JP2571250B2 (ja) | 1987-01-19 | 1988-01-18 | プロスタグランジン化合物 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8169143A Division JP2677779B2 (ja) | 1996-06-28 | 1996-06-28 | プロスタグランジン類 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63301858A JPS63301858A (ja) | 1988-12-08 |
| JP2571250B2 true JP2571250B2 (ja) | 1997-01-16 |
Family
ID=26342211
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63007835A Expired - Lifetime JP2571250B2 (ja) | 1987-01-19 | 1988-01-18 | プロスタグランジン化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2571250B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2296122C2 (ru) * | 2001-07-16 | 2007-03-27 | Ф.Хоффманн-Ля Рош Аг | Производные 2-пирролидона в качестве простаноидных агонистов и фармацевтическая композиция |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6033430B2 (ja) * | 1980-05-12 | 1985-08-02 | 小野薬品工業株式会社 | プロスタグランジン類似化合物 |
| JPH07116134B2 (ja) * | 1987-01-08 | 1995-12-13 | 帝人株式会社 | ５−オキソプロスタグランジンｅ▲下１▼類及びその製法 |
-
1988
- 1988-01-18 JP JP63007835A patent/JP2571250B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63301858A (ja) | 1988-12-08 |
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