JPH065746A - 集積回路装置用のヒートシンクを有するプラスチックモールドパッケージ - Google Patents

集積回路装置用のヒートシンクを有するプラスチックモールドパッケージ

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JPH065746A
JPH065746A JP5001975A JP197593A JPH065746A JP H065746 A JPH065746 A JP H065746A JP 5001975 A JP5001975 A JP 5001975A JP 197593 A JP197593 A JP 197593A JP H065746 A JPH065746 A JP H065746A
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seal ring
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angle
mold cavity
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Robert C Marrs
シー. マールス ロバート
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AMUKOO ELECTRON Inc
Amkor Electronics Inc
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AMUKOO ELECTRON Inc
Amkor Electronics Inc
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 ヒートシンクを具備する改良した集積回路パ
ッケージ及び該パッケージを製造する方法を提供する。 【構成】 該パッケージ100は、ヒートシンク102
の周りに円周上に位置させた改良したシール(又はロッ
ク)リングを有しており、封止物質とヒートシンクとの
間に良好なシールを与え且つパッケージ外側からの汚染
物質が内部の半導体ダイに到達する可能性を減少させて
いる。パッケージリード104に応力緩和セクション1
08が形成されており、且つパッケージリード104を
ヒートシンク表面に取付けるために絶縁性接着物質10
9が使用される。この絶縁性接着剤は、リードとヒート
シンクとの間に確実なボンド即ち結合を形成し、リード
からヒートシンクへの熱伝達を可能とし、且つリードの
ヒートシンクへの短絡を防止する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電子装置パッケージン
グ技術に関するものであって、更に詳細には、集積回路
装置、ハイブリッド回路、又は1個を超えた集積回路チ
ップを有するモジュールへ適用可能なパッケージ及びそ
の製造方法に関するものである。更に詳細には、本発明
は、二つ以上のパッケージ側部から延在するリードを有
しており且つ露出された外側表面を有する一体的なヒー
トシンクを組込んだパッケージ内のプラスチック封止型
集積回路に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体パッケージング技術の初期の開発
段階においては、集積回路は、典型的に、金属のカンの
中か又はセラミックの蓋とベースとの間にパッケージ化
されるものであった。両方のパッケージング物質は良好
な熱的特性を与えるものであったが、各々は、高価で且
つ時間のかかるパッケージング技術を必要とするもので
あった。例えば、セラミックパッケージにおいては、二
つのセラミック基板を使用することは、コンポーネント
を製造する全体的なコストのかなりの割合を反映するも
のであった。
【0003】半導体の生産量が増大するに従い、より費
用効果性の高いパッケージが開発されるようになった。
最も注意に値するものはプラスチックモールドパッケー
ジである。プラスチックパッケージは著しいコストの節
約を与えるものであったが、金属又はセラミックの場合
における有効な熱的特性を欠如するものであった。集積
回路の速度及び集積度が増大すると、改良した熱的特性
(即ち、改良した熱散逸)に対する必要性が一層重要な
ものとなってきた。この必要性は、パッケージ内に金属
性のヒートシンクを設けて、その機械的設計及び関連す
る組立てプロセスのために、パッケージの信頼性に関し
て妥協することなしに熱を取去ることの思想に発展し
た。
【0004】熱散逸を改善するための幾つかの試みがな
されており、その最も一般的なものはパッケージ内にヒ
ートシンク乃至は熱拡散体を組込むものである。米国特
許第4,975,761号(Chu)は、パッケージの
内側に設けられる幾つかのタイプのヒートシンクを記載
している。しかしながら、これらの方法は、新たな世代
の集積回路組立体によって必要とされるレベルの熱散逸
を与えるものではない。
【0005】更に、ヒートシンクの表面をパッケージの
外側端部へ持ってきて、その際に熱抵抗を著しく減少さ
せる研究がなされている。これらの試みは、種々の製造
上の困難性のためにいまだに成功してはいない。
【0006】一つの方法においては、ヒートシンクを有
する集積回路のプラスチックモールドパッケージング
が、半導体ダイを取付けるヒートシンクの側部がモール
ドキャビティに面するようにパッケージすべき組立体を
モールドキャビティ内に配置することにより行なわれ
る。該組立体は、モールドキャビティ外側のリードフレ
ーム組立体に取付けられたクランプメカニズム又はピン
により拘束される。ヒートシンクの反対側(外側表面)
は完成したパッケージにおいて露出されたままである。
モールドキャビティの一表面がヒートシンクの外側表面
と接触状態とされる。キャビティが充填されるまでモー
ルドキャビティ内に封止物質を注入する。封止物質が冷
却し且つ固化すると、モールドキャビティを開放し且つ
完成したパッケージを取出す。この技術では幾つかの問
題に遭遇している。
【0007】現在の半導体パッケージモールド設計及び
製造技術により製造されたものは、ヒートシンクの外側
表面とモールドキャビティとの間のシールの緊密性が不
十分である。その結果、封止プロセス期間中にモールド
キャビティ内に存在する高い圧力、及び特定のヒートシ
ンク間の個々の寸法変動が、ヒートシンクの表面とモー
ルドキャビティの表面との間に分離を発生させる場合が
ある。この不適切なシール即ち封止は、封止物質の流出
を発生するか、又は露出されたヒートシンク表面上にバ
リを形成することがある。この流出部分は、透明な封止
物質の不所望な存在であり、且つバリは流出物よりも厚
さが大きく且つ裸眼で見ることの可能な封止物質の不所
望な存在である。この問題を解消するために、封止プロ
セス期間中にヒートシンクとモールドキャビティとの間
のシール即ち封止を改善するために特別のモールド工具
及び技術に依存するか、又は封止プロセスが完了した後
に高価な手作業によるバリ取り作業に依存する方法が研
究されている。これらの方法は両方とも、一貫性がなく
且つ歩留りの低い結果としている。
【0008】1方法においては、ヒートシンクの面に亘
って真空を発生させて、ヒートシンクをモールドキャビ
ティ表面に対して保持させる。しかしながら、シールが
満足の行く程度に緊密なものでないか、又はヒートシン
クの外側表面が十分に平坦なものでない場合には、プラ
スチック封止物質が真空メカニズム内に吸引される。こ
れが発生すると、真空システムの困難で且つ高価なクリ
ーニングが必要とされ、且つヒートシンクの表面上に流
出物又はバリが発生する。
【0009】別の方法においては、空気圧により動作さ
れるクランプピンがモールドキャビティ内に面したヒー
トシンクの面と接触し、且つモールドキャビティの外側
に面したヒートシンクの面をモールドキャビティの当接
表面に対して強制的に押付ける。しかしながら、この方
法は、洗練されたピン抽出技術を必要とする。この技術
は、ピンが除去される場合にピンとボンディングワイヤ
又は内部パッケージリードとの間の干渉を回避し、且つ
ヒートシンクの表面を損傷するか又は後退期間中にピン
がへばりつくことを回避するために必要である。
【0010】別の方法は、モールドキャビティ外部のリ
ードフレーム部材をクランプし(リードフレームはヒー
トシンク「パドル」の少なくとも一側部に取付けられて
おり、該パドルの別の側部は突出しており且つモールド
キャビティの外部に拘束されている)、且つこれらの部
材に力を付与してヒートシンクをモールドキャビティに
対して押圧する。しかしながら、この方法は、パッケー
ジの四つの側部にリードを有するパッケージに適用する
ことは不可能である。
【0011】上述した技術の全ては、ヒートシンクの露
出表面に亘り封止物質の種々のレベルの流出物及びバリ
を発生させるものである。この不所望のプラスチック
は、爾後の処理動作の前に、露出表面を広範囲に且つ高
価なクリーニングを行なうことを必要とする。それは、
更に、熱散逸を劣悪なものとさせる。
【0012】ヒートシンクと共に形成したプラスチック
モールド集積回路パッケージの場合には第二の問題に遭
遇した。トランジスタパッケージ設計におけるヒートシ
ンクは、種々の量の汚染物がパッケージ外側の発生源か
ら半導体ダイ、特にボンディングパッドの表面へ移動す
ることを可能とすることが知られている。汚染物は、適
切なシールが欠落するために、ヒートシンクとモールド
したプラスチックとの間の界面に沿って通過する。モー
ルドしたプラスチックをしっかりとヒートシンクにロッ
クさせる能力がないために、パッケージ内部への浸透が
発生する。汚染物はリードフレームとモールドしたプラ
スチックとの間の界面に沿っても通過し、且つある従来
技術はこの問題について言及するものであるが(例え
ば、米国特許第3,564,352(Lehne
r))、ヒートシンクを有するプラスチックパッケージ
におけるダイの主要な汚染源は、既存のヒートシンクと
モールドしたプラスチックとの間の界面により提供され
る開放経路である。
【0013】例えばモイスチャーモート即ち湿潤堀の使
用などのこの問題に対する幾つかの解決方法は、古い世
代のより感度の低い集積回路に対してはある程度有効な
対策であることが判明した。しかしながら、新しい集積
回路に対しては、これらの解決方法は不適切なものであ
る。
【0014】その他のアプローチは、ヒートシンクの側
部にロック用タブを組込んだものである。トランジスタ
スタイルパッケージ(例えば、TO−220)に関する
その他の問題を防止するのには適切なものであるが、こ
れらのロック用タブは、現在の世代の集積回路が感じる
レベルの湿度をシールするのには不適切なものである。
【0015】3番目の問題は、半導体ダイと、リードフ
レームと、ヒートシンクとの間の接続に関するものであ
る。典型的には、これらの接続は、ヒートシンク及び半
導体ダイを、図6(a)に示した如く、リードフレーム
ダイ装着用パドルの対向表面に固着することにより行な
われている。半導体ダイから外側への熱伝達を可能とす
るために、ヒートシンク及びダイと接触するパドル表面
に熱導電性接着剤を付与する。次いで、接着剤の第一層
を介してダイ装着用パドルへ半導体ダイからの熱を伝達
させる。そこから、熱は接着剤の第二層を介して逃れ、
且つヒートシンクを介し、次いで残りのバルクのプラス
チック物質を介して逃れる。増加した量の熱を散逸する
ためのパッケージの能力がないために、より熱的に感受
性の高い半導体設計に対しこの技術を使用する上で厳し
い制限に遭遇した。改良した熱伝導度を有する物質を使
用することによりダイからヒートシンクへの熱の流れを
向上させるための試みがなされているが、熱がヒートシ
ンクに到達する前にダイ装着用パドル及び付加的な接着
剤層を介して通過することの必要性は、相変わらず熱的
な狭い通路を構成している。
【0016】リードとヒートシンクとの間の接続は付加
的な問題を提供している。ヒートシンクとリードとの間
の接着剤は、それら二つの間での短絡を防止するために
は電気的に絶縁性のものでなければならない。この接着
剤がヒートシンクとリードとの間の空間を完全に充填す
るものでない場合には、不所望の電気的接触が発生する
場合がある。
【0017】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、熱抵抗
を減少することにより著しく改善した熱散逸を有する低
コストのプラスチック封止パッケージ状態での1個又は
複数個の集積回路、又は1個又は複数個のハイブリッド
回路が提供される。熱抵抗の減少は、主に、集積回路を
直接取付けることが可能なヒートシンクを設けることに
より達成される。直接的な取付けは、ヒートシンクと集
積回路との間の中間的な熱的バリアを取除いている。ヒ
ートシンクは、パッケージ外側に露出された大きな表面
積を有しており(パッケージの外部表面積と相対的
に)、パッケージから熱が伝達されることを可能として
いる。パッケージリードの内側セクションはヒートシン
クへ取付けられており、従って該リードがパッケージか
らの熱を伝導することを可能としている。
【0018】更に、本発明によれば、ヒートシンク上に
モールドのバリが発生しないように上述した電子装置を
製造する方法が提供される。更に、本発明によれば、高
い信頼性を有する上述した如き集積回路が提供される。
この改善された信頼性は、プラスチック封止物とヒート
シンクとの間のシールの長さを増加させるための技術を
組込むことによる改善された耐湿特性、及びパッケージ
リード内及びヒートシンク取付け区域へのリードにおけ
る応力減少又は技術の組込みによる改善された耐疲労特
性から発生する。
【0019】本発明によれば、改良した集積回路パッケ
ージ及び該パッケージを製造する改良した方法が提供さ
れる。この様なパッケージと共に使用するための改良し
たヒートシンクも提供される。
【0020】本発明の1実施形態においては、封止した
集積回路パッケージ内に設けられるヒートシンクの周り
に円周上に改良したシール(又は、ロック用)リングが
設けられる。この改良したシールリングは、ヒートシン
クを取囲む封止物質とインターロックし、封止物質とヒ
ートシンクとの間に改良したシール即ち封止を形成す
る。本発明のシールリングは、更に、ヒートシンクと周
囲の封止物質との間により長い界面を形成し、従って汚
染物質は内部半導体ダイへ到達するためにパッケージ外
側から一層長い距離に亘り移動せねばならない。封止物
質とヒートシンクとの間の改良したシールは、更に、パ
ッケージ内部への汚染物質の進入を減少させることに貢
献する。
【0021】本発明の別の実施形態においては、パッケ
ージリードは、応力除去を与えるような形状とされてい
る。この応力除去は、リードが緊張状態とされてヒート
シンクをモールドキャビティに対して保持する力を与え
る場合のモールドプロセス期間中と、熱サイクルに起因
するパッケージ動作期間中の両方において、リード内に
発生する応力を緩和させる。
【0022】本発明の別の実施形態においては、熱伝導
性接着剤が、半導体ダイを直接的にヒートシンクへ取付
け、且つ絶縁性接着物質が、リードをヒートシンク表面
へ取付ける。ダイとヒートシンクとの間のより直接的な
接続が、ダイからヒートシンクへの熱伝達を増加させる
ことを可能としている。リードとヒートシンクとの間の
絶縁性接着接続は、リードとヒートシンクとの間に改良
したボンド即ち結合を形成しており、且つヒートシンク
からリードへ熱が伝達することを可能としている。更に
別の実施形態においては、絶縁性接着剤が、閉塞期間中
にヒートシンクがモールドキャビティに対して押圧され
る場合にリードが緊張状態とされることから発生するこ
とのあるリードとヒートシンクとの短絡を防止する。
【0023】本発明に基づくパッケージの製造方法は、
モールド期間中に、露出されたヒートシンク表面とモー
ルドキャビティとの間により緊密なシールを発生する。
その結果、露出されたヒートシンク表面上でのバリは減
少される。1実施形態においては、ヒートシンクと絶縁
性接着剤の結合厚さは、モールドを閉じた場合に、モー
ルドキャビティの対応する寸法よりも一層大きい。モー
ルドを閉塞すると、モールドキャビティの1表面がヒー
トシンクの露出表面を押圧し、それを多少内側に押付け
る。パッケージリードは、この押圧力に対向し且つヒー
トシンクとモールドキャビティとの間に適切なシールを
発生し露出したヒートシンク表面上に封止物質の薄い膜
が形成されることを防止するために必要なスプリング張
力を与えるべく設計されている。
【0024】リードフレームはモールドキャビティの外
側周辺部に位置したピン又はブロックによりリードの外
側端部近くに維持される。モールドが閉じると、それ
は、ダムバー領域におけるリードフレームの両側をクラ
ンプする。モールドの閉塞期間中、ヒートシンクはモー
ルド閉塞方向に平行な方向に強制される。ヒートシンク
とモールドキャビティとの間の寸法上の不整合のため
に、モールドが完全に閉塞すると、リードは多少屈曲さ
れ且つ引伸ばされ、従ってリード内に引張り力を誘起さ
せる。リード内に与えられる応力緩和は、スプリング力
を与え、それはヒートシンクをモールドキャビティの面
に対して保持すべく作用する。
【0025】
【実施例】以下の説明においては、本発明の側面を、単
一の集積回路を含むパッケージに適用した場合について
説明する。しかしながら、理解すべきことであるが、本
発明は、複数個の集積回路を含むパッケージに適用する
ことも可能である。更に、本発明に基づくパッケージ
は、ポリマーラミネート、セラミック、シリコン又は金
属、又はこれらの物質の混合物からなる下側に存在する
か又は対話的相互接続回路と共に又はなしで構成するこ
とも可能である。
【0026】図1は本発明に基づく集積回路パッケージ
100の一部切断概略斜視図を示している。半導体ダイ
101が、適宜の熱伝導性接着剤110によりヒートシ
ンク102上に装着されている。リードフレーム103
は、ヒートシンク102の周辺周りに大略半径方向に配
列させた複数個のリード104から構成されている。注
意すべきことであるが、図面は四つの全ての側部上にリ
ードを有するパッケージを示しているが、本発明は、四
つの側部よりも少ない側部にリードを有するパッケージ
にも適用可能なものである。リードフレームは、電気的
絶縁性物質109によりヒートシンクへ取付けられてい
る。該リードは、図面に示した如くに位置された応力緩
和セクション108を有している。ボンドワイヤ105
が、リード104の各々の内側端部を選択したダイコン
タクトパッド106へ接続している。封止物質107が
ヒートシンク102、ダイ101、ボンドワイヤ10
5、リード104の内側部分を取囲んでいる。図面中に
は見えないが、ダイが取付けられていないヒートシンク
の側部はパッケージ外部に露出されている。
【0027】図1に示した集積回路パッケージ100
は、大略、以下に説明する態様で製造される。リードフ
レーム103を、接着剤物質109を有するヒートシン
ク102の外側周辺部へ取付ける。典型的に集積回路を
包含する半導体ダイ101を、熱伝導性の接着剤110
を有するヒートシンク102へ取付ける。ボンドワイヤ
105の一端を選択したダイコンタクトパッド106へ
取付ける。ボンドワイヤ105の他端をリード104の
うちの一つの内側端部へ取付ける。このプロセスを、ボ
ンドワイヤ105の各々に対して繰返し行なう。
【0028】図2はモールド組立体215のキャビティ
210内に配置した上述した組立体250の概略断面を
示している。図1に関して説明した全ての要素は図2に
おいて同一の番号を有している。図面を明確化するため
に、リードはキャビティの二つの側部においてのみ示し
てある。実際には、リードはヒートシンクの四つの全て
の側部上に取付けることが可能である。図面を更に明確
化させるために、ダイコンタクトパッド106も示して
いない。半導体ダイをヒートシンク102の面212へ
取付ける。ヒートシンク102の反対側の面213はモ
ールドキャビティ210の表面211に面している。リ
ード104はモールドキャビティ210の外側に延在し
ている。リードフレームの選択区域がピン218により
所定位置に保持される。モールドを閉塞した場合に、領
域217においてリードフレームのクランプ動作が発生
する。
【0029】寸法225(ヒートシンク102と電気的
絶縁性物質109との結合厚さ)は、意図的に、モール
ドキャビティ223の下側半分の寸法226よりも多少
大きく設定してある。組立体250をモールドキャビテ
ィ210内に配置させると、ヒートシンク102の表面
213がモールドキャビティの表面211と接触する。
従って、モールドの閉塞の前に、リード104は表面2
20より上方へ多少上昇される。寸法225と226と
の間の差異、及び表面220上方へのリード104の上
昇は、説明の便宜上、図2において誇張して示してあ
る。
【0030】組立体250をモールドキャビティ210
内に配置させた後に、モールド215の二つの半割り2
22,223を結合させる。二つの半割り222,22
3を結合させると、モールド215が完全に閉塞する前
に、半割り222は表面221においてリード104と
接触する。リード104は、モールド215が閉塞を完
了すると、モールド半割り223の表面230に対して
押圧されるが、リードフレーム103内の対応する孔1
04aを介して挿入されたピン218により所定位置に
横方向に保持される。その結果、モールド215が閉塞
されると、リード104内に引張り力が誘起される。リ
ード104における引張り力は、ヒートシンク102を
下方へ強制的に移動させ且つヒートシンク表面213と
モールドキャビティ表面211との間に良好なシール即
ち封止状態を確保すべく作用する。
【0031】モールド215を完全に閉塞した後に、封
止物質107を、キャビティ210が満杯になるまで、
モールドキャビティ210内に加圧状態で供給する(例
えば、トランファモールディング又はインジェクション
モールディングにより)。上側ゲート動作として知られ
る封止物質107の転送を実施する一つの方法を添付の
図面に示してある。例えばギャングポット、トッププレ
ーンゲーティング、又はボトムプレーンゲーティングな
どのその他のゲート動作方法も使用することが可能であ
る。封止物質107は、モールド半割り222における
チャンネル230を介してモールドキャビティ210内
に転送される。封止物質107が冷却し且つ固化する
と、モールド215を開放し且つ完成したパッケージ1
00を取出す。例えば、図1に示した如く延在するコン
タクトピンを有するカッド装着型パッケージを形成する
ことを所望する場合には、完成したパッケージ100か
ら延在されたままのリード104の端部を屈曲させるこ
とが可能である。
【0032】前述した如く、モールド215を完全に閉
塞状態とすると、個々のリード104に対して引張り力
が付与される。リードフレーム103内の個々のリード
104の全体により発生される累積的な力が、ヒートシ
ンク102の外側に面した表面213をモールドキャビ
ティ表面211に対して押圧させる。この静的な力は、
ヒートシンク表面213をモールドキャビティ表面21
1から分離させる傾向を有するモールドキャビティ21
0内への封止物質107の流れにより発生される動的な
力に打ち勝つのに十分に大きなものである。それは、更
に、ヒートシンク102の表面213とモールドキャビ
ティ210の表面211との間に分離を発生させる傾向
のモールドキャビティ210とヒートシンク102及び
接着剤109の組合わせとの間の寸法上の変動から発生
する場合のあるヒートシンク表面213とモールドキャ
ビティ表面211との間に存在する不整合を解消する。
従って、ヒートシンク表面213とモールドキャビティ
表面211との間において常に良好なシール即ち封止状
態が確保される。ヒートシンク102の表面213を横
断しての封止物質のバリは、ヒートシンク102をモー
ルドキャビティ表面214に対して押圧するパッケージ
リード104のスプリング力により発生されるこの改善
されたシールにより除去される。
【0033】リード104の応力緩和ジグザグセクショ
ン108の一実施例の平面図を図3aに示してある。ジ
グザグセクション108は、六つの角度α1,α2
α3,β1,β2,β3を有している。リード104におけ
る三つの屈曲部の各々において、一対の角度(例えば、
α1及びβ1)が形成され、リード104の各側部に一つ
の角度が形成されている。この説明においては、「内側
角度」は、180°未満の角度(即ち、全てのα角度)
として定義され、「外側角度」は180°を超える角度
として定義される(即ち、全てのβ角度)。この様なジ
グザグセクション108は幾つかの利点を有している。
第一に、それは、リード104と封止物質107との間
の界面に沿ってダイ区域101内に入るために汚染物質
が移動せねばならない経路の長さを増加させることによ
り半導体ダイ101の汚染を減少させる。第二に、それ
は、リード104により経験される引張り応力及び圧縮
応力を緩和させる。リード104内に引張り応力が形成
されると、応力緩和セクション108はスプリングとし
て作用し、この応力を緩和し、リード104が亀裂を発
生したり、破断したり、又はヒートシンクの取付けに対
するリードの信頼性に影響を与えることを防止する。圧
縮力の場合には、応力緩和セクション108は類似的な
態様で動作し、リード104が座屈することを防止す
る。
【0034】リード104内の応力の発生は、特に、図
3aに示した応力緩和セクション108のある部分に応
力集中を発生する。図3bは、本発明の別の実施例に基
づくリード104における応力緩和セクション108の
概略平面図を示している。本発明のこの実施例において
は、付加的な応力緩和が、リード104における三つの
屈曲部の各々の「内側角度」の頂点を丸めることにより
達成されている。この角部を丸くすることは、リード1
04におけるこれらの角度の尖った角度の頂点の近傍に
おいて発生する応力集中を緩和させている。
【0035】図3cは、本発明の別の実施例に基づくリ
ード104における応力緩和セクション108の概略平
面図を示している。本発明のこの実施例においては、応
力緩和は、「内側角度」と「外側角度」の両方の全ての
角度の頂点を丸めることにより達成している。これらの
角度を丸めることにより、尖った角度に関連する応力集
中を緩和させている。
【0036】図3d及び図3eは、本発明に基づく応力
緩和セクション108の別の実施例を示している。これ
らの実施例のうちの各々は、リードの屈曲部の「内側角
度」又は「外側角度」の何れにおいても角部を丸めるも
のではない。しかしながら、注意すべきことであるが、
これらの実施例の各々は、例えば図3b及び図3cに示
した如く、「内側角度」又は「外側角度」の何れか一方
又は両方において角部を丸めた形状とすることも可能で
ある。
【0037】図4aは、改良したシールリング421a
を有するヒートシンク102の概略断面図を示してい
る。シールリング421aは、図面に示した如く、ヒー
トシンク102の周辺部周りに大略中断されることなく
走行している。更に、シールリング421aが形成され
ている表面424とヒートシンク102の表面213の
界面においてヒートシンクの周辺部周りに大略中断され
ることなしに棚422が形成されている。
【0038】一実施例においては、シールリング421
aは、図8a乃至8cに示した如く、切削作業により形
成する。切削工具850a,850bが端部から所定の
距離においてヒートシンク表面212及び213を切削
する。切削工具850a,850bが、ヒートシンク1
02を所定の深さに切削する。切削工具850a,85
0bはヒートシンク102から物質を除去するものでは
なく、切削工具850a,850bにより切削される物
質はヒートシンク表面424から離れ且つヒートシンク
の中央に向かって押し集められる。図面から理解される
如く、この様な切削作業により、ヒートシンク102の
周辺部周りに「ウイング」型乃至は「キー」型の形状を
形成する。この残存する物質はシールリング421aを
形成する。
【0039】この切削作業が行なわれると、その不所望
な副産物として、図4a内に点線で示した如く、湾曲し
た角部422aが残される。この丸められた端部に関連
する悪影響を回避するために(以下に更に詳細に説明す
る)、ヒートシンク102に関して2番目の作業を実施
する。図8d乃至8fに示した如く、湾曲した角部42
2aを、好適には、スタンピング工具855でスタンピ
ングすることにより四角の状態とさせ棚422を形成す
る。それらに限定するわけではないが、例えば研削及び
エッチングなどのその他の適宜の技術を使用して角部4
22を四角の状態とさせることが可能である。
【0040】本発明のその他の実施例は、上述した以外
の方法で形成したシールリング421aを有することが
可能である。例えば、本発明に基づくシールリング42
1aは、グラインディング(研削)、エッチング、キャ
スティング(鋳造)、パンチング、レーザカッティング
又はその他の適宜の技術により形成することが可能であ
る。更に、該シールリングは、「ウイング」付きの形状
以外の形状を有することが可能である。図4b乃至4d
はシールリングのその他の形状の例を示している。図4
bは、T形状の断面を有するシールリング421bを示
している。図4cはシールリングの両側に形成した窪み
425a,425bを有する矩形状の断面を有するシー
ルリング421cを示している。一方、窪みは、シール
リング421cの片側にのみ形成することも可能であ
る。図4dはシールリング421dを貫通して延在する
孔426を有する矩形状の断面を有するシールリング4
21dを示している。本発明に基づく別の実施例図4e
は、シール用の凹所421eを有するヒートシンクを示
している。これらの他の実施例は、「ウイング形状」シ
ールリング421aを有する実施例と類似しており、即
ち、それらは全てシールリング421aと封止物質10
7との間に良好な圧縮性のシール即ち封止状態を与え、
且つそれらは全てパッケージ100の内側への汚染物の
進入を減少させる。これらの利点については以下に更に
詳細に説明する。
【0041】シールリング421aの形態は二つの利点
を提供している。第一に、それは、シールリング(例え
ば421a)とモールドした封止物質107との間に良
好な圧縮性のシールを形成する。圧縮性シールの形成
は、そうでないと、封止物質107とヒートシンク10
2との間に不適切なボンド即ち結合が形成されるので、
必要なものである。封止物質107とヒートシンク10
2との間に良好な圧縮シールが存在しない場合には、ト
ラップされた湿気がパッケージの内部に進入し且つ内部
表面を膨張させ封止物質107から離脱させる可能性が
ある。封止物質がシールリング421aの周りに収縮し
且つそれを把持するので、封止物質107が固化する場
合に良好な圧縮シールが形成される。本発明のシールリ
ング421aがない場合には、封止物質107の圧縮力
はヒートシンク102に対して弱いシールを形成し、パ
ッケージの信頼性条件を充足することは不可能である。
【0042】第二に、本発明のシールリング(例えば4
21a)は、半導体ダイ101の区域への汚染物の進入
を減少させる。このことは、二つの態様のうちの何れか
一方又は両方において発生することが可能である。第一
に、本発明に基づくシールリングのある実施例の場合に
は、特に、421a,421b,421eに示した如き
シールリングの場合には、シールリングが形成されない
場合に存在するものよりも一層長い界面がヒートシンク
102と封止物質107との間に形成される。このこと
は、ヒートシンク102と封止物質107との間の経路
に沿ってパッケージの外部から進入することによりダイ
区域101に進入することのある汚染物質がパッケージ
内部に到達するために一層長い移動経路を経ねばならな
いことを意味している。第二に、本発明に基づくシール
リングの全ての実施例の場合に、ヒートシンク102と
封止物質107との間に形成される改良された圧縮シー
ルが、パッケージ100の内部に汚染物が進入する場合
のあるヒートシンク102と封止物質107との間のギ
ャップを減少させる。
【0043】凹所を形成した棚422も二つの利点を与
えている。第一に、棚422の矩形状の経路は、シール
リング421aが棚422なしで形成された場合に存在
する湾曲した角部422aよりも一層長い。シールリン
グ421aの場合の如く、このヒートシンク102と封
止物質107との間の界面の付加的な長さは、界面経路
を介して外側の汚染物がパッケージの内部に進入するこ
とを阻止すべく作用する。
【0044】第二に、凹所を設けた棚422を形成する
ことは、モールドとヒートシンクとの界面において精密
に画定されるシール表面を与え、それはモールドプロセ
ス期間中にモールドキャビティ表面211に対してヒー
トシンク102の緊密な噛み合いを可能とし、その際に
ヒートシンク102の露出表面213上において封止物
質のバリ又は流出物が発生することを防止する。棚42
2が形成されない場合に存在するであろう湾曲した角部
422aは、パッケージを完成した後に、ヒートシンク
102と封止物質107との間の界面において固化した
封止物質107が剥がれ落ちる蓋然性を与える。
【0045】本発明の別の実施例を図5に示してある。
ヒートシンク102の表面424を、エッチング、サン
ドブラスティング、あら鍍金、黒酸化及びその他の方法
により粗目とさせる。この様な態様で粗目とさせると、
表面424は、表面424が粗目とされない場合より
も、封止物質107とヒートシンク102との間に良好
なボンド即ち結合を与える。更に、粗目とされた表面
は、ヒートシンク102と封止物質107との間に一層
長い界面を与え、それはパッケージ内部への汚染物質の
進入を減少させることに貢献する。図面中には示してい
ないが、リードフレーム103は、更に、同一の態様で
粗目とさせこれらの利点を提供することが可能である。
【0046】図6aは半導体ダイ601と、リードフレ
ームダイ装着用パドル615と、ヒートシンク602と
の間の従来技術に基づく接続状態の概略断面図を示して
いる。半導体ダイ601とヒートシンク602とはリー
ドフレームダイ装着用パドル615の反対側に装着され
ている。熱導電性接着剤609及び610がヒートシン
ク602及びダイ601と接触するパドル615の表面
に付与されている。熱は、半導体ダイ601から、接着
剤の第一層610を介してダイ装着用パドル615へ伝
達される。そこから、熱はダイ装着用パドル支持ビーム
604を介して、又は接着剤の第二層609及びヒート
シンク602を介して伝達する。この形態は、不適切な
熱伝達を与えるものである。なぜならば、ダイ装着用パ
ドル615はヒートシンク602又はダイ装着用パドル
支持ビーム604の何れへも十分に熱を伝達することが
可能ではなく、且つヒートシンクの露出表面が存在しな
いからである。
【0047】図6bは、本発明の一実施例に基づいた半
導体ダイ101と、リード104とヒートシンク102
との間の一組の接続状態を示した概略断面図である。熱
伝導性接着剤110が、半導体ダイ101を直接的にヒ
ートシンク102へ取付けており、且つ絶縁性接着物質
109がリード104をヒートシンク102へ取付けて
いる。ダイ101とヒートシンク102との間のより直
接的な接続が、ダイ101からヒートシンク102への
熱伝達を増加させることを可能としている。その熱は、
パッケージの外側に露出されたヒートシンクの表面を介
してパッケージの外側へ伝達される。この露出された表
面は、プラスチック封止物質がヒートシンク表面を被覆
した場合よりもパッケージからのより大きな熱伝達を可
能としている。なぜならば、この様な封止物質が存在す
ると、それは付加的な熱障害を構成するからである。更
に、リード104がヒートシンク102へボンド即ち結
合されているので、ダイ101からリード104へより
大きな熱伝達が発生する。図7a乃至7cは本発明の別
の側面を示している。図7aは、接着剤をコーティング
した絶縁性テープ731によりリードフレーム103の
リード104へ接続したヒートシンク102の概略断面
図を示している。図7bに示される如く、ヒートシンク
102か又はリード104の外側端部の何れかに力が付
与される場合には、リード104とヒートシンク102
との間の不所望の電気的短絡が発生する場合がある。更
に、この様な不所望の電気的接触の可能性は、ヒートシ
ンク及び接着剤に関して特定のリードの位置決めにおけ
る変動を許容する製造公差により悪化される。
【0048】図7cは本発明の一実施例に基づいて構成
された同一の接続状態を示している。この図面において
は、絶縁性接着剤109がリードフレーム103の各リ
ード104の内側端部733とヒートシンク102の表
面732の周辺部との間に接着されている。この接着剤
109は、ヒートシンク102の外側周辺部を超えて延
在すると共に、リード104の内側端部733を超えて
延在しており、それらの距離は、それら二つを互いに近
付く方向に屈曲させるような力が加えられた場合でもリ
ード104とヒートシンク102との間に電気的分離を
確保するのに十分な程度のものである。より大きな絶縁
性テープ109の面積は、ヒートシンク102とリード
104との間の力の伝達から発生するテープ109内の
応力を減少させる。なぜならば、これらの力はより大き
な面積に亘って分散されるからである。
【0049】以上、本発明の具体的実施の態様について
詳細に説明したが、本発明は、これら具体例にのみ限定
されるべきものではなく、本発明の技術的範囲を逸脱す
ることなしに種々の変形が可能であることは勿論であ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に基づく集積回路パッケージを示した
一部切断概略斜視図。
【図2】 本発明の一実施例に基づいてモールドキャビ
ティ内に配設した集積回路組立体を示した概略図。
【図3a】 本発明の一実施例に基づく応力緩和セクシ
ョンを有する個別的なリードを示した概略平面図。
【図3b】 本発明の別の実施例に基づく応力緩和セク
ションを有する個別的なリードを示した概略平面図。
【図3c】 本発明の別の実施例に基づく応力緩和セク
ションを有する個別的なリードを示した概略平面図。
【図3d】 本発明の別の実施例に基づく応力緩和セク
ションを有する個別的なリードを示した概略平面図。
【図3e】 本発明の別の実施例に基づく応力緩和セク
ションを有する個別的なリードを示した概略平面図。
【図4a】 本発明の一実施例に基づくシールリングを
有するヒートシンクの切断部分を示した概略斜視図。
【図4b】 本発明の別の実施例に基づくシールリング
を有するヒートシンクの切断部分を示した概略斜視図。
【図4c】 本発明の更に別の実施例に基づくシールリ
ングを有するヒートシンクの切断部分を示した概略斜視
図。
【図4d】 本発明の更に別の実施例に基づくシールリ
ングを有するヒートシンクの切断部分を示した概略斜視
図。
【図4e】 本発明の更に別の実施例に基づくシールリ
ングを有するヒートシンクの切断部分を示した概略斜視
図。
【図5】 本発明の一実施例に基づく処理した表面を有
するヒートシンクの切断部分を示した概略斜視図。
【図6a】 半導体ダイと、リードフレームダイ装着用
パドルと、ヒートシンクとの間の従来技術における一組
の接続状態を示した概略断面図。
【図6b】 本発明の一実施例に基づく半導体ダイと、
リードフレームと、ヒートシンクとの間の一組の接続状
態を示した概略断面図。
【図7a】 接着剤をコーティングした絶縁性テープに
よりリードフレームへ接続したヒートシンクを示した概
略断面図。
【図7b】 ヒートシンクとリードとの間に発生するこ
とのある電気的短絡を示した図7aの接続状態を示した
概略断面図。
【図7c】 本発明に基づく接着剤をコーティングした
絶縁性テープによりリードフレームへ接続したヒートシ
ンクを示した概略断面図。
【図8a】 本発明の一実施例に基づいてヒートシンク
上にシールリングを形成する1段階における状態を示し
た概略断面図。
【図8b】 本発明の一実施例に基づいてヒートシンク
上にシールリングを形成する1段階における状態を示し
た概略断面図。
【図8c】 本発明の一実施例に基づいてヒートシンク
上にシールリングを形成する1段階における状態を示し
た概略断面図。
【図8d】 本発明の一実施例に基づいてヒートシンク
上に棚を形成するプロセスの1段階における状態を示し
た概略断面図。
【図8e】 本発明の一実施例に基づいてヒートシンク
上に棚を形成するプロセスの1段階における状態を示し
た概略断面図。
【図8f】 本発明の一実施例に基づいてヒートシンク
上に棚を形成するプロセスの1段階における状態を示し
た概略断面図。
【符号の説明】
100 集積回路パッケージ 102 ヒートシンク 103 リードフレーム 104 リード 105 ボンドワイヤ 106 ダイコンタクトパッド 107 封止物質 108 応力緩和セクション 109 電気的絶縁性物質

Claims (62)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第一表面上に位置された複数個のダイコ
    ンタクトパッドを具備すると共に前記第一表面と反対側
    に第二表面を具備する半導体ダイ、 第一表面とそれと反対側に第二表面とを具備しており前
    記第一表面に前記ダイの第二表面が取付けられているヒ
    ートシンク、 複数個の導電性リード、 各々がダイコンタクトパッドを前記リードのうちの一つ
    の内側端部へ接続している複数個の導電性ボンドワイ
    ヤ、 前記ヒートシンクと、半導体ダイと、ボンドワイヤと、
    前記リードの内側部分とを封止する絶縁性物質、 を有することを特徴とする構成体。
  2. 【請求項2】 請求項1において、各リードが前記ヒー
    トシンクから外側へ延在するように、前記リードの各々
    が前記ヒートシンクの第一表面へ接続されていることを
    特徴とする構成体。
  3. 【請求項3】 請求項2において、前記ヒートシンクの
    第一表面とほぼ平行な面内において、少なくとも一つの
    リードが少なくとも一つの屈曲部が形成されていること
    を特徴とする構成体。
  4. 【請求項4】 請求項3において、前記リードにおける
    各屈曲部は、180°未満の内側角度と180°を超え
    た外側角度とを有しており、該内側角度の頂部が丸めら
    れていることを特徴とする構成体。
  5. 【請求項5】 請求項4において、前記外側角度の頂部
    が丸められていることを特徴とする構成体。
  6. 【請求項6】 請求項1において、前記ヒートシンクの
    第一表面に垂直な少なくとも一つの表面上において前記
    ヒートシンク上にシールリングが形成されていることを
    特徴とする構成体。
  7. 【請求項7】 請求項6において、前記ヒートシンクと
    シールリングとの間の界面における前記シールリングの
    厚さは、前記界面から横方向に変位された位置における
    前記シールリングの厚さよりも小さいことを特徴とする
    構成体。
  8. 【請求項8】 請求項6において、前記シールリングは
    ウイングの付いた断面形状を有することを特徴とする構
    成体。
  9. 【請求項9】 請求項6において、前記シールリングは
    T形状の断面を有することを特徴とする構成体。
  10. 【請求項10】 請求項9において、前記T形状断面の
    上部が前記ヒートシンクの表面へ取付けられていること
    を特徴とする構成体。
  11. 【請求項11】 請求項6において、前記シールリング
    が、少なくとも一側部に凹所を有する矩形状の断面形状
    を有することを特徴とする構成体。
  12. 【請求項12】 請求項6において、前記シールリング
    は、矩形状の断面形状を有しており、且つ前記シールリ
    ングが形成されているヒートシンクの表面に垂直なシー
    ルリング表面上の離隔した位置において前記シールリン
    グを貫通して孔が形成されていることを特徴とする構成
    体。
  13. 【請求項13】 請求項6において、前記ヒートシンク
    の第一表面にほぼ平行な面内において少なくとも1本の
    リードが少なくとも1個の屈曲部が形成されていること
    を特徴とする構成体。
  14. 【請求項14】 請求項13において、前記リードにお
    ける各屈曲部は、180°未満の内側角度と180°を
    超える外側角度とを有しており、前記内側角度の頂部が
    丸められていることを特徴とする構成体。
  15. 【請求項15】 請求項14において、前記外側角度の
    頂部が丸められていることを特徴とする構成体。
  16. 【請求項16】 請求項1において、前記ヒートシンク
    の第二表面の各端部に棚が形成されており、前記棚は前
    記ヒートシンクの第二表面の端部から所定の位置におい
    て開始し且つ所定の深さへ延在していることを特徴とす
    る構成体。
  17. 【請求項17】 請求項16において、前記ヒートシン
    クの第一表面及び第二表面に垂直な少なくとも一つの表
    面上において前記ヒートシンク上にシールリングが形成
    されていることを特徴とする構成体。
  18. 【請求項18】 請求項17において、前記ヒートシン
    クの第一表面にほぼ平行な面内において少なくとも1本
    のリードが少なくとも1個の屈曲部が形成されているこ
    とを特徴とする構成体。
  19. 【請求項19】 請求項18において、前記リードにお
    ける各屈曲部が180°未満の内側角度を有すると共に
    180°を超える外側角度を有しており、前記内側角度
    の頂部が丸められていることを特徴とする構成体。
  20. 【請求項20】 請求項19において、前記外側角度の
    頂部が丸められていることを特徴とする構成体。
  21. 【請求項21】 請求項16において、前記ヒートシン
    クの第一表面にほぼ平行な面内において、少なくとも1
    本のリードが少なくとも1個の屈曲部が形成されている
    ことを特徴とする構成体。
  22. 【請求項22】 請求項21において、前記リードにお
    ける各屈曲部は、180°未満の内側角度と180°を
    超える外側角度とを有しており、前記内側角度の頂部が
    丸められていることを特徴とする構成体。
  23. 【請求項23】 請求項22において、前記外側角度の
    頂部が丸められていることを特徴とする構成体。
  24. 【請求項24】 第一表面上に位置した複数個のダイコ
    ンタクトパッドを具備すると共に前記第一表面の反対側
    に第二表面を具備する半導体ダイ、 第一表面とそれと反対側に第二表面を具備するヒートシ
    ンク、 第一表面において前記ヒートシンクの第一表面へ取付け
    た接着性絶縁性物質、 各リードが前記ヒートシンクから外側へ延在するように
    各々の内側端部が前記絶縁性物質の第二表面へ接続され
    ている複数個の導電性リード、 各々がダイコンタクトパッドを前記リードのうちの一つ
    の内側端部へ接続させる複数個の導電性ボンドワイヤ、 前記ヒートシンクと、半導体ダイと、ボンドワイヤと、
    絶縁性物質と、前記リードの一部とを封止する絶縁性物
    質、 を有しており、前記リードが前記リードの内側端部と外
    側端部との間の位置に前記内側端部から封止されている
    ことを特徴とする構成体。
  25. 【請求項25】 請求項24において、前記絶縁性物質
    の一部が前記ヒートシンクの周辺部を超えて延在してお
    り、且つ前記絶縁性物質の別の部分が前記リードの内側
    端部を超えて延在していることを特徴とする構成体。
  26. 【請求項26】 請求項25において、前記半導体ダイ
    の第二表面が熱導電性接着剤により前記ヒートシンクの
    第一表面へ取付けられていることを特徴とする構成体。
  27. 【請求項27】 請求項26において、前記ヒートシン
    クは、前記ヒートシンクの第一表面に対して垂直な少な
    くとも一つの表面上にシールリングが形成されているこ
    とを特徴とする構成体。
  28. 【請求項28】 請求項27において、前記ヒートシン
    クとシールリングとの間の界面における前記シールリン
    グの厚さが、前記界面から横方向に変位した位置におい
    ての前記シールリングの厚さより小さいことを特徴とす
    る構成体。
  29. 【請求項29】 請求項28において、前記シールリン
    グが形成されている表面に隣接した前記ヒートシンクの
    第二表面の各端部に棚が形成されており、前記棚は、前
    記ヒートシンクの第二表面の端部から所定の位置におい
    て開始し且つ前記ヒートシンクとシールリングとの間の
    界面の深さより小さい深さへ延在していることを特徴と
    する構成体。
  30. 【請求項30】 請求項29において、前記ヒートシン
    クの第一表面にほぼ平行な面内において少なくとも一つ
    のリードに少なくとも一つの屈曲部が形成されているこ
    とを特徴とする構成体。
  31. 【請求項31】 請求項30において、前記リードにお
    ける各屈曲部が180°未満の内側角度と180°を超
    えた外側角度とを有しており、前記内側角度の頂部が丸
    められていることを特徴とする構成体。
  32. 【請求項32】 請求項31において、前記外側角度の
    頂部が丸められていることを特徴とする構成体。
  33. 【請求項33】 請求項27において、前記ヒートシン
    クの第一表面にほぼ平行な面内において少なくとも1本
    のリードに少なくとも1個の屈曲部が形成されているこ
    とを特徴とする構成体。
  34. 【請求項34】 請求項33において、前記リードにお
    ける各屈曲部が180°未満の内側角度と180°を超
    えた外側角度とを有しており、前記内側角度の頂部が丸
    められていることを特徴とする構成体。
  35. 【請求項35】 請求項34において、前記外側角度の
    頂部が丸められていることを特徴とする構成体。
  36. 【請求項36】 ヒートシンクの第一表面に取付けたダ
    イ上に形成した集積回路と複数個の導電性リードとを有
    しており、前記リードの各々の内側端部が各リードが前
    記ヒートシンクから外側へ延在するように絶縁性接着物
    質を有する前記ヒートシンクの第一表面へ接続されてい
    る組立体を封止物質内に封止する方法において、 前記ヒートシンクと絶縁性接着物質の結合した厚さがモ
    ールドキャビティの対応する部分の高さよりも大きいよ
    うに前記組立体をモールドキャビティ内に配置させ、 外側端部を前記モールドキャビティの外側に位置させて
    前記リードフレームの外側部分を拘束し、 前記ヒートシンクの第二表面に対して前記モールドキャ
    ビティの可動表面を押圧し、尚前記第二表面は前記第一
    表面と反対側であり、前記ヒートシンクは前記モールド
    キャビティの可動表面の運動と同一方向に運動され、従
    って前記リードが前記ヒートシンクの第二表面を前記モ
    ールドキャビティの可動表面に対して保持する力を付与
    し、 前記ヒートシンクに対して圧縮力が付与される間に前記
    モールドキャビティ内に封止物質を転送し、その際に前
    記ヒートシンクの第二表面と前記モールドキャビティの
    可動表面との間に緊密なシールを確保してこれら二つの
    表面の間に封止物質が浸透することを防止する、 上記各ステップを有することを特徴とする方法。
  37. 【請求項37】 請求項36において、前記ヒートシン
    クの第一表面にほぼ平行な面内において少なくとも1本
    のリードが少なくとも1個の屈曲部が形成されており、
    前記屈曲部が前記モールドキャビティ内側の前記リード
    の部分に位置されていることを特徴とする方法。
  38. 【請求項38】 請求項37において、前記リードにお
    ける各屈曲部は180°未満の内側角度と180°を超
    えた外側角度とを有しており、前記内側角度の頂部が丸
    められていることを特徴とする方法。
  39. 【請求項39】 請求項38において、前記外側角度の
    頂部が丸められていることを特徴とする方法。
  40. 【請求項40】 ヒートシンクの第一表面に取付けたダ
    イ上に形成した集積回路と、絶縁性物質の一部が前記ヒ
    ートシンクの周辺部を超えて延在するように前記ヒート
    シンクの第一表面に対して第一表面において取付けた接
    着性絶縁性物質と、複数個の導電性リードとを有してお
    り、各リードが前記ヒートシンクから外側へ延在するよ
    うに前記リードの各々の内側端部が前記絶縁性物質の第
    二表面へ接続しており、前記絶縁性物質の一部が各リー
    ドの内側端部を超えて延在している組立体を絶縁性物質
    内に封止する方法において、 前記組立体をモールドキャビティ内に配置し、 外側端部をモールドキャビティの外側に位置させた状態
    で前記リードの各々の外側端部を拘束し、 前記モールドキャビティの可動表面を前記ヒートシンク
    の第二表面に対して押圧し、尚前記第二表面は前記第一
    表面の反対側であり、前記ヒートシンクは前記モールド
    キャビティの可動表面の運動と同一方向に運動し、従っ
    て前記リードは前記ヒートシンクの第二表面を前記モー
    ルドキャビティの可動表面に対して保持する力を付与
    し、 前記ヒートシンクへ圧縮力が付与される間に前記モール
    ドキャビティ内に絶縁性物質を転送し、その際に前記ヒ
    ートシンクの第二表面と前記モールドキャビティの可動
    表面との間に緊密なシールを確保しこれらの二つの表面
    の間に封止物質が浸透することを防止する、 上記各ステップを有することを特徴とする方法。
  41. 【請求項41】 請求項40において、前記ヒートシン
    クの第一表面にほぼ平行な面内において少なくとも一つ
    の屈曲部が少なくとも一つのリードに形成されており、
    前記屈曲部が前記モールドキャビティ内側の前記リード
    の部分に位置されていることを特徴とする方法。
  42. 【請求項42】 請求項41において、前記リードにお
    ける各屈曲部が180°未満の内側角度と180°を超
    えた外側角度とを有しており、前記内側角度の頂部が丸
    められていることを特徴とする方法。
  43. 【請求項43】 請求項42において、前記外側角度の
    頂部が丸められていることを特徴とする方法。
  44. 【請求項44】 第一表面上に位置した複数個のダイコ
    ンタクトパッドを具備すると共に第一表面と反対側に第
    二表面を具備する半導体ダイ、 第一表面とそれと反対側に第二表面を具備しており前記
    ダイの第二表面がその第一表面へ取付けられているヒー
    トシンク、 複数個の導電性リード、 各々がダイコンタクトパッドを前記リードのうちの一つ
    の内側端部へ接続している複数個の導電性ボンドワイ
    ヤ、 前記ヒートシンクと、半導体ダイと、ボンドワイヤと、
    前記リードの一部とを封止する絶縁性物質、 を有しており、前記リードは内側端部から前記リードの
    内側端部と外側端部との間の位置へ封止されており、前
    記ヒートシンクの第二表面は前記封止物質の外側に露出
    されたままであることを特徴とする構成体。
  45. 【請求項45】 請求項44において、前記リードの各
    々の内側端部が前記ヒートシンクの第一表面へ接続され
    ており、各リードが前記ヒートシンクから外側に延在し
    ていることを特徴とする構成体。
  46. 【請求項46】 請求項45において、前記リードの各
    々が接着性絶縁性物質を有するヒートシンクへ取付けら
    れており、前記絶縁性物質の一部が前記ヒートシンクの
    周辺部を超えて延在しており且つ前記絶縁性物質の別の
    部分が前記リードの内側端部を超えて延在していること
    を特徴とする構成体。
  47. 【請求項47】 請求項45において、前記ヒートシン
    クの第一表面に垂直な少なくとも一つの表面上で前記ヒ
    ートシンク上にシールリングが形成されていることを特
    徴とする構成体。
  48. 【請求項48】 請求項47において、前記ヒートシン
    クと前記シールリングとの間の界面における前記シール
    リングの厚さが、前記界面から横方向に変位した位置に
    おいての前記シールリングの厚さより小さいことを特徴
    とする構成体。
  49. 【請求項49】 請求項44において、前記ヒートシン
    クは、前記絶縁性物質がそれとの結合を形成する少なく
    とも一つの表面を把持するように粗くした前記ヒートシ
    ンクの第一及び第二表面に対して垂直な少なくとも一つ
    の表面を有していることを特徴とする構成体。
  50. 【請求項50】 第一及び第二表面を有するヒートシン
    クにおいて、前記ヒートシンクは前記ヒートシンクの少
    なくとも一つのシールリング表面上にシールリングが形
    成されており、前記シールリング表面が前記第一及び第
    二表面に対して垂直であることを特徴とするヒートシン
    ク。
  51. 【請求項51】 請求項50において、前記ヒートシン
    クとシールリングとの間の界面においての前記シールリ
    ングの厚さが、前記界面から横方向に変位した位置にお
    いての前記シールリングの厚さより小さいことを特徴と
    するヒートシンク。
  52. 【請求項52】 請求項51において、前記少なくとも
    一つのシールリング表面に隣接して前記ヒートシンクの
    第二表面の各端部に棚が形成されており、前記棚は前記
    ヒートシンクの第二表面の端部から所定の位置において
    開始し且つ前記ヒートシンクとシールリングとの間の界
    面の深さより浅い深さへ延在していることを特徴とする
    ヒートシンク。
  53. 【請求項53】 請求項50において、前記シールリン
    グがウイングの付いた断面形状を有していることを特徴
    とするヒートシンク。
  54. 【請求項54】 請求項50において、前記シールリン
    グがT形状の断面を有していることを特徴とするヒート
    シンク。
  55. 【請求項55】 請求項54において、前記T形状をし
    た断面の上部が前記ヒートシンクの表面へ取付けられて
    いることを特徴とするヒートシンク。
  56. 【請求項56】 請求項50において、前記シールリン
    グが、少なくとも一側部に凹所を有する矩形状の断面形
    状を有していることを特徴とするヒートシンク。
  57. 【請求項57】 請求項50において、前記シールリン
    グが矩形状の断面形状を有しており、且つ前記シールリ
    ングが形成されている前記ヒートシンクの表面に対して
    垂直なシールリング表面上に離隔した位置において前記
    シールリングを貫通して孔が形成されていることを特徴
    とするヒートシンク。
  58. 【請求項58】 ヒートシンクにおいて、前記ヒートシ
    ンクの一表面の各端部に棚が形成されており、前記棚は
    前記ヒートシンクの前記表面の端部から所定の位置にお
    いて開始し且つ所定の深さへ延在していることを特徴と
    するヒートシンク。
  59. 【請求項59】 第一及び第二表面を有するヒートシン
    クにおいて、前記第一及び第二表面に対して垂直な少な
    くとも一つの表面が粗くされていることを特徴とするヒ
    ートシンク。
  60. 【請求項60】 第一及び第二表面を有するヒートシン
    ク上にシールリングを形成する方法において、前記ヒー
    トシンクの周辺部から所定の距離において前記ヒートシ
    ンクの第一及び第二表面の一方又は両方の上で切削工具
    を所定の深さに近付けてその際に前記ヒートシンクの端
    部からヒートシンク物質の一部を部分的に分離して前記
    端部に取付けたシールリングを形成することを特徴とす
    る方法。
  61. 【請求項61】 請求項60において、更に、前記ヒー
    トシンクとシールリングとの間の界面の深さより浅い深
    さに前記第二表面の端部から所定の位置において前記ヒ
    ートシンクの第二表面内に棚を形成することを特徴とす
    る方法。
  62. 【請求項62】 ヒートシンク上に棚を形成する方法に
    おいて、前記表面の端部から所定の深さに所定の位置に
    おいて前記ヒートシンクの表面に棚を形成することを特
    徴とする方法。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5798570A (en) * 1996-06-28 1998-08-25 Kabushiki Kaisha Gotoh Seisakusho Plastic molded semiconductor package with thermal dissipation means
CN103069567A (zh) * 2010-08-25 2013-04-24 罗伯特·博世有限公司 具有需冷却的电路组件、冷却体的电路和用于密封地埋置电路的方法
JP2019207998A (ja) * 2018-09-19 2019-12-05 株式会社加藤電器製作所 半導体モジュール
JP2022507223A (ja) * 2019-04-04 2022-01-18 中芯集成電路(寧波)有限公司上海分公司 バルク音響波共振器及びその製造方法並びにフィルタ、無線周波数通信システム
US12009803B2 (en) 2019-04-04 2024-06-11 Ningbo Semiconductor International Corporation Bulk acoustic wave resonator, filter and radio frequency communication system

Families Citing this family (47)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3572628B2 (ja) * 1992-06-03 2004-10-06 セイコーエプソン株式会社 半導体装置及びその製造方法
US5652461A (en) * 1992-06-03 1997-07-29 Seiko Epson Corporation Semiconductor device with a convex heat sink
US5482898A (en) * 1993-04-12 1996-01-09 Amkor Electronics, Inc. Method for forming a semiconductor device having a thermal dissipator and electromagnetic shielding
JP3362530B2 (ja) * 1993-12-16 2003-01-07 セイコーエプソン株式会社 樹脂封止型半導体装置およびその製造方法
US5650593A (en) * 1994-05-26 1997-07-22 Amkor Electronics, Inc. Thermally enhanced chip carrier package
US5827999A (en) * 1994-05-26 1998-10-27 Amkor Electronics, Inc. Homogeneous chip carrier package
JP3509274B2 (ja) * 1994-07-13 2004-03-22 セイコーエプソン株式会社 樹脂封止型半導体装置およびその製造方法
JP3367299B2 (ja) * 1994-11-11 2003-01-14 セイコーエプソン株式会社 樹脂封止型半導体装置およびその製造方法
JP3542677B2 (ja) * 1995-02-27 2004-07-14 セイコーエプソン株式会社 樹脂封止型半導体装置およびその製造方法
WO1996027903A1 (en) * 1995-03-06 1996-09-12 National Semiconductor Corporation Heat sink for integrated circuit packages
JP3309686B2 (ja) * 1995-03-17 2002-07-29 セイコーエプソン株式会社 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法
US5530278A (en) * 1995-04-24 1996-06-25 Xerox Corporation Semiconductor chip having a dam to prevent contamination of photosensitive structures thereon
US5609889A (en) * 1995-05-26 1997-03-11 Hestia Technologies, Inc. Apparatus for encapsulating electronic packages
US5652463A (en) * 1995-05-26 1997-07-29 Hestia Technologies, Inc. Transfer modlded electronic package having a passage means
US5787569A (en) * 1996-02-21 1998-08-04 Lucent Technologies Inc. Encapsulated package for power magnetic devices and method of manufacture therefor
DE19625228C2 (de) * 1996-06-24 1998-05-14 Siemens Ag Systemträger für die Montage einer integrierten Schaltung in einem Spritzgußgehäuse
US5977622A (en) * 1997-04-25 1999-11-02 Lsi Logic Corporation Stiffener with slots for clip-on heat sink attachment
US5898571A (en) * 1997-04-28 1999-04-27 Lsi Logic Corporation Apparatus and method for clip-on attachment of heat sinks to encapsulated semiconductor packages
US6011304A (en) * 1997-05-05 2000-01-04 Lsi Logic Corporation Stiffener ring attachment with holes and removable snap-in heat sink or heat spreader/lid
US6159764A (en) * 1997-07-02 2000-12-12 Micron Technology, Inc. Varied-thickness heat sink for integrated circuit (IC) packages and method of fabricating IC packages
US6072230A (en) * 1997-09-09 2000-06-06 Texas Instruments Incorporated Exposed leadframe for semiconductor packages and bend forming method of fabrication
US6634538B2 (en) 1998-04-02 2003-10-21 Micron Technology, Inc. Non-conductive and self-leveling leadframe clamp insert for wirebonding integrated circuits
US6126062A (en) 1998-04-02 2000-10-03 Micron Technology, Inc. Non-conductive and self-leveling leadframe clamp insert for wirebonding integrated circuits
US6337228B1 (en) 1999-05-12 2002-01-08 Amkor Technology, Inc. Low-cost printed circuit board with integral heat sink for semiconductor package
TW510158B (en) * 1999-05-14 2002-11-11 Siliconware Precision Industries Co Ltd Heat dissipation structure for semiconductor device
JP3277996B2 (ja) * 1999-06-07 2002-04-22 日本電気株式会社 回路装置、その製造方法
US6258629B1 (en) 1999-08-09 2001-07-10 Amkor Technology, Inc. Electronic device package and leadframe and method for making the package
US6566164B1 (en) 2000-12-07 2003-05-20 Amkor Technology, Inc. Exposed copper strap in a semiconductor package
US6562655B1 (en) 2001-04-20 2003-05-13 Amkor Technology, Inc. Heat spreader with spring IC package fabrication method
US6580167B1 (en) 2001-04-20 2003-06-17 Amkor Technology, Inc. Heat spreader with spring IC package
US6429513B1 (en) 2001-05-25 2002-08-06 Amkor Technology, Inc. Active heat sink for cooling a semiconductor chip
US6660559B1 (en) 2001-06-25 2003-12-09 Amkor Technology, Inc. Method of making a chip carrier package using laser ablation
US20040053447A1 (en) * 2001-06-29 2004-03-18 Foster Donald Craig Leadframe having fine pitch bond fingers formed using laser cutting method
US7126218B1 (en) 2001-08-07 2006-10-24 Amkor Technology, Inc. Embedded heat spreader ball grid array
US6737750B1 (en) 2001-12-07 2004-05-18 Amkor Technology, Inc. Structures for improving heat dissipation in stacked semiconductor packages
US6900508B2 (en) 2002-04-16 2005-05-31 Stmicroelectronics, Inc. Embedded flat film molding
TWI253730B (en) 2003-01-10 2006-04-21 Siliconware Precision Industries Co Ltd Semiconductor package with heat dissipating structure
DE10345247B4 (de) * 2003-09-29 2007-10-04 Infineon Technologies Ag Verwendung von Leiterbahnen als Krallkörper
US7351611B2 (en) * 2004-02-20 2008-04-01 Carsem (M) Sdn Bhd Method of making the mould for encapsulating a leadframe package
US7361985B2 (en) * 2004-10-27 2008-04-22 Freescale Semiconductor, Inc. Thermally enhanced molded package for semiconductors
US7560309B1 (en) 2005-07-26 2009-07-14 Marvell International Ltd. Drop-in heat sink and exposed die-back for molded flip die package
US7732848B2 (en) * 2007-05-31 2010-06-08 Infineon Technologies Ag Power semiconductor device with improved heat dissipation
US8030742B2 (en) * 2007-11-30 2011-10-04 Infineon Technologies Electronic device having profiled elements extending from planar surfaces
US9532459B2 (en) * 2013-08-12 2016-12-27 Infineon Technologies Ag Electronic module and method of manufacturing the same
US9554488B2 (en) * 2014-04-18 2017-01-24 Raytheon Company Method to align surface mount packages for thermal enhancement
DE112016004423B4 (de) * 2015-09-29 2024-09-12 Mitsubishi Electric Corporation Halbleitervorrichtung und verfahren zum herstellen derselben
US11335619B2 (en) * 2017-12-27 2022-05-17 Mitsubishi Electric Corporation Semiconductor device

Family Cites Families (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3564352A (en) * 1968-12-30 1971-02-16 Fairchild Camera Instr Co Strip design for a low cost plastic transistor
US3838984A (en) * 1973-04-16 1974-10-01 Sperry Rand Corp Flexible carrier and interconnect for uncased ic chips
US4074342A (en) * 1974-12-20 1978-02-14 International Business Machines Corporation Electrical package for lsi devices and assembly process therefor
US4105861A (en) * 1975-09-29 1978-08-08 Semi-Alloys, Inc. Hermetically sealed container for semiconductor and other electronic devices
US4168507A (en) * 1977-11-21 1979-09-18 Motorola, Inc. Structure and technique for achieving reduced inductive effect of undesired components of common lead inductance in a semiconductive RF power package
JPS5745959A (en) * 1980-09-02 1982-03-16 Nec Corp Resin-sealed semiconductor device
US4461924A (en) * 1982-01-21 1984-07-24 Olin Corporation Semiconductor casing
US4410927A (en) * 1982-01-21 1983-10-18 Olin Corporation Casing for an electrical component having improved strength and heat transfer characteristics
US4594770A (en) * 1982-07-15 1986-06-17 Olin Corporation Method of making semiconductor casing
US4480262A (en) * 1982-07-15 1984-10-30 Olin Corporation Semiconductor casing
IT1212711B (it) * 1983-03-09 1989-11-30 Ates Componenti Elettron Dispositivo a semiconduttore aforma di scheda piana con contatti elettrici su ambedue le facce eprocedimento per la sua fabbricazione.
JPS60116191A (ja) * 1983-11-29 1985-06-22 イビデン株式会社 電子部品搭載用基板の製造方法
US4680613A (en) * 1983-12-01 1987-07-14 Fairchild Semiconductor Corporation Low impedance package for integrated circuit die
JPS60257546A (ja) * 1984-06-04 1985-12-19 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置及びその製造方法
JPS6139555A (ja) * 1984-07-31 1986-02-25 Toshiba Corp 放熱板付樹脂封止形半導体装置
US4943844A (en) * 1985-11-22 1990-07-24 Texas Instruments Incorporated High-density package
US4701999A (en) * 1985-12-17 1987-10-27 Pnc, Inc. Method of making sealed housings containing delicate structures
US4890152A (en) * 1986-02-14 1989-12-26 Matsushita Electric Works, Ltd. Plastic molded chip carrier package and method of fabricating the same
US4974057A (en) * 1986-10-31 1990-11-27 Texas Instruments Incorporated Semiconductor device package with circuit board and resin
US4872047A (en) * 1986-11-07 1989-10-03 Olin Corporation Semiconductor die attach system
US4891687A (en) * 1987-01-12 1990-01-02 Intel Corporation Multi-layer molded plastic IC package
US4835120A (en) * 1987-01-12 1989-05-30 Debendra Mallik Method of making a multilayer molded plastic IC package
JPS63205935A (ja) * 1987-02-23 1988-08-25 Toshiba Corp 放熱板付樹脂封止型半導体装置
JP2509607B2 (ja) * 1987-03-23 1996-06-26 株式会社東芝 樹脂封止型半導体装置
JPS6447058A (en) * 1987-08-18 1989-02-21 Shinko Electric Ind Co Package for semiconductor device
JPH01146346A (ja) * 1987-12-02 1989-06-08 Nec Corp 集積回路パッケージ
US4888449A (en) * 1988-01-04 1989-12-19 Olin Corporation Semiconductor package
JPH064595Y2 (ja) * 1988-02-24 1994-02-02 日本電気株式会社 ハイブリッドic
US4975761A (en) * 1989-09-05 1990-12-04 Advanced Micro Devices, Inc. High performance plastic encapsulated package for integrated circuit die
US4994897A (en) * 1989-10-26 1991-02-19 Motorola, Inc. Multi-level semiconductor package
US5041902A (en) * 1989-12-14 1991-08-20 Motorola, Inc. Molded electronic package with compression structures
US4994936A (en) * 1990-02-12 1991-02-19 Rogers Corporation Molded integrated circuit package incorporating decoupling capacitor
JPH043450A (ja) * 1990-04-19 1992-01-08 Mitsubishi Electric Corp 樹脂封止型半導体装置
US5202288A (en) * 1990-06-01 1993-04-13 Robert Bosch Gmbh Method of manufacturing an electronic circuit component incorporating a heat sink
US5172214A (en) * 1991-02-06 1992-12-15 Motorola, Inc. Leadless semiconductor device and method for making the same

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5798570A (en) * 1996-06-28 1998-08-25 Kabushiki Kaisha Gotoh Seisakusho Plastic molded semiconductor package with thermal dissipation means
US6274408B1 (en) 1996-06-28 2001-08-14 Kabushiki Kaisha Gotoh Seisakusho Method for producing a plastic molded semiconductor package
CN103069567A (zh) * 2010-08-25 2013-04-24 罗伯特·博世有限公司 具有需冷却的电路组件、冷却体的电路和用于密封地埋置电路的方法
JP2019207998A (ja) * 2018-09-19 2019-12-05 株式会社加藤電器製作所 半導体モジュール
JP2022507223A (ja) * 2019-04-04 2022-01-18 中芯集成電路(寧波)有限公司上海分公司 バルク音響波共振器及びその製造方法並びにフィルタ、無線周波数通信システム
US12009803B2 (en) 2019-04-04 2024-06-11 Ningbo Semiconductor International Corporation Bulk acoustic wave resonator, filter and radio frequency communication system

Also Published As

Publication number Publication date
US5328870A (en) 1994-07-12
US5455462A (en) 1995-10-03

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