JPH0658978B2 - 圧電変位素子 - Google Patents
圧電変位素子Info
- Publication number
- JPH0658978B2 JPH0658978B2 JP59103231A JP10323184A JPH0658978B2 JP H0658978 B2 JPH0658978 B2 JP H0658978B2 JP 59103231 A JP59103231 A JP 59103231A JP 10323184 A JP10323184 A JP 10323184A JP H0658978 B2 JPH0658978 B2 JP H0658978B2
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- JP
- Japan
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- piezoelectric
- piezoelectric ceramic
- ceramic layers
- displacement
- intermediate layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/20—Piezoelectric or electrostrictive devices with electrical input and mechanical output, e.g. functioning as actuators or vibrators
- H10N30/204—Piezoelectric or electrostrictive devices with electrical input and mechanical output, e.g. functioning as actuators or vibrators using bending displacement, e.g. unimorph, bimorph or multimorph cantilever or membrane benders
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/50—Piezoelectric or electrostrictive devices having a stacked or multilayer structure
Description
【発明の詳細な説明】 発明の分野 この発明は、圧電変位素子の構造、特に内部電極の両側
の圧電セラミック層が同時に焼成されて構成される圧電
変位素子の構造の改良に関する。
の圧電セラミック層が同時に焼成されて構成される圧電
変位素子の構造の改良に関する。
先行技術の説明 第１１図に側面図で示すように、内部電極１と、内部電
極１の両側に配置され同時に焼成されて形成される圧電
セラミック層２，３と、圧電セラミック層２，３の外面
に形成された電極４，５とを備えるバイモルフ振動子６
が提案されている。このように内部電極１を介在された
状態で圧電セラミック層２，３を構成するセラミックグ
リーンシートを重ね合わせ、同時に焼成して得られるバ
イモルフ振動子６では、圧電セラミック層２，３の厚み
を薄くすることができ、かつ大きな変位を得ることがで
きるという利点を有する。
極１の両側に配置され同時に焼成されて形成される圧電
セラミック層２，３と、圧電セラミック層２，３の外面
に形成された電極４，５とを備えるバイモルフ振動子６
が提案されている。このように内部電極１を介在された
状態で圧電セラミック層２，３を構成するセラミックグ
リーンシートを重ね合わせ、同時に焼成して得られるバ
イモルフ振動子６では、圧電セラミック層２，３の厚み
を薄くすることができ、かつ大きな変位を得ることがで
きるという利点を有する。
しかしながら、上述のようにして構成されたバイモルフ
振動子６では、圧電セラミック層２，３が同時焼成され
るものであるため、内部電極としては、通常、電極を構
成する金属ペースト等を一方の圧電セラミック層２もし
くは３に塗布し焼付けることにより内部電極１が構成さ
れており、したがって内部電極はその厚みが約２〜５μ
ｍ程度とかなり薄いものである。したがって、内部電極
１と、電極４，５間に電圧を印加しバイモルフ振動子６
を駆動させた場合、内部電極１を介した両側の圧電セラ
ミック層２，３のセラミック結晶粒子が相互に逆方向に
伸縮し、その結果内部電極１を隔てた両側の圧電セラミ
ック粒子の伸び、縮みを相互に拘束し合うという問題が
あった。すなわち、内部電極１付近に内部電極１の両側
の圧電セラミック層２，３よりの応力が集中し、その結
果圧電変位素子としてのバイモルフ振動子６の変位に影
響を与え、大きな変位ヒステリシスを生じるという欠点
があった。言い換えれば、内部電極１を介して圧電セラ
ミック層２，３を構成する結晶粒子が、互いに内部電極
１を隔てて逆向きに伸縮するため、正および負の電圧を
交互に印加した場合の変位履歴が大きいという欠点があ
った。
振動子６では、圧電セラミック層２，３が同時焼成され
るものであるため、内部電極としては、通常、電極を構
成する金属ペースト等を一方の圧電セラミック層２もし
くは３に塗布し焼付けることにより内部電極１が構成さ
れており、したがって内部電極はその厚みが約２〜５μ
ｍ程度とかなり薄いものである。したがって、内部電極
１と、電極４，５間に電圧を印加しバイモルフ振動子６
を駆動させた場合、内部電極１を介した両側の圧電セラ
ミック層２，３のセラミック結晶粒子が相互に逆方向に
伸縮し、その結果内部電極１を隔てた両側の圧電セラミ
ック粒子の伸び、縮みを相互に拘束し合うという問題が
あった。すなわち、内部電極１付近に内部電極１の両側
の圧電セラミック層２，３よりの応力が集中し、その結
果圧電変位素子としてのバイモルフ振動子６の変位に影
響を与え、大きな変位ヒステリシスを生じるという欠点
があった。言い換えれば、内部電極１を介して圧電セラ
ミック層２，３を構成する結晶粒子が、互いに内部電極
１を隔てて逆向きに伸縮するため、正および負の電圧を
交互に印加した場合の変位履歴が大きいという欠点があ
った。
上述の欠点は、第１１図に図示したようなバイモルフ振
動子６に限らず、内部電極１の両側に複数の圧電セラミ
ック層が積層されて焼成される圧電変位素子においても
存在した。
動子６に限らず、内部電極１の両側に複数の圧電セラミ
ック層が積層されて焼成される圧電変位素子においても
存在した。
発明の目的 この発明の目的は、上述の欠点を解消し、変位ヒステリ
シスの小さな圧電変位素子を提供することにある。
シスの小さな圧電変位素子を提供することにある。
発明の構成 この発明は、内部電極と、該内部電極の両側で相互に逆
方向に変位する圧電セラミック層とを備え、この両側の
圧電セラミック層が同時に焼成されてなる圧電変位素子
において、相互に逆方向に変位する圧電セラミック層間
に、積極的に変位しないセラミックからなる中間層が前
記圧電セラミック層と同時に焼成されることにより設け
られており、内部電極は中間層の両面に形成されている
ことを特徴とする、圧電変位素子である。
方向に変位する圧電セラミック層とを備え、この両側の
圧電セラミック層が同時に焼成されてなる圧電変位素子
において、相互に逆方向に変位する圧電セラミック層間
に、積極的に変位しないセラミックからなる中間層が前
記圧電セラミック層と同時に焼成されることにより設け
られており、内部電極は中間層の両面に形成されている
ことを特徴とする、圧電変位素子である。
実施例 第１図は、この発明の一実施例の側面図である。第１図
から明らかなように、この実施例の特徴は、互いに逆方
向に変位する圧電セラミック層２，３の間に、それ自身
は積極的に駆動されない中間層７が設けられていること
にあり、該中間層７の両面に内部電極１ａ，１ｂが形成
されている。この第１図に示した圧電変位素子１６は、
たとえば圧電セラミック層２，３および中間層７を構成
する圧電セラミックグリーンシートを、内部電極となる
金属ペースト１ａ，１ｂを介して積層し、焼成すること
により得られる。したがって、圧電変位素子１６の全体
の厚みは、予め焼成された圧電セラミックスを内部電極
を介して貼り合わせたものよりかなり薄くすることが可
能である。この点は、第１１図に示した従来の圧電変位
素子６と同様である。なお、中間層７の両側に配置され
る圧電セラミック層２，３については、１層からなるも
のに限られず、それぞれが複数のセラミックグリーンシ
ートを積層してなるものでもよく、また圧電セラミック
層２と圧電セラミック層３とを異なる層数のセラミック
グリーンシートにより構成し、中間層７の両側の圧電セ
ラミック層２，３の厚みを異ならすことも可能である。
から明らかなように、この実施例の特徴は、互いに逆方
向に変位する圧電セラミック層２，３の間に、それ自身
は積極的に駆動されない中間層７が設けられていること
にあり、該中間層７の両面に内部電極１ａ，１ｂが形成
されている。この第１図に示した圧電変位素子１６は、
たとえば圧電セラミック層２，３および中間層７を構成
する圧電セラミックグリーンシートを、内部電極となる
金属ペースト１ａ，１ｂを介して積層し、焼成すること
により得られる。したがって、圧電変位素子１６の全体
の厚みは、予め焼成された圧電セラミックスを内部電極
を介して貼り合わせたものよりかなり薄くすることが可
能である。この点は、第１１図に示した従来の圧電変位
素子６と同様である。なお、中間層７の両側に配置され
る圧電セラミック層２，３については、１層からなるも
のに限られず、それぞれが複数のセラミックグリーンシ
ートを積層してなるものでもよく、また圧電セラミック
層２と圧電セラミック層３とを異なる層数のセラミック
グリーンシートにより構成し、中間層７の両側の圧電セ
ラミック層２，３の厚みを異ならすことも可能である。
さらに、第１図に示した実施例では、中間層７の両側に
内部電極１ａ，１ｂが形成されており、したがって電圧
を図示のように内部電極１ａ，１ｂおよび外面の電極
４，５に印加した場合、圧電セラミック層２，３は相互
に逆方向に変位するが、中間層７自身は積極的に変位し
ない。よって、内部電極１ａ，１ｂ近傍の圧電セラミッ
ク層２，３の結晶粒子の変位の他方側への影響は、中間
層７で吸収され、他方側の圧電セラミック層２，３に影
響を与えないことが予想される。よって、圧電セラミッ
ク層２，３を相互に逆方向に繰返し変位させたとして
も、変位ヒステリシスの小さな圧電変位素子１６を実現
し得ることが予想される。
内部電極１ａ，１ｂが形成されており、したがって電圧
を図示のように内部電極１ａ，１ｂおよび外面の電極
４，５に印加した場合、圧電セラミック層２，３は相互
に逆方向に変位するが、中間層７自身は積極的に変位し
ない。よって、内部電極１ａ，１ｂ近傍の圧電セラミッ
ク層２，３の結晶粒子の変位の他方側への影響は、中間
層７で吸収され、他方側の圧電セラミック層２，３に影
響を与えないことが予想される。よって、圧電セラミッ
ク層２，３を相互に逆方向に繰返し変位させたとして
も、変位ヒステリシスの小さな圧電変位素子１６を実現
し得ることが予想される。
上述の中間層７の効果を確認するために、中間層７の設
けられていない比較例と、中間層７ならびに圧電セラミ
ック層２，３の厚みを異ならせた実施例１ないし実施例
３とにつき、変位量およびヒステリシス量を測定した。
なお、比較例および実施例１ないし実施例３の形状のう
ち、各圧電セラミック層２，３および中間層７の（長
さ）×（幅）は、すべて（１１mm）×（５mm）のものを
用いている。
けられていない比較例と、中間層７ならびに圧電セラミ
ック層２，３の厚みを異ならせた実施例１ないし実施例
３とにつき、変位量およびヒステリシス量を測定した。
なお、比較例および実施例１ないし実施例３の形状のう
ち、各圧電セラミック層２，３および中間層７の（長
さ）×（幅）は、すべて（１１mm）×（５mm）のものを
用いている。
比較例：圧電セラミック層２，３の厚み０．２mm。中間
層７は設けず。
層７は設けず。
実施例１：圧電セラミック層２，３の厚みは０．２mm、
中間層７の厚みは０．０２５mm。
中間層７の厚みは０．０２５mm。
実施例２：圧電セラミック層２，３の厚みは０．１７m
m、中間層７の厚みは０．０６mm。
m、中間層７の厚みは０．０６mm。
実施例３：圧電セラミック層２，３の厚みは０．１５m
m、中間層７の厚みは０．１２mm。
m、中間層７の厚みは０．１２mm。
変位量および変位ヒステリシス量については、正および
負のピーク間電圧２００Ｖおよび３００Ｖにて測定し、
変位ヒステリシス量は、（駆動電圧０における変位履歴
量）／（正および負のピーク電圧間の変位量）×１００
（％）で表わした。
負のピーク間電圧２００Ｖおよび３００Ｖにて測定し、
変位ヒステリシス量は、（駆動電圧０における変位履歴
量）／（正および負のピーク電圧間の変位量）×１００
（％）で表わした。
結果を、第３図ないし第１０図および下記の表に示す。
上述した表の結果から明らかなように、比較例に比べ
て、実施例１ないし実施例３では変位ヒステリシス量が
１／３〜１／２に低減し得ることが確認されている。同
時に、中間層７の厚みが厚くなるほど、大きな変位量
（高ｄ01）が得られることがわかる。
て、実施例１ないし実施例３では変位ヒステリシス量が
１／３〜１／２に低減し得ることが確認されている。同
時に、中間層７の厚みが厚くなるほど、大きな変位量
（高ｄ01）が得られることがわかる。
なお、圧電セラミック層２，３の厚みをＡ、中間層７の
厚みをＢとしたとき、実験によれば、第２図に示すよう
に、 「０．１≦Ｂ／Ａ≦０．５」の条件において、変位ヒス
テリシス量の小さい圧電変位素子を得ることが確かめら
れた。なお、図中実線は正および負のピーク間の電圧が
２００Ｖ，破線は正および負のピーク間の電圧が３００
Ｖのときの値であり、実線０および破線Ｐはヒステリシ
ス（％）を、実線Ｑおよび破線Ｒはｄ01を示す。
厚みをＢとしたとき、実験によれば、第２図に示すよう
に、 「０．１≦Ｂ／Ａ≦０．５」の条件において、変位ヒス
テリシス量の小さい圧電変位素子を得ることが確かめら
れた。なお、図中実線は正および負のピーク間の電圧が
２００Ｖ，破線は正および負のピーク間の電圧が３００
Ｖのときの値であり、実線０および破線Ｐはヒステリシ
ス（％）を、実線Ｑおよび破線Ｒはｄ01を示す。
上述した表および第２図の結果から明らかなように、こ
の実施例によれば、用途に応じて、すなわち変位ヒステ
リシス量の低減が要請される用途では変位ヒステリシス
量の小さな圧電変位素子を与えることができ、また大き
な変位量を要求されるところでは中間層７を圧電セラミ
ック層２，３のたとえば５倍以上の厚みに制御すること
により所望の大変位量の圧電変位素子を与えることが可
能であることがわかる。
の実施例によれば、用途に応じて、すなわち変位ヒステ
リシス量の低減が要請される用途では変位ヒステリシス
量の小さな圧電変位素子を与えることができ、また大き
な変位量を要求されるところでは中間層７を圧電セラミ
ック層２，３のたとえば５倍以上の厚みに制御すること
により所望の大変位量の圧電変位素子を与えることが可
能であることがわかる。
発明の効果 以上のように、この発明によれば、内部電極と、該内部
電極の両側で相互に逆方向に変位する圧電セラミック層
とを備え、両側の圧電セラミック層が同時に焼成されて
なる圧電変位素子において、相互に逆方向に変位する圧
電セラミック層間に積極的に変位しないセラミックから
なる中間層が前記圧電セラミック層と同時に焼成される
ことにより設けられており、内部電極は該中間層の両面
に形成されているため、変位ヒステリシス量の小さな圧
電変位素子を得ることができる。また、中間層の厚みを
調整することにより、用途に応じた大変位量の圧電変位
素子を得ることも可能である。
電極の両側で相互に逆方向に変位する圧電セラミック層
とを備え、両側の圧電セラミック層が同時に焼成されて
なる圧電変位素子において、相互に逆方向に変位する圧
電セラミック層間に積極的に変位しないセラミックから
なる中間層が前記圧電セラミック層と同時に焼成される
ことにより設けられており、内部電極は該中間層の両面
に形成されているため、変位ヒステリシス量の小さな圧
電変位素子を得ることができる。また、中間層の厚みを
調整することにより、用途に応じた大変位量の圧電変位
素子を得ることも可能である。
したがって、たとえばＶＴＲヘッドトラッキング用圧電
素子のような変位ヒステリシス量の極めて小さいことが
要求される圧電変位素子、もしくは圧電スイッチのよう
な大変位量が求められる用途は圧電ブザー、圧電スピー
カなどの様々な圧電装置に応用し得るものである。
素子のような変位ヒステリシス量の極めて小さいことが
要求される圧電変位素子、もしくは圧電スイッチのよう
な大変位量が求められる用途は圧電ブザー、圧電スピー
カなどの様々な圧電装置に応用し得るものである。
第１図は、この発明の一実施例を示す側面図である。第
２図は、第１図に示した実施例における圧電セラミック
層と中間層の厚みの比率を変えた場合の変位ヒステリシ
ス量およびｄ01の変化を示す図である。第３図ないし第
１０図は、比較例、実施例１ないし実施例３におけるＶ
PP２００Ｖおよび３００Ｖを印加したときの変位ヒステ
リシスを示す図である。第１１図は、従来の圧電変位素
子を示す側面図である。 図において、１ａ，１ｂは内部電極、２，３は圧電セラ
ミック層、７は中間層、１６は圧電変位素子を示す。
２図は、第１図に示した実施例における圧電セラミック
層と中間層の厚みの比率を変えた場合の変位ヒステリシ
ス量およびｄ01の変化を示す図である。第３図ないし第
１０図は、比較例、実施例１ないし実施例３におけるＶ
PP２００Ｖおよび３００Ｖを印加したときの変位ヒステ
リシスを示す図である。第１１図は、従来の圧電変位素
子を示す側面図である。 図において、１ａ，１ｂは内部電極、２，３は圧電セラ
ミック層、７は中間層、１６は圧電変位素子を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭57−13784（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−78994（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−144585（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−38600（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−16398（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−23100（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】内部電極と、該内部電極の両側で相互に逆
方向に変位する圧電セラミック層とを備え、前記両側の
圧電セラミック層が同時に焼成されてなる圧電変位素子
において、 相互に逆方向に変位する前記圧電セラミック層間に、積
極的に変位しないセラミックからなる中間層が前記圧電
セラミック層と同時に焼成されることにより設けられて
おり、前記内部電極は、該中間層の両面に形成されてい
ることを特徴とする、圧電変位素子。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59103231A JPH0658978B2 (ja) | 1984-05-21 | 1984-05-21 | 圧電変位素子 |
| DE19853518055 DE3518055A1 (de) | 1984-05-21 | 1985-05-20 | Piezoelektrische betaetigungseinrichtung mit zwei kristallplattenbereichen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59103231A JPH0658978B2 (ja) | 1984-05-21 | 1984-05-21 | 圧電変位素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60245286A JPS60245286A (ja) | 1985-12-05 |
| JPH0658978B2 true JPH0658978B2 (ja) | 1994-08-03 |
Family
ID=14348686
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59103231A Expired - Lifetime JPH0658978B2 (ja) | 1984-05-21 | 1984-05-21 | 圧電変位素子 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0658978B2 (ja) |
| DE (1) | DE3518055A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4769570A (en) * | 1986-04-07 | 1988-09-06 | Toshiba Ceramics Co., Ltd. | Piezo-electric device |
| JPH01501421A (ja) * | 1986-11-07 | 1989-05-18 | プレッシー オーストラリア プロプライエタリー リミテッド | 低周波の水中音源として動作する複合ソナートランスジューサ |
| JPS64351U (ja) * | 1987-06-19 | 1989-01-05 | ||
| DE4408618B4 (de) * | 1994-03-15 | 2004-04-22 | Physik Instrumente (Pi) Gmbh & Co | Verstellantrieb aus Bimorphelementen |
| DE19520796A1 (de) * | 1995-06-07 | 1996-12-12 | Siemens Ag | Piezoelektrischer Biegewandler |
| DE19627221A1 (de) * | 1996-07-05 | 1998-01-08 | Nass Magnet Gmbh | Verbund mit piezokeramischen Schichten |
| EP1019972B1 (de) | 1997-09-30 | 2006-11-15 | Argillon GmbH | Piezoelektrisches element |
| JP3948089B2 (ja) * | 1998-01-22 | 2007-07-25 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電体素子及びそれを用いたインクジェット式記録ヘッド |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3378704A (en) * | 1966-01-05 | 1968-04-16 | Bourns Inc | Piezoelectric multilayer device |
| JPS5936440B2 (ja) * | 1977-12-06 | 1984-09-04 | ソニー株式会社 | 電気・機械変換素子 |
| JPS5946432B2 (ja) * | 1980-04-11 | 1984-11-12 | 株式会社東芝 | バイモルフ圧電素子 |
| JPS5713784A (en) * | 1980-06-30 | 1982-01-23 | Toshiba Corp | Bimorph piezoelectric element |
| DE3142684A1 (de) * | 1981-10-28 | 1983-05-05 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | "elektromechanischer wandler" |
| JPS5919384A (ja) * | 1982-07-23 | 1984-01-31 | Omron Tateisi Electronics Co | 圧電バイモルフ |
| JPS6066882A (ja) * | 1983-09-22 | 1985-04-17 | Murata Mfg Co Ltd | 圧電変位素子およびその分極方法 |
-
1984
- 1984-05-21 JP JP59103231A patent/JPH0658978B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1985
- 1985-05-20 DE DE19853518055 patent/DE3518055A1/de active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3518055A1 (de) | 1985-11-21 |
| DE3518055C2 (ja) | 1993-02-04 |
| JPS60245286A (ja) | 1985-12-05 |
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