JPH0658538B2 - 感光体 - Google Patents
感光体Info
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- JPH0658538B2 JPH0658538B2 JP59202766A JP20276684A JPH0658538B2 JP H0658538 B2 JPH0658538 B2 JP H0658538B2 JP 59202766 A JP59202766 A JP 59202766A JP 20276684 A JP20276684 A JP 20276684A JP H0658538 B2 JPH0658538 B2 JP H0658538B2
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- Japan
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- resin
- weight
- parts
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0622—Heterocyclic compounds
- G03G5/0644—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings
- G03G5/0661—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings in different ring systems, each system containing at least one hetero ring
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は導電性基体上に下引き層と光導電層を有する感
光体に関する。
光体に関する。
従来の技術 感光体の一般的な構成として導電性基体上に光導電層を
形成したもの、あるいは更にその上に電荷輸送層を積層
したもの等が広く知られている。
形成したもの、あるいは更にその上に電荷輸送層を積層
したもの等が広く知られている。
そしてこの様な感光体においては、基体と光導電層の接
着性の改善、光導電層の塗工性向上、基体の保護、基体
上の欠陥の被覆、光導電層の電気的破壊に対する保護、
基体から光導電層への電荷注入性改善等のために基体と
光導電層間に下引き層を設けることが有効である。その
一例として特開昭５８−３０７５７号、特開昭５８−９
５７４４号ではポリイミド樹脂を開いて下引き層とした
感光体が提案されている。
着性の改善、光導電層の塗工性向上、基体の保護、基体
上の欠陥の被覆、光導電層の電気的破壊に対する保護、
基体から光導電層への電荷注入性改善等のために基体と
光導電層間に下引き層を設けることが有効である。その
一例として特開昭５８−３０７５７号、特開昭５８−９
５７４４号ではポリイミド樹脂を開いて下引き層とした
感光体が提案されている。
ところで、下引き層に要求される特性として、まず第一
に電気的特性が挙げられる。電子写真感光体に用いるの
であるから、電子写真特性に影響を与えないことが重要
で、このためには電気抵抗が低いことが重要である。電
気抵抗が高いと、下引き層に帯電電位が印加され、いわ
ゆる残留電位として、画像にかぶりが発生する。従って
下引き層を樹脂でのみ構成するだけでは、残留電位の上
昇を招きカブリが生じるという弊害を起こす。
に電気的特性が挙げられる。電子写真感光体に用いるの
であるから、電子写真特性に影響を与えないことが重要
で、このためには電気抵抗が低いことが重要である。電
気抵抗が高いと、下引き層に帯電電位が印加され、いわ
ゆる残留電位として、画像にかぶりが発生する。従って
下引き層を樹脂でのみ構成するだけでは、残留電位の上
昇を招きカブリが生じるという弊害を起こす。
更に下引き層はその電気抵抗が、外部の環境の変化、特
に大気中の湿度の変化によって影響を受けないことも必
要である。例えば、低湿度になって電気抵抗が上昇する
と、かぶりを生ずるようになる。下引き層にはこのよう
ないろいろな特性が要求されるが、単一樹脂層だけの場
合には従来は良好なものが得難いものであった。そのた
め、樹脂層の膜厚を非常に薄くするのが、あるいは必要
に応じて導電性粉末（ニッケル、銅や銀等の金属粉な
ど）を樹脂に分散させている。しかし、樹脂層の膜厚を
薄くすることは、下引き層としての性能が十分でなくな
る欠点を有しており、一方金属粉を分散させた下引き層
では、金属粒子が荒いため、下引き層の表面性が低下す
る欠点があった。
に大気中の湿度の変化によって影響を受けないことも必
要である。例えば、低湿度になって電気抵抗が上昇する
と、かぶりを生ずるようになる。下引き層にはこのよう
ないろいろな特性が要求されるが、単一樹脂層だけの場
合には従来は良好なものが得難いものであった。そのた
め、樹脂層の膜厚を非常に薄くするのが、あるいは必要
に応じて導電性粉末（ニッケル、銅や銀等の金属粉な
ど）を樹脂に分散させている。しかし、樹脂層の膜厚を
薄くすることは、下引き層としての性能が十分でなくな
る欠点を有しており、一方金属粉を分散させた下引き層
では、金属粒子が荒いため、下引き層の表面性が低下す
る欠点があった。
発明が解決しようとする問題点 前述した如く、従来提案されている下引き層では電気抵
抗の特性が不十分で残留電位の上昇を生じる。このた
め、下引き層の膜厚を薄くすることが考えられるが、逆
に下引き層そのものの性能が低下する。また導電性粉末
を分散しても下引き層の表面性が低下するという欠点が
あった。
抗の特性が不十分で残留電位の上昇を生じる。このた
め、下引き層の膜厚を薄くすることが考えられるが、逆
に下引き層そのものの性能が低下する。また導電性粉末
を分散しても下引き層の表面性が低下するという欠点が
あった。
本発明は上記欠点を解消した感光体を提供することを目
的とし、具体的には平滑な表面性を有し且つ肉厚に形成
可能な下引き層を有し、電子写真特性全般に優れた感光
体を提供することを目的とする。
的とし、具体的には平滑な表面性を有し且つ肉厚に形成
可能な下引き層を有し、電子写真特性全般に優れた感光
体を提供することを目的とする。
問題点を解決するための手段 本発明は導電性基体上に下引き層と感光層を順次積層し
た正帯電型感光体において、前記下引き層を樹脂で構成
するとともに下記一般式［Ｉ］で示されるヒドラゾン化
合物を含有することを要旨とする。
た正帯電型感光体において、前記下引き層を樹脂で構成
するとともに下記一般式［Ｉ］で示されるヒドラゾン化
合物を含有することを要旨とする。
［式中、Ｒ1は水素、メチル基またはフェニル基、Ｒ2、
Ｒ3はアルキル基、アラルキル基またはアリール基を示
し、Ｒ2、Ｒ3は一体となって環を形成してもよい。ｎは
１または２の数、Ａは置換基を有してもよいフェニル基
または置換基を有してもよいカルバゾール基を示す。］ 上記ヒドラゾン化合物の具体例としては、次のものを用
いることができる。
Ｒ3はアルキル基、アラルキル基またはアリール基を示
し、Ｒ2、Ｒ3は一体となって環を形成してもよい。ｎは
１または２の数、Ａは置換基を有してもよいフェニル基
または置換基を有してもよいカルバゾール基を示す。］ 上記ヒドラゾン化合物の具体例としては、次のものを用
いることができる。
一方、下引き層を構成する樹脂として従来より公知のポ
リビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリ
−Ｎ−ビニルイミダゾール、エチルセルロース、メチル
セルロース、エチレン−アクリル酸コポリマー、カゼイ
ン、ゼラチン、ポリアミド等を用いることに加え、一般
的なポリエステル樹脂、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹
脂、塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂、ポリビニルブチラー
ル樹脂等の熱可塑性樹脂又はアルキッド樹脂、メラミン
樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、
フェノール樹脂等の熱硬化性樹脂のいずれでもよく、基
体との密着性やヒドラゾンとの相溶性などを考慮して選
択される。これらの中でも、特にポリエステル樹脂、ポ
リビニルブチラール樹脂が接着性の点でより好ましい。
リビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリ
−Ｎ−ビニルイミダゾール、エチルセルロース、メチル
セルロース、エチレン−アクリル酸コポリマー、カゼイ
ン、ゼラチン、ポリアミド等を用いることに加え、一般
的なポリエステル樹脂、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹
脂、塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂、ポリビニルブチラー
ル樹脂等の熱可塑性樹脂又はアルキッド樹脂、メラミン
樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、
フェノール樹脂等の熱硬化性樹脂のいずれでもよく、基
体との密着性やヒドラゾンとの相溶性などを考慮して選
択される。これらの中でも、特にポリエステル樹脂、ポ
リビニルブチラール樹脂が接着性の点でより好ましい。
上記樹脂とともにヒドラゾン化合物を含有してなる下引
き層は、表面平滑性に優れ、その層自体の膜厚にかなり
の自由度を与える。即ち、上記ヒドラゾン化合物の含有
により下引き層の膜厚は約０．１〜２０μ、好ましくは
１〜１５μとすることができる。ヒドラゾン化合物は下
引き層中に０．１〜７０％、好ましくは１〜５０％の重
量割り合いで含有することができ、単独あるいは２種以
上のヒドラゾン化合物を併用してもよい。ヒドラゾン化
合物の含有は上述の如く下引き層の膜厚に自由度を与え
るのみならず、感光体としての電荷保持能の向上、繰り
返し特性と耐刷性に優れた効果を示す。
き層は、表面平滑性に優れ、その層自体の膜厚にかなり
の自由度を与える。即ち、上記ヒドラゾン化合物の含有
により下引き層の膜厚は約０．１〜２０μ、好ましくは
１〜１５μとすることができる。ヒドラゾン化合物は下
引き層中に０．１〜７０％、好ましくは１〜５０％の重
量割り合いで含有することができ、単独あるいは２種以
上のヒドラゾン化合物を併用してもよい。ヒドラゾン化
合物の含有は上述の如く下引き層の膜厚に自由度を与え
るのみならず、感光体としての電荷保持能の向上、繰り
返し特性と耐刷性に優れた効果を示す。
具体的に上記下引き層は導電性基体上にヒドラゾン化合
物の単独または２種以上を結着樹脂溶液に溶解または分
散させて塗布することにより形成される。塗布方法は、
浸漬コーティング法、スプレーコーティング法、スピン
ナーコーティング法、ビードコーティング法、ワイヤー
バーコーティング法、ブレードコーティング法、ローラ
ーコーティング法、カーテンコーティング法などのコー
ティング法を用いて行なうことができる。また、導電性
基体としては、銅、アルミニウム、銀、鉄、ニッケル等
の箔ないしは板をシート状又はドラム状にしたものが使
用され、あるいはこれらの金属を、プラスチックフィル
ム等に真空蒸着、無電解メッキしたもの、あるいは導電
性ポリマー、酸化インジウム、酸化スズなどの導電性化
合物の層を同じく紙あるいはプラスチックフィルムなど
の支持体上に塗布もしくは蒸着によって設けられたもの
が用いられる。
物の単独または２種以上を結着樹脂溶液に溶解または分
散させて塗布することにより形成される。塗布方法は、
浸漬コーティング法、スプレーコーティング法、スピン
ナーコーティング法、ビードコーティング法、ワイヤー
バーコーティング法、ブレードコーティング法、ローラ
ーコーティング法、カーテンコーティング法などのコー
ティング法を用いて行なうことができる。また、導電性
基体としては、銅、アルミニウム、銀、鉄、ニッケル等
の箔ないしは板をシート状又はドラム状にしたものが使
用され、あるいはこれらの金属を、プラスチックフィル
ム等に真空蒸着、無電解メッキしたもの、あるいは導電
性ポリマー、酸化インジウム、酸化スズなどの導電性化
合物の層を同じく紙あるいはプラスチックフィルムなど
の支持体上に塗布もしくは蒸着によって設けられたもの
が用いられる。
下引き層は前述した如く、０．１〜２０μ、特に１〜１
５μ程度の膜厚とするのが望ましく、膜厚が薄すぎると
所望の効果を得ることができず、また逆に厚すぎると抵
抗が高くなり、残留電位が蓄積される。またヒドラゾン
化合物の含有量を０．１〜７０wt％とするのは、０．１
％以下では残留電位の上昇が避けられず、７０％以上で
は塗膜自体が均質とならず結晶化等を起こす可能性が有
るためである。
５μ程度の膜厚とするのが望ましく、膜厚が薄すぎると
所望の効果を得ることができず、また逆に厚すぎると抵
抗が高くなり、残留電位が蓄積される。またヒドラゾン
化合物の含有量を０．１〜７０wt％とするのは、０．１
％以下では残留電位の上昇が避けられず、７０％以上で
は塗膜自体が均質とならず結晶化等を起こす可能性が有
るためである。
本発明の下引き層には、さらに必要に応じて電子受容性
物質や低抵抗物質を添加させたとき全ての面でさらに特
性が向上する。添加する電子受容性物質としては、トリ
ニトロアントラセン、トリニトロフルオレノン、ジニト
ロアクリジン、テトラシアノピレン等の多環ないしは複
素環ニトロ化合物無水フタル酸、無水トリメリト酸、無
水テトラクロルフタル酸等の酸無水物ジニトロクロルベ
ンゼン、トリシアノベンゼン、クロラロル、ブロマロ
ル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタ
ン、ベンゾキノン、ジニトロビフェニル等の電子吸引性
基置換化合物である。低抵抗物質として有効なものは、
酸化亜鉛、酸化スズ、酸化チタン等の金属酸化物、カー
ボンブラック、フェロセン等の有機導電性物質である。
物質や低抵抗物質を添加させたとき全ての面でさらに特
性が向上する。添加する電子受容性物質としては、トリ
ニトロアントラセン、トリニトロフルオレノン、ジニト
ロアクリジン、テトラシアノピレン等の多環ないしは複
素環ニトロ化合物無水フタル酸、無水トリメリト酸、無
水テトラクロルフタル酸等の酸無水物ジニトロクロルベ
ンゼン、トリシアノベンゼン、クロラロル、ブロマロ
ル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタ
ン、ベンゾキノン、ジニトロビフェニル等の電子吸引性
基置換化合物である。低抵抗物質として有効なものは、
酸化亜鉛、酸化スズ、酸化チタン等の金属酸化物、カー
ボンブラック、フェロセン等の有機導電性物質である。
下引き層上には光導電層が形成されるが、ＳｅやＣｄＳ
を蒸着したもの、ＣｄＳ、ＺｎＯ、ＴｉＯ2と絶縁性バ
インダー樹脂の混合物を塗布したもの、ポリビニルカル
バゾール、アントラセン、フタロシアニン等の有機光導
電性材料をそれ自体乃至は絶縁性バインダ樹脂との混合
で塗布したもの等を用いることができる。また光導電層
上には保護層あるいは電荷輸送層を形成してもよい。
を蒸着したもの、ＣｄＳ、ＺｎＯ、ＴｉＯ2と絶縁性バ
インダー樹脂の混合物を塗布したもの、ポリビニルカル
バゾール、アントラセン、フタロシアニン等の有機光導
電性材料をそれ自体乃至は絶縁性バインダ樹脂との混合
で塗布したもの等を用いることができる。また光導電層
上には保護層あるいは電荷輸送層を形成してもよい。
発明の効果 以上の説明から明らかなように、本発明の感光体によれ
ば、下引き層の表面平滑性が優れ且つかなりの自由度を
もって膜厚設定することができる。これにより感光体の
電荷保持能、繰り返し特性、耐刷性の優れた効果を示
し、カブリのない良好な画像が得られるものである。
ば、下引き層の表面平滑性が優れ且つかなりの自由度を
もって膜厚設定することができる。これにより感光体の
電荷保持能、繰り返し特性、耐刷性の優れた効果を示
し、カブリのない良好な画像が得られるものである。
以下、実施例について説明する。
実施例１ ポリエステル樹脂バイロン２００（東洋紡（株）製）１
０重量部とヒドラゾン化合物例（１）６重量部をテトラ
ヒドロフラン５０重量部に溶解させた溶液をアルミニウ
ム基体上に約３μになるように塗布し、乾燥させて、下
引き層を形成した。次に、ε型銅フタロシアニン２０重
量部、Ｎ−エチルカルバゾール−３−アルデヒド−メチ
ルフェニルヒドラゾン４０重量部、ポリエステル樹脂
（バイロン２００：東洋紡（株）製）４０重量部および
ポリカーボネット樹脂（パンライトＫ１３００：帝人化
成（株）製）４０重量部をトルエン／テトラヒドロフラ
ン（１：９）１００重量部とともにボールミルポットに
入れ、４８時間混練して光導電性塗料を調整し、この塗
料を上記下引き層の上に塗布、乾燥させて１０μ厚の光
導電層を有する感光体を作製した。
０重量部とヒドラゾン化合物例（１）６重量部をテトラ
ヒドロフラン５０重量部に溶解させた溶液をアルミニウ
ム基体上に約３μになるように塗布し、乾燥させて、下
引き層を形成した。次に、ε型銅フタロシアニン２０重
量部、Ｎ−エチルカルバゾール−３−アルデヒド−メチ
ルフェニルヒドラゾン４０重量部、ポリエステル樹脂
（バイロン２００：東洋紡（株）製）４０重量部および
ポリカーボネット樹脂（パンライトＫ１３００：帝人化
成（株）製）４０重量部をトルエン／テトラヒドロフラ
ン（１：９）１００重量部とともにボールミルポットに
入れ、４８時間混練して光導電性塗料を調整し、この塗
料を上記下引き層の上に塗布、乾燥させて１０μ厚の光
導電層を有する感光体を作製した。
実施例２ ポリエステル樹脂、バイロン３００（東洋紡（株）製）
１０重量部とヒドラゾン化合物例（２）５重量部をテト
ラヒドロフラン５０重量部に溶解させた溶液をアルミニ
ウム基体上に約５μになるように塗布し、乾燥させて下
引き層を形成した。この下引き層の上に系内真空度１×
１０5tonで常法によりSeを蒸着させ６０μ厚の光導電層
を有する感光体を作製した。
１０重量部とヒドラゾン化合物例（２）５重量部をテト
ラヒドロフラン５０重量部に溶解させた溶液をアルミニ
ウム基体上に約５μになるように塗布し、乾燥させて下
引き層を形成した。この下引き層の上に系内真空度１×
１０5tonで常法によりSeを蒸着させ６０μ厚の光導電層
を有する感光体を作製した。
実施例３ ポリスチレン樹脂、ダイヤレックス３０７三菱モンサン
ト化成（株）製）１０重量部とヒドラゾン化合物例
（３）１０重量部をキシレン５０重量部に溶解させた溶
液をアルミニウム基体上に約５μになるように塗布し、
乾燥させて、下引き層を形成した。この下引き層の上に
系内真空度１×１０5tonで常法によりAs2Se3を蒸着させ
６０μ厚の光導電層を有する感光体を作製した。
ト化成（株）製）１０重量部とヒドラゾン化合物例
（３）１０重量部をキシレン５０重量部に溶解させた溶
液をアルミニウム基体上に約５μになるように塗布し、
乾燥させて、下引き層を形成した。この下引き層の上に
系内真空度１×１０5tonで常法によりAs2Se3を蒸着させ
６０μ厚の光導電層を有する感光体を作製した。
実施例４ アクリル樹脂Ａ４０５（大日本インキ（株）製）１０重
量部とヒドラゾン化合物例（４）５重量部、酸化チタン
３重量部をメチルエチルケトン５０重量部とともにボー
ルミルポットに入れて２４時間混練し、得られた組成物
をアルミニウム基体上に約５μになるように塗布し、乾
燥させて下引き層を形成した。
量部とヒドラゾン化合物例（４）５重量部、酸化チタン
３重量部をメチルエチルケトン５０重量部とともにボー
ルミルポットに入れて２４時間混練し、得られた組成物
をアルミニウム基体上に約５μになるように塗布し、乾
燥させて下引き層を形成した。
銅フタロシアニン５０重量部とテトラニトロ銅フタロシ
アニン０．２重量部を98％濃硫酸５００重量部に充分攪
拌しながら溶解させ、これを水３０００重量部にあけ、
銅フタロシアニンとテトラニトロ銅フタロシアニンの光
導電性材料組成物を析出させた後、ロ過、水洗し、減圧
下１２０℃で乾燥した。この光導電性材料組成物１５重
量部、ポリエステル樹脂２０重量部、ポリカーボネット
樹脂２０重量部およびｐ−ジエチルアミノベンズアルデ
ヒド−ジフェニルヒドラゾン２０重量部、テトラヒドロ
フラン１００重量部とともにボールミルポットに入れ４
８時間混練して光導電性塗料を調整し、下引き層の上に
乾燥後１０μになるように塗布し感光体を作製した。
アニン０．２重量部を98％濃硫酸５００重量部に充分攪
拌しながら溶解させ、これを水３０００重量部にあけ、
銅フタロシアニンとテトラニトロ銅フタロシアニンの光
導電性材料組成物を析出させた後、ロ過、水洗し、減圧
下１２０℃で乾燥した。この光導電性材料組成物１５重
量部、ポリエステル樹脂２０重量部、ポリカーボネット
樹脂２０重量部およびｐ−ジエチルアミノベンズアルデ
ヒド−ジフェニルヒドラゾン２０重量部、テトラヒドロ
フラン１００重量部とともにボールミルポットに入れ４
８時間混練して光導電性塗料を調整し、下引き層の上に
乾燥後１０μになるように塗布し感光体を作製した。
実施例５ 実施例４において、下引き層にポリビニルブチラールＫ
２０００（電気化学（株）製）１０重量部、酸化亜鉛３
重量部、ヒドラゾン化合物（１５）６重量部をテトラヒ
ドロフラン６０重量部とともにボールミルポットに入れ
て２４時間混練し、得られた組成物をアルミニウム基体
上に約５μになるよう塗布したものにかえた以外は実施
例４と全く同様の処方で感光体を作製した。
２０００（電気化学（株）製）１０重量部、酸化亜鉛３
重量部、ヒドラゾン化合物（１５）６重量部をテトラヒ
ドロフラン６０重量部とともにボールミルポットに入れ
て２４時間混練し、得られた組成物をアルミニウム基体
上に約５μになるよう塗布したものにかえた以外は実施
例４と全く同様の処方で感光体を作製した。
比較例１ 下引き層を設けないこと以外は実施例１と全く同様の処
方で感光体を作製した。
方で感光体を作製した。
比較例２ 下引き層にヒドラゾン化合物を含有しないこと以外は実
施例１と全く同様の処方で感光体を作製した。
施例１と全く同様の処方で感光体を作製した。
前期の如く作製された７種類の各感光体を市販の粉像転
写型電子写真複写機（ミノルタカメラ（株）製ＥＰ−35
0Ｚ）の感光体として組み込み＋６ＫＶのコロナ放電で
初期表面電位（Ｖ0）、初期表面電位が１／２になるの
に要する露光量（Ｅ１／２（Lux sec））（Ｖ0）に帯電
して暗中で１秒後に減衰する率（ＤＤＲ1（％））と、
複写物の画像品質を調べた。その結果は第１表に示す通
りで、本発明の感光体は電荷保持能が向上し、感度低下
もなく良好な画像が得られるものである。
写型電子写真複写機（ミノルタカメラ（株）製ＥＰ−35
0Ｚ）の感光体として組み込み＋６ＫＶのコロナ放電で
初期表面電位（Ｖ0）、初期表面電位が１／２になるの
に要する露光量（Ｅ１／２（Lux sec））（Ｖ0）に帯電
して暗中で１秒後に減衰する率（ＤＤＲ1（％））と、
複写物の画像品質を調べた。その結果は第１表に示す通
りで、本発明の感光体は電荷保持能が向上し、感度低下
もなく良好な画像が得られるものである。
Claims (2)
- 【請求項１】導電性基体上に下記一般式［Ｉ］で示され
るヒドラゾン化合物を含有する樹脂層からなる下引き層
と感光層を順次積層することを特徴とする正帯電型感光
体。 ［式中、Ｒ1は水素、メチル基またはフェニル基、Ｒ2、
Ｒ3はアルキル基、アラルキル基またはアリール基を示
し、Ｒ2、Ｒ3は一体となって環を形成してもよい。ｎは
１または２の数、Ａは置換基を有してもよいフェニル基
または置換基を有してもよいカルバゾール基を示す。］ - 【請求項２】前記下引き層の樹脂はポリエステルまたは
ポリビニルアルコールであることを特徴とする特許請求
の範囲第項に記載の正帯電型感光体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59202766A JPH0658538B2 (ja) | 1984-09-27 | 1984-09-27 | 感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59202766A JPH0658538B2 (ja) | 1984-09-27 | 1984-09-27 | 感光体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6180158A JPS6180158A (ja) | 1986-04-23 |
| JPH0658538B2 true JPH0658538B2 (ja) | 1994-08-03 |
Family
ID=16462813
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59202766A Expired - Fee Related JPH0658538B2 (ja) | 1984-09-27 | 1984-09-27 | 感光体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0658538B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01113758A (ja) * | 1987-10-27 | 1989-05-02 | Mita Ind Co Ltd | 有機感光体 |
| JP2827937B2 (ja) | 1994-11-22 | 1998-11-25 | 富士ゼロックス株式会社 | 下引き層を有する電子写真感光体および電子写真装置 |
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Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPS5546760A (en) * | 1978-09-29 | 1980-04-02 | Ricoh Co Ltd | Electrophotographic photoreceptor |
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| JPS59133549A (ja) * | 1983-01-21 | 1984-07-31 | Ricoh Co Ltd | 電子写真用感光体 |
-
1984
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