JPH0710502A - 高温の精製ガス流の部分酸化方法 - Google Patents

高温の精製ガス流の部分酸化方法

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JPH0710502A
JPH0710502A JP6158185A JP15818594A JPH0710502A JP H0710502 A JPH0710502 A JP H0710502A JP 6158185 A JP6158185 A JP 6158185A JP 15818594 A JP15818594 A JP 15818594A JP H0710502 A JPH0710502 A JP H0710502A
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トーマス・フレデリック・レイニンガー
Allen M Robin
アレン・モーリス・ロビン
James K Wolfenbarger
ジェイムズ・ケネス・ウルフェンバーガー
Robert M Suggitt
ロバート・マレイ・サジット
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 実質的に粉粒体、アルカリ金属化合物、ハロ
ゲン化水素、シアン化水素、硫黄含有気体類を含有し、
アンモニアを含んでいるまたは含んでいない高温で清浄
なガス流を製造し、合成ガス、還元ガスまたは燃料ガス
として使用する方法を提供する。 【構成】 液体炭化水素系燃料またはその液体エマルジ
ョン、石油コークスの水性スラリー、またはそれらの混
合物から選ばれ、ハロゲン化物、アルカリ金属化合物、
硫黄、窒素および無機灰分を含有しているポンプで汲み
上げられる燃料を部分酸化させて、H2 、CO、CO
2、H2O、CH4、NH3、HCN、HCL、HF、H2
S、COS、N2、Ar、粉粒体、気相アルカリ金属化
合物、融解スラグを含有する高温の生ガス流を生成す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は飛沫同伴粉粒体およびハ
ロゲン化物、気相アルカリ金属化合物、硫黄、シアン化
水素などの気体不純物を実質的に含まず、アンモニアは
含んでいるまたは含んでいない高温で清浄な合成、還元
または燃料ガスを製造するための部分酸化方法に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】部分酸化方法とは液体炭化水素系燃料お
よび固体炭素質燃料を合成ガス、還元ガス、燃料ガスへ
変換する周知の方法である。例えば、同時譲渡された米
国特許第3,988,609号、同4,251,228
号、同4,436,530号、同4,468,376号
を参照せよ。合成ガスから微細な粉粒体および酸性の気
体不純物を除去することは同時譲渡された米国特許第
4,052,175号、同4,081,253号、同
4,880,439号、および米国特許第4,853,
003号、同4,857,285号、同5,118,4
80号に記載されている。しかし、前述の例は全体とし
て、粉粒体、ハロゲン化物、シアン化水素、アルカリ金
属化合物、硫黄含有ガスを実質的に含まず、アンモニア
を含むまたは含まない、高温で清浄な合成ガス、還元ガ
ス、燃料ガスを製造するための本発明の方法を教示また
は示唆していない。本発明の方法により、約540℃−
約700℃(1000°F−1300°F)の範囲の温
度を有する合成ガス、還元ガス、燃料ガスが製造され
る。ガスタービンの燃焼室で例えば燃料ガスを燃焼させ
るための本発明の方法により製造されるガスは大気を汚
染しない。合成ガスとして使用されるために製造される
ガスは合成触媒を失活させることはない。
【0003】本発明の方法は粉粒体、ハロゲン化物、シ
アン化水素、アルカリ金属化合物、硫黄含有ガス、フラ
イアッシュおよび/または融解スラグを実質的に含まな
い高温で清浄なガス流を合成ガス、還元ガス、または燃
料ガスとして使用するために製造する部分酸化方法に関
するものであり、その方法は以下の工程から成る。 (1) ポンプで汲み上げられる炭化水素系燃料の供給
原料と遊離酸素含有ガスとを部分酸化により反応させる
工程において、前記炭化水素系燃料供給原料が液体炭化
水素系燃料またはその液体エマルジョン、石油コークス
の水性スラリー、およびそれらの混合物から成る部類か
ら選ばれ、ハロゲン化物、アルカリ金属化合物、硫黄、
窒素および無機灰分含有成分を含有する前記燃料を自由
流動性の垂直な耐火性内張り部分酸化ガス発生器で遊離
酸素含有ガスと反応させ、約980℃−1650℃(1
800°F−3000°F)の範囲の温度を有し、H2
,CO、CO2、H2O、CH4、NH3、HCN、HC
L、HF、H2S、COS、N2、Arから構成され、粉
粒体、気相アルカリ金属化合物を含有する高温の生ガス
流を製造する工程、(2) 工程(1)からの高温の生
ガス流をガス冷却区域において約540℃−700℃
(1000°F−1300°F)の範囲の温度まで部分
的に冷却する工程、(3) 工程(2)からの生ガス流
から飛沫同伴の粉粒体を分離する工程、(4) 工程
(3)からのプロセスガス流に補助アルカリ金属化合物
を導入し、シアン化水素と前記プロセスガス流中の気体
のハロゲン化物とを反応させ、前記反応ガス流を約43
0℃(800°F)から540℃(1000°F)の範
囲の温度まで冷却し、得られたプロセスガス流をろ過
し、アルカリ金属ハロゲン化物およびシアン化物、残留
アルカリ金属化合物、残留粉粒体を分離する工程、
(5) 工程(4)からの前記冷却ろ過ガス流を硫黄除
去区域において硫黄反応性酸化物含有混合金属酸化物吸
着剤と接触させ、前記工程(4)からの冷却ろ過ガス流
中の硫黄含有ガスを前記硫黄反応性酸化物含有混合金属
酸化物吸着剤と反応させ硫化吸着剤を生成し、前記冷却
ろ過ガス流から前記硫化吸着剤を分離し、粉粒体、アル
カリ金属化合物、ハロゲン化水素、シアン化水素、H2
S、COSを実質的に含まず、少なくとも540℃(1
000°F)の温度を有する清浄なガス流を製造する工
程。
【0004】別の実施態様では、工程(1)からの高温
ガス流は工程(2)において約800℃(1475°
F)から980℃(1800°F)までの範囲の温度ま
で冷却する。工程(4)でハロゲン化物除去に先立っ
て、工程(3)からのプロセスガス流のNH3 は触媒作
用により不均化され窒素ガスと水素ガスを発生させて除
去される。
【0005】テキサコ部分酸化ガス化装置は約980℃
から1650℃(1800−3000°F)の温度で生
合成ガス、燃料ガスまたは還元ガスを製造する。従来の
方法では、ガス発生器からの生ガス流の汚染物質、例え
ば様々な硫黄物質を除去するために、製造された生ガス
は全て溶剤吸収方法により必要とされるように室温以下
に冷却される。しかし、どんな場合でも、ガス流中の水
分が濃縮され蒸発熱の多くが失われる。この熱の非効率
性を避けるために、本発明方法により、全ての汚染物質
はガスの断熱飽和温度以上の温度でガス流から除去され
る。ガスは取扱い易くするために冷却してもよいが室温
まで下げないでむしろ約430℃−980℃(800°
F−1800°F)位までに下げておける。更に、先行
技術の低温ガス精製方法に比べると、出願人の高温ガス
精製方法は更にエネルギーの節約が出来る。というの
は、精製されたガス流は既に高温であるから、機械的な
力および/または電力の製造のためにガスタービンの燃
焼室へ導入する前に加熱する必要がないからである。同
様に、合成ガスとして使用される場合も、プロセスガス
流は既に高温である。
【0006】本発明の方法においては、先ず連続的に流
れる生ガス流は、独立した下方へ流れる自由流動性非充
填無触媒部分酸化ガス発生器の耐火性内張りの反応区域
で製造される。このガス発生器は好ましくは例えば図面
に示されような耐火性の内張りをした垂直な鋼の圧力容
器であり、同時譲渡米国特許第2,992,906号に
記載されている。
【0007】ハロゲン化物、硫黄、窒素、無機灰分含有
成分から成る不純物を含む可燃性の液体炭化水素系燃
料、その水性エマルジョン、石油コークスの水性スラリ
ーはガス発生器の中で温度を適度に調節したガスの存在
下で遊離酸素含有ガスと反応させて生成物ガスを得る。
例えば、液体の炭化水素系燃料供給流は液体炭化水素系
燃料に気体の炭化水素系燃料を入れたものまたは入れな
いものから成る。AにBを入れたものまたは入れないも
のと言う表現はAだけ、またはAとBのいずれかを意味
する。様々な種類の炭化水素系燃料は混合して部分酸化
ガス化装置へ供給される、または各燃料が別々の通路を
経て従来の環状のバーナーに供給される。
【0008】様々な適当な供給原料を説明するためにこ
こに使用される用語「炭化水素系燃料」とは、ポンプで
汲み上げることのできる液体炭化水素系燃料、ポンプで
汲み上げることのできる液体炭化水素系燃料のエマルジ
ョン、ポンプで汲み上げることのできる石油コークスの
水性スラリー、およびそれらのポンプで汲み上げること
のできる混合物を包含するものである。ガス化装置へ供
給される炭化水素燃料において、硫黄の含有量は約0.
1から10重量%の範囲であり、ハロゲン化物の含有量
は約0.01−1.0重量%であり、窒素含有量は約
0.01−2.0重量%の範囲である。硫黄含有不純物
は有機硫黄化合物として、またはナトリウム、カリウ
ム、マグネシウム、カルシウム、鉄、アルミニウム、お
よび珪素の硫化物および/または硫酸塩、およびそれら
の混合物として存在する。ハロゲン化物の不純物はナト
リウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、珪素、
鉄およびアルミニウムから成る部類から由来する無機の
塩素化合物および/またはふっ素化合物である。有機塩
素および/またはふっ素化合物も存在するが、例えば塩
素化ビフェニル類またはクロローフルオロ化合物があ
る。窒素は窒素含有無機または有機化合物として存在す
る。更に、比較的少量のバナジウム化合物が石油を主成
分とした供給原料中に存在する。用語「および/また
は」はここでは通常の方法で使用される。例えば、Aお
よび/またはBはAまたはBまたはAとBのいずれかで
あることを意味する。
【0009】石油コークスは従来のジレードコーキング
法により生成される。例えば、ここに引例として引用す
る同時譲渡の米国特許第3,852,047号を参照す
る。石油コークスは、好ましくはその100%がAST
M・E11−70ふるい表示基準1.4mm(選択N
o.14)を通過し、少なくとも80%がASTM・E
11−70ふるい表示基準0.425mm(選択No.
40)を通過するような粒径にまで粉砕される。粉砕さ
れた石油コークスは水と混合して約30−65重量%の
範囲の乾燥固体含有量を有するポンプで汲み上げ可能な
水性スラリーを得る。
【0010】適当な気体の供給原料について説明するた
めにここで使用される気体炭化水素系燃料としては、メ
タン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、天然ガ
ス、水性ガス、コークス炉ガス、精油所ガス、アセチレ
ン廃ガス、エチレン・オフガス、合成ガス、およびそれ
らの混合物が挙げられる。気体、固体および液体の供給
原料は皆混合され同時に使用され、パラフィン系、オレ
フィン系、ナフテン系および芳香族化合物ばかりでなく
アスファルト質の液体および液体炭化水素系燃料の水性
エマルジョンも含有でき、約10−40重量%の水分も
含有できる。
【0011】実質的に有機物質を含む可燃性炭素または
そのスラリーはどんなものでも「炭化水素系」という用
語に包含される。適当な液体炭化水素系供給原料として
は、液化石油ガス、石油留出物および残留物、ガソリ
ン、ナフサ、ケロシン、原油、アスファルト、ガス油、
残留油、タールサンドおよびシェール油、石炭油、芳香
族炭化水素(例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン留
分)、コールタール、流動接触分解作業由来の循環ガス
油、コークス炉ガス油のフルフラール抽出物、タイヤ
油、およびその混合物が挙げられる。
【0012】また「炭化水素系」という用語の定義に
は、炭水化物、セルロース物質、アルデヒド、有機酸、
アルコール、ケトン、酸素化燃料油、廃液、酸素化炭化
水素系有機物を含有する化学工程由来の副生成物および
その混合物などの酸素化炭化水素系有機物質が含まれ
る。
【0013】燃料供給原料は室温であり、または約32
0℃−650℃(600−1200°F)程の温度まで
予め加熱される。供給燃料は液体スラリーとしてまたは
温度調節材と共に噴霧化混合物の状態でバーナーへ導入
される。適当な温度調節材としては、H2O、CO2に富
んだガス、工程の下流で使用できるガスタービン由来の
冷却された清浄な廃ガスの一部、空気分離装置由来の副
生成物窒素、およびこれらの混合物が挙げられる。
【0014】反応区域の温度を調節するために温度調節
材を使用するかどうかは一般に供給燃料の炭素対水素の
比およびオキシダント流の酸素含有量次第で決まる。固
体炭素質燃料の水性スラリーについては一般に温度調節
材は必要とされないが、一般に実質的に純粋な酸素の場
合には使用される。CO2 含有ガス流、例えば、少なく
とも約3モル%のCO2 (乾燥基準)が温度調節材とし
て使用される場合に、放出生成物流のモル比(CO/H
2 )は増加する。既に述べたように、温度調節材は反応
流のいずれか一方または両方と混合して導入される。さ
もなければ、温度調節材は燃料バーナーの別の導管によ
りガス発生器の反応区域へ導入される。
【0015】比較的少量のH2Oが反応区域へ充填され
ると、このH2Oは液体炭化水素系または固体炭素質供
給原料、遊離酸素含有ガス、温度調節材、またはそれら
を組み合わせたもののいずれかと混合される。水対炭化
水素系燃料の重量比は約0.1−5.0、例えば約0.
2−0.7の範囲である。
【0016】ここで使用される「遊離酸素含有ガス」と
いう用語には、空気、酸素に富んだ空気、すなわち、2
1モル%以上の酸素、および実質的に純粋な酸素、すな
わち90モル%以上の酸素(残りはN2および希ガス)
を包含するものとする。遊離酸素含有ガスは約室温から
980℃(1800°F)の範囲の温度でバーナーへ導
入される。オキシダント中の遊離酸素対供給原料中の炭
素の比(O/C、原子/原子)は好ましくは約0.7−
1.5の範囲である。
【0017】従来の2、3、4の流バーナーは部分酸化
ガス発生装置に約室温から120℃(250°F)の範
囲の温度の1つのまたは複数の燃料供給流、約室温から
200℃(400°F)の範囲の温度の遊離酸素含有ガ
ス流、および任意に約室温から260℃(500°F)
の範囲の温度の温度調節材流を供給するために使用され
る。一実施態様において、残留油は3通路環状バーナー
の中央の導管を通過し、ポンプで汲み上げることのでき
る石油コークスの水性スラリーは中間の環状通路を経て
ポンプで汲み上げられ、遊離酸素含有ガス例えば酸素の
流れは外側の環状通路を通過する。上記バーナーについ
て更に情報が欲しい場合は、ここに引例として引用され
る同時譲渡の米国特許第3,743,660号、同3,
874,592号、同4,525,175号を参照され
たい。
【0018】供給原料流は約980℃−1650℃(1
800−3000°F)の範囲の自己発生温度で、約2
−300絶対圧の範囲の圧力の自由流動性ガス発生器の
反応区域で触媒なしで部分酸化により反応させる。ガス
発生器の反応時間は約1ー10秒である。ガス発生器を
出た放出ガスの混合物は希ガスを無視できると仮定する
なら下記の組成(モル%−乾燥基準)を有する、
【0019】CO:15−57、H2 :70−10、C
O2:1.5−50、NH3:0.02−2.0、HC
N:0.001−0.02、HCL:0.001−1.
0、HF:0.001−0.5、CH4:0.001−
20、N2:0−75、Ar:0−2、H2 S:0.0
1−5.0、COS:0.002−1.0。また、ガス
発生器から出た放出ガス流には微粒子状炭素およびフラ
イアッシュから成る部類から選ばれた物質から成る粉粒
体が飛沫同伴している。粉粒体の定義には、アルミノけ
い酸塩類、けい酸塩類、アルミン酸塩類、硫化物、硫酸
塩、ハロゲン化物、ナトリウムおよび/またはカリウム
の水酸化物から成る部類から選ばれるアルカリ金属化合
物を包含する融解した粘着性のスラグの小滴が含まれ
る。アルカリ金属化合物粉粒体は粉粒体の約5.0重量
%まで存在できる。ガス発生器からの放出ガス流はナト
リウムおよび/またはカリウムの水酸化物およびハロゲ
ン化物から成る部類から選ばれる気相アルカリ金属化合
物ばかりでなく金属のNaおよび/またはKの蒸気も約
200ppmまで含有できる。未反応の微粒子状炭素は
(供給原料中の炭素の重量に対して)約0.05から2
0重量%である。
【0020】高温の放出生ガス流はガス発生器の反応区
域の中央にある運搬用耐火性内張り底部出口を出て、ガ
ス発生器の中心軸と一直線上に下部に配置された同軸の
垂直な耐火性内張り連結用導管を通過し従来の放射冷却
器を経て下方へ通過する。適当な放射冷却器はここに引
例として引用される同時譲渡米国特許第4,377,1
32号に示されている。
【0021】好ましい実施態様では生成物ガス流中のN
H3 は黙認する。この様な場合に、プロセスガス流は放
射冷却器で約540℃−700℃(1000°F−13
00°F)の範囲の温度に冷却される。NH3 の除去工
程はこの実施態様では必要とされない。そして、放射冷
却器を出た冷却されたプロセスガス流はすぐに脱ハロゲ
ン化される。
【0022】第二の実施態様では、例えば、炭化水素系
燃料中の有機窒素が0.1重量%のN2 を超える場合
は、プロセスガス流からアンモニアを除去することが望
ましい。この様な場合に、プロセスガス流は例えば約8
00℃(1475°F)から980℃(1800°F)
の範囲の温度で放射冷却器を出るようにする。脱ハロゲ
ン化される前に、プロセスガス流は触媒不均化装置へ導
入され、該ガス流中のNH3がN2とH2へ変換される。
次に、NH3を含まないプロセスガス流を脱ハロゲン化
する。従って、この第二実施態様では、プロセスガス流
は約800℃−980℃(1475°F−1800°
F)の範囲の温度、例えば約820℃(1500°F)
で放射冷却器を出るが、粉粒体およびNH3 、HCN、
ハロゲン化水素、アルカリ金属化合物の蒸気、H2 S、
COSなどの気体不純物を含有する。一実施態様では、
プロセスガス流は例えばセラミック充填材などのガス/
固体分離区域を通過させて生ガス流中の粉粒体を100
0重量ppm未満に減少させる。
【0023】所望によりNH3 がプロセスガス流から除
去される第一の気体不純物である。ガス流の温度を80
0℃(1475°F)以上にして先ずアンモニアを除去
する。この温度では、不均化触媒はガス中の硫黄を黙認
する。更に、不均化反応は高温が好ましい。部分酸化反
応区域へ送られる燃料供給原料中の窒素含有化合物はN
H3、NCN、N2へ変換される。ガス流からNH3 とN
CNを除去すると次にガスを燃焼する間にNOx ガスの
生成が減少する。プロセスの次の工程において、高温の
NH3分解触媒反応器で反応区域のNH3は不均化されて
N2とH2とになる。90重量%以上のシアン化水素はア
ンモニア不均化装置の触媒と接触して破壊される。この
メカニズムの一つは合成ガス中の水分で加水分解するこ
とによりNH3 とCOとを生成し、次にアンモニアを不
均化する。もう一つのメカニズムは不均化装置の室のH
CNを水素添加することによりメタンと窒素を形成す
る。不均化工程の後ではどんな残留HCNも次のハロゲ
ン化物除去工程でアルカリ金属シアン化物として除去さ
れる。ここで使用される「実質的にNH3 を含まない」
および「NH3を含まない」という表現は、NH3が15
0−225vppm(百万部中の容量部)未満であると
いうことを意味している。例えば、NH3 の入り口濃度
が約500−5000vppmの範囲で、例えば約19
00vppmであり、温度が約800℃−980℃(1
475°F−1800°F)の範囲であり、圧力が実質
的にガス発生器の反応区域に提供される圧力から導管内
での通常の圧力降下、例えば約0.5−3気圧の圧力降
下を引いた圧力であるガス流が固定層型触媒反応器を通
過してそこでガス流中のNH3 が不均化されてN2とH2
になる。入手し易い従来のニッケル触媒が使用される。
例えば、デンマーク、コペンハーゲンのホルダー・トプ
ソウA/S(Haldor−Topsoe A/S)に
より供給されるHTSR−1触媒が挙げられるが、これ
についてはここに引例として引用する U.S. Department
of Energy Morgantown, West Virginia Report DE 890
00945, 1988年9月に記載されている。空間速度は標準状
態で約3000−100,000h-1の範囲で(例え
ば、約20,000h-1)ある。触媒は1475°F以
上の温度でハロゲン化物および硫黄含有ガスにより不活
性化しない耐性を有する。
【0024】プロセスの脱ハロゲン化工程では、ハロゲ
ン化物がHCNと共にプロセスガス流から除去され、ハ
ロゲン化物およびシアン化水素を含まないガス流でNH
3 を含んでいるまたはいないガス流を生成する。気体の
ハロゲン化物が脱硫吸着剤に吸収されて該吸着剤が不活
性化するのを防ぐために最終脱硫工程の前にプロセスガ
ス流から気体のハロゲン化物を除去する。ここで使用さ
れている「実質的にハロゲン化物を含まないまたはHC
Nを含まない」、「ハロゲン化物を含まないまたはHC
Nを含まない」または「ハロゲン化物またはHCNのな
い」という用語は1vppm未満のハロゲン化水素また
はHCNを意味する。気体のハロゲン化水素、例えば、
HClおよびHFはシアン化水素と共にプロセスガス流
を約540℃(1000°F)から700℃(1300
°F)までの範囲の温度まで冷却することにより除去さ
れ、その後で補充のアルカリ金属化合物またはその混合
物と接触させるが、前記補充のアルカリ金属化合物のア
ルカリ金属部分が元素の周期律表の1A族から選ばれる
少なくとも1種類の金属である。例えば、ナトリウムお
よび/またはカリウムの炭酸塩類、重炭酸塩類、水酸化
物およびそれらの混合物、好ましくは,Na2CO3がN
H3を含むまたは含まない冷却されたプロセスガス流に
注入される。外部源から補充されるアルカリ金属化合物
は水溶液または乾燥粉末として導入される。充分な補充
アルカリ金属が導入され、その結果、実質的に全ての気
体ハロゲン化物、例えばHCLとHFおよびそのHCN
は反応してアルカリ金属ハロゲン化物およびアルカリ金
属シアン化物、例えばNaClおよびNaFおよびNa
CNなどを形成する。例えば、アルカリ金属成分の当量
はHCl、HFおよびHCNの当量の合計を越えて約5
−1対1の割合、例えば2対1の割合となるようにすべ
きである。
【0025】ガス流からアルカリ金属のハロゲン化物お
よびシアン化物を分離するために、ガス流を直接水の噴
霧と接触させるか、さもなければ冷媒と間接的に熱交換
させることにより約430℃−540℃(800°F−
1000°F)の範囲の温度まで冷却される。合成ガス
が430℃−540℃(800−1000°F)まで冷
却するにつれて、アルカリ金属ハロゲン化物およびシア
ン化物の粒子が前の工程を通過する他の非常に微細な粒
子と共に塊状化する。冷却されたガスは次に従来の高温
セラミック・フィルター、例えばセラミックろうそくフ
ィルターなどでろ過され、アルカリ金属ハロゲン化物お
よびシアン化物、および例えば残留しているアルカリ金
属化合物などの他の粒子および例えば微粒子状炭素また
はフライアッシュなどの残留粉粒体を除去する。時間が
経つと、非常に微細な粒子のダスト・ケークがセラミッ
ク・フィルターの汚れる面上に蓄積する。定期的にフィ
ルターに例えば窒素、蒸気または再循環合成ガスなどの
ガスを逆流させ、セラミック・フィルター構成成分から
ダスト・ケークを引き離し、離れたケークをフィルター
の容器の底に落下させる。非常に微細なダストの粒子が
再び飛沫同伴しないように、フィルターに入る冷却され
たガス流のスリップ流がフィルター容器の底から急冷タ
ンクへ引き抜かれる。前記ガスのスリップ流の容量はフ
ィルターに入るガス流の約0.1−10.0容量%であ
る。合成ガスの残りはセラミックフィルター成分を通過
してフィルターを出ると、ハロゲン化物、シアン化物、
アルカリ金属化合物、430℃−540℃(800°F
−1000°F)のろ過温度範囲で固体微粒子である実
質的に全て他の化合物がろ過される。少量の合成ガスの
スリップ流とセラミックフィルター成分から定期的に引
き離される微細なダスト・ケークとから成る混成流は水
で急冷される。ダスト・ケーク中の様々な化合物および
粒子は急冷水中に溶解するか懸濁されるかのいずれかで
ある。得られたガス流にはハロゲン化物、HCN、アル
カリ金属化合物、粉粒体は含まれておらず、NH3 は含
まれている場合と含まれていない場合のいずれかの状態
で急冷区域を出て、流量制御弁を通過し、ハロゲン化
物、HCN、アルカリ金属化合物は含まれておらず、N
H3 は含まれている場合と含まれていない場合のいずれ
かの状態の塔頂流出物のガス流と混合され、ガスろ過区
域を出る。このプロセスガス流の温度は約430℃−5
40℃(800°F−1000°F)の範囲である。圧
力は実質的に部分酸化反応区域の圧力から導管での通常
の圧力降下を引いたもので、例えば約1−4気圧であ
る。
【0026】次のガス精製工程では、プロセスガス流は
従来の高温ガス脱硫区域で脱硫される。しかし、脱硫反
応が適当な速度で進行するために、粉粒体、アルカリ金
属化合物、ハロゲン化物、HCNは含まれておらず、N
H3 は含まれている場合と含まれていない場合のガス流
は540℃−680℃(1000°F−1250°F)
の範囲の温度を有するべきである。もしガスが前述の冷
却およびろ過工程でたった540℃(680°F)に冷
却されたなら、次に再加熱することは通常必要ない。し
かし、ガスが前述の工程で430℃(800°F)に冷
却されたなら、次に下記の方法の一つを使って再加熱さ
れる必要がある。
【0027】粉粒体、アルカリ金属化合物、ハロゲン化
物、HCNは含まれておらず、NH3 は含まれているま
たは含まれていないガス流を約540℃−680℃(1
000°F−1250°F)の範囲の温度に加熱し、同
時にそのH2 対COのモル比を増加する工程が触媒発熱
水性ガス転化反応器で従来の高温硫黄耐性転化触媒、例
えばモリブデン酸コバルト触媒などを使って行われる。
例えば、水性ガス転化反応器中のH2 O対乾燥ガスのモ
ル比は少なくとも0.1である。同時に、水性ガス転化
反応器へ送られる供給ガス流中の水素と一酸化炭素のH
2 /COモル比を増加する。例えば、転化されたガス流
は約1.0−17/1の範囲のH2 /COモル比を有す
る。さもなければ、プロセスガス流を従来の高温硫黄耐
性メタン化触媒、例えばアルミナ上のルテニウムなどの
上を通過させることのより該プロセスガス流の温度を所
望の温度にまで上昇させることができる。別の適当な方
法としては、間接的に熱交換することによりプロセスガ
ス流の温度を増加する方法もある。この手段では、プロ
セスガス流のその部分のガス組成に加熱されることのよ
る変化は生じない。
【0028】粉粒体、アルカリ金属化合物、ハロゲン化
物、HCNは含まれておらず、NH3 は含まれている場
合または含まれていない場合の約540℃−680℃
(1000°F−1250°F)の範囲の温度の加熱さ
れたガス流は、再生された硫黄反応性混合金属酸化物吸
着剤、例えばチタン酸亜鉛などと約540℃−790℃
(1000°F−1450°F)の範囲の温度で混合さ
れ、得られた混合物は流動層に導入される。混合された
金属酸化物硫黄吸着剤は少なくとも1種類、例えば1−
3種類の硫黄反応性金属酸化物および約0−3種類の非
硫黄反応性金属酸化物から成る。プロセスガス流中の硫
黄物質の99モル%以上がこの流動層で部分酸化ガス発
生器の外に除去される。「チタン酸亜鉛吸着剤」という
用語は亜鉛対チタンのモル比を約0.5−2.0/1の
範囲で例えば約1.5に変更する場合の酸化亜鉛とチタ
ニアの混合物を説明するために使用されている。約54
0℃−680℃(1000°F−1250°F)の範囲
の温度で、工程(1)のガス発生器の圧力から導管内の
通常の圧力降下を引いた圧力で、プロセスガス流中の例
えばH2 SおよびCOSなどの硫黄含有ガスは前記流動
層で前記混合金属酸化物硫黄吸着剤の反応性酸化物部
分、例えば酸化亜鉛と反応し、固体の金属硫化物物質お
よびその残留物、例えば二酸化チタンから成る硫化吸着
剤を生成する。脱硫反応に加えて、例えばチタン酸亜鉛
などの混合された金属酸化物硫黄吸着剤も脱流が起こる
同じ温度範囲で水性ガス転化反応に触媒作用を及ぼして
本質的に完了する。合成ガスは脱硫化装置入り口の合成
ガス中に感知できるほどの量の水分があるので、転化反
応は流動層式脱硫装置の脱硫反応と同時に進行する。こ
れは例え転化触媒反応器が脱硫装置の前に再加熱工程と
して使用されても当てはまる。脱硫および転化反応は発
熱性であり、放出された熱は合成ガスおよび吸着剤の温
度を上昇させる傾向がある。しかし、吸着剤の温度はそ
の吸着剤の反応性金属成分、例えば亜鉛の減少、揮発、
損失を最小に抑えるために約680℃(1250°F)
を越えないようにする必要がある。どんなアルカリ金属
ハロゲン化物も硫黄吸着剤と接触させる前に合成ガスか
ら除去することが重要である。例えば、チタン酸亜鉛吸
着剤と共に、揮発性のハロゲン化亜鉛は次の再生工程で
形成された。もし脱硫および転化反応により放出される
熱の量が流動層の温度を約680℃(1250°F)以
上に上昇させる傾向があるなら、内部の冷却コイルを使
用して混合金属酸化物吸着剤の温度が680℃(125
0°F)以上にならないようにすることができる。さも
なければ、もし合成ガスの温度が脱硫装置の入り口で例
えば540℃(1000°F)であり、合成ガスの組成
が脱硫および転化反応からの熱が合成ガスの温度を68
0℃(1250°F)以上に上昇させないようなもので
あるなら、その時は流動層の内部冷却コイルは必要な
い。前記混合金属酸化物硫黄吸着剤の反応性の金属酸化
物部分はZn、Fe、Cu、Ce、Mo、Mn、Sn、
およびそれらの混合物から成る部類から選ばれる。前記
硫黄吸着剤の非反応性酸化物部分はチタン酸塩、アルミ
ン酸塩、アルミノ珪酸塩、珪酸塩、クロマイトおよびそ
れらの混合物から成る部類から選ばれる酸化物および/
または酸化物化合物である。
【0029】流動層式脱硫装置からの塔頂流出物は従来
の高温気体−固体分離区域、例えばサイクロン分離装置
に導入され、そこで飛沫同伴された硫化硫黄吸着剤粒子
が流動層式脱硫装置を出たガスから除去される。適当な
高温サイクロンは同時譲渡米国特許第4,328,00
6号に示されており、これは引例としてここに引用され
る。分離区域からの塔頂流出物流はハロゲン化物を含ま
ず、HCNを含まず、アルカリ金属化合物を含まず、硫
黄を含まないガスから成り、任意にアンモニアを含まな
い。流動層から飛沫同伴された残りの粉粒体はこのガス
流から従来の高温セラミックフィルター、例えばセラミ
ックろうそくフィルターなどで除去され、これで全ての
残留粒子が取り除かれる。硫黄を含まない生成ガス流中
の硫黄物質の出口濃度は25vppm、例えば7vpp
mである。気体構成成分のタイプと量およびその用途次
第で、生成物ガス流は合成ガス、燃料ガス、または還元
ガスと呼ばれる。例えば、モル比H2 /COは合成ガス
および還元ガスについては変えられるし、CH4 含有量
は燃料ガスについて変えられる。高温のサイクロンの底
部およびセラミックフィルターの底部から出た硫化吸着
剤は約5−20重量%の硫黄ローディングを有し、約5
40℃−680℃(1000°F−1250°F)の範
囲の温度を有する。次に、これは従来の流動層式再生装
置へ導入され、そこでその金属硫化物がばい焼され、約
540℃−790℃(1000°F−1450°F)の
範囲の温度で空気と反応し、前記硫黄反応性の混合金属
酸化物吸着剤へ再変換され、粉粒体、ハロゲン化物、H
CN、アルカリ金属化合物は含まれておらず、NH3 は
含まれている場合と含まれていない場合のいずれかの前
記硫黄含有プロセス供給ガスと混合して前記外部高温ガ
ス脱流区域へ再循環される。
【0030】一実施態様では、再生されたチタン酸亜鉛
の粉末は約540℃−680℃(1000°F−125
0°F)の範囲の温度で、粉粒体、ハロゲン化物、HC
N、アルカリ金属化合物は含まれておらず、NH3 は含
まれている場合と含まれていない場合のいずれかの前記
ガス流へ注入される。次に、気体−固体混合物は流動層
式脱流装置へ導入される。脱流されているガス類の流れ
の中へ注入されるチタン酸亜鉛粉末の注入速度は完全な
脱流が行われる程度充分にする。チタン酸亜鉛の流動層
(少なくとも一部は吸着剤の硫化形へ変換される)は脱
硫ガス流と共にサイクロン分離装置へ運ばれそこで消費
されたチタン酸亜鉛は分離され再生装置容器へ流れ落ち
る。サイクロン分離装置からの高温の脱硫塔頂留出ガス
流はろ過されどんな残留固体物質も浄化され、次にガス
タービンの燃焼室で燃焼され、NOx 含有量が減少し、
粉粒体、ハロゲン化物、アルカリ金属化合物、硫黄含有
ガス類を含まない煙道ガスを生成する。次に、煙道ガス
を膨張タービンの中に通し機械的力および/または電力
を生成する。蒸気を発生させるためのボイラーの供給水
と熱交換した後、消費された煙道ガスは安全に大気中へ
排出される。一実施態様では、副生物の蒸気は蒸気ター
ビンを通過して機械的なエネルギーおよび/または電力
を生成する。硫黄を含まないガス流から分離された微細
な固体は全て流動層式再生装置へ戻されそこで硫化物の
粒子が540℃−790℃(1000°F−1450°
F)の範囲の温度で空気により酸化される。空気および
SO2に飛沫同伴された再生吸着剤は第二サイクロン分
離装置へ運ばれる。第二サイクロン分離装置でガス類の
流れから分離される微細な固体は流動層式再生装置へ再
循環される。サイクロン分離装置からの気体の塔頂留出
物はろ過され、540℃−790℃(1000°F−1
450°F)の範囲の温度で約5.5−13.5モル%
のSO2 、例えば11.3モル%のSO2を含有する清
浄なSO2含有ガス流が冷却され、減圧され、周知の硫
酸製造方法、例えばモンサント・ケミカル社の接触方法
で使用される。
【0031】
【実施例】本発明の詳細な工程を示す添付の略図の図面
の図1を参照すると本発明を更に完全に理解できる。図
面は、本発明のプロセスの好ましい実施態様を示してい
るが、図に示される連続工程を記載の特別な装置または
物質に限定するためではない。図1に示されるように、
垂直の自由流動性で非触媒性で耐火性の内張りをしたガ
ス発生器1は従来の環状バーナー2を備えており、同軸
の中央通路3および環状通路4を有する。2つの流れ用
環状バーナーがここに示されているが、他の適当な従来
からあるバーナーで複数の別個の通路を有するものも2
つ以上の別々の原料供給流を供給するために使用され
る。バーナー2はガス発生器1の上部中央入り口5に取
り付けられる。中央通路3は遊離酸素含有ガスと蒸気の
混合流に導管6で接続されている。ポンプで汲み上げる
ことのできる液体炭化水素系燃料流は導管7を経て入り
口8を通過し環状通路4へ入る。遊離酸素含有ガスと蒸
気の混合流と液体炭化水素系燃料流は衝突して噴霧化し
ガス発生器1の反応区域15で部分酸化により反応して
H2 、CO、CO2、H2O、CH4、NH3、HCN、H
CL、HF、H2S、COS、N2、Arから構成され、
粉粒体、気相アルカリ金属化合物を含有する高温の生ガ
ス流を製造する。高温のプロセスガス流は反応区域15
の下流中央耐火性内張り出口通路16を通って反応区域
15を出て放射冷却器18を下方へ通過する。
【0032】垂直な放射冷却器18は、放射冷却器18
の上部中央フランジ付き入り口19をガス発生器1の下
流中央フランジ付き出口17に接続することによりガス
発生器1の下に取り付ける。中央耐火性内張り通路16
は放射冷却器18の中へ続く。放射冷却器18は中空な
垂直の円筒形の鋼製圧力容器であり、複数の垂直方向に
間隔を空けた平行な管21から成る同心円垂直リングを
備えており、各管は底部供給多岐管22に接続されてい
る。この複数の垂直な管は上部が上部多岐管23に接続
されている。ボイラー供給水は導管24とフランジ付き
入り口25を経て底部供給多岐管22に入る。蒸気はフ
ランジ付き出口26および導管27を経て上部多岐管2
3から除去される。
【0033】高温の生プロセスガス流が下方へ通過し管
21のリング上に来ると該生ガス流は冷却され、例えば
すす、フライアッシュ、融解スラグなどの粉粒体が例え
ば重量により気体−固体遮断分離区域29において分離
し、放射冷却器18の底部の水たまり30に集められ
る。新鮮な水が放射冷却器18の底部の導管31を通っ
て導入される。固体の水性分散液が中央底部出口28、
導管32、弁33、導管34を通って除去される。
【0034】第一実施態様では、NH3 を除去するため
に何の設備もないので、高温の生プロセスガス流は側部
出口39と導管40を通って放射冷却器18を出る。導
管42の弁41が閉鎖され、導管44の弁43が開放さ
れ、生ガス流は導管45と46を通過して、導管69で
導管70から注入されたアルカリ金属化合物、例えばN
a2CO3と混合される。
【0035】第二実施態様では、弁43は閉鎖されて、
導管40の生プロセスガス流は導管42、開放弁41、
導管48を通って触媒不均化装置63へ入り、そこでプ
ロセスガス流中のNH3がN2とH2 へ変換される。図に
示されていないが一実施態様では、導管48の生プロセ
スガス流はセラミックフィルターを通過して不均化装置
63へ入る前にガス流中の粉粒体の含有量を減らす。導
管64の生プロセスガス流はNH3 を含んでおらず、熱
交換装置65を通過して、導管66から入って導管67
から出ていく冷媒と間接的な熱交換することにより冷却
される。NH3を含まない冷却された生プロセスガス流
は導管46を通過して、導管69において導管70から
注入されたアルカリ金属化合物、例えば、Na2CO3と
混合される。
【0036】導管81の弁82は閉鎖され、導管69の
プロセスガス混合物は導管75、開放弁76、導管77
を通過するにつれて冷却され、任意に導管78と79に
おいて導管71、弁72、導管80からの水と混合され
る。任意に、弁76は閉鎖され弁82は開放され、導管
69のガス流は導管81、弁82、導管83、冷却器8
4、導管85を通過することにより冷却される。冷却器
84では、導管86のボイラー供給水は飽和蒸気に変換
され、導管87から出ていく。
【0037】アルカリ金属ハロゲン化物化合物、例えば
固体のNaClおよび/またはNaFおよびNaCNは
フィルター容器88でガス流から分離される。窒素ガス
流を定期的にフィルター容器88の中へ導管89を経て
送り込み、フィルターを逆流洗浄する。実質的にハロゲ
ン化物およびHCNを含まないガス流はフィルター88
を出て導管90を通り導管91で導管92からの清浄な
ガススリップ流と混合される。フィルター室88からの
少量のスリップガス流中のアルカリ金属ハロゲン化物、
例えば固体のNaCl、NaF、NaCNと他の固体ア
ルカリ金属化合物および残留微粉粒体は導管93を通過
し急冷室94へ入り、そこでアルカリ金属ハロゲン化物
およびシアン化物、他のアルカリ金属化合物、残留粉粒
体は水95に溶解または懸濁される。急冷室94からの
ハロゲン化物を含まず、任意にNH3 を含まないスリッ
プガス流は導管96、弁97、導管92を通過する。急
冷水95は室94を出て、導管98、弁99、導管10
0を通って従来の水回収区域53へ入る。導管34から
の急冷水も従来の水回収区域53へ入る。再循環水は導
管56、24、101を通ってそれぞれの急冷容器へ入
る。
【0038】粉粒体、ハロゲン化物、HCN、アルカリ
金属化合物を実質的に含まず、NH3 を含む場合と含ま
ない場合のいずれかの導管91のガス流は導管110、
弁111、導管112、転化触媒室113、導管114
および115を通過することにより、任意に、少なくと
も一部水性ガス転化される。もし水性ガス転化反応区域
へ供給されているプロセスガス流の水分が不足するな
ら、補充の水分を下記の方法でガス流へ導入できる、
(1)導管70の水性Na2CO3溶液として、(2)導
管71、弁72、導管80を通過する冷媒水として、
(3)導管96の水急冷ガス流として。さもなければ、
少なくとも導管91のガス流の一部が導管117、弁1
18、導管119を通過することにより転化触媒室11
3を迂回することができる。別の実施態様では、転化触
媒室113はメタン化触媒室と取り替えられている。
【0039】導管125からの例えばチタン酸亜鉛など
の硫黄反応性混合金属酸化物吸着剤は導管116で導管
115からの流れと混合される。次に、この混合物は流
動層式反応器126へ導入され、そこでガス流は高温、
例えば540℃−680℃(1000°F−1250°
F)で脱硫される。例えば、図1に示されるように、接
触用容器126は流動層であり、前記混合金属酸化物物
質の硫黄反応性部分の少なくとも一部は導管115から
の前記ガス流の硫黄含有ガスと反応し、固体金属硫化物
含有物質に変換される。実質的にハロゲン化物、シアン
化水素、アルカリ金属化合物、H2 S、COSおよび硫
黄を含まず、固体金属硫化物含有の微粒子吸着剤を飛沫
同伴したガス流が生成され、塔頂留出通路127を通過
して従来の気体−固体分離装置128、例えばサイクロ
ン分離装置へ入る。ハロゲン化物、シアン化水素、アル
カリ金属化合物、硫黄を含まず、NH3 を含むまたは含
まないガス流は少なくとも540℃(1000°F)の
温度で分離装置128から塔頂留出導管129を経て除
去される。消費された固体金属硫化物含有の微粒子状吸
着剤は気体−固体分離装置128から低部導管130、
弁131、導管132を経て除去され、硫化微粒子吸着
剤再生装置容器133へ導入される。一実施態様では、
導管129のガス流に残留しているどんな固体金属硫化
物含有吸着剤も従来の高温セラミックフィルター134
でろ過され、実質的に粉粒体、水素、ハロゲン化物、シ
アン化水素、アルカリ金属化合物、H2 S、COSを含
まず、NH3 を含んでいるまたは含まない高温の清浄な
ガス流を導管135に少なくとも540℃(1000°
F)の温度で生成する。導管135の清浄な品質の格上
げされた燃料ガス流は、好ましくはNH3を含まずに燃
焼タービンの燃焼室へ導入され、電力および/または機
械的力を発生させる。別の実施態様では、導管135の
清浄な改良されていない合成ガスは例えばメタノールな
ど有機化合物の化学合成のために触媒反応区域へ導入さ
れる。導管136の窒素は定期的にセラミックフィルタ
ー134を逆流洗浄するために使用される。この窒素は
実質的に純粋な酸を空気から作るために使用される従来
の空気分離ユニットからの副生成物として得られる。
【0040】消費された固体金属硫化物含有の微粒子吸
着剤は導管140、弁141、導管142を経て気体−
固体分離装置134から除去され、金属硫化物含有微粒
子吸着剤再生装置容器133へ導入される。例えば、再
生容器133は導管143を通って導入される空気を使
う従来の泡立て式または循環式流動層である。この空気
は清浄な燃料ガスが燃焼されて機械的力および/または
電力を発生させる下流燃焼タービンの空気圧縮機からの
スリップ流として得られる。任意に、吸着剤微粉の蓄積
を防ぐために、導管140の物質の滲み出る流れを系か
ら除去する。ボイラーの供給水は導管144とコイル1
45を通過して、導管146を通って飽和蒸気として外
に出る。金属硫化物含有吸着剤は導管143からの空気
により酸化され二酸化硫黄および硫黄反応性金属酸化物
含有の吸着剤微粒子を生成し、これらは通路147を通
って気体−固体分離装置148へ入る気体類と飛沫同伴
される。例えば、気体−固体分離装置148はサイクロ
ン分離装置である。再変換された硫黄反応性金属酸化物
含有物質は導管150を通過し、再生装置容器133の
底部へ再循環され、次に導管151、弁152、導管1
53、125を通って導管116へ入り、そこで導管1
15からの硫黄含有ガス流と混合される。補充硫黄反応
性金属酸化物含有物質は導管154、弁155、導管1
56を経て工程へ導入される。実質的にN2、H2O、C
O2、SO2および粉粒体から成るガス流は分離装置14
8を出て、塔頂留出導管160を通って、高温のセラミ
ックフィルター161に導入され、そこで微細な再生硫
黄反応性金属酸化物含有物質が分離され、弁162、粉
体供給室163、弁164、導管165を通って除去さ
れる。高温の清浄な硫黄含有ガス流は導管166を通っ
て排出され、従来の硫黄回収ユニット(図に示されてな
い)へ送られる。定期的に窒素を導管167に通過させ
てセラミックフィルターを逆流洗浄する。
【0041】本発明の他の修正および変更はこれまで説
明したように本発明の精神および範囲を逸脱することな
く行われるので、従って、本発明は添付の特許請求の範
囲によってのみ限定される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明は添付の図面を参照するとされによく理
解される。図1と表示されている図面は本発明の方法の
実施態様の略図である。
【符号の説明】
1・・・ガス発生器、2・・・環状バーナー、3・・・
中央通路、4・・・環状通路、5・・・ガス発生器の上
部中央入り口、7・・・導管、8・・・入り口、15・
・・反応区域、16・・・下流中央耐火性内張り出口通
路、18・・・垂直な放射冷却器、22・・・底部多岐
管、23・・・上部多岐管、29・・・気体−固体遮断
分離区域、63・・・触媒不均化装置
フロントページの続き (72)発明者 アレン・モーリス・ロビン アメリカ合衆国 92806 カリフォルニア 州・アナヘイム・イースト ゲリッド ア ヴェニュ・2517 (72)発明者 ジェイムズ・ケネス・ウルフェンバーガー アメリカ合衆国 90503 カリフォルニア 州・トーレンス・オーシャン アヴェニ ュ・21413 (72)発明者 ロバート・マレイ・サジット アメリカ合衆国 12590 ニューヨーク 州・ワッピンガーズ フォールズ・トンプ ソン テラス・6

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 合成ガス、還元ガス、または燃料ガスを
    製造する部分酸化方法において、(1)ポンプで汲み上
    げられる炭化水素系燃料の供給原料と遊離酸素含有ガス
    とを部分酸化により反応させる工程であって、前記炭化
    水素系燃料供給原料が液体炭化水素系燃料またはその液
    体エマルジョン、石油コークスの水性スラリー、または
    それらの混合物であり、前記燃料は、ハロゲン化物、ア
    ルカリ金属化合物、硫黄、窒素および無機灰分含有成分
    を含有し、かつその燃料は前記燃料を自由流動性の垂直
    な耐火性内張り部分酸化ガス発生器で遊離酸素含有ガス
    と反応させ、約980℃−1650℃の範囲の温度を有
    し、H22、CO、CO2、H2O、CH4、NH3、HC
    N、HCL、HF、H2S、COS、N2、Arから成
    り、粉粒体、気相アルカリ金属化合物を含有する高温の
    生ガス流を製造する工程、(2)工程(1)からの高温
    の生ガス流をガス冷却区域において約540℃−700
    ℃の範囲の温度まで部分的に冷却する工程、(3)工程
    (2)からの生ガス流から飛沫同伴の粉粒体を分離する
    工程、(4)工程(3)からのプロセスガス流に補助ア
    ルカリ金属化合物を導入し、前記プロセスガス流中の気
    体のハロゲン化水素とシアン化水素とを反応させ、前記
    反応ガス流を約430℃から540℃の範囲の温度まで
    冷却し、プロセスガス流をろ過し、アルカリ金属ハロゲ
    ン化物およびシアン化物、残留アルカリ金属化合物、残
    留粉粒体を分離する工程、(5)工程(4)からの前記
    冷却ろ過ガス流を硫黄除去区域において硫黄反応性酸化
    物含有混合金属酸化物吸着剤と接触させ、前記工程
    (4)からの冷却ろ過ガス流中の硫黄含有ガスを前記硫
    黄反応性酸化物含有混合金属酸化物吸着剤と反応させ硫
    化吸着剤を生成し、前記冷却ろ過ガス流から前記硫化吸
    着剤を分離し、粉粒体、アルカリ金属化合物、ハロゲン
    化水素、HCN、H2 S、COSを実質的に含まず、少
    なくとも540℃の温度を有する清浄なガス流を製造す
    る工程から成ることを特徴とする合成ガス、還元ガス、
    または燃料ガスを製造する部分酸化方法。
  2. 【請求項2】 前記液体炭化水素系燃料が液化石油ガ
    ス、石油留出物と残留物、ガソリン、ナフサ、ケロシ
    ン、原油、アスファルト、ガス油、残留油、タールサン
    ドとシェール油、石炭油、芳香族炭化水素(例えば、ベ
    ンゼン、トルエン、キシレン留分)、コールタール、流
    動接触分解作業由来の循環ガス油、コークス炉ガス油の
    フルフラール抽出物、タイヤ油、およびその混合物であ
    ることを特徴とする請求項1の方法。
  3. 【請求項3】 前記気体炭化水素燃料がメタン、エタ
    ン、プロパン、ブタン、ペンタン、天然ガス、水性ガ
    ス、コークス炉ガス、精油所ガス、アセチレン廃ガス、
    エチレン・オフガス、合成ガスまたはその混合物である
    ことと特徴とする請求項1または2の方法。
  4. 【請求項4】 工程(4)を出たプロセスガス流を触媒
    水性ガス転化反応区域を通過させて、工程(5)に先だ
    って約540℃−680℃の範囲の温度に加熱する工程
    を特徴とする請求項1−3のいずれか1項の方法。
  5. 【請求項5】 前記水性ガス添加反応区域に先立ってプ
    ロセスガス流に水分を補充する工程を特徴とする請求項
    4の方法。
  6. 【請求項6】 工程(4)を出たプロセスガス流を触媒
    メタン化反応区域を通過させて、工程(5)に先だって
    約540℃−680℃の範囲の温度に加熱する工程を特
    徴とする請求項1−3のいずれか1項の方法。
  7. 【請求項7】 工程(4)を出たガス流を工程(5)に
    先だって間接的熱交換により約540℃−680℃の範
    囲の温度に加熱する工程を特徴とする請求項1−3のい
    ずれか1項の方法。
  8. 【請求項8】 工程(5)において、約540℃−68
    0℃の範囲の温度および工程(1)のガス発生器の圧力
    から導管内の通常の圧力降下を引いた圧力で、工程
    (4)由来のガス流中のH2 SおよびCOSが前記硫黄
    反応性混合金属酸化物吸着剤の硫黄反応性部分と反応す
    ることを特徴とする請求項1−7のいずれか1項の方
    法。
  9. 【請求項9】 工程(2)および(3)が、工程(1)
    から出た高温生ガス流を約800℃−980℃の範囲の
    温度に部分的に冷却し、前記部分的に冷却された生ガス
    流から飛沫同伴の粉粒体を分離し、得られたプロセスガ
    ス流中のアンモニアを触媒により不均化して実質的にN
    H3 を含まないプロセスガス流を生成し、工程(4)へ
    送ることからなることを特徴とする請求項1−8のいず
    れか1項による方法。
  10. 【請求項10】 工程(5)における前記硫黄反応性酸
    化物との接触が約540℃−680℃の範囲の温度で実
    施されることを特徴とする請求項9の方法。
  11. 【請求項11】 前記ガス流が約800℃−980℃の
    範囲の温度でニッケル不均化触媒と接触して前記NH3
    がN2とH2 に不均化されることを特徴とする請求項9
    または10の方法。
  12. 【請求項12】 温度は約980℃−1650℃の範
    囲、圧力は約2−300気圧の範囲、H2O対炭化水素
    系燃料の重量比は約0.1−5.0の範囲、O/Cの原
    子比は約0.7−1.5の範囲において、前記炭化水素
    系燃料供給原料を前記遊離酸素含有ガスと反応させるこ
    とを特徴とする請求項1−11のいずれか1項の方法。
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