JPS62265246A - ビシクロオクタン類 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

〔発明の目的〕 本発明は強い血小板凝集阻害作用等を有し。 さらに、その作用の持読注が優れているカルバサイクリ
ン誘導体の合成中間体に関するものである。 最近１強力な租小板凝集阻害作用を表わすプロスタサイ
クリン（ＰＧＩ２　）が発見されてその生理作用が注目
され、数多くのグループによってその類縁化合物の研究
がなされているが、本発明者等はα−側鎖に酸素原子又
は硫黄原子を有する新規なカルバサイクリン類を合成し
、薬理活性を検討したところ、これらの誘導体、例えば
１式 ％式％ （式中、Ｒ４は、アルキル基、アルケニル基。 アルキニル基モンクロアルキルｒ二ノそｂ仝ノ シメチル基等を示す。）を有するインカルバサイクリン
類（ｎ）はすぐれた皿小坂凝集、阻害作用等を有し、そ
の作用の持続性が浸れていることを見出した（％開昭６
０−１８１０４１号）。 そして、本発明者等シ；上記化合物の合成法について鋭
意検討し１合成中間体として有用であり、かつ光学異性
体及び幾何異性体の分離が容易なｒヒ合物を見出して１
本発明を完成した。 〔発明の構成〕 本発明ζこ係る合成中間体シ；一般式ＣＩ）を有するｒ
ヒ合物である。 ○Ｈ 上記式中、Ｒ１は、 式　−ＣＲ２−０−Ｃ＝Ｒ２を有する基（式中Ｒ２シ；
、ＣＩ−ｅｔａのアルキル基、Ｃ３−０７のシクロアル
キル基又はアリール基を示す。）又は、Ｒ３ハ、水素原
子、ｃｌ　　ＣＩＯのアルキル基、Ｃ３−Ｃ７のシクロ
アルキル基、了り−ル基、アラルキル基又９ニトリ置換
シリル基を示し、ｎ＆！、０又は１の整数を示す。ンを
示す。 Ｒ２及びＲ３のｃｌ−Ｃｔａのアルキル基８；、例えば
、メチル、エチル、ｎ−プロピル、インプロビル、ｎ−
ブチル、インブチル、ｎ−ペンチル、インペンチル、ｎ
−ヘキシル、　ｎ　−ペンチル。 ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシルであり得、好適
には＊　ＣＩ　　Ｃ４のアルキル基である。 Ｃ３−Ｃ７のシクロアルキル基シ：１例えば、シクロプ
ロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル（メチル、インプロビルのようなｃｌ−ｃａアルキル
基で置換されていてもよい。９シクコへブチルであり得
、好適には、Ｃ３−Ｃ６のシクロアルキル基である。 Ｒ２及びＲ３のアリール基は、例えば、フェニル、イン
デニル、ナフチルであり得、環上には置換基を有しても
よく、それらシ；１例えば、前述したＣｌ−０４のアル
キル基、メトキシ、ニドキシ、ｎ−プロポキン、インプ
ロポキシ、　ｎ　−ブトキシのようなＣ１−０４のアル
コキシ基、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨードのよウナ
ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、ニトロ基又はホ
ルミル、アセチル、プロビオニル、ｎ−ブチリル、イン
ブチリルのような脂肪族アンル基であり得る。 Ｒ３のアラルキル基’ｔ”：、Ｃ１Ｃ４のアルキル−ア
リール基であり、Ｃ，−０４のアルキル及びアリールは
、前述したものと同様の基であり得る。 Ｒ５のトリ置換シリル基は１例えば、トリメチルシリル
、トリエチルシリル、ジメチル−Ｌ−ブチルシリル、ジ
メチルフェニルノリル、ジフニニルー℃−ブチルシリル
のようなＣＩ　−０４のアルキル及びフェニル基から選
らばれた３個の基によって置換されたシリル基であり得
、好適には、ジメチル−ｔ−ブチルシリル、ジ７二二ル
ーｔ−ブチルシリルである。 化合物（Ｉ）は、平面構造式で表わされているが環上の
２つの置換基に基づく立体異性体、不斉炭素に基づく光
学異性体を含む。本願発明は、特にこれに限定されるも
ので・；；ない。 本発明；こ係る化合物（Ｉ）は、以下の方法に従って容
易に製造される。 Ａ法 ６Ｆ、５０Ｒ５ （１）（■つ ０Ｒ５０Ｈ （Ｖ）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　（、ＩａンＢ法 Ｈ （Ｖ）　　　　　　　　　　（Ｖ［） Ｈ Ｒ５ （■）　　　　　　　　　　（、Ｉｂ、１Ｃ法 ○Ｐ５　　　　　　　　　　　　　０Ｒ５（Ｖｌ）　　
　　　　　　　　　　　　ＯＮ）上記式中、　Ｒ２及び
Ｒｕｔ、前述したものと同意義を示し、　Ｒ５及びＲ６
は、同−又は異なって水酸基の保護基を示し１点線を含
む結合ハ、２位又は３位の二重結合を示す。 Ｒ５及びＲ６の水酸基のｆｊｄ＆基としては１通常使用
される水酸基の保ａ基なら特ζこ限定されないが、例え
ばアセチル、プロビオニル、ブチリル、インブチリル、
ベンゾイル、ナフトイルのような低級脂肪族若しくは芳
香族アシル基；ベンジル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−メ
トキシベンジルのようなアラルキル基；２−テトラヒド
ロピラニル、２−テトラヒドロフラニル、４−メトキシ
テトラヒドロビラン−４−イル、２−テトラヒドロチオ
ピラニルのようなアルコキシ基を置換分として有するか
有しない環内に酸素原子又は硫黄原子を含有する５乃至
６員環状の複素環基；メトキシメチル、エトキシメチル
、ベンジルオキシメチルのようなアルコキシ基若しくは
アラルキルオキシ基を置換分として有するメチル基；１
−メトキシエチル、１−エトキシエチルのような１−ア
ルコキシエチル基；又ハトリメチルシリル、トリニチル
シリル、トリｎ−プロピルシリル、ｔ−ブチルジメチル
シリル、ジフニニル℃−ブチルシリルのようなトリ低級
アルキル若しくニジアリール低級アルキルシリル基をめ
げることができるが、好適にはアラルキル基、５乃至６
員環状の複素環基、ベンゾイアリール−ｔ−ブチルシリ
ル基である。 Ａ法は、化合物（１）において　Ｒ＋が式　−Ｃ一つＲ
５を有する基（式中Ｒ５は、前述したものと同意義を示
す。〕である化合物（ｒａ）を製造する方法である。 Ａ法第１工程は一般式（ＩＶ）を有する化合物を製造す
る工程で、一般式（１）を有するケトン誘導体に一般式 又は一般式 〔式中、Ｒ５ｋま前述したものと同意義を示し。 Ｒ’　　＆２フェニルのようなアリール基又はメチル。 ｎ−ブチルのようなアルキル基を示し、Ａは式（Ｒ７０
）２Ｐ−を有する基（式中、Ｒ７７−；、前述したもの
と同意義を示す。）又は式 ＣＨｓ □ ＣＨ５ ナトリウム、カリウムのようなアルカリ金属原子を示す
。〕を有するウイテツヒ又は変法ウイテツヒ試剤を反応
させることによって達成される。 本工程の原料化合物潤は刊行物、例えば特開昭５４−９
５５５２号、特開昭５４−１３０５４３号。 特開昭５５−２８９４５号又は特開昭５５−５７５５９
号等；こ記載されているか又は上記刊打物記載の方法に
よって容易に得られる化合物である。 反応に使用される前記一般式（■）又！ｔ（Ｘ）を有す
るウイテツヒ又は変法ウイテツヒ試剤シ；。 常法に従って溶剤の存在下で一般式 又・、；一般式 Ａ　　−ＣＨ２ＣＯ２Ｒ５（Ｘつ （式中、Ｒ５，ｐ７及びＡは前述したものと同意義を示
し、Ｘは塩素、臭素、沃素のような〕・ロゲン原子を示
す。） を有する化合物

【こ水素化ナトＩＪウム、水素化カリウ
ムのような水素化アルカリ金属あるいはナトリウムメト
キシド、ナトリウムアミドンド、カリウムｔ８ｒｔ−プ
トキンドのようなアルカリ金属アルコキシド、ナトリウ
ムアミド、カリウムアミドのようなアルカリ金、寓アミ
ド、ｎ−ブチルリチウムのようなアルキルアルカリ金属
、ナトリウムジメチルスルホキシドアニオンのようなア
ルカリ金属ジメチルスルホキシドア二号ンなどのアルカ
リ金属塩基を反応させることによって得ることができる
。使用される溶剤としては一般にウイテツヒ反応に用い
られる溶剤が将に限定なく用いられ、例えばエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タンのようなエーテル類；スルホランのようナチオエー
テル類；ベンゼン、トルエン、ヘキサノのような炭化水
素類；ジメチルスル丁キ／ドのようなジアルキルスルホ
キシド類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ドのような脂肪酸ジアルキルアミド類；ジクロルメタン
、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類；ヘキサ
メチルホスホルトリアミド（ＨＭＰＡ　）のようなリン
駿トリアミド類等の不活注有滋溶剤又はそれらの混合溶
剤をあげることができる。また反応シコ窒素、アルゴン
、ヘリウムのような不活性ガス中で好適に行なわれる。 反応温度にし：つて異なるが、通常シ：１乃至５０時間
である。 反応終了後、ウイテツヒ反応の目的ｒヒ合物（丁常去に
従って反応混合物から採取される。例えば反応終了後、
反応混合物に氷水を加え、次いで必要に応１じて酸処理
を行ない、エーテルのような有機＠剤を加えて抽出し１
得られろ有機、溶剤）層を水洗し乾燥した後、有機溶剤
店より溶剤を留去することによって得られる。 第２工程ｌｊ　、　　、般式（至）を有する環上に二重
結合をゴする化合物を製造する工程で１化合物潤を、不
活注啓剤中、塩基と処理することによって達成される。 本工程の目的化合物■は１通常２−ニン体と３−エン体
の混合物で得られる。 使用される塩基としてシ；、ジインプロピルアミンリチ
ウム、イソプロビルシクロヘキ７　／’　７ミノリチウ
ム、ジシクロへキンルアミノリチウム、ヒス（トリメチ
ルシリル）アミノリチウムのようなアミノリチウム又は
ナトリウムメトキシド、ナトリウム　エトキシド、カリ
ウム　ニドキシド、ナトリウム　ｎ−プロポキシド、カ
リウム　ｔ−ブトキシド、ナトリウム　ｔ−ベントキシ
ドのようなアルカリ金属　アルコキシドをあげることが
できるが、好適（こは、アミノリチウム頭である。 使用される不活性溶剤としては、反応に関与しなげれは
特；こ制限されないが、好適；こシ；、エーテル、テト
ラヒドロフラン、ジメトキシエタンのようなエーテル順
であり添加物として１ヘキサメチルホス丁リックトリア
ミド（Ｅ（：Ｊ　Ｐ　Ａ　）ズ１よ ゝチア１ラメチルエチレンジアミン等のアミン類を加え
ることができる。 反応温度は通常、−７０℃乃至０℃であり、反応に要す
る時間は３０分間乃至３時間である。 反応終了後、反応目的物は常法に従って反応混合物から
採取される。例えば、反応混合物を氷水にあけ、水不混
和性有機溶剤で抽出し、有機溶剤を留去することによっ
て得ることができる。 さらに、必要ｊこ応じて、常法２例えばカラムクロマト
グラフィー、再結晶法等によりさらに精製することもで
きる。 又、所望により、２−エン体と３−エン体の混合物を、
常法１例えば分取高速液体クロマトグラフィー等によっ
て分離し、２−エン体を次の第３工程の原料とすること
もできる。 第３工程は、化合物（ト）Ｑ水酸基の保護基であるＲ５
及びＲ６を除去して、目的化合物（、Ｉａ）を製造する
工程である。 水酸基の保護基が低級脂肪族若しくは芳香族アシル基の
場合には、その除去は通常の加溶媒又は加水分解反応に
よって行なわれる。使用される酸または塩基としては一
般の加水分解反応に使用される酸ま九は塩基が特に限定
なく使用されるが、通常は例えば水酸化リチウム、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水散「ヒカルシウム、
水酸化バリウムのようなアルカリ金属およびアルカリ土
類金属の水酸化物又は炭酸カリウム等のアルカリ金属炭
酸塩を用いて塩基性条件下で好適に行なわれる。使用さ
れる溶剤としては加水分解反応に用いられる溶剤が特に
限定なく用いなれ、例えばメタノール、エタノール、ｎ
−プロパノール、インプロピルアル；−ルのようなアル
コール類；エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、ジメトキシエタンのようなエーテル類；ジメチ
ルスルホキシドのよ５なジアルキルスルホキシド類およ
びこれらの有機溶剤と水との混合溶剤をあげることがで
きる工反応温度には特に限定はなく１通常は室温付近乃
至溶剤の還流温度で行なわれる。反応晴間は反応温度な
どによって異なるが、通常は１乃至１２４間である。 水酸基の保護基のアラルキル基の場合には相当する化合
物を不活注溶剤中、還元剤と接触することによって達成
される。 使用される還元剤としては、リチウム、ナトリウム、カ
リウムのようなアルカリ金属又は硫化ナトリウム若しく
は硫化カリウムのようなアルカリ金属流化物をあげるこ
とができるが、好適にはアルカリ金属である。アルカリ
金属との反応は、液体アンモニア又に２　Ｈ体アンモニ
アとエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル類
との混合溶剤中で好適に行われ、アルカリ金属流化物と
の反応は、メタノール、エタノールのようなアルコール
類、テトラヒドロフラン。 ジオキサンのようなエーテル類又はこれら有機浴剤と水
の混合溶剤中で好適に行われる。 反応温度はアルカリ金属との反応では一７８℃乃至−２
０℃であり、アルカリ金属流化物との反応でシエＯ℃乃
至１００℃であり、反応に要する時間（言通常２０分間
乃至６時間である。 さらに、保護基がｐ−メトキシベンジル基の場合には、
セリウムアンモニウムフルオライドと含水アセトン中、
室温・付近で処理することによっても除去さ几、又はジ
クロロジシアノキノン、過流酸ナトＩＪウム等の酸化剤
によっても除去さｎる。 水酸基の保護基が複素環基、アルコキシ若しくはアラル
キルオキシを置換分として有するメチル基又は１−アル
コキシエチル基の場合は駿と接触させることにより容易
に達成される。使用される酸としては例えばギ識、酢酸
、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸、酪駿、シュウ酸、
マロン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン豪％ｐ
−トルエンスルホン駿、カンファースルホン設などの有
機酸；塩酸、臭化水素歿、硫酸などの鉱酸が好適に使用
される。反応は溶剤の存在下または不存在下で実施さ几
るが、反応を円滑に行なうには溶剤を使用する方法が好
ましく、使用される溶剤としては本反応に関与しなげれ
ば特に限定はなく例え・ば水；メタノール。 エタノールなどのアルコール類；テトラヒドロフラン、
ジオキサンなどのエーテル類；アセトン、メチルエチル
ケトンのようなケトン類またはこれらの有（幾容剤と水
との混合溶剤が好適に使用される。反応温度には特に限
定：・：なく室温乃至溶剤の連流温度で行なわれる。 又１反応に要する時間は３０分間乃至１０時間である。 水酸基の保護基がトリ低級アルキル若しくｔ；ジアリー
ル低級アルキルシリル基の場合は水あるいは酸または塩
基を含有する水と接触させること又は不活注溶剤中、ト
リブチルアンモニウムフルオライドのようなフルオライ
ド類と反応させることにより容易に達成さｎる。酸また
は塩基を含有する水を使用する場合に含有されろ酸ま念
は塩基として（工こＪえばギ酸、酢酸、プロピオンば、
酪豪、ノユウ酸、マロン酸などの有機酸；塩酸、臭化水
素酸、硫酸などの鉱酸のような酸またを；水散化カリウ
ム、水竣比カルシウムなどのアルカリ金属およびアルカ
リ土類金属の水酸化物；炭酸カリウム、炭酸カルシウム
などのアルカリ金属およびアルカリ土類金・翼の炭酸塩
のような塩基が特に限定なく使用される。 酸又は塩基との反応でし；溶剤として水を使用すれば他
の溶剤（言特に必要ではない。他の溶剤を使用する場合
に例えばテトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテ
ル類；メタノール、エタノールなどのアルコール類等の
有機溶剤と水との混合溶剤が使用される。フルオライド
との反チル類である。反応温度には特に限定シーないが
通常は室温で好適に行なわれる。反応に要する時間１４
３０分間乃至５時間である。 反応終了後、水酸基の保護基を除去する反応の目的化合
物は常法に従って反応混合物から採取される。例えば反
応終了後、適宜浴剤を＄三で留去するか、留去しないで
反応混合物を氷水にあげ必要に応じて中和して、次いで
適轟な有機溶剤を加えて抽出を行ない、抽出液を水洗し
乾燥した後、抽出液より溶剤を留去することによって得
られる。 Ｒ５及びＲ６が異なる保護基であり、かつ異なる反応条
件で除去されるものである場合には、保護基は段階的に
除去され、同一の反応条件で除去される保護基の場合に
は　Ｈ，５及びＲ６ハ同時に除去される。 本工程において、２−エン体と３−二ン体］混合物であ
る化合物（財）を原料として使用した場合には、Ｒ５又
はＲ６が除去された化合物及びＲ５とＲ６が除去された
化合物は、２−エン体及び３−エン体の混合物で得られ
る。 これらの２−エン体と３−エン体の混合物は。 常法１例えば１分取薄層クロマトグラフィー、分取高速
液体クロマトグラフィー等によって分離される。特に、
　Ｒ５とＲ６が除去さｎたジオール体の混合物の分離は
、容易に行なわれ、より簡便な方法、例えば再結晶法に
よっても１分離できる。従って、第２工程で得られ念２
−ニン体と３−エン体の混合物を原料として、第３工程
の反応を行い、得られた異性体の混合物を再結晶法等に
より分離する方法は、犬１合成に適し、工業的に有用で
あるばかりでなく、光学活性体の製造にも有用な方法で
あり、又化合物（［ａ）は、工業的に光学活性なイン力
ルバサイタリン類を製造するために有用な合成中間体で
ある。 さらに、所望により、化合物（１ａ）は、後述する第９
工程の同様な方法に従って、水酸基の保護化反応を行い
、化合物（■において、二重結合が２位に存在する化合
物を製造することもできる。 方法は、化合物（Ｉ）において、Ｒ１が式−ＣＨ２−０
−Ｃ−Ｒ２を有する基（式中、Ｒ２は、前述したものと
同意義を示す。〕である化合物（（′Ｏ）を製造する方
法である。 方法第４工程は、−役弐（■を有するアルニール体を製
造する工程で、不活注浴剤中、化合物（至）を還元剤と
処理することによって達成される。 使用される還元剤としては、カルボキシ基、アルコキシ
カルボニル基等をヒドロキシメチル基に還元するものな
ら特に制限されないが、好適には、水素化リチウムアル
ミニウム、水素化ホウ素リチウムのようなリチウム水素
化合物、水素化ジインブチルアルミニウム、水素化ジイ
ソプロピルアルミニウムのような水素化アルミニウム化
合物をあげることかできる。 使用される不活性溶剤としては１反応に関与しなげれば
特に制限されないが、好適にはエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサンのようなエーテル類、ベンゼン、ト
ルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類をあげるこ
とができる。 反応温度は通常、−７０℃乃至５０℃であり。 反応に要する時間は３０分間乃至５時間である。 反応終了後、反応目的物は常法に従って反応混合物から
採取される。例えば、反応混合物を氷水にあげ、水不混
和性有機溶剤で抽出し、有機溶剤を留去することによっ
て得ることができる。 さらに、必要に応じて、常法、例えばカラムクロマトグ
ラフィー、再結晶法等によりさらに精製することもでき
る。 第５工程は、一般式■を有するアシルオキシ体を製造す
る工程で、化合物（ト）をアシル化することによって達
成される。 アシル化は、常法に従って不活性溶剤中、塩基の存在下
、一般式 ％式％（） ［［） （式中、Ｒ２及びＸは、前述したものと同意義を示す。 〕 を有する化合物を化合物（至）と反応させることによっ
て行なわれる。 使用される不活性溶剤としては、反応に関与巳なければ
特に制限されないが、好適には、ヘキサン、ベンゼン、
トルエンのような炭化水素類、エーテル、テトラヒドロ
フランのようなエーテル類又はメチレンクロリド、クロ
ロホルムのようなハロゲン化炭化水素類をあげることが
できる。 本反応は、塩基の存在下に好適に行われ、使用される塩
基としては１例えば、トリエチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメ
チルアニリン、ピリジン。 ４−ジメチルアミノピリジン、１．８−ジアザビシクロ
〔り、牛、Ｏ：ｌウンデセン−７等の有機塩基をあげる
ことができ、溶剤を兼ねて大過剰に使用することもでき
る。 反応温度に１通常０℃乃至１００℃であり、反２に要す
る時間は、３０分間乃至５時間である。 反応終了後１反応目的物は常法に従って反応混合物から
採取される。例えば１反応混合物を水にあけ、必要に応
じて酸性にした後、水不混和ｉ有機溶剤で抽出し、有機
溶剤を留去することによって得ることができる。さらに
、必要に応じて、常法、例えばカラムクロマトグラフィ
ー、再結晶法等によりさらに精製することもできる。 第６エ程を；、目的化合物（Ｉｂ）を製造する工程で、
化合物（社）に含まれる水酸基の保護基Ｒ５及びＲ６を
除去することによって行われろ。 本工程は、前記Ａ法Ｍ３工程と同様に行われ２−エン体
と３−エン体の分離も、再結晶法等により容易に行われ
る。又、所望により水酸基の保ａ化も行うことができる
。 Ｃ法は、化合物ｑ）において、Ｒ１が式−ＣＨ２−０−
ＣＨ２−Ｃ−ＯＲ３を有する基（式中、Ｒ３は。 前述したものと同意義を示す。）である化合物（１ｃ）
を製造する方法である。 Ｃ法第７エ程は、一般式６１を有する化合物を製造する
工程で、不活凹溶剤中、化合物（至）を塩基と処理した
後、一般式 ％式％［ （式中　Ｒ５及びＸは前述し念ものと同意義を示す。〕
を有する化合物又はそのアルカリ金属塩と反応させるこ
とによって達成される。 使用される塩基としては、例えばリチウム水素、ナトリ
ウム水素、カリウム水素のようなアルカリ金属水素化物
；カルシウム水素、バリウム水素のようなアルカリ土類
金属水素、化物；メチルリチウム、ニーブチルリチウム
、フェニルリチウムのような有機リチウム化合物；ナト
リウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエ
トキシド、ナトリウムｎ−プロポキシド。 カリウムｔ−ブトキシド、ナトリウムｔ−ベントキシド
のようなアルカリ金属アルコキシド又は水酸化カリウム
、水酸化ナトリウムのようなアルカリ金属水酸化物をあ
げることができるが、好適には有機リチウム化合物であ
る。 使用される不活ａ溶剤としては、反応に関与しなければ
特に制限されないが、例えばヘキサン、ベンゼン、トル
エン、キシレンのよウナ炭化水素類；エーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジグライムのような
エーテル急；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミド、ヘキサメチルホスホリルトリアミドのようなアミ
ド類；又はジメチルスルホキシドのようなスルホキシド
類或いはこれらの混合溶剤をあげることができるが、好
適にはエーテル類とアミド類、又はスルホキシド類の混
合啓剤である。 反応温度は塩基との反応においては一７８℃乃至５０℃
であり、化合物（ｘｍ）との反応におし・ては０℃乃至
５０℃である。反応に要する時間は塩基との反応におい
ては１０分間乃至１時間であり、化合物（ＸＮ）との反
応においては１時間乃至４８時間である。又、この工程
は相間移動触媒存在下上記溶媒等と水との二層反応とし
て行なうこともできる。 反応、終了後、反応目的物は常法に従って反応混合物か
ら採取される。例えば５反応混合物を水にあげ、必要に
応じて酸性にしｆｃ後、水不混和註有機溶剤で抽出し、
有機芯剤を留去することによって得ることができる。さ
らに、必要に応じて、常法、例えばカラムクロマトグラ
フィー、再結晶法等によりさらに精製することもできる
。 第８工程は、目的化合物（Ｉｃ）を製造する工程で、化
合物（′１１Ｎ）に含まれる水酸基の［１基Ｒ５及びＲ
６を除去することによって行われる。 本工程は、前記Ａ法第３工程と同様に行われ、２−エン
体と３−エン体の分離も、再結晶法等により容易に行わ
れる。又、所望により、水酸基の保護化も行うことがで
きる。 また、化合物（ＶＴＩに３いて２位に二重結合を有する
化合物（■ａ）は、化合物（Ｍ）を原料として、次に示
す方法に従って別途に製造することかで乙Ｒ５０Ｒ５ （１）　　　　　　　　　　　（ＹＪＶ’）第１０′工
程　　　　　第１１′工程 ○Ｒ５０Ｒう （ＸＶ’　）　　　　　　　　　　　　（ＸＶＴ’）Ｏ
Ｒ５ＯＲ” （Ｘ■’）　　　　　　　　　　　　　　（’／Ｉａ）
ｋ、記式中、Ｒ、Ｒ，Ｒ２よび点線を含む結合は、面述
したものと同意義を示す。 第９′工程は、一般式（ＸＩＶ’）を有する化合物を製
造する工程で、不活１生溶剤中、化合物（１）を塩基と
処理した後、一般式 Ｘ−ト（ＯＲ’）、　　　　　　　　　　　　　　（Ｘ
■′）（式中、Ｒ７オよびＸは、訂述したものと同意義
を示す。） を有する化合物と反応させることによって達成される。 使用される塩基としては、カルボニル基のα位にカルバ
ニオンを発生さτる塩基なら特に制限されないが、好適
には、ジイソプロピルリチウムアミド、シクロヘキシル
　イソプロピルリチウムアミド、ジシクロヘキシルリチ
ウムアミド、イソプロピル　１−フェニルエチルリチウ
ムアミド、２．２．６．６−チトラメテルピペリジノリ
チウムのようなリチウム第２級アミド化合物をあげるこ
とができる。 使用される不活性溶剤としては、反応に関与しなければ
特に制限されないが、好適には、エーテル、テトラヒド
ロフラン、ジメトキシエタンのようなエーテル類、ヘキ
サン、ベンゼン、トルエン、キシレン、シクロへ牛サン
のような炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、ヘキサメヂルホスホリルトリアミドのよ
うなアミド類またはジメチルスルホキシドのようなスル
ホキシド類をあげることができる。 反応温度は、塩基との処理では、−１００°Ｃ乃至０°
Ｃ（好適には、−７０℃乃至０℃）であり、化合物（Ｘ
■′）との反応では、−１０℃乃至５０℃（好適には、
−５０℃乃至３０°Ｃ）であり、反応に要する温度は、
反応温度等により異なるが、再反応とも、５分間乃至５
時間（好適には、１０分間乃至２時間〕である。 第１０′工程は、一般式ＣＸＶ’）を有する化合物を製
造する工程で、不活性溶剤中、パラジウム解媒の存在下
、化合物（Ｘｆｆ’）をトリメチルアルミニウムと反応
さでることによって達成される。 使用されるパラジウム触媒としては、例えば、テトラキ
ス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、テトラキス
（トリブチルホスフィン）パラジウム、テトラキス（ト
リ上１ルホスフイン）パラジウムをあげることができる
。 使用される不活性溶剤は、例えば、訂記第９′工程に使
用されるものまたはメチレンクロリド、クロロホルム、
１．２−ジクロロエタンノヨウなハロゲン化炭化水素類
をあげることができる。 反応温度は、−１０℃乃至１００°Ｃ（好適には、０°
Ｃ乃至５０℃）であり、反応に要する時間は、反応温度
等により異なるが、３０分間乃至１０時間（好適には、
１時間乃至５時間）である。 第１１′工程は、一般式（ＸＶＴ’）を有する化合物を
製造する工程で、不活性溶剤中、化合物（ｘｖ’）を酸
化剤と接触させることによって達成される。 使用される酸化剤としては、二重結合をエポキサイドに
酸化させる酸化剤なら特に制限されないが、好適には、
過酸化水素または過酢酸、トリフルオロ過酢酸、ｍ−ク
ロロ−過安息香酸、フタル酸−モノ過酸のような有機過
酸をあげることができる。 使用される不活性溶剤は、ρ１えば、面述のハロゲン化
炭化水素類、炭化水素＝、二−テ、し類である。 反応温度は、−２０°Ｃ乃至７０℃（好適には、０℃乃
至２５°Ｃ）であり、反応に要する時間は、反応温度専
により異なるが、１０分間乃至１０時間（好適には、３
０分間乃至５時間）である。 本反応に８いて、２位３よび３位に二重結合を有する化
合物の混合物である化合物（ＸＶ’）を原料として使用
する場合には、２．３−エポキシ体いＶｌ’）と３．４
−エポキシ体（Ｘ■’ａ）の混合物として生成物が得ら
れるが、これらは、常法、例えばカラムクロマトグラフ
ィー等によって容易に分離することができ、さらに、化
合物（ＸｆＶ’　）を高速液体クロマトグラフィー弄に
より分難じて２位に二重結合を有する化合物を原料とし
て使用する場合には、化合物（ＸＶＩ’　）のみが得ら
れる。 第１２′工程は、一般式（ＸＳＩＩ’）を有する化合物
を製造する工程で、不活性浴剤中、化合物（Ｘ′Ｌ１’
。 （式中、Ｒ３は、メチル、ブチルのようなアルキル基を
示し、Ｑは、第９′工程の第２級アミノリチウムに３い
て述べた第２級アミノ基を示す。〕を有するアルミニウ
ム化合物と処理することによって達成される。 使用される不活性溶剤は、好適には、面述したエーテル
類または炭化水素類である。 反応温度は、−２０°Ｃ乃至５０°Ｃ（好適には、０℃
乃至２５°Ｃ〕であり、反応に要する時間は、反応温度
等により異なるが、１０分間乃至５時間（好適には、３
０分間乃至２時間）である。 また、化合物（ＸＣ（’）は、常法に従って、第２級ア
ミンとシアル牛ルアルミニウムハライドから容易に製造
される。 さらに、化合物（Ｘ■′〕は、公団の方法〔例えば、Ｔ
ｅｊｒａｈｅｄｒｏｎ　、　Ｌｅｔ　＊ｅｒｓ、２７．
６３５３　（＋９８６））に従って、α側鎖の変換を行
い、２らに水酸基の脱保護化を行うことによって、次式
に示すカルバサククリン誘導１本を製造することもでき
る。 ＯＲ１： （式中、Ｒ５は、面述したものと同意義を示す。） 第１３′工程は、化合物（ＶＴａ）を製造する工程で、
不活性溶剤中、化合物（Ｘ■′）を塩基と処理した後（
第１段階）、一般式 ％式％（） （式中、Ｒａ　およびＸは、面述したものと同義を示す
。〕 を有する化合物と反応さｆ（第２段階）、さらに塩基と
処理すること（第３段階）によって達成される。本工程
は、通常、１つの反応液中で行われる。 使用される不活性溶剤は、面述したエーテル類、炭化水
素類またはアミド類である。 第１段階８よび第３段階で使用される塩基としては、好
適には、ナトリウム水素、カリウム水素のようなアルカ
リ金属水素化物、第９′工程で述べた第２級アミノリチ
ウム、メチルリチウム、ブチルリチウム、フェニルリウ
ムのような有磯リチウムをあげることができ、さらに好
適には、第１段階；こおいては、アルカリ金属水素化物
であり、第３段階では、有深リチウムである。また、上
記両段階は、１２−クラウン−４，１５−クラウン−５
，１８−クラウン−６のようなりラウンエーテルの存在
下に、好適に行われる。 反応温度は、第１段階２よび第２段階では、−２０°Ｃ
乃至５０℃（好適には、０℃乃至２５３Ｃ）であり、第
３段階では、−１００°Ｃ乃至５０℃（好適には、−７
０℃乃至２５°Ｃ）であり、反応時開は、反応温度等に
よって異なるが、第１段階では、１０分間乃至１０時間
（好適には、３０分間乃至５時間）であり、第２段階で
は、３０分間乃至２０時間（好適には、１時間乃至１０
時間）であり、第３段階では、１０分間乃至２０時間（
好適には、３０分間乃至１０時間）である。 以上の各工程の反応終了後、各目的化合物は常法に従っ
て反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を氷
水にあけ不溶物が存在する場合には炉別した、溶液が酸
性又はアルカリ性の場合には適宜中和し、水不混和性有
菌溶剤で抽出した後、溶剤を留去することにより得るこ
とができる。さらに必要ならば常法、ρ１えばカラムク
ロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィー、再結晶法
等によって更に精製することができる。 〔発明の効果〕 本願発明の化合物ｍは、その二重結合の位置異性体であ
る３−ニン体と簡便な方法で容易に分離されるため、２
−エン１本と３−エンｆ本ノ’ｔｆ＠合物である化合物
ｆｌ／ｌを原料として、容易に製造でき、かつ、以下に
示す通常の方法に従って、優れた薬理活性を有するイソ
ブロスタサイクリン類（Ｕ）に容易に導くことができる
。従って、本化合物（Ｔ）は、光学活性体等の単一構造
を有する、！９′ インカルバサイクリン類を工業的に製造するための重要
中間体である。 次ζこ本願発明の化合物（Ｉ）からインカルバサイクリ
ン類に導く方法について説明する。 ＨｃＨ （、、Ｉ）　　　　　　　　　　（ＸｆＶ）ＯＲ５０Ｒ
５ Ｃ，ＸＶ）　　　　　　　　　（ＸＶＩ）（兄’Ｉｆ）
　　　　　　　　　（ＸＶＵＣ，ＸＸ） （ＸＩＸａ）　　　　　　　　　　　　　　　　ＣＴｌ
１）（、Ｘ［ｔ））（ＸＸ） 第１７エ程 （，，ＸＸ１）　　　　　　　　　　　　　　　　　（
廟ＶＯＨＯｈ （ＩＩ） 上記式中、　Ｒ＋、　Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６は、前
述したものと同意義を示し＊　Ｒ’ａ＆２　＊式−ＣＨ
２−０−Ｃ−Ｒ２を有する基（式中、Ｒ２は、＠述した
ちのと園１意義を示す。）又は式−〇　〇　Ｒ５（式中
、Ｒ３は前述したものと同色義を示す。９を示し、Ｒ８
＋：、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチルのよ
５な活性アシル基、ジ低級アルキル−ｔ−ブチル若しく
はジアリール−ｔ−プチルシリル基のようなシリル基又
はトリチル基を示す。 Ｒ４のアルキル基としては例えばメチル、エチル、ｎ−
プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｎ
−ペンチル、インペンチル。 １−メチルペンチル、２−メチルペンチル、ｎ−ヘキシ
ル、ｎ−ヘプチル、＋、１−ジメチルペンチル、１−メ
チルヘキシル、２−メチルヘキシル、２−エチルペンチ
ル、ｎ−オクーｙ−ル、２−メチルオクチル、ｎ−ノニ
ル、２−メチルノニル、２−エチルオクチル、ｎ−デシ
ル、２−メチルデシルまたは２−エチルデシルのような
炭素数１乃至１２個のアルキル基をあげることができ、
好適には炭素数４乃至１０個を有するアルキル基１例え
ばｎ−ブチル、イソブチル、ｎ−ペンチル、インペンチ
ル、１−メチルペンチル、２−メチルペンチル、ｎ−ヘ
キシル、ｎ−ヘプチル、１，１−ジメチルペンチル、１
−メチルヘキシル、２−メチルヘキンル、２−工ｆルペ
ンチル、ｎ−オクチル、２−メチルオクチルま之シま２
−エチルオクチル基でちり、さらに好Ａ　ｉｃ　６１　
ｎ−ヘンチルｈ’　−メチルペンチル、ｎ−ヘキシル、
１．１−ジメチルペンチル、１１−メチルヘキシル基ま
たは２−メチルヘキシル基である。 Ｒ４のアルケニル基としては、１−ブチルビニル、アリ
ル、２−プロピルアリル、２−ブテニル、２−ペンテニ
ル、４−ペンテニル、２−メチル−３−ペンテニル、４
−、＋’チルー３−ペンテニル、１−）’ｆシル−−ペ
ンテニル、４−へキセニル、５−へキセニル、＋、４−
ジメチルー３−ペンテニル、５−へブテニル、１−メチ
ル−５−へキモニル。６−メｆルー５−へブテニル、　
　２．６−シメチルー５−ヘプテニル、　Ｉ、　Ｌ６−
ドリメチルー５−へフチニル、６−メｆルー５−オクテ
ニル、２．６−シメチルー５−オクテニル、６−エチル
−５−オクテニル、２−メチル−６−エチル−５−オク
テニル、λ６−ジニチルー５−オクテニルのような炭素
数３乃至１２個を有する直鎖状若しくは分枝鎖状のアル
ケニル基をあげることができ、好適には１−ブチルビニ
ル、２−プロピルアリル、２−ペンテニル、４−ペンテ
ニル、２−メチル−３−ペンテニル、４−メｆルー３−
ペンテニル、１−メチル−４−ペンテニル、４−へキモ
ニル。５−へキセニル、Ｌ４−）メチル−３−ペンテニ
ル、５−へフチニル、１−メｆルー５−へキセニル、６
−メｆルー５−へフチニル、２．６−シメチルー５−ヘ
プチルのような炭素数５乃至９個のアルケニル基である
。 Ｒ４のアルキニル基としては１例えばプロピルギル、２
−ブチニル、２−ペンチニル、３−ヘプテニル、１−メ
チル−２−ブチニル、２−へキモニル。１−メチルー２
−ペンチニル、１−メチル−３−ペンテニル、１，１−
ジメチル−２−ペンチニル、１．１−ジメチル−３−ペ
ンチニル、１．１−ジメチル−２−へキシニルのような
炭素数３乃至８個を有するアルキニル基をあげることが
でき、好適には炭素数４乃至６個を有するアルキニル基
、例えば２−ブチニル、２−ペンチニル、３−ペンチニ
ル、１−メチル−２−ペアｆニル品ｔ７ｔ；２１−メチ
ル−３−ペンチニル基であり、さらに好適にシフ−メチ
ル−３−ペンチニル基である。 Ｒ４のシクロアルキル基として＆：１例えばシクロプロ
ピル、シクロブチル、シクロペンチル、３−エチルシク
ロペンチル、シクロヘキシル。 ４−メチルシクロヘキシル、シクロブチル。 メンチルのような低級アルキル基を置換分として有して
もよい３乃至７員環のシクロアルキル基をあげることが
でき、好適に汀シクーベンチル基又はシクロヘキシル基
である。 又、化合物（ＩＩ）は、リポ裂創としても使用できる。 第９工程は、一般式（ＸＩＶ）を有する化合物を製造す
る工程で、化合物（■）を一般式 ％式％） （式中、Ｒ８及び又は、前述し念ものと同意義を示す。 ）を有するハライドと反応させることによって達成され
る。 Ｒ８が活性アシル基である化合物（ＸＸＩ）と化合物（
Ｉ）の反応１丁、前記Ａ法第５工程の相当する反応と同
様に行わｎるが、温和な条件で活性アシルハライドを過
剰にならないように使用することによって好適に行われ
る。又、Ｒ８がトリ置換シリル基又はトリチル基である
化合物（ＸＸ、ＩＮ）と化合物Ｃ１）との反応は、温和
な条件で後述する第１０工程の相当する反応と同様に行
われる。 第１０工程は、一般式（ＸＶ）を有する化合物を製造す
る工程で、化合物（ＸＩＶ）の水酸基を保護することに
よって達成される。 反応は常法に従って化合物（ＸＩＶ）を保護基を形成す
る化合物と接触させることによって行なわれる。使用さ
れる保護基を形成する化合物としては例えば酢酸、プロ
ピオン酸、酪駿、安息香酸、ナフタリンカルボン酸のよ
うなカルボン酸若しくはその反応性誘導体；ベンジルク
ロリド、ベンジルプロミド、ｐ−ニトロベンジルプロミ
ド、ｐ−メトキシベンジルプロミド、トリチルクロリド
のようなアラルキルハライド化合物；ジヒドロビラン、
ジヒドロチオビラン、ジヒドロチオフェン、４−メトキ
シ−５，６−シヒドロー（２Ｈ）ビランのような５若し
くは６員環状の複素環化合物；メトキシメチルクロリド
、ニドキシエチルクロリド、ベンジルオキシメチルクロ
リドのようなアルコキシ若しくはアラルキルオキシ置換
アルキルハライド化合物；メチルビニルエーテル、エチ
ルビニルエーテルのｊ５な不飽和エーテル類；ヘキサメ
チルジシラサン。 トリメチルシリルクロリド、トリーｎ−プロピルシリル
クロリド、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリド、ジフェ
ニルｔ−ブチルシリルクロリドのようなシリル化合物な
どをあげることができる。 カルボン酸化合物を使用する場合には、ジシクロへ印ジ
ルカルボジイミドのような縮合剤の存在下に好適に行わ
れる。 カルボン酸の反応性誘導体としては、例えば酢酸クロリ
ド、酢識プロミド、ペンゾイルクロリ　ド、ベンゾイル
プロミド、ナフトイルクロリドのような酸ハライド化合
物又は無水酢酸、無水ブーピオン酸、無水安息香酸のよ
うな酸無水物をあげることができ、本誘導体を使用する
場合：こハ、トリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチ
ルアミノピリジン、キノリン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリ
ンのような有機塩基の存在下に好適に行われる。 不反応は浴剤の存在下で行われる。使用される溶剤とし
てシ；、例えばベンゼン、トルエン。 キシレン、ｎ−ヘキサンのような炭化水素類、塩化メチ
レン、クロロホルム、四塩化炭素、クロルベンゼンのよ
うなハロゲン［ヒ炭化水素類。 エーテル、テトラヒドロ７ラン、ジオキサンのようなエ
ーテル類、アセトン、メチルエチルケトンのようなケト
ン類をあげることができるが。 好適シこシ；炭化水素項である。 反芯温変は通常０℃〜１００℃であり１反応に要する時
間は反応試剤１反応温度、溶剤等により異なるが、３０
分間乃至６時間である。 アラルキルハライド化合物、アルコキシ若しくはアラル
キルオキシ置換アルキルハライド化合物又はシリル化合
物を使用する場合には、不活注溶剤中化合物（ＸＩＶ）
を水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ
金属水素ｆヒ物と反応させ、化合物（ＸＩＶ）のアルカ
リ金寓塩を製造し念後に、相当す゛るハライド化合物又
＆ニジシラザンのようなシリル化試薬を反応させること
によって達成される。 使用する不活性溶剤は反応に関与しなしすれば特に限定
されないが５例えばエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンのようなニーチル類、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホリルトリア
ミドのようなアミド類、アセトニトリル、ベンゾニトリ
ルのようなニトリル類又はジメチルスルホキシドのよう
なスルホキシド類をあげる二とができるが、好適；こシ
＝アミド類である。 反応温度に０℃乃至１００℃であり、反応に要する時間
：・；反応試剤１反応温度等により異なるが通常１０分
間乃至３時間である。 父、トリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノ
ピリジンのような有浸塩基又は水鼠当するハライド化合
物を反応させることもできる。 ５若しくシま６員環状の複素環化合物又は不飽和エーテ
ル類を使用する場合には、反応に不活性＠剤の存在下又
＆丁不存在下少量の酸、例えば塩酸、臭化水素酸のよう
な鉱酸またはピクリン酸、トリフルオロ酢駿、ベンゼン
スルホン酸、ｐ　−）ルエンスルホン駿、カンファース
ルホン酸のような有礪醒の存在下で実施される。 使用される溶剤としては反応に関与しなければ特に！ｌ
Ｉ限さ几ないが１例えばエーテル、テトラヒドロフラン
、ジオキサンのようなエーテル類、塩ｒヒメチレン、ク
ロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類
又し：ベンゼン。 トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類をあげる
ことができるが、好適にはハロゲン化炭化水素類である
。又、不活性溶剤の不存在下。 溶剤を兼ねて複素環化合物又はビニルエーテル化合物を
過剰に使用することによっても反応シ；行われる。 反応温度は通常０℃乃至５０℃であり、反応に要する時
間は反応試剤、反応温度等により異なるが、３０分間乃
至３時間である。 以上の各反応終了後、水底基の保護された目的化合物は
常法に従って反応混合物から採取さｎる。例えば、反応
混合物を氷水にあげ不溶物が存在する場合には戸別した
後、溶液が酸化又はアルカリ注の場合には適宜中和し１
水不混和性有機溶剤で抽出した後、溶剤を留去すること
により得ることができる。さらに必要ならば零法、例え
ばカラムクロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィー
、再結晶法等によって更に精製することができる。 なおｌがトリ置換ンリル基又′Ｌ：　ト’Ｊチル基であ
る場合（こけ　Ｂ５は、好適には５乃至６員環状複素環
基又はアシル基である。 第１１工程・（丁、一般式（ＸＶＩ）、Ｐ有する化合物
を製造する工程で、化合物（ＸＶ）のＲ８を除去するこ
とによって達成さ、ｎる。 Ｒ８が活性アシル基である場合には　Ｈａの除去は、相
当する化合物を、不活（生＠剤中、弱塩基と昌和な乗注
で反応させることによって行われる。 使用さｎる弱埴基としては、例えば、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩；
酢酸ナトリウム、酢酸カリウムのような脂肪族カルボン
酸のアルカリ金属塩；塩基性アルミナ；又し；トリエチ
ルアミン、ピリジンの、ｌ：うな有）］幾アミン５をあ
げることができるが、好適にはアルカリ金属重炭酸塩で
ある。 便用さｎる不活性１容】］（・；反応に関与しな１１す
れば特′こ部１１ユ艮でれないが、例えばメタノール、
エタノール、ｎ−プロパノール、インプロピルアルコー
ルのようなアルコール類；エチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ジメトヤシエタンのようなエー
テル類；ジメチルスルホキンドのようなジアルキルスル
ホキント類２よびこれらの有機溶剤と水との混合溶剤を
あげることができるっ反応温度には特に限定・になく、
通常は室温乃至５０℃で行われる。反応時間は反応温度
などによって異なるが、通常は１乃至１２時間である。 又、Ｒ８がトリ置換シリル基又はトリチル基である場合
には、Ｒ８は、それぞｎ前記Ａ法第３工程の相当する反
応に従って除去さ几る。又、３５とＲ８の保護基の組合
せにより適宜反応条件を還択することができる。 第１２工程は一般式（ＸｖＩｌ）を有するホルミル体を
製造する工程で、化合物（ＸｖＩ）を酸化することによ
って達成される。 本反応に１級アルコールをアルデヒドに酸化する通常の
７虫；こ従って行われる。 使用される酸化剤としてはｔｌＪＩＪえば無水クロム酸
、無水クロムα−ピリジン錯塩（Ｃｏｌｌｉｎｓ　　試
薬）、無水クロム酸−濃λ酸−水（ＪＯｎＪＳ　試薬）
。 重クロム酸ナトリウム、重クロム酸カリウムなどのクロ
ム酸類；Ｎ−ブロムアセトアミド、Ｎ−ブロムスクシン
イミド、Ｎ−ブロムフタルイミド、Ｎ−クロル−ｐ−ト
ルエンスルホンアミ）’、Ｎ−／ロルベンゼンスルホン
アミドなどの有機活性ハロゲン化合物；アルミニウムー
ｔａｒｔ−プトキンド、アルミニウムインプロポキシド
などのアルミニウムアルコキシド類；ジメチルスルホキ
シド−ジシクロカルポジイミド；ピリジン−無水硫酸、
チオアニン−ルー塩素などが好適に用いられる。 反応は、不活性有機溶剤中、好適に行われ。 使用され溶剤としては１例えばメチレンクロリド、クロ
ロホルム、四塩化炭素のようなノ・ロゲン化炭化水素類
、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのような
ニーチル類、ア七トン。 メチルエチルケトンのようなケトン類又はジメチルスル
ホキシドのよ５なスルホキシド類をあげることができる
。必要ならばトリエチルアミン等の塩基を加えることが
できる。 反応温度は０℃乃至室温であり、反応に要する時間は通
常３０分間乃至３時間であるっ反応終了後、目的のホル
ミル化合物は常法に従って反応混合物から採取される。 例えば反応終了後、不溶物が存在する場合にはＦ別して
、氷水にあけ、適宜中和した後、水不混和性有機溶剤で
抽出し、溶剤を留去することによって得ることができる
。 さらに、必要に応じて、常法、例えばカラムクロマトグ
ラフィー、再結晶法等によりさらに精製することもでき
る。 又、化合物ＣＩ）を直接上記方法により酸化し、ホルミ
ル化合物を製造し１次いで水酸基を保護することによっ
ても化合物（ｘＶ［［）を製造でごろ。 第１３工程は、一般式（■）を有する化合物を製造する
工程で、化合物（ＸＶ［［）に、一般式（式中Ｉ　Ｒ４
１”及びＭは前述したものと同意義を示す。） を有する化合物を反応させることによって達成される。 本工程は、前記Ａ法第１工程と同様に行、ｂれる。 第１４工程は一般式（ＸＩＸ）を有するアルコール誘導
体を製造する工程で、化合物（ｘｖｍ＊を還元剤と反応
させることによって達成される。 本反応は−ｊ常不活性溶剤中で行われる使用される還元
剤としてはカルボニル基のみを水酸基に変換する還元剤
であれば特に限定はｋぐ、侶１チ；ｔ’　＊　＝什ホウ
去ナトリウム、水塔イヒホウ素カリウム、水素化ホウ素
リチウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化トリー’；ａｒｔ
−ブトキシアルミニウムリチウム、水素化トリメトキシ
アルミニウムリチウム、水素化シアノホウ素ナトリウム
などの水素化金属化合カスり＝アルミニウムイソプロポ
キシド、ジイソブチル−（２，６−ジーｔ−ブチル−４
−メチルフェノキシ）アルミニウムのようなアルミニウ
ム化合物をあげることができるが、好適には水素化ホウ
素ナトリウムである。 又、二重結合の還元を抑シ１する念めに、塩化セリウム
等を刃口えることもできる。 使用される不活性溶剤は反応に関与しなげれば特に限定
さｎないが１例えばメタノール、エタノール、ｎ−７’
ロバノール、ｎ−ブタノール。 ｔ−ブタノールのようなアルコール類又・）；エーテル
、テトラヒドロフラン、ジオキサンの一＋：うなエーテ
ル項又シ；これらの混合、容ＭｉＪをめげるごとができ
るが、好適；こ−・：アルニール類、特；こメタノール
でわろ。 反応温度１′！通常０℃乃至室温であり、反応に要する
時間−二反応試剤１反応温度等により異なるが１０分間
乃至２時間である。 反応終了後１本工程の目的化合物は常法に従って１反応
混合物から採取される。例えば反応終了後、溶剤を減圧
下で留去し、氷水を那えて水不混和性有機溶剤で抽出し
、有機溶剤を留去することによって得られる。 第１５工８は１化合物（Ｉｔ）を製造する工程で、化合
物（Ｘ１片こおいて、Ｒ１が式 ０Ｔ（２０Ｃｌ１（２Ｃ−ＣＨ３を有する基（式中、Ｒ
３（：、前述したものと同意義を示す。）である化合物
（ＸＩＸａ）の水酸基の保護基Ｒ５を除去し、加水分解
することによって達成さｎる。 Ｒ５の除去反応及び７７１１水分解は、前記へ法第３工
程の相当する反応と同様に行われる。 第１６エ程は、一般式（、ＸＸ）を有する化合物を製造
する工程で、化合物（ＸＶ）において、　Ｒ１が式Ｒ’
ａ（、式中＊　Ｒ’　ａｋゴ、前述したものと同意義を
示す。）である化合・物（ＸＶ：、”ｏ）の水浚基を保
ｊすることによって達成さ乙る。 本工程は、前記第１０工程と同様に行われる。 第１７エ８は、一般式（Ｘ′Ａ）を有する化合物を製造
する工程で１Ｒ１ａが式−ＣＨ２０Ｃ−Ｒ２を有する基
（Ｒ２は、前述しｔものと同意義を示す。）である場合
には、相当する化合物を加水分解することにより、又Ｒ
１ａが式−Ｃ−〇−Ｒ３を有する！１ 基（Ｒ３は、前述したものと同意義を示す。）である場
合には、相当する化合物を還元剤と処理することによっ
て達成さｎる。 加水分解は、前記へ法第３工程の相当する反応と同様に
行われ、還元剤との反応は、前記Ｂ法第４工程と同様に
行われる。 第１８工程は、一般式（ＸＸＩＩ）を有する化合物を製
造する工程で、化合・物（、ＸＸＩ）を前記化合物Ｃ，
ＸＫ）と前記Ｃ法第７エ程と同様に反応させることによ
って運成さｎろ。 第１９工程は、化合物（ＩＩ）を製造する工程で、化合
物（ＸＸＩＩ）　Ｄ水酸基の保護基を除去し加水分解す
ることによって達成される。 水酸基の除去反応及び加水分解は、前記Ａ法Ｍ３工程の
相当する反応と同様に行われる。 以下に実施列及び参考例をあげて、本発明をさらに具体
的に説明する。 実施例１゜ ５５％ナトリウム水素１．４３９をヘキサンで洗滌し次
のち、テトラヒドロフラン６７．５　、πｅ及びジメチ
ルホルムアミド４９ｍ１に懸濁する。氷冷した後、トリ
メチルホスホノアセテート８．６３７を加えた。次に６
β−（２−テトラヒドロピラニルＩキ７メチル）−７α
−（２−テトラヒドロビラニルオキン）−３−オキソ−
シス−ビシクロ（３，３，０）オクタン８２１ｔのテト
ラヒドロフラン溶液１４．５　ｙｔｌを加え室温で４時
間攪拌した。反応終了後、氷水１５０１πｇに稀沢し酢
酸エチルで抽出する。抽出液を食塩水で洗滌し硫酸ナト
リウムと共に乾燥した。溶媒を留去し得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると１１．
６２　ｆの油状の目的化合物が得られた。 工Ｒスペクトル（Ｌ工ｑ）シ、ｍａｘｃｒ１：８１６．
８６９，９１０，９７５．＋０３２，１０７７゜１　＋
　３０．１３６８．１６５６．１７４０実廁例２ 無水テトラヒドロフラン２　ｇ　、ｙｔｌにジノクロヘ
キシルアミン１１３．７！ｌを溶解して一７８℃に冷却
し、＋５％ｎ−ブチルリチウム（ヘキサン浴液）　３．
４　ｍｉ！を滴下して１０分間Ｔ釆押後、ヘキサメチル
ホスホルアミド１．０８ｍ１を滴下して１０ｒｒｔｌに
＠解して滴下し、３０分間−７８℃に攪拌し九のち、飽
和塩化アンモニウム水溶液５　ｍｌを加えて１０分間攪
拌後、室温に戻して水２００１ゴに希訳し酢酸エチル抽
出、抽出液を水洗、希塩酸水洗、水洗、無水芒硝乾燥、
溶媒を減圧下に留去と順次行なって得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーに付すことにより目的
化合物Ｌ　４５　ｆを得た。 工Ｒスペクトル（、Ｌｉ−ｑ）　ｖ　ｍ３ｇ７Ｆ−’　
：８１８．１１７０，９１０，９８０．１Ｇ２４，１０
３８゜１０８Ｇ、　１１２２．１１４０．１２６Ｇ、　
１４４０゜実施例３゜ ３−メトキシカルボニルメチル−６β−（２−テトラヒ
ドロピラニルオキシメチル）−７α−（２−テトラヒド
ロピラニルオキシ）−シス−ビシクロ（３，３，Ｏ］］
オクトー２−エと３−二ンの１対１の混合物１０．４９
をメタノール３００ｉｌに溶解してｐ−）ルエンスルホ
ン象３２を加えて室温に５０分間攪拌した。次いで、安
水溶液にて洗浄後、無水芒硝乾燥、溶媒を減圧留去と項
次行って得られた結晶性残渣５．９ｔヲ酢醸エチルとｎ
−ヘキサンよりの再結晶を４回繰返して行い融点９６−
９９℃を有する目的化合物′Ｌ３２を得な。 ＺＲスペクトル（ＫＢｒ）シｍａｘ画−＋　：１０８０
．１１７０．１２０Ｇ、１２１５．１７４０゜３３０　
Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ１３）δＰ：３、１０　（２
）１．　Ｓ）、　３．６９　（３Ｉ（、Ｓ）、　５．５
４（，１１（、Ｓ） 〔α〕ｐ”２２．１°（Ｃ＝　１　、　ＣＨＣｌ３’）
実施例４゜ オクタン ５５チ油性水素ｒヒナトリウムの油分をｎ−ヘキサンに
て洗い取ったのちにテトラヒドロ７ラン３Ｑｒｔｔｅと
ジメチルホルムアミド２０ｍｅを加え攪拌下にトリメチ
ルホスホノアセテート２．３１を滴下し室温に３０分間
攪拌した。次いで、ケトン体（参考列２２の化合物）２
．３１をテトラヒドロフランｌ０１ｌｌ！ｌに溶解して
猟え室温に１．５時間攪拌した。反応ｇ、を水＋５０ｉ
／に希釈して酢酸エチル抽出、抽出層を水洗、無水芒硝
乾燥。 溶媒を減圧下に留去と頭次行い得られた残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィーに付すことにより目的化合物２．
５１を得之。 ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）νｍａＸ　Ｃ「’　：１　６
６０．１７２Ｏ ＮＭＲスペクトル（ｃＤｃｘ５　）δｐ：３．７０（３
Ｈ，ｓ）、４．６７（ＩＨ，ｍ）、５．８３（ＩＨ，ｂ
ｒ、ｓ）７．５（３Ｈ，ｍ）、　８．１　（２Ｈ，ｍ）
実施例５゜ ジシクロヘキシルアミン２．４５．πｌを無水テトラヒ
ドロフラン８０ｘｌζ″こ溶解してチッ素ガス雰囲気下
に一７０℃に冷却攪拌下にｎ−プチルリし アミド２．、３５　、ｙｔｌを滴下して５分間攪洋ト′
二重結合共役エステル体（実施例４の化合物）２．５３
ｆをテトラヒドロフランＩＱ、ｒｔｌＬこ溶解して加え
３分間攪拌の後に飽和塩化アンモニウム水溶゛夜１０Ｉ
ｇを刃口えて室温に戻しつつ２０分間攪拌と１次行った
。反Ｚ液を水１５０ａＪに希釈して酢酸ニチル抽出、抽
出層を希塩酸水洗、水洗、無水芒硝乾燥、溶媒を減圧下
に留去と頭次行い得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付すことにより目的化合物λ４６１を
得た。 ＩＲスペクトル（Ｌ工ｑ）νｍ４ｘ　ｃｍ　’　ニア１
０、＋０３０．＋１２０．１２７０．１７２０．１７４
ＯＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ１３）δＰ：３ｉ０（２Ｈ
，Ｂ）、　３゜７０（３Ｈ，ｓ）、　５．５３（ｊＨ，
ｂｒ−ｓ　）、　７．５（３Ｈ，ｍ）、　８．１　（２
Ｈ，ｍ）実施例６゜ ベンゾイルオキシ体（実施例５．０化合物９１．３７を
メタノール２５、πｅに溶解して無水炭酸カリウム２５
０　ｍ９を加えて室温に１６時間攪拌し念。反応液を食
塩水１００、πｌに希釈して酢酸エチル抽出、抽出層を
水洗、無水芒硝乾燥、溶媒を減圧下に留去とｊ項次行（
・得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ２イー
に付すことにより目的化合物０８９２を得之。 工Ｒスペクトル（Ｔｉｑ　）νｍａＸｃｒｒＬ。 １０２５、　＋０７５．　＋１４０．１２０５．１７４
０．３４５ＯＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ１５）δＰ：３
．０８（２Ｈ，ｓ）、　３．６８（３Ｈ，Ｂ）、　４．
７（ＩＨ，ｍ）。 ５．５０（ＩＨ，ｂｒ、ｓ） 実施列７゜ ピラニル体（実施例６の化合’ｆｌｉＪ　）　ｔ　５グ
を実施例３と固嵌に処理して実施例３の化合物とローの
理化学的性質を有する漂記ｆヒ合物ｏ、５２グを得念。 実施例８゜ 一シスービシクロ［：　３．３．０　］オクタン５５多
油注水素化ナトリウムをヘキサンで洗、滌後、テトラヒ
ドロフラン１５ゴおよびジメチルホルムアミドＩＯｇ／
に懸濁し、トリメチルホスホノアセテート１．３　ｒｎ
ｌを水冷下に滴下した。 ３０分攪拌したのち、６β−（ジフェニル−ｔ−プチル
シリルオキシメチル）−７α−（２−テトラヒドロビラ
ニルオキシ）−３−オキソ−シス−ビシクロ〔３３、Ｏ
〕オクタン２．ロクのテトラヒドロフラン溶液８．πｇ
を加えた。室温に４時間攪拌後、氷水に稀釈し酢酸エチ
ルで抽出する。抽出液を飽和食塩水で洗滌したのち硫酸
ナトリウムと共に乾燥する。溶媒を留去し得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると１
２６１の油状の目的化合物が得られた。 ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）シｍ、ｘＣｍ　　−５０４、
７０３，＋１１３．１３００．１５９０．１６５８゜ご
Ｉ′ｌＲスペクトル（ＣＤＣ１３）δ１４ＩＩＩ：ｔｏ
ｌｌ（９Ｈ，Ｓ）、３．６８（，３Ｈ，Ｓ）、５．７８
（Ｉｆ（、Ｓ）。 ７、３　Ｓ−７，９（１０Ｈ，ｍ） 実施１”ｙｌＪ　９゜ 無水テトラヒドロフラン２０ｒｎｅにジシクロヘキシル
アミン０．８４　ｄ’５溶解して一７８℃に冷却し、１
５％ｎ−ブチルリチウム（へ千サン溶液）　１．７　ｒ
ｎｌ！を滴下して１０分間潰拌後、ヘヤサメチルホスホ
ルアミド０．６９　ｒｒｔｅを滴下して１０ン５　ｒｙ
ｌに溶解して滴下し、３０分間−７８℃暑こ攪拌したの
ち、飽和塩化アンモニウム水溶グ５ｍｌを加えて１０分
間攪拌後、室温に戻して水２００πｇに希釈し酢酸エテ
ル抽出１抽出液を水洗、希塩酸水洗１水洗、無７Ｘ芒硝
二計桑、Ｓ媒を減圧下に留去と順次行なって得られた残
渣をシリカケルカラムクロマトグラフィーに付すことに
より目的化合物をほぼ定量的に得念。 工Ｒスペクトル（Ｌｉｑ）シｍａ：！、Ｃ「１：５０３
、７００．１１１５．１５９０．１７４５ＮＭＲスペク
トル（、ＣＤＣ１３）δＰ：１０８（９Ｈ，Ｓ）、　３
．６７（，３Ｈ，１９）、　５．５２（、ＩＨ，ｂｒ。 ｓ　）、　７．３〜７．９（ＩＯＨ，ｍ）実施例１０ ３−（メトキシカルボニルメチル）−６β−（ジフェニ
ル−ｔ−ブチルシリルオキシメチル〕−７α−（２−テ
トラヒドロピラニル〕オキシーシス−ビシクロ（３，３
，０）オクト−２−エン２よび万りトー３−エンの混合
物１．Ｏｆをテトラヒドロフラン５　ａｔにとかし、１
モルのテトラプチルアンモニウムフルオリドのテトラヒ
ドロフラン溶液４．πｇを加え室温で１時間反応する。 反応終了後、飽和食塩水にあげ作成エチルで抽出する。 抽出液を飽和食塩水で洗滌後乾燥する。 溶媒を留去し得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフ
ィーで？Ｉ裂すると４９３■の油状の目的化合物が得ら
れた。 ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）νｒｎａｘＣｍ。 １０２５、１０８０．１７４０．３４６０この化合物は
実施例３と同様に処理すると実施列３の化合物１５０ｍ
グ（融点９６−９９℃）に変換さｒｔ、ｆｃ。 実施例１１゜ ３−（メトキシカルボニルメチル）−６β−（ジフニニ
ルー℃−ブチルシリルオキシメチル９−７α−（２−テ
トラヒドロピラニル）オキシ−シス−ビシクロ（３，３
，０）オクト−２−エンおよびオクト−３−エンの混合
物（９５Ｂ、ｍ５＋）ト％酸１５０　ｍｌ　、水５０ｍ
１．テトラヒトｏ７ラン（ＴＨＦ）１０雇ｌの混合物を
４０へ５０℃で５埒間攪拌する。反応終了後、飽和食塩
水にあげ酢改エチルで抽出する。抽出液を水洗後、無水
硫酸す）　ＩＪウムと共に乾燥する。溶媒を留去し得ら
れた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで横裂すると
１２３ｍグの油状の目的化合物が得られた。 ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）νｍａＸ　Ｃｍ　　ａ３４５
０、１７４０．１５９０ 実施例１２ の混合物 水素化アルミニウムリチウム１６１をテトラヒドロフラ
ン１７０□πｇに加えて懸濁（γ押下にエステル体（実
７＠　ヒｌＪ　２の化合物）８４グをテトラヒドロフラ
ン３０！Ｉｔ／！に溶解して滴下し３０分−間室温に攪
拌した。次いで、４％水鼠化ナトリウム水呂浴液、　４
４　ｍｅを加えて室温に１時間攪拌したのち不溶物をセ
ライトを用いてＦ去しＰｉを減圧下に濃縮と順次行い得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
すことにより７．７１の目的化合物を得念。 工Ｒスペクトル＜、ｒ−１ｑ　）ν融Ｘ　Ｃｍ　’　：
１０２Ｇ、　１０３０．１０７Ｇ、　１１２０．１１３
５．３４５ＯＮＭＦｊスペクトル（ＣＤＣ１５）δＰ：
４．６５（２Ｈ，ｂｒ、ｓ）、　５．４７（ＩＨ，ｂｒ
、ｓ）実施例１３゜ とドロキシ体（実施例１２の化合物）３６８ｆをピリジ
ン１００　認１７Ｃ溶解して２０℃攪拌下に塩化ベンゾ
イル１５ｒｎｌを滴下し室温に２０分間攪拌した。反Ｚ
　ｆＬを水４００πｅに希釈して酢酸エチル抽出、抽出
液を水洗、無水芒硝乾・桑、溶媒を減圧下に留去と順次
行い目的化合物４７グを得た。 工Ｒスペクトル（Ｌ工ｑ）νｍＢ、ｚＣｍ　　。 ７１５、１０３０．１０８０．　＋１２０．１２８０．
　Ｉ７２ＯＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ１５）δ−二４．
４４（２Ｈ，ｔ）、　４．６４（２Ｈ，ｍ）、　５．４
７（ＩＨ，ｍ）。 ７．４−８．２（，５Ｈ，ｍ） 実施例１４ ジビラニル体（実施例１３の化合物〕４７グを実施例３
と同様に処理して得之残渣を塩化メチレンとシクロヘキ
サンより再結晶を１操返し行うことにより融点８７−８
９℃を有する目面化合物９．５７を得之。 ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）νｒｎａｚｃｍ　　。 ７１５、１０８０．　！＋２０．１２８０．１７】５．
３２２ＯＮ　Ｍ　Ｒスペクトル（ＣＤＣ″−リδＰ：４
．４３（２Ｈ，ｔ）、５．４６（ｊＨ，ｂｒ、ａ）、７
．４８（３Ｈ。 ｍ）、８．０５（２Ｈ，ｍ） Ｃａ：１２３＝−ｚａｏ　（Ｃ＝１．０１ＣＨＣ１５）
実施例１５ ヒドロキシ体（実ａｆｆｌＪ１２の化合物）８３１を後
述する参考列７と同様に処理したのちジアン゛メタンの
エーテル俗；夜をジアン゛メタン％Ｑの黄色が消失しな
くなるまで加えてエーテルを苗云することにより目的化
合物８．８９を得乏。また目的化合物はモノブロム酢酸
メチル等のモノハロゲン酢酸メチルを用いることにより
直接得ることができる。 ＩＲスペクトル（、Ｌｉｑ）νｍａｘｃｍ　　。 ９８０、　＋０３０．　＋０８０．１１４０．　＋２０
５．１７４０゜ＮＭＲスペクトル（ｃＤｃｌｓ）δｐ：
３．７６（３Ｈ，ｓ）、４．０９（２Ｈ，ｓ）、４．６
４（２Ｈ，ｍ）。 ５．４０（，２Ｈ，ｍ） 実施列１６゜ ２−エン ジピラニル体（実施例１５の化合物）８８２を実施例３
と同様に処理して融点６３−６４℃を有する目的化合物
１７４ｆを得念。 工Ｒスペクトル（ＫＢｒ）　Ｉ’　ｍａｘ　ｃｍ　’　
：１０４０、　＋０７５．１１５０．１２１５．１７５
０．３２６ＯＮ　！ｉ’ｌ　Ｒスペクトル（、ＣＤＣｌ
すδＰ：３．７６（３Ｈ，Ｓ）、　４１０（２Ｈ，Ｓ、
ｌ、　５．４４（ＩＦ（、Ｓ）〔α〕Ｄ＝−！１．０°
　（ｃ　＝　ｔ　Ｏ、ｃ：（ｃ１５）実施列１７ ！ ６β−（１−プチルジフェニルシリルオキンメチル）−
７α゛（２−テトラヒドロピラニルオキシン）−３−オ
キソシス−ビシクロＣ３，３，ｏ〕オクタン（１０，９
）のテトラヒドロフラン溶液（１００ｍｌンを、リチウ
ムジシクロヘキシルアミドパ液〔シンクロヘキシルアミ
ン（　９．　５　ｍ，ｌ　）のテトラヒドロフランｌ容
；夜（３＋］Ｏｍｔ）２よび１５％ｎーフ゛チルリチウ
宮午サン溶液（２５ｍｔ）より調製〕に水冷下加えた。 １０分間撹拌したのち、ジフェニル　りロロホスフエー
）（９．０ｍｔ）を加え、室温で２０分間撹拌した。反
応液を水で稀釈し、エーテルで抽出する、抽出液を飽和
食塩水で洗滌後、硫酸ナトＩＪウムで乾燥する。溶媒を
留去し、得られた残査をノリヵゲルカラムクロマトグラ
フイーで精製する。５０％エーテル含有ヘキサン流出部
より１４５ｇの油状のリン酸エステル体（ＩＲスペクト
ル（Ｌｉｑ）；　２９４０．Ｉ４９Ｑ、目９Ｑ、目６０
．９６５　ｃｍ−’　）が得られた。丘で得たリン酸エ
ステル体（＋４．５ｆ））とテトラキストリフェニルホ
スフインパラジュウム（２，ＯＯｇ）の１．２−ジクロ
ロエタン患濁液（２００ｍｔ）　　に、１５％トリメチ
ルアルミニウムのヘキサン溶液（ｓｏｍｔ）を加え室温
３時間撹拌する。反応液に水飽和エーテルを加え、析出
物を濾過する。溶媒を留出し得られた残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製する。３〜４％酢酸エ
チル含有へ牛サン流出部より４．６８ｇの油状の目的物
が得られた。 ＩＲスペクト／’（Ｌｉｑ）　；　２９２０．　＋４２
５．　Ｎ＋ｏｃＭＬ−Ｎ　ＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ２
）δ−；１．０１３　（９Ｈ，Ｓ）、１．６７　（３Ｈ
，５）、５．２８　（＋Ｈｂｒ、ｓ）、７．３〜７．５
　　（６Ｈ，ｍ）、　７．６〜７．８　　（４Ｈ，ｍ）
実施例１Ｂ オクタン メチル体（実施例１γの化合物：３ａａｔｎｑ）のジク
ロルメタン溶液（６ｍｉ）に８５％メタクロロ過安息香
酸（１５０１１１９）を水冷下加え、１時間撹拌した。 反応液を酢酸エチルで稀釈し、５％重曹水、飽和食塩水
で洗滌後、硫酸すＩ−ＩＪ１ウムで乾燥する。澄媒を留
去し、得られた残金をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製するとより極在の小さい３．４−エポキシド
（１００ｍ９）Ｓよびより以往の大きい２，３−エポキ
シド（１３０ｍ９）が得られた。 ２．３−エポキシド； ｒＲスペクトＡ　（Ｌｉｑ）；　２９４０．＋　４３０
ｃｒｔ−’　。 Ｎ　Ｍ　Ｒスペクト”　（ＣＤＣ４５）δｐＩｍ；１．
０８　（９Ｈ，Ｓ）　、　　１．４１　　（３）Ｉ、　
Ｓ）、　　７．３〜乙８（＋ＯＨ，ｍ）。 ２６　　　。 （ａ）Ｄ＝　−７，１（Ｃ＝　１．Ｌ　ＭｅＯＨ）３．
４−エポキシド； ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）；　２９４０，１４３０　α
−１゜ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ２）　　δ泗；ＬＯ
８（９Ｈ，Ｓ）、１．４２　（３Ｈ，Ｓ）、　　７．３
〜７．８（ＩＯＨ，ｍ）。 ［ａ〕、−ｔａｏ（Ｃ＝　１ｙｌ、　ＭｅＯＨ）実施列
１９ ２．３−エポキシド（実施列１８の化合物；５０．７１
り）のベンゼン溶液（０，５ｍｉ）をジエチルアルミニ
ウムー２．２．６．６−チトラメチルピペリシニルアミ
ド溶液（２，２，６，６−チトラメチルビヘ’Ｊ　シン
（０，１ＩｉＪ）　ノヘンセンｉｇ液（３：ｎｌ）２よ
び１５９６ジエチルアルミニユウムクロリドのヘキサン
溶液（（＋、７３渭０より調製）に水冷下加え、３０分
撹拌した。反応液を水で稀釈し、エーテルで抽出する。 抽出液を水で洗滌後、乾燥する。溶媒を留去し、得られ
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製す
ると３６ｍ９の油状の目的物が得られた。 ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）：　　３４００．ＮＩＯＣｙ
＊−’　。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ４３）　　δ２−；１．０８
　（９Ｈ，ｓ）、　４．９４　（ＩＨ，ｂｒ、ｓ）、　
５．０６　（ＩＨ，ｂｒ、ｓ）。 １．３〜７．８　（ＩＯＨｍ） 実施例２０ ２６７Ｉ９の水素化カリウムのテトラヒド口フラン懸濁
液（６ｍｇ）にアルコール１本（実施例１９の反応液に
１８−クラウン−６（＋９０１Ａり）、次いでトリブチ
ルスズイオドメタン（０，２ｍｉ　）を加え３時間撹拌
した。伏いて反応液を一７８°Ｃに冷却し、１５％ｎ−
ブチルリチウムのへ牛サン溶液（０，６ｍｇ）加え、同
温度で２０分撹拌した後、室温に放置した。反応液を水
で稀釈し、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水で洗ｉ條
したのち、硫酸ナト１１ウムで乾燥した。溶媒を留去し
、得５　、、′１ｆ：　残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーでＲ’ＪＪすると５０ｍりの油状の目的物
が得られた。 ［Ｒスペクトル（Ｌｉｑ）；　　３４２０，２９２０．
１１１０　ｃｍ　　。 Ｎ　ＭＲスペクトル（ＣＤＣ４３）δｐ−；１０８　（
９Ｈ，ｓ）、　４．６２　（ＩＨ，ｂｒ、５）、　５．
４０　（ＩＨ，ｂｒ、ｓ）。 乙３〜７．８　（ｊＯＨ，ｍ）　。 ２６−　　リ ［（２）　　　１５．９　　（Ｃ＝１．Ｉ、ＭｅＯＨ）
Ｄ二 実冶例ｚ１ ３−（２−ベンゾイルオキシエチル）−６βアルコ一ル
体（実施列２０の化合物：３２’ｎ９）？よびベンゾイ
ルクロリド（０，０５ｍ／？）を用い、実施例１３と同
様に反応、処理すると３２ｍりの油状の目的化合物が得
られた。 ＩＲスペクト／’　（Ｌｉｑ）：　　２９２０．１７２
０．ＮＩＯｃｒｎ−’Ｎ　Ｍ　Ｒスペクトル（ＣＤＣＬ
３）　　δｐ−；１０５　（９Ｈ，Ｓ）　、　４．３８
　（２Ｉ（、ｔ　、　Ｊ　＝　７Ｈｚ）、　５．４２　
（ＩＨ，ｂｒ、ｓ）。 ７．２〜８．２　（１５Ｈ，ｍ）。 実施例２２ ピラニル体（実施例２１の化合物：３ａｒｎｑ）を実施
例１０と同様に反応、処理すると１８ｍ９の油状の目的
化合物が得られた。 ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）：　３４２０，２９４０．Ｂ
＋５，１２７０ＣＴＬ−’Ｎ　Ｍ　Ｒスペクトル（ＣＤ
ＣＬ−δｐ−；３．０２　（ＩＨ，ｍ）、　４．４５　
（２Ｈ，ｔ、　Ｊ　＝　６Ｈｚ）、　５．４６（＋Ｈ，
ｂｒ、ｓ）実７地例２３ アルコール体（実施例２２の化合物；１８．７＋り）を
実施列１４と同様に反応、処理すると融点８７−８９°
Ｃを有する目的化合物７ｍりが得られた。 参考例１ ジヒドロキシ体（実施列３の化合物）１２？をベンゼン
３０１ｅに４肩してトリエチルアミン１２２ｒＩＬ／を
加えたのち、室温攪押下にトリクニルアセチルクロリド
０．６２　ｔｒｔｌｆ：ベンゼン１０ｍｇに溶解して滴
下麦室温に１時間攪拌した。次いで１反応液を１５０π
ｅの酢酸二チルに希釈して水洗、無水芒硝乾燥、＠媒を
、酸三下に留去と７．＠ど（行い１９７９０目的化合物
（ジアセチル化体と原料を含む）を得た。 Ｉ　Ｒスペクトル（、Ｌｉｑ）　ν１ａ：（に７１　　
。 ＋７４０．１７７０．３４３０ 参考例λ トリクロルアセチル体（参考クリ１．の化合物）１、９
７９を無水塩化メチレン４７１ｅに各群して２゜３−ジ
ヒドコピラン０．７２　、ｅ’と少量のｐ−）ルエンス
ル芯ン酸を加えて室温（こ２０分間：ｉ押しｔつ次いで
、無水炭竣カリウム４００７２９９メタノール４０．π
ｌにと濁した溶液を加え室温！こ２０分間攪拌した。反
応液を食塩水１５０πｅに希釈して酢酸エチル抽出、抽
出１を水洗、無水芒硝乾燥、溶媒を減圧下に留去と順次
行って得られ之残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーに付すことにより目的化合物１．１７　Ｐを得た。 工Ｒスペクトル（Ｌｉ（Ｌ　）νｍａ”Ａ　Ｃｍ　　ｓ
ｌ　０２５、１０８０．１７４０．３４６ＯＮＭＲスペ
クトル（ｃＤｃ１３）δ−：３．０８（２Ｈ，ａ）、　
３．７０（３Ｈ，ｓ）、　３．５−３．７５（ＩＨ。 ｍ）、　５．５２（ＩＨ，ｂｒ、ｓ） 参考例３゜ 三ヱ ヒドロキシ体（参考列２の化合物）　１．１５１ｉ　１
１　ｍｌのジメチルスルホキシドに＠屏してトリエチア
ミン５．３７　ｒｔｔｌとサルファートリオΦシトーピ
リジンコンプレックス３．２２をジメチルスルホキシド
９　ｍｇに＠解して７７ｎえ室りに１侍間攪拌した。反
応液をｔｓｏｉｅの水５こ希釈して酢戯ニチル、抽出層
を水洗、無水芒硝乾燥及び溶媒を減圧下に留去と１順欠
行って１．１　？の目的化合物を得之。アルデヒド８＝
不安定である為に直ぐ！・こ次の反応ｌこけした。 参考列４ ５５チ油性水素化す）　ｉＪウム２５２ｍグの油分をｎ
−ヘキサンにて洗・事後テトラヒドロフラン４５ｍ／を
加えて懸濁攪拌下にジメチル（２−オキンヘブチル）−
ホスホネートＬ　３５　！ｉ’を０口えて室温に１時間
攪拌した。次いで、アルデヒド体（参考例３の化合物）
１．１りをテトラヒドロ７ラン５　ｔｓｌに＠解してり
ａえ室温に１時間＋３を拌した。反応液を１５０ｍｇの
氷水に希釈して酢酸エチル抽出、抽出層を水洗、無水芒
硝乾燥、溶媒を減圧下に留去と項欠行い得られた残渣（
１，４ｆ）２シリカゲル３０？を用いたカラムクロマト
グラフィーに寸すことにより油状目的化合物１．３１を
得た。 ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）ンｍａｘＣｍ　　。 ９７５、１０２０．１（１３０，１０７５，１１３０，
＋１６０゜１２００、１６２５．１６７０．１６９５．
１７４０二ＩＭＲスペクトル（ＣＤＣ１５ンδＰ：０．
９０（３Ｈ，をン、　　３．０８（２Ｅ（、Ｓ）、　　
３．６８　（３Ｊ　　８）。 ４．５７〜４．６７（ＩＨ，ｍ）　　５．０（ＩＨ，ｂ
ｒ、ｓ）、６．２０（Ｉ　Ｈ，ｑ）、　　６．７　Ｓ−
７，０（Ｉ　Ｈ，二９参考りｔｌ　５ 二ノン体（参考例４つ化合物）１０８グと塩化第−セリ
ウム１０９をメタノール２５ｍｇに弓解１イ→し冷＃Ｓ
ミ下！７７に：９什六つ丑ナトリウム５ＱＺＩｑをｎｏ
えて２０分間攪拌した。反応′？Ｊ、を食塩水！５［］
πｇに希釈して酢酸エチル抽出、抽出１を水洗、無水芒
硝乾燥、溶媒を減圧下に留去と；願人行い得ら；ａた油
状涜渣（１，１２）２３０１のシリカゲルを用いたカラ
ムクロマトグラフィーに付すことにより目的化合物１，
０７グを得之。 工Ｒスペクトル（Ｌｉｑ）　’　ｍａＸ　Ｃｍ　　−９
７０、１０２０，＋０３０．１０８０．１１４０．１７
４０゜４４Ｏ Ｎ　ｈｑ　Ｒスペクトル（ＣＤＣ１５）δ泗：０．９０
（３Ｈ，Ｅ）、　３．０７（２Ｈ，Ｊ、　３．６８（３
３，ａ）。 ４．６６（ＩＨ，ｂｒ、ｓ）、　５．４８（ｊＨ，ｂｒ
、ｓ）、　５．６３（２Ｈ，ｍ） 参プ声ｊ′タリ　６ ヒドコキンエステル体（参考例５の化合物９１．１２を
無水塩化メチレン２　ｍｌに溶解して２，３−ジヒドロ
ピラン０．２７　ｔｒｔｌ七少孟のＤ　　、１％ルニン
スルホン醒を與えて室温に３Ｏ分間攪拌したのち、水素
化アルミニウムリチウムＩＯ３′ｎｑ’−無水テトラヒ
ドロフラン３０．πｇに懸濁した＠液に加え込み室温に
２０分間攪拌した。次いで、４％水酸化ナトリウム水溶
液０４πｌＧ加えて室温に１侍間攪拌したのち不溶物を
セライトを用いて戸去しＰ液を減圧下に濃１縮と順次行
い得られた残渣を１５７のシリカゲルを用いたカラムク
ロマトグラフィーに付すことにより目的化合物１．１９
りを得た。 工Ｒスペクトル（Ｌｉｑ）νｍａＸ　Ｃｍ　’　：９８
０、　＋０２０．　＋０３０．１０８０．１１２０．１
１３０゜１２０５．３４７Ｏ ＮＭＲスペ≦７トル（ＣＤＣ１５）δ−二４．７０　（
２Ｈ，ｍ）、　５．３−５．７　（３Ｈ−リＢ考列７ −６．３−　（３−（２−テトラヒドロピラニルオ押下
にｎ−ブチルリチウム（１５％ｎ−へキサ７溶液）１．
８４πｅ　；２　ｊｆＲ下したのちジメチルホルムアミ
ドＬ５ｘｌ、モノクロル酢酸リチウム塩０．３８ｒ、ジ
メチルスルホキシドｔ　５．７！１！’　、無水ヨウ化
ナトリウム１．１５７と順次加えて４５℃に５０分間攪
拌した。反応液を氷水１００．πｊに希訳し希塩酸水を
加えて中和弱酸性として酢酸エチル抽出、抽出層を水洗
、無水芒硝乾燥、溶媒を減圧下に留去と順次行い目的化
合物１５６りを得た。 工Ｒスペクトル（Ｌｌｑ）　シｍＢ、ｘｃｍ　　。 ９７０、１０１５．　＋０３０．　＋０７０．　＋１３
０．１２００゜１７３０、　＋７６０．２６５０．３１
５ＯＮ　Ｍ　Ｒスペクトル（ＣＤＣ均）シー：４１Ｅｌ
（２Ｈ，８）、４．７２（２Ｈ，ｒｎ）、５．３−５．
７（，３Ｈ。 ｍ） 参考し１１８゜ ジビラニル体（参考りＪ　７．の化合物）　ｔ　５５　
？をアセトン５０πｇに溶解して水１５．１とカンファ
ースルホン３０．３３２を加えて４５℃に２．５峙間攪
押した。反応液を食塩水１５０πｅ；こ希示してエーテ
ル抽出１エーテル層を１％水酸化ナトリウム水溶液１０
０πｇ″′Ｃ″酸注分を抽出、抽出水１に希塩酸水を加
えて中和酸性とし酸６エチル抽出、抽出７贅を水先、無
水芒硝硫桑、溶媒を減圧下に留去と順次行い得られた残
渣を７す力ゲルカラムクロマトグラフィーに付すことに
より油伏目的化片物０３６９と１５β−ヒドロギア体０
３９壬得た。そイｔぞれを酢厘二チルとｎ−）キサンよ
・シ〕！箔品するこンにより融、市６２６４℃を有する
目的化合物０．２５　Ｆと融点５７−５９℃を有する１
５β−ヒドロキシ体。、１６ｆを得た。 工ＲスペクトルＢ１ｕｊｏｌ）ｖ　ｆｎａＸ　ｃｒ＋　
：９７０、１１０５．１１３５．１２１０．１６９０．
１７３０゜　３６Ｏ Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤＣ１３）δ７Ｐ： ０．８９（３Ｈ，ｔ）、　３．０（ｊＨ，ｍ）、　４．
０７（２Ｈ，ｓ）。 ５．４−５．５５（３Ｈ，ｍ） （ａｌＤ＝＋　８．２°　（Ｃ＝１、Ｏ，Ｍｆ３０Ｈ）
参考Ｂ２リ　９ ヨ了ヨーーー二己で１ ジヒドロキ７体（実、７ｉｉｉ１３；ｌｊ＋４つ化合物
９４゜９を＃考列］と固守に処理して得乏残庚をシリカ
ゲルクロマトグラフィーにτすこと；こより目的化合物
４８りを得７と。 工Ｒスペクトル（Ｌｌｑ　）　νｍａ：（ｃｍ　ｌ　：
６８０．７１５，８３０，１１２０．＋２５０．１２７
５゜１　７２０，１７６５，３４３０ 参考例■ トリクロルアセトキシ体（参考例９の化合物）３、０５
　ｒを参考列２と同機に処理して目的化合物１６ｆを得
た。 ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ　）νｍａｘ　Ｃｍ　　＠７１
０、９７０．１０２０．１０７Ｇ、　１１１０．１２７
０゜１６００、１７１５．３４２Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ１５）δ７Ｐ：４．４５（２
Ｈ，ｔ）、　４．６８（、ＩＨ，ｍ）、　５．４６（Ｉ
Ｈ，ｂｒ。 ｓ　）、　７．５（３Ｈ，ｍ）、　８．０５（２Ｈ，ｍ
）参考り」１１゜ ク　　ト　−２−二　ン ジヒドロキシ体（実施例１４の化合物）　Ｔｏ。 ηを無水塩化メチレン３　ｒｎｌに溶解してトリエチル
アミン１１．０５　ｔｌｌ、　４−ジメチルアミノピリ
ジン２ｒｎｑ、ｔ−プチルジメチルツリルクロリド１０
９■を加えて溶解し室温に４時間放置した。 反応液を水５０．１１に希釈して酢酸エチル抽出、抽出
層を水洗、無水芒硝乾燥、溶媒を減圧下に留去と屓次行
い得られた浅渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付すことＪこより目的化合物１２６Ｘｖを得之。この
化合物は、ピラニル化反応に続いてシリル基をテトラブ
チルアンモニウムフロリドを用いて除去することにより
参考例１０の化合物が得られる。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ１３）δ７Ｐ：０．９　（９
Ｈ，Ｂ）、４．４０（２Ｈ，ｔ）、　５．４５（ＩＥ（
、’ｏｒ、ｓ）７、５　（３Ｈ，ｍ）、　８．１　（２
Ｈ，ｍ）参考しＱｌｌ ルオキシ）−シス−ビシクロＣ３，３，０〕オクト−２
−エン ヒドロキシ体（参考例１０の化合物）２．５１ｉｌを参
考例３と同様に処理して目的化合物ｚ３グを得ｔ０ ＩＲスペクトル（、Ｌｉ（１）νｒｎａｘｃｍ　＋　ニ
ア１５、９７５．１０３０．１０７０．１１２０．１２
８０゜１７２０．２７２Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ１５）δＰ：４．４４（２Ｈ
，ｔ）、　４．６４（ＩＨ，ｂｒ、ｓ）、　５．４６（
ＩＨ。 ｂｒ　、Ｓ　）、　７．５（３Ｈ，ｍ）、　８．０５（
，２Ｈ，ｒｔｓ）、　９．７８（ＩＨ，ｍ） 参考［２リ　１３゜ ジヒドロキシ体（実施例１６の化合物）１．０グを参考
辺」】と同様に処理して目的ｆヒ合物１．４８りを傅之
。 参考列１４ トリクロルアセチル体（参考（ＪＩＪ１３の化合物９１
、４８９を参考ツｊ２と同寡に処理して目的化合物０．
９　？　ｔを得之。 ＩＲスペクトル（Ｌｌｑ）シｒｎａｘｃｍ−１：９８０
、１０２０．１０４０．１０８０．１１４０．１２＋［
］。 ＋　７−５０．３４８Ｏ Ｎ　Ｍ　Ｒスペクトル（ＣＤＣＩｓ）δ泗：３．７７（
３Ｈ，８）、４．ＩＱ（２Ｈ，ｓ）、　４．６−４．７
５（ＩＨ。 ｍ）、　　５．４０（ＩＨ，ｂｒ、ｓ　）参考ツＪ１５ ヒト−キシ体（参考ｇｇ　＋　４の化合物）　０．９５
２を参考列３と１８・歿に処理して目的化合物０．９５
９を得た。 工Ｒスペクトル（Ｌ工ｑ）νｍａ’２．　Ｃｍ　’　：
１０３０、１１３５．１２１０．１７２［］、　＋１７
３．１７５０参考列１６ エン ホルミル体（参考列１５の化合物）　０．９５　ｆを参
考列４と同様に処理して目的化合物１．０８７を得た。 ＴＲスペクトル（Ｌｉｑ）　’　ｍＢ、ｘ　ｃｍ−１：
９　Ｂｏ、　１０３５．１０８０’、　＋１４０．１２
０５．１６２５’。 ＋６７０．１６９５．１７６Ｏ Ｎ　Ｍ　Ｒスペクトル（ｃＤｃｌｓ）δ＋Ｐ：０．９０
（３Ｈ，ｔ、）、　３．７６（３Ｈ，ｓ）、　４．０９
（２Ｈ，ｓ）。 ４．６４（ｊＨ，ｒｎ）、　５．４０（ＩＨ，ｂｒ、Ｓ
）、　４．２０（ｊＨ。 ｑ　）、　６．７−７．０　（＋　Ｈ，ｍ）参考夕１１
１７゜ 玉−と 二ノン体（参考列１６の化合物）　ｔ　Ｏｓ　ｙを参考
ヅ」５と同様に処理して目的化合物１０６２を得た。 工Ｒスペクトル（Ｌｉｑ）シｍ４Ｘｃｍ−１：９８０、
　＋０２０．１０２５．　＋０８０．１１４０．１２０
５゜１７６０、３４５Ｏ Ｎ　Ｍ　Ｒスペクトル（ＣＤＣＩｓ）δ泗：０．９０（
３Ｈ，ｔ）、　３．７６（３Ｈ，Ｓ）、　４１０（，２
Ｈ，ｓ）。 ４．６７（ｊＨ，ｂｒ、ｓ）、　５．４０（＋Ｈ，’ｏ
ｒ、ａ）、　５．６（２Ｈ，ｍ） 参考７Ｊ１８ フ〔３，３，０’］オクトー２−二ン どラニル体（参考列１７の化合物）　Ｌ　Ｏ５７をテト
ラこドフラン１５ｍ１に溶解して酢酸３゜１ｇと水６０
ｍｇを３口えて４５℃に１．５・侍間ｊＦｉ拌した。反
応液；７：食塩水１５０πｇに希釈して酢酸エチル抽出
１抽出層を冷却した１チ水撤ｆヒナトリウム水溶液にて
詐散を除去、水代、無水芒硝乾燥、各課を二或王下ｊこ
留去と順次行い得られた残渣を７す力ゲルカラムクロマ
トグラフィーに付すことにより目的１′ヒ合吻０４１７
と１５β−ヒドロキン体０．２５７を得念。 ＬＲスペクトル（Ｌ工ｑ）シｍａｘｔＪ７１−１　：９
６５、１０９０．１１３５．１２０５．１５０．３３５
ＯＮ　Ｍ　Ｒスペクトル（ＣＤ口１３）δＰ：０．８９
（３Ｈ，ｔ）、　３．７６（３Ｈ，Ｓ）、　ａ、０９（
２Ｈ，ｓ）。 ５．３９（ＩＨ，ｂｒ、Ｓ）、　５．５（２Ｈ，ｒｎ）
［ａ　〕Ｄ　−＝　　５．　８　°　　　（ＣｍＬＯ，
二、イｅＯＨ）４ミ到脅「ンリ　１９ 一７α−ヒドコキシーシスービシクロＣ３，３，ＯＪエ
ステル体（参考列１８）の化合＜Ｈ４００＋ｒｔｑをメ
タノール２０　、ｒｔｅに溶；屏して５チ水識化ナトリ
ウム水溶液６６■を刃口えてＯＣに１時間攪拌した。反
応液を氷水＋５０ｚＪに希釈して希塩酸し、 水にて中檜百酸性として酢酸エチル抽出、抽出９を水洗
、無水芒硝乾燥、溶媒を威圧下；こ留去と順次行い得ら
れた残渣を酢酸エチルとｎ−ヘキサノより再結晶するこ
とによりり考９＋Ｊ　８　Ｄ　ｉヒ合物と口じ物性を示
す目的化合物２８６．πｑを得た。 参考ｒ２リ　２０ ヱ ２β−ヒドロキシメチル−３α−（２−テトラヒドロピ
ラニルオキシ）　−７，７−エチレンン２０１を実施例
１３と同様に処理して目的化合物２．７Ｐを辱之。 ＩＲスペクトル（Ｌｉ（１）νＩＩ）ａＸｃ７７！Ｉニ
ア１（＋、　Ｉｎ０．１１２０．１２７０．１７２ＯＮ
ＭＲスペクトル（ｃｖｃ１５　）δに：３．９０（４Ｈ
，Ｂ）、　７．５（３Ｈ，ｍ）、、　８．１（２Ｈ，ｒ
ｎ）参考例２１゜ オクタン ピラニル体（参考例２０の化合物）２．フグを拌した。 反応液を食塩水１５０　、ｎｌに希釈して酢酸エチル抽
出、抽出層を水洗、無水芒硝乾燥、溶媒を減圧下に留去
と項欠行い得られた残渣をシリカゲルクーマドグラフィ
ーに付すことにより目的化合物１．７９９を得た。 ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）　’　ｍａｘ　Ｃｍ−１”７
１５、１１２０．１２８０．１７２０．１７４０．３４
５ＯＮ　Ｍ　Ｐ、　スペクトル（ＣＤＣ１３ンδｐ：４
．１　５（Ｉ　Ｈ，ｑ）、　　４．４５（２Ｈ，ｍ）、
７．５（，３Ｈ，Ｉ！り。 １１．１　　（２Ｈ，ｍ） 参考列２２ ヒドロキシ体（参考列２１の化合物）　１７６２を無水
塩化メチレン３πＪｉＣ溶解してλ３−ジヒドロピラン
０．７６７！ｌを７Ｊえたのちｐ　−トルエンスルホン
酸少量を雇えて室温に３０分間攪拌し念。反応液を１５
０ｔｔｔｌの酢酸エチルに希釈して水洗、無水芒硝乾燥
、溶媒を減圧下に♀去と順次行い目的化合物ｚ３りを得
々。 工Ｒスペクトル（ＬＬｑ）ｖ　ｍａｘ　ｃｍ　！　ニア
１（１，１０２５，１１２０，＋２７０．　＋７２０．
１７４ＯＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ１５）δ７Ｐ：４．
６８（ＩＨ，ｂｒ、ｓ） 参＊　ｆｌｊ　２３ ３．３−エチレンジオキシ−６β−（ジフェニル３．３
−エチレンジオキシ−６β−ヒドロキシメチル−７α−
（２−テトラヒドロピラニル９オキシーシス−ビシクロ
（３，３，０）オクタン３０！Ｐをジメチルホルムアミ
ドｄｅａｌに溶解ジイミダゾール１０．３１とジフェニ
ル−ｔ−ブチルシリルクロリド３９．３　ｘｉ、欠いで
４−ジメチルアミノピリジン３００　、ｎ９をコロえ室
温にて５０分攪拌する。水を加えたのち酢酸エチルで抽
出する。抽出液を水洗、乾燥後溶媒を留去する。 得られた残置ヲシリカゲルクロマトグラフイーで梢牒す
ると５１９Ｌ′Ｄ油状の目的ｆヒ合物が得られｆ？：、
。 ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）νｆｆ１ｌＸ　Ｃｍ　’　：
１０２２．１５９０ 参考例２４ ３−オキソ−６β−（ジフェニル−ｔ−ブチルシリルオ
キシ）−７α−（２−テトラヒドコオクタン ３．３−エチレンジオキサン−６β−（ジフニニルーｔ
−フチルシリルオキン）−７α−（２−テトラヒドロピ
ラニル９オキシ−ビシクロ［３，３０〕オクタン＋　７
．Ｂ　Ｐをテトラヒト＝２ラン３Ｑａｅ、酢酸８　Ｑ　
ｔｒｔｌ、水６　Ｑ　、ｎｌより成る。混液！こ溶解し
、４５〜５０℃で３時間攪拌する。反３液を、水層化ナ
トリウム水溶液で中和後、酢酸エチルで抽出する。抽出
液を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸す）　ＩＪウムで乾
燥し、減圧下溶媒を留去し、得られｆｃ残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィーで精製する。３０〜４０多酢酸工
チルニスチル含有ヘキサン流出部より６．３１　？　’
／Ｄ油状の目的化合物を得念。 １Ｒスペクトル（ＬＬｑ）しｍｌ：（Ｃｍ−１：１７３
５、１４３０．１１１５．１０２５．７５５Ｎ　！Ａ　
Ｒスペクトル（、ＣＤｃｌｓ）δに：１０８（９Ｅ（、
Ｂ）、３．７０（，２’ｉ、　ｔ、　、＝＝７．ｏｇｇ
。 ７．３０〜７．５５（６Ｈ，ｍ）、７．５５〜７．８０
＋、４ニー（、−１）参考１列　２５ ３．３−エチレンジオキン−６β−ヒドロキシメチル−
７α−（２−テｒラヒドコピラニル）オキシ−７スービ
シクロ（３，３，Ｏ］オクタン１０グをテトラとドロフ
ラン２０Ｉπｅにとかし酢酸２０□π１．水５　Ｊを加
えた。室温で２６０時開放賞したのち食塩水を刃口元酢
酸エチルエステルで迫出する。抽出液を食塩水で洗滌し
たのち芒硝で乾燥する。溶媒を留去し得らｎた残渣をシ
リカゲルクロマトグラフィーで積層すると５５０・刀り
の油状の目的化合物が得られ念。 工Ｆ、スペクトル（Ｌｌｑ　）νｍａｘｃｍ　＋　：＋
０２３．１７３５．３４４０ 参考しフリ　２６ ンスービシク＝Ｃ３，３，０：］］オ、クタトー２−二
二／３−メトキシカルボニルメチル６β−ホルミル−７
ｄ−（２−テトラヒト−ピラニル９オキシーンスービシ
クロＣ３，３，０：）オクト−２−二７１．１１及びジ
メチル　２−オキソ−２−シクロヘキンルエチルホスホ
ネート１．４６ｆ％弔い参考列４．５．６．７および８
と同様に反応、処理し、酢識エチルーヘキサンの混合物
から再結晶すると０２２７の目的化合物が得られ之。融
点９２−９４℃ 〔α）２Ｄｆ１＝＋６．　ｓ°　（Ｃ＝ｉ　、　ＣＥ（
Ｃ１５）工Ｒスペクトル（Ｎｕｊｏｌ）シｒｎ６ｘｃｍ
　Ｉ　：９７３、１７４１．３４５０．３５５ＯＮ　Ｍ
　Ｒスペクトル（ＣＤＣ１５）δ！Ｐ：３．０（１Ｈ，
ｂｒ）、　４．０８（２Ｈ，Ｂ）、　５．４０（ｊＨ，
Ｓ）。 ５．５２（２Ｈ，ｍ） 参考列２７ −ビンクロ（３，３，０）丁りタトー２−ニン３−メト
キシ刀ルポニルメチル−６β−ホルミル−７ｄ−＝（２
−テトラヒドロピラニル〕オキンー７スーピンク口（３
，３，０Ｅオクト−２−エン１１グ及びジメチル　２−
オキソ−３，３−ジメチノ５へプチルホスホネ−１−１
４５？を用い参考’７４４．５，６．７お：び３と１亘
様；こ反応、処理すると０．１９Ｐ７）油状の目的化合
物つＳ得らｔ′！、た。 工Ｒスペクトル（、Ｌｉｑ）νｍａＸ　Ｃａｎ　　’　
：９７３、１７３８．３４２０ ご１：４Ｒスペクトル（ＣＤ　Ｃ１３）δ匁：０．７〜
１１　（９Ｈ，ｍ）、　４．０８（２Ｈ，８）、　５．
４２（ＩＨ，Ｂ）５．５６（２Ｈ，工） 参う＠　ｇｏ　２８ ３−メトキシ刀ルホ゛ニルメチル−６ ミル−７ＣＬ−４２−テトラヒドロピラニル〕オキ７−
７スービ７クコ［：　３．　３．　０　］］オクトー２
ーエン１．１グびジメチル　２−オキソ−３，３−ジメ
チルオクト−７−エニルホスホネート１．４９２を用い
参考−％Ｊ　Ａ，　５．　６．　７および８と１司嵌に
反応、処理すると０．２１２の油状の目的化合物が得ら
ｎたっ 工Ｒスベクｒル（、Ｌｉｑ）νｍａｘＣｍ　’　：９７
５、　１６４２，　１７３８．　３４００ｂＴ　Ｍ　Ｒ
スペクトル（、ＣＤＣｌすδ７Ｐ：０、８５（３Ｈ，　
Ｓ）、　０．９０（３Ｈ，Ｂ）、　３．０（ＩＨ，　ｂ
ｒ）。 ３、５　〜４．０　（４Ｈ，　ｍ）、、　４．０　９　
（２Ｈ，　Ｓ　）、　４．８　〜６．１　（６Ｈ。 エン 参考例２９ ３−メトキシ刀ルホ′ニルメチル−６＋ｊ　　＊　ルミ
ルーフ＜−（２−テトラヒドロピラニルンオキンーンス
ーピンク＝（　３．　３．　０　〕万クトー２ーエン１
．１り及びジメチル　２−オキソ−３−メチルへブチル
ホスホネート１．４９５’を用い参考図Ｊ　４．５．６
．７および８と同家に反５．処理すると０、２９　Ｆの
油状の目的化合物が得ら１之。 ＩＲスペクトル（、Ｌｉ（Ｌ）νｍａＸｃｍ　＋　：９
７０、１７３８．３３５Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ１５）δμ＝０．７−１．１
　（６Ｈ，ｍ）、　３．０（１！（、ｂｒ）、　４．０
７　（２Ｈ。 ｓ）、　５．４２（ＩＨ，ＩＳ）、　５．５５（２Ｈ，
ｍ）参考例３０ ３−メトキシカルボニルメチル−６β−ホルミル−ｊｄ
−（２−テトラヒドロピラニル）ヤキシーシスービシク
ロ（３，３，０）オクト−２−エン１．１２及びジメチ
ル　２−オキソ−３−メチル−５，５，６，６−チトラ
デヒドロへブチルホスホネート１４９　？を用い参考列
４．５．６．７および８と口檄に反応、処理すると０．
２９　ｆの油状の目的化合物が得ら几た。 ＩＲスペクトル（Ｊ、ｉｑ）νｍＡＸｃｍ　Ｉ　：９７
０、１１２８．１７３４．３３８ＯＮＭＲスペクトル（
ＣＤＣｌ３）δ２：０．９１１　（３Ｈ，ｍ）、　１７
ｇ（３Ｅ（、ｔ）、　４．０９　（２Ｈ，Ｓ）。 ５．４２（ＩＨａ）、　５．５６（２ｉ（、ｍ）参考ｇ
Ａ３１゜ ３−メトキシカルボニルメチル−６β−ホルミル−７ｃ
ｔ−（２−テトラヒドロピラニル）オキシーシスービシ
ク＝（３，３，０）オクト−２−二７１．１１及びジメ
チル　２−オキソ−３−メチルオクトーフーエニルホス
ホネート１．５７　Ｓ’を用い参考例４．５．６．７お
よび８と同法に反応。 処理すると０２７２の油状の目的化合物が得られた。 〔α〕２）４＝〒７．６°　（ｃ＝＋、　ｃＨｃｌｓ）
工Ｒスペクトル（Ｌｉ（Ｌ　）νｍａｄ（’１７！　−
１：９７５、１６４５．１７４０．３３８ＯＮＭＲスペ
クトル（、ＣＤＣｌ３　）δＦ＝０．８９（３Ｈ，ｍ）
、３．０（ＩＨ，ｂｒ）、４．０７＋、２Ｈ，５１）。 ４．８　Ｓ９．１　（ｊ：（、ｍ） 参考例３′Ｌ ３−メトキシカルボニルメチル−６３−ホルミル−７ｄ
−（２−テトラヒドロピラニル）オキシ−シス−ビシク
ロＣ３，３，Ｏ］］オクトー２−エン１．１ｒびジメチ
ル　２−オキソ−２−シクーペンチルニテルホスホネー
ト１．５１グヲ用い参考例４．５．６，７および８と同
様に反応、処理シ、酢酸エチルニスチルヘキサンの混合
物う・ら再結晶すると０．２１９の目的化合物が得られ
７九つ〔α〕２４＝÷４２°（ｃ＝３　　ＣＨＣｌ３）
融点　９１１−１０１℃ 工Ｒスペクトル（ＣＨＣＩｓ）　ンｍａＸＣ７ｎ　ｌ　
：９７３．１７３５．３４０Ｏ Ｎ　Ｍ　Ｒスペクトル（ＣＤＣ１，５）δＦ＝３．００
（ＩＨ，ｂｒ）、４．０７（２Ｈ，Ｂ）、５．４０（、
ｌＨ，ｓ）。 ５．５２（２Ｈ，ｍ） 参考例３３ ３−メトキシカルボニルメチル−６β−ホルミル−７ｔ
ｉ−（２−テトラヒドロピラニル）オキシ−シス−ビシ
クロ〔３，３，０〕〕オクトー２−二７１．１グびジメ
チル　２−万キソー３−７二ノキシプロピルホスホネー
トｔ　６７グを用い５０℃にて参考り１」４と同様に反
、芯、処理し、欠いて参考列５．６．７およびａと回課
：こ反応１処理すると０．１９９の油状の目的化合物う
；・１ら几ｔ。 工Ｒスベクごル（Ｌ工ｑ）ν”ａＸ　Ｃｍ　ｌ　：９７
５．＋５９０．１６００．１７４０．３３５ＯＮＭＲス
ペクトル（Ｃ）Ｃ１５）δｒＩＩｌ：３．０１（ｊＨ，
ｂｒ）、３．４〜４．３　（５Ｈ，ｍ　）、　４．０７
　（２Ｈ。 Ｂ　）、４．５２（ＩＨ，１）ｒ）、５．４２（１Ｈ，
Ｓ）、５了２（２ｉ（。 ｍ）、６．８〜了、　５　（５Ｈ，Ｄコ、）参考ＪＩＪ
３４

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） を有するビシクロオクタン類。 上記式中、Ｒ＾１は、 式　▲数式、化学式、表等があります▼を有する基（式
   中、Ｒ＾２ は、Ｃ＿１−Ｃ＿１＿０のアルキル基、Ｃ＿３−Ｃ＿７
   のシクロアルキル基又はアリール基を示す。）又は 式　▲数式、化学式、表等があります▼を有する基（式
   中、 Ｒ＾３を、水素原子、Ｃ＿１−Ｃ＿１＿０のアルキル基
   、Ｃ＿３−Ｃ＿７のシクロアルキル基、アリール基、ア
   ラルキル基又はトリ置換シリル基を示し、ｎは、０又は
   １の整数を示す。）を示す。