JPH06345854A - カルバゾール系重合体の製造方法 - Google Patents
カルバゾール系重合体の製造方法Info
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- JPH06345854A JPH06345854A JP13798893A JP13798893A JPH06345854A JP H06345854 A JPH06345854 A JP H06345854A JP 13798893 A JP13798893 A JP 13798893A JP 13798893 A JP13798893 A JP 13798893A JP H06345854 A JPH06345854 A JP H06345854A
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- compound
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- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】カルバゾール系化合物をルイス酸及びバナジウ
ム化合物の存在下で化学的に酸化重合させることを特徴
とするカルバゾール系重合体の製造方法。 【効果】高分子量かつ均質なカルバゾール系重合体を高
収率で得ることができる。
ム化合物の存在下で化学的に酸化重合させることを特徴
とするカルバゾール系重合体の製造方法。 【効果】高分子量かつ均質なカルバゾール系重合体を高
収率で得ることができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は導電性ないし半導電性、
光導電性を有するカルバゾール系重合体の製造方法に関
するものである。
光導電性を有するカルバゾール系重合体の製造方法に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】カルバゾール系重合体であるポリ(N−
アルキル−3,6−カルバゾールジイル)は有機光導電
材料(特開昭56−88422号)、有機半導体材料
(特開昭61−4723号)、導電性材料(米国特許第
4,568,482号)として有用であることが既に知
られている。
アルキル−3,6−カルバゾールジイル)は有機光導電
材料(特開昭56−88422号)、有機半導体材料
(特開昭61−4723号)、導電性材料(米国特許第
4,568,482号)として有用であることが既に知
られている。
【0003】そしてこのポリ(N−アルキル−3,6−
カルバゾールジイル)の製造法としては、N−アルキル
−3,6−ジハロカルバゾールをまず合成し、この化合
物を脱ハロゲンカップリング重合する方法(特開昭56
−88422号、米国特許第4,568,482号)が
開示されている。また他の方法としてN−アルキルカル
バゾールを電気化学的に酸化重合する方法(特開昭61
−4723号)やN−アルキルカルバゾールをB,S
i,As,Pのハロゲン化物の存在下で化学的に酸化重
合する方法(特開昭61−4725号)、Fe化合物の
存在下で化学的に酸化重合する方法(特開昭61−14
1725号)も開示されている。
カルバゾールジイル)の製造法としては、N−アルキル
−3,6−ジハロカルバゾールをまず合成し、この化合
物を脱ハロゲンカップリング重合する方法(特開昭56
−88422号、米国特許第4,568,482号)が
開示されている。また他の方法としてN−アルキルカル
バゾールを電気化学的に酸化重合する方法(特開昭61
−4723号)やN−アルキルカルバゾールをB,S
i,As,Pのハロゲン化物の存在下で化学的に酸化重
合する方法(特開昭61−4725号)、Fe化合物の
存在下で化学的に酸化重合する方法(特開昭61−14
1725号)も開示されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の脱
ハロゲンカップリング重合法は、ジハロカルバゾールを
合成後、グリニヤ反応を行なうため工程が非常に煩雑に
なるばかりでなく、得られたポリマの分子量が低く、強
度が極めて低いという問題点を有している。
ハロゲンカップリング重合法は、ジハロカルバゾールを
合成後、グリニヤ反応を行なうため工程が非常に煩雑に
なるばかりでなく、得られたポリマの分子量が低く、強
度が極めて低いという問題点を有している。
【0005】N−アルキルカルバゾールを電気化学的に
酸化重合する方法は電極表面へのポリマ膜の析出で電極
の不導化が起こり重合反応が途中で停止すること、電極
からの剥離による重合停止や電極付近での架橋反応など
によって均質な重合体が得られないという問題点を有し
ている。
酸化重合する方法は電極表面へのポリマ膜の析出で電極
の不導化が起こり重合反応が途中で停止すること、電極
からの剥離による重合停止や電極付近での架橋反応など
によって均質な重合体が得られないという問題点を有し
ている。
【0006】N−アルキルカルバゾールを化学的に酸化
重合する方法は工程が簡単でかつ直鎖状の重合体が得ら
れる。しかしながらB,Si,As,Pのハロゲン化物
を酸化剤として用いた場合、得られるポリマがハロゲン
化されやすく、純度の高い重合体を得ることが難しい
上、重合体収率が極めて低いという問題点があった。さ
らに得られた重合体の分子量が低く、強度が低いという
問題点も有している。
重合する方法は工程が簡単でかつ直鎖状の重合体が得ら
れる。しかしながらB,Si,As,Pのハロゲン化物
を酸化剤として用いた場合、得られるポリマがハロゲン
化されやすく、純度の高い重合体を得ることが難しい
上、重合体収率が極めて低いという問題点があった。さ
らに得られた重合体の分子量が低く、強度が低いという
問題点も有している。
【0007】Fe化合物を酸化剤として用いた場合にも
重合体収率および分子量が低いという問題点があった。
重合体収率および分子量が低いという問題点があった。
【0008】よって本発明は、高分子量のカルバゾール
重合体を高収率で酸化重合により製造することを課題と
する。
重合体を高収率で酸化重合により製造することを課題と
する。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決するために鋭意検討した結果、ルイス酸およびバナ
ジウム化合物の存在下でカルバゾール系化合物を化学的
に酸化重合させることにより、上記課題が解決できるこ
とを見いだし、本発明を完成するに至った。
解決するために鋭意検討した結果、ルイス酸およびバナ
ジウム化合物の存在下でカルバゾール系化合物を化学的
に酸化重合させることにより、上記課題が解決できるこ
とを見いだし、本発明を完成するに至った。
【0010】すなわち本発明は一般式(1)
【化3】 で表わされるカルバゾール系化合物を少なくとも1種類
のルイス酸および少なくとも1種類のバナジウム化合物
の存在下、化学的に酸化重合することを特徴とする一般
式(2)
のルイス酸および少なくとも1種類のバナジウム化合物
の存在下、化学的に酸化重合することを特徴とする一般
式(2)
【化4】 で表わされるカルバゾール系重合体の製造方法である。
【0011】(ここでRは水素、または炭素数1〜20
の脂肪族、脂環族、芳香族の1価の炭化水素基を表わ
す。) 以下本発明についてさらに詳細に説明する。
の脂肪族、脂環族、芳香族の1価の炭化水素基を表わ
す。) 以下本発明についてさらに詳細に説明する。
【0012】本発明のカルバゾール系重合体は、ルイス
酸およびバナジウム化合物の存在下でカルバゾール系化
合物を酸化重合させることにより、簡単に得られる。
酸およびバナジウム化合物の存在下でカルバゾール系化
合物を酸化重合させることにより、簡単に得られる。
【0013】本発明に用いられるカルバゾール系化合物
は、カルバゾールあるいはN位(9位)が1価の有機残
基で置換されたカルバゾールである。
は、カルバゾールあるいはN位(9位)が1価の有機残
基で置換されたカルバゾールである。
【0014】有機残基としてはアルキル基、アラルキル
基、アリール基、シクロアルキル基が挙げられ、さらに
O,S,N,Pといったヘテロ原子を有していてもかま
わない。
基、アリール基、シクロアルキル基が挙げられ、さらに
O,S,N,Pといったヘテロ原子を有していてもかま
わない。
【0015】本発明で用いられるカルバゾール系化合物
(1)の具体例としてはカルバゾール、N−メチルカル
バゾール、N−エチルカルバゾール、N−プロピルカル
バゾール、N−イソプロピルカルバゾール、N−(n-ブ
チル)カルバゾール、N−(sec-ブチル)カルバゾー
ル、N−(tert- ブチル)カルバゾール、N−ペンチル
カルバゾール、N−ヘキシルカルバゾール、N−ヘプチ
ルカルバゾール、N−オクチルカルバゾール、N−ノニ
ルカルバゾール、N−デシルカルバゾール、N−ウンデ
シルカルバゾール、N−ドデシルカルバゾール、N−オ
クタデシルカルバゾール、N−フェニルカルバゾール、
N−(αーナフチル)カルバゾール、N−(βーナフチ
ル)カルバゾール、N−ベンジルカルバゾール、N−
(4ービフェニリル)カルバゾール、N−(2ーフェニ
ルエチル)カルバゾール、N−(2−メトキシエチル)
カルバゾール、N−[2ー(N,N−ジメチルアミノ)
エチル]カルバゾールなどが挙げられる。
(1)の具体例としてはカルバゾール、N−メチルカル
バゾール、N−エチルカルバゾール、N−プロピルカル
バゾール、N−イソプロピルカルバゾール、N−(n-ブ
チル)カルバゾール、N−(sec-ブチル)カルバゾー
ル、N−(tert- ブチル)カルバゾール、N−ペンチル
カルバゾール、N−ヘキシルカルバゾール、N−ヘプチ
ルカルバゾール、N−オクチルカルバゾール、N−ノニ
ルカルバゾール、N−デシルカルバゾール、N−ウンデ
シルカルバゾール、N−ドデシルカルバゾール、N−オ
クタデシルカルバゾール、N−フェニルカルバゾール、
N−(αーナフチル)カルバゾール、N−(βーナフチ
ル)カルバゾール、N−ベンジルカルバゾール、N−
(4ービフェニリル)カルバゾール、N−(2ーフェニ
ルエチル)カルバゾール、N−(2−メトキシエチル)
カルバゾール、N−[2ー(N,N−ジメチルアミノ)
エチル]カルバゾールなどが挙げられる。
【0016】本発明に用いるルイス酸としては塩化アル
ミニウム、臭化アルミニウム、フッ化アルミニウム、塩
化第二鉄、五塩化アンチモン、五塩化モリブテン、硫
酸、トリフルオロメタンスルホン酸などが挙げられ、単
独でも2種類以上の混合物として用いてもかまわない。
これらルイス酸の中でも塩化アルミニウム、臭化アルミ
ニウム、フッ化アルミニウムといったハロゲン化アルミ
ニウムが特に好ましい。
ミニウム、臭化アルミニウム、フッ化アルミニウム、塩
化第二鉄、五塩化アンチモン、五塩化モリブテン、硫
酸、トリフルオロメタンスルホン酸などが挙げられ、単
独でも2種類以上の混合物として用いてもかまわない。
これらルイス酸の中でも塩化アルミニウム、臭化アルミ
ニウム、フッ化アルミニウムといったハロゲン化アルミ
ニウムが特に好ましい。
【0017】本発明で用いるバナジウム化合物としては
0価、1価、2価、3価、4価、5価のバナジウム化合
物のいずれも使用することができる。具体的にはバナジ
ウム金属、ヘキサカルボニルバナジウム、ビス(ηーベ
ンゼン)バナジウム、(ηーシクロペンタジエニル)
(ηーシクロヘプタトリエニル)バナジウム(以上0
価)、テトラカルボニル(ηーシクロペンタジエニル)
バナジウム(1価)、ビス(ηーシクロペンタジエニ
ル)バナジウム(2価)、三塩化バナジウム、三酸化バ
ナジウム、バナジウムアセチルアセトネート、メチルビ
ス(ηーシクロペンタジエニル)バナジウム、クロロビ
ス(ηーシクロペンタジエニル)バナジウム(以上3
価)、バナジルアセチルアセトネート、トリクロロ(η
ーシクロペンタジエニル)バナジウム、オキシ二塩化バ
ナジウム、オキシ硫酸バナジウム(以上4価)、オキシ
三塩化バナジウム、五酸化バナジウム(以上5価)など
が挙げられ、単独でも2種以上の混合物として用いても
かまわない。
0価、1価、2価、3価、4価、5価のバナジウム化合
物のいずれも使用することができる。具体的にはバナジ
ウム金属、ヘキサカルボニルバナジウム、ビス(ηーベ
ンゼン)バナジウム、(ηーシクロペンタジエニル)
(ηーシクロヘプタトリエニル)バナジウム(以上0
価)、テトラカルボニル(ηーシクロペンタジエニル)
バナジウム(1価)、ビス(ηーシクロペンタジエニ
ル)バナジウム(2価)、三塩化バナジウム、三酸化バ
ナジウム、バナジウムアセチルアセトネート、メチルビ
ス(ηーシクロペンタジエニル)バナジウム、クロロビ
ス(ηーシクロペンタジエニル)バナジウム(以上3
価)、バナジルアセチルアセトネート、トリクロロ(η
ーシクロペンタジエニル)バナジウム、オキシ二塩化バ
ナジウム、オキシ硫酸バナジウム(以上4価)、オキシ
三塩化バナジウム、五酸化バナジウム(以上5価)など
が挙げられ、単独でも2種以上の混合物として用いても
かまわない。
【0018】重合反応の雰囲気としては窒素雰囲気、ア
ルゴン雰囲気、空気雰囲気、酸素雰囲気等が用いられる
が、0〜4価のバナジウム化合物を使用する場合には空
気雰囲気または酸素雰囲気が好ましく、酸素雰囲気が特
に好ましい。また酸素雰囲気を用いる場合、バナジウム
化合物としてはバナジルアセチルアセトネートがとりわ
け好ましい。
ルゴン雰囲気、空気雰囲気、酸素雰囲気等が用いられる
が、0〜4価のバナジウム化合物を使用する場合には空
気雰囲気または酸素雰囲気が好ましく、酸素雰囲気が特
に好ましい。また酸素雰囲気を用いる場合、バナジウム
化合物としてはバナジルアセチルアセトネートがとりわ
け好ましい。
【0019】カルバゾール系化合物1モルに対して用い
るバナジウム化合物の量は、通常0.0001〜10モ
ルである。5価のバナジウム化合物を酸化剤として使用
する場合には0.1〜10モルが好ましく、1〜5モル
がさらに好ましい。酸素雰囲気下で0〜4価のバナジウ
ム化合物を酸化触媒として使用する場合には、0.00
01〜5モルが好ましく、0.005〜0.1モルがさ
らに好ましい。
るバナジウム化合物の量は、通常0.0001〜10モ
ルである。5価のバナジウム化合物を酸化剤として使用
する場合には0.1〜10モルが好ましく、1〜5モル
がさらに好ましい。酸素雰囲気下で0〜4価のバナジウ
ム化合物を酸化触媒として使用する場合には、0.00
01〜5モルが好ましく、0.005〜0.1モルがさ
らに好ましい。
【0020】バナジウム化合物の量が0.0001モル
未満の場合には酸化触媒としての効果が不十分であり、
またバナジウム化合物を10モル以上用いてもその効果
は大きくならず、むしろ経済的には不利になる。
未満の場合には酸化触媒としての効果が不十分であり、
またバナジウム化合物を10モル以上用いてもその効果
は大きくならず、むしろ経済的には不利になる。
【0021】反応は一般的に溶剤を用いて行なうことが
好ましい。用いる溶剤としてはアセトン、メチルエチル
ケトンなどのケトン系溶剤、アセトニトリル、ベンゾニ
トリルなどのニトリル系溶剤、ニトロベンゼン、ニトロ
メタンなどのニトロ系溶剤、ベンゼン、トルエン、キシ
レンなどの芳香族炭化水素、酢酸エチル、酢酸ブチルな
どのエステル系溶剤、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、N−メチルピロリドンなどのアミド系溶
剤、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラクロロエタ
ンなどのハロゲン系溶剤、テトラヒドロフラン、ジメチ
ルスルホキシド、スルホランなどが挙げられる。
好ましい。用いる溶剤としてはアセトン、メチルエチル
ケトンなどのケトン系溶剤、アセトニトリル、ベンゾニ
トリルなどのニトリル系溶剤、ニトロベンゼン、ニトロ
メタンなどのニトロ系溶剤、ベンゼン、トルエン、キシ
レンなどの芳香族炭化水素、酢酸エチル、酢酸ブチルな
どのエステル系溶剤、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、N−メチルピロリドンなどのアミド系溶
剤、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラクロロエタ
ンなどのハロゲン系溶剤、テトラヒドロフラン、ジメチ
ルスルホキシド、スルホランなどが挙げられる。
【0022】本発明における重合で重合の進行と共に水
が副生する場合には、脱水剤の存在下で重合を行なうこ
とも好ましい。脱水剤の具体例としては無水硫酸ナトリ
ウム、無水硫酸マグネシウム、塩化カルシウムなどが挙
げられ、重合反応に影響を与えないものならば制限はな
い。
が副生する場合には、脱水剤の存在下で重合を行なうこ
とも好ましい。脱水剤の具体例としては無水硫酸ナトリ
ウム、無水硫酸マグネシウム、塩化カルシウムなどが挙
げられ、重合反応に影響を与えないものならば制限はな
い。
【0023】反応温度は一般的に−50〜200℃が採
用され、−30〜100℃が好ましく、−30〜50℃
がさらに好ましい。−50℃より低い温度では重合反応
が実質的に進行せず、また200℃より高い温度では分
解反応が生じるため目的とする重合体が得られない。
用され、−30〜100℃が好ましく、−30〜50℃
がさらに好ましい。−50℃より低い温度では重合反応
が実質的に進行せず、また200℃より高い温度では分
解反応が生じるため目的とする重合体が得られない。
【0024】反応時間はモノマ及びルイス酸、バナジウ
ム化合物の種類やその使用割合、反応温度、溶媒の種類
や量、用いる酸の種類や量、酸素分圧などによって著し
くことなるが、一般的に0.1〜100時間であり、好
ましくは0.2〜10時間である。反応時間は反応条件
との兼ね合いから適宜選択される。
ム化合物の種類やその使用割合、反応温度、溶媒の種類
や量、用いる酸の種類や量、酸素分圧などによって著し
くことなるが、一般的に0.1〜100時間であり、好
ましくは0.2〜10時間である。反応時間は反応条件
との兼ね合いから適宜選択される。
【0025】本発明の製造方法により、重量平均分子量
3,000以上、特に5,000以上、500,000
以下の高分子量の重合体を製造することができる。な
お、ここで述べる重量平均分子量 はゲルパーミエーシ
ョンクロマトグラフィー(GPC)を用いて測定した場
合のものである。測定条件は以下に示す。
3,000以上、特に5,000以上、500,000
以下の高分子量の重合体を製造することができる。な
お、ここで述べる重量平均分子量 はゲルパーミエーシ
ョンクロマトグラフィー(GPC)を用いて測定した場
合のものである。測定条件は以下に示す。
【0026】装 置:Waters カラム:Shodex KD−80M 溶 媒:N−メチルピロリドン 検量線:ポリスチレン換算 またその収率も60%以上、特に80%以上の高収率で
製造することができる。
製造することができる。
【0027】本発明の方法によって得られた重合体は、
導電性ないし半導電性、光導電性を有するカルバゾール
系重合体としてバッテリー電極や電気・電子素子、電子
写真用感光体、画像形成素子などとして使用できる。ま
た必要に応じて公知のドーパントであるヨウ素などのハ
ロゲンや五フッ化ヒ素、五フッ化アンチモンなどの金属
ハロゲン化物でドーピングすることにより導電性を向上
させることができる。
導電性ないし半導電性、光導電性を有するカルバゾール
系重合体としてバッテリー電極や電気・電子素子、電子
写真用感光体、画像形成素子などとして使用できる。ま
た必要に応じて公知のドーパントであるヨウ素などのハ
ロゲンや五フッ化ヒ素、五フッ化アンチモンなどの金属
ハロゲン化物でドーピングすることにより導電性を向上
させることができる。
【0028】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を更に詳細に説
明する。ただし本発明はこれらの例によってなんら限定
されるものではない。
明する。ただし本発明はこれらの例によってなんら限定
されるものではない。
【0029】実施例および比較例の中で述べられる重量
平均分子量は次の方法に従って測定した。
平均分子量は次の方法に従って測定した。
【0030】重量平均分子量 :ゲルパーミエーション
クロマトグラフィー(GPC)を用いて測定した。
クロマトグラフィー(GPC)を用いて測定した。
【0031】装 置:Waters カラム:Shodex KD−80M 溶 媒:N−メチルピロリドン 検量線:ポリスチレン換算
【0032】実施例1 カルバゾール1.99g、塩化アルミニウム3.48
g、五酸化バナジウム4.77gを200mlの三ッ口
フラスコに採取し、常温、常圧、窒素雰囲気下でニトロ
ベンゼン50mlを滴下した。室温で6時間撹拌した
後、500mlの5%塩酸酸性メタノールに反応混合物
を投入し、濾別後メタノールで洗浄し、再沈精製した後
室温で真空乾燥した。得られた重合体の色調は緑色であ
り、収量は1.70g,収率は85%であった。GPC
で重量平均分子量を求めたところ、Mw=8,570で
あった。
g、五酸化バナジウム4.77gを200mlの三ッ口
フラスコに採取し、常温、常圧、窒素雰囲気下でニトロ
ベンゼン50mlを滴下した。室温で6時間撹拌した
後、500mlの5%塩酸酸性メタノールに反応混合物
を投入し、濾別後メタノールで洗浄し、再沈精製した後
室温で真空乾燥した。得られた重合体の色調は緑色であ
り、収量は1.70g,収率は85%であった。GPC
で重量平均分子量を求めたところ、Mw=8,570で
あった。
【0033】実施例2 N−エチルカルバゾール2.32g、塩化アルミニウム
3.48g、五酸化バナジウム4.77gを200ml
の三ッ口フラスコに採取し、常温、常圧、窒素雰囲気下
でニトロベンゼン50mlを滴下した。室温で6時間撹
拌した後、500mlの5%塩酸酸性メタノールに反応
混合物を投入し、濾別後メタノールで洗浄し、再沈精製
した後室温で真空乾燥した。得られた重合体の色調は淡
黄色であり、収量は2.02g,収率は87%であっ
た。GPCで重量平均分子量を求めたところ、Mw=
5,280であった。
3.48g、五酸化バナジウム4.77gを200ml
の三ッ口フラスコに採取し、常温、常圧、窒素雰囲気下
でニトロベンゼン50mlを滴下した。室温で6時間撹
拌した後、500mlの5%塩酸酸性メタノールに反応
混合物を投入し、濾別後メタノールで洗浄し、再沈精製
した後室温で真空乾燥した。得られた重合体の色調は淡
黄色であり、収量は2.02g,収率は87%であっ
た。GPCで重量平均分子量を求めたところ、Mw=
5,280であった。
【0034】実施例3 カルバゾール1.99g、塩化アルミニウム3.48
g、バナジルアセチルアセトネート0.32gを200
mlの三ッ口フラスコに採取し、常温、常圧、酸素雰囲
気下でニトロベンゼン50mlを滴下した。酸素ガスを
バブリングしながら室温で30時間撹拌した後、500
mlの5%塩酸酸性メタノールに反応混合物を投入し、
濾別後メタノールで洗浄し、再沈精製した後室温で真空
乾燥した。得られた重合体の色調は緑色であり、収量は
1.61g,収率は81%であった。GPCで重量平均
分子量を求めたところ、Mw=8,230であった。
g、バナジルアセチルアセトネート0.32gを200
mlの三ッ口フラスコに採取し、常温、常圧、酸素雰囲
気下でニトロベンゼン50mlを滴下した。酸素ガスを
バブリングしながら室温で30時間撹拌した後、500
mlの5%塩酸酸性メタノールに反応混合物を投入し、
濾別後メタノールで洗浄し、再沈精製した後室温で真空
乾燥した。得られた重合体の色調は緑色であり、収量は
1.61g,収率は81%であった。GPCで重量平均
分子量を求めたところ、Mw=8,230であった。
【0035】実施例4 N−エチルカルバゾール2.32g、塩化アルミニウム
3.48g、バナジルアセチルアセトネート0.32g
を200mlの三ッ口フラスコに採取し、常温、常圧、
酸素雰囲気下でニトロベンゼン50mlを滴下した。酸
素ガスをバブリングしながら室温で30時間撹拌した
後、500mlの5%塩酸酸性メタノールに反応混合物
を投入し、濾別後メタノールで洗浄し、再沈精製した後
室温で真空乾燥した。得られた重合体の色調は白色であ
り、収量は1.93g,収率は83%であった。GPC
で重量平均分子量を求めたところ、Mw=5,010で
あった。
3.48g、バナジルアセチルアセトネート0.32g
を200mlの三ッ口フラスコに採取し、常温、常圧、
酸素雰囲気下でニトロベンゼン50mlを滴下した。酸
素ガスをバブリングしながら室温で30時間撹拌した
後、500mlの5%塩酸酸性メタノールに反応混合物
を投入し、濾別後メタノールで洗浄し、再沈精製した後
室温で真空乾燥した。得られた重合体の色調は白色であ
り、収量は1.93g,収率は83%であった。GPC
で重量平均分子量を求めたところ、Mw=5,010で
あった。
【0036】比較例1 カルバゾール1.99g、塩化第二鉄4.24gを20
0mlの三ッ口フラスコに採取し、常温、常圧、窒素雰
囲気下でニトロベンゼン50mlを滴下した。室温で6
時間撹拌した後、500mlの5%塩酸酸性メタノール
に反応混合物を投入し、濾別後メタノールで洗浄し、再
沈精製した後室温で真空乾燥した。得られた重合体の色
調は緑色であり、収量は0.56g,収率は28%であ
った。
0mlの三ッ口フラスコに採取し、常温、常圧、窒素雰
囲気下でニトロベンゼン50mlを滴下した。室温で6
時間撹拌した後、500mlの5%塩酸酸性メタノール
に反応混合物を投入し、濾別後メタノールで洗浄し、再
沈精製した後室温で真空乾燥した。得られた重合体の色
調は緑色であり、収量は0.56g,収率は28%であ
った。
【0037】GPCで重量平均分子量を求めたところ、
Mw=2,870であった。実施例1と比較すると分子
量、収率ともに劣ることが分かる。
Mw=2,870であった。実施例1と比較すると分子
量、収率ともに劣ることが分かる。
【0038】比較例2 カルバゾール1.99g、五塩化アンチモン7.83g
を200mlの三ッ口フラスコに採取し、常温、常圧、
窒素雰囲気下でニトロベンゼン50mlを滴下した。室
温で6時間撹拌した後、500mlの5%塩酸酸性メタ
ノールに反応混合物を投入し、濾別後メタノールで洗浄
し、再沈精製した後室温で真空乾燥した。得られた重合
体の色調は緑色であり、収量は1.03g,収率は52
%であった。GPCで重量平均分子量を求めたところ、
Mw=2,620であった。実施例1と比較すると分子
量、収率ともに劣ることが分かる。
を200mlの三ッ口フラスコに採取し、常温、常圧、
窒素雰囲気下でニトロベンゼン50mlを滴下した。室
温で6時間撹拌した後、500mlの5%塩酸酸性メタ
ノールに反応混合物を投入し、濾別後メタノールで洗浄
し、再沈精製した後室温で真空乾燥した。得られた重合
体の色調は緑色であり、収量は1.03g,収率は52
%であった。GPCで重量平均分子量を求めたところ、
Mw=2,620であった。実施例1と比較すると分子
量、収率ともに劣ることが分かる。
【0039】比較例3 アセトニトリル100mlに支持電解質としてテトラエ
チルアンモニウムパークロレート23gを溶解させた
後、カルバゾール3.32gを溶解させた。この溶液中
に正極および負極の電極として長さ5cm、幅1cm、
厚さ1mmの白金板を用いて、室温、窒素雰囲気下1m
A/cm2 の一定電流で10時間電解酸化重合を行なっ
た。重合開始と同時に正極上に暗緑色のポリカルバゾー
ルが膜状に生成し始めた。重合終了後、得られたフィル
ムを塩化メチレンで洗浄した。このフィルムは黄色の部
分と暗緑色の部分を有していて不均質であり、また架橋
構造のために溶剤に不溶であり、分子量測定はできなか
った。
チルアンモニウムパークロレート23gを溶解させた
後、カルバゾール3.32gを溶解させた。この溶液中
に正極および負極の電極として長さ5cm、幅1cm、
厚さ1mmの白金板を用いて、室温、窒素雰囲気下1m
A/cm2 の一定電流で10時間電解酸化重合を行なっ
た。重合開始と同時に正極上に暗緑色のポリカルバゾー
ルが膜状に生成し始めた。重合終了後、得られたフィル
ムを塩化メチレンで洗浄した。このフィルムは黄色の部
分と暗緑色の部分を有していて不均質であり、また架橋
構造のために溶剤に不溶であり、分子量測定はできなか
った。
【0040】
【発明の効果】本発明は従来のカルバゾール系重合体の
製造法が有している種々の欠点を克服し、従来の製造法
では得られなかった高重合度かつ均質なカルバゾール系
重合体を高収率で与えることができる。
製造法が有している種々の欠点を克服し、従来の製造法
では得られなかった高重合度かつ均質なカルバゾール系
重合体を高収率で与えることができる。
Claims (5)
- 【請求項1】一般式(1) 【化1】 で表わされるカルバゾール系化合物を少なくとも1種類
のルイス酸および少なくとも1種類のバナジウム化合物
の存在下、化学的に酸化重合することを特徴とする一般
式(2) 【化2】 で表わされるカルバゾール系重合体の製造方法。(ここ
でRは水素、または炭素数1〜20の脂肪族、脂環族、
芳香族の1価の炭化水素基を表わす。) - 【請求項2】ルイス酸としてハロゲン化アルミニウムを
用いる請求項1記載のカルバゾール系重合体の製造方
法。 - 【請求項3】バナジウム化合物として5価のバナジウム
化合物を用いる請求項1記載のカルバゾール系重合体の
製造方法。 - 【請求項4】バナジウム化合物として0〜4価のバナジ
ウム化合物を用い、酸素雰囲気で酸化重合する請求項1
記載のカルバゾール系重合体の製造方法。 - 【請求項5】4価のバナジウム化合物としてバナジルア
セチルアセトネートを用いる請求項4記載のカルバゾー
ル系重合体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13798893A JPH06345854A (ja) | 1993-06-08 | 1993-06-08 | カルバゾール系重合体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13798893A JPH06345854A (ja) | 1993-06-08 | 1993-06-08 | カルバゾール系重合体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06345854A true JPH06345854A (ja) | 1994-12-20 |
Family
ID=15211438
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13798893A Pending JPH06345854A (ja) | 1993-06-08 | 1993-06-08 | カルバゾール系重合体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06345854A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002284862A (ja) * | 2001-03-23 | 2002-10-03 | Tdk Corp | 高分子化合物およびその製造方法と使用法 |
JP2006516666A (ja) * | 2003-02-06 | 2006-07-06 | コビオン・オーガニック・セミコンダクターズ・ゲーエムベーハー | カルバゾールを含有する共役系ポリマー及びブレンド、その製造及びその使用 |
JP2006183048A (ja) * | 2004-12-14 | 2006-07-13 | Xerox Corp | インドロカルバゾール残基を有する化合物を形成するための方法 |
JP2010248522A (ja) * | 2010-06-14 | 2010-11-04 | Tdk Corp | 高分子化合物およびその製造方法と使用法 |
JP2013001773A (ja) * | 2011-06-15 | 2013-01-07 | Chiba Univ | ポリ(n−アルキルカルバゾール)柱状構造体の化学的な製造方法 |
JP2013257945A (ja) * | 2012-06-10 | 2013-12-26 | Chiba Univ | 有機透明導電体、有機導電体形成用インク及びそれらの製造方法 |
CN113491959A (zh) * | 2020-03-20 | 2021-10-12 | 国家纳米科学中心 | 一种多孔聚合物薄膜及其制备方法与应用 |
-
1993
- 1993-06-08 JP JP13798893A patent/JPH06345854A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002284862A (ja) * | 2001-03-23 | 2002-10-03 | Tdk Corp | 高分子化合物およびその製造方法と使用法 |
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CN101333328A (zh) * | 2003-02-06 | 2008-12-31 | 默克专利有限公司 | 含有咔唑的共轭聚合物和掺和物及其制备和用途 |
JP2006183048A (ja) * | 2004-12-14 | 2006-07-13 | Xerox Corp | インドロカルバゾール残基を有する化合物を形成するための方法 |
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CN113491959A (zh) * | 2020-03-20 | 2021-10-12 | 国家纳米科学中心 | 一种多孔聚合物薄膜及其制备方法与应用 |
CN113491959B (zh) * | 2020-03-20 | 2023-09-22 | 国家纳米科学中心 | 一种多孔聚合物薄膜及其制备方法与应用 |
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