JPH06316582A - トリアルキルシリルニトリルの製造 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 化学量論的量のハロゲン化トリアルキルシリ
ル、ヘキサアルキルジシラザンまたはトリアルキルシリ
ルアミン、およびシアン化水素を、溶媒または不活性ガ
スの雰囲気の不存在下または存在下に無水的に反応させ
ることによって、トリアルキルシリルニトリルを製造す
る。この反応を好ましくは５℃〜２５℃の温度において
実施する。 【効果】 本発明の方法は触媒を必要とせず、そして本
発明の方法により得られるトリアルキルシリルニトリル
の収率は理論値の９０％を越える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】本発明は、トリアルキルシリルニトリル
（また、シアン化トリアルキルシリルおよびシアノトリ
アルキルシランとして知られている）の製造に関する。
トリアルキルシリルニトリル、ことにトリメチルシリル
ニトリルを使用して、ケトンまたはアルデヒドからシリ
ル化シアノヒドリンを生成し、シアン化物をエノンに付
加し、アシルクロライドからアセトニトリルを生成し、
ケトンを保護し、イミンに付加して ’−アミノニトリ
ルを生成し、そしてオキシムに付加して ’−シアノオ
キシムを生成する。トリアルキルシリルニトリルは、カ
ーボジイミド、ジイミン、イソシアネートおよびイソチ
アシアネートおよびニトリルと反応させると、シクロ付
加物を生成するであろう。さらに、トリアルキルシリル
ニトリルはアセチレン、アレンおよびニトロンに付加
し、そしてオキシランまたはオキセトンを開環する。ま
た、それは有機および無機の両者の種々の親核置換にお
いてシアンイオン源として働く。トリアルキルシリルニ
トリルは有機合成の目的のための最も融通性のあるケイ
素の試薬の１つとして記載されてきている。Ｊ．Ｋ．Ｒ
ａｓｕｍｓｓｅｎ、Ｓ．Ｍ．Ｈｅｉｌｍａｎｎ、Ｌ．
Ｒ．Ｋｒｅｐｓｋｉ、″シアノトリメチルシランの化学
（Ｔｈｅ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ｏｆ Ｃｙａｎｏｔｒ
ｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌａｎｅｓ）″、Ａｄｖａｃｅｓ
ｉｎ Ｓｉｌｉｃｏｎ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ（Ｇ．Ｌ．
Ｌａｒｓｏｎ編）、Ｖｏｌ．１、６６（１９９１）。

【０００２】トリアルキルシリルニトリルは、数年間、
反応

【０００３】

【化１】

【０００４】に従いヨードシラン（Ｒ）₃ＳｉＩをシア
ン化銀と反応させることによって製造されてきている。
トリアルキルシリルニトリルは、また、対応するサルフ
ァイド、ブロミドおよびクロライドから得られてきてい
る。Ｗ．Ｃ．Ｇｒｏｕｔａｓ、Ｄ．Ｆｅｌｋｅｒ、″シ
アノトリメチルシラン、ヨードトリメチルシラン、アジ
ドトリメチルシラン、およびメチルチオトリメチルシラ
ン″、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、Ｎｏｖ．、８６１（１９８
０）は、シアン化銀とクロロトリメチルシランとの反応
により８０％の収率を得ることを報告している。シアン
化銀の明らかな経費にかかわらず、それは数年間トリア
ルキルシリルニトリルの製造のために選択される試薬で
あった。Ｒａｓｍｕｓｓｅｎら、ｐ．６８。

【０００５】トリアルキルシリルニトリルは、また、Ｄ
ＭＦ中のクロロトリメチルシランとシアン化カリウム水
銀との反応、ヘキサメチルジシラザンとシアン化水素と
の反応、塩化アンモニウムの存在下のメトキシトリエチ
ルシランとシアン化ピバロイルとの反応を通して、およ
びクロロトリフェニルシランとシアノトリエチルシラン
との間のシアン化物の交換から中程度の収率で得られて
きている。Ｒａｓｍｕｓｓｅｎら、ｐ．６８〜６９。ヘ
キサメチルジシラザンとシアン化水素との反応は、デュ
ポン社の研究者らにより１９５８年にＪ．Ａｍ．Ｃｈｅ
ｍ．Ｓｏｃ．、８０、４１５１−４１５３（１９５８）
に発表された。デュポン社の研究者らは、３６．７％の
トリメチルシリルニトリルおよび４５％のシアン化アン
モニウムの収率を開示している。シアン化アンモニウム
はニトリル塩であり、そしてそれ自体取り扱いが非常に
困難である。

【０００６】トリメチルシリルニトリルは、トリメチル
クロロシランおよびシアン化水素のジエチルエーテル溶
液を石油中でリチウムと反応させることによって製造さ
れてきている。この変法は米国特許第３，０３２，５７
５号の主題である。これはＬｉＨおよびシアン化水素か
らシアン化リチウムをまず生成し、シアン化リチウムか
らトリアルキルシリルニトリルを製造することによって
さらに実施された。

【０００７】７２％のトリメチルシリルニトリルの中程
度の収率は、ビス（トリメチルシリル）サルファイドと
ジシアノジメチルシランとの反応により得られた。Ｍ．
Ｄ．Ｍｉｚｈｉｒｉｔｓｋｉｉ、Ｖ．Ｏ．Ｒｅｉｋｈｓ
ｆｅｌ’ｄ、Ｚｈ．Ｏｂｓｈｃｈ．Ｋｈｉｍ．、Ｖｏ
ｌ．５５、１５３７（１９８５）。また、９０〜１００
％の収率は、フッ素イオン触媒を使用するｎ−ブチルジ
メチルシリルニトリル、ｔ−ブチルジメチルシリルニト
リル、およびフェニルジメチルシリルニトリルの合成か
ら観察された。Ｒａｓｍｕｓｓｅｎら、ｐ．７１。これ
らの反応は次の平衡を含む：

【０００８】

【化２】

【０００９】トリメチルクロロシランをそれが生成する
とき蒸留することによって、高い収率は一般に得られ
た。Ｒａｓｍｕｓｓｅｎら、ｐ．７１。生成するトリア
ルキルシリルニトリルの各モルについて、１モルの塩化
トリメチルシリルが副生物として生成することに注意す
べきである。

【００１０】トリメチルシリルニトリルの定量的収率
は、クロロトリメチルシランおよびシアン化カリウムの
等モル混合物から観察された。Ｆ．Ｄｕｂｏｕｄｉｎ、
Ｐ．Ｃａｚｅａｕ、Ｆ．Ｍｏｕｌｉｎｅｓ、Ｏ．Ｌａｐ
ｏｒｔｅ、″シリル化シアノヒドリンの新規なワンポッ
ト合成″、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、Ｍａｒｃｈ、２１２
（１９８２）。７１％の収率は、また、同一反応につい
て観察されたが、著者らはガラス器および溶媒の慎重な
乾燥を実施しなかったと述べている。Ｊ．Ｋ．Ｒａｓｍ
ｕｓｓｅｎ、Ｓ．Ｍ．Ｈｅｉｌｍａｎｎ、″シアン化ト
リメチルシリルの簡単な、安全なおよび安価な製造″、
Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、Ｊｕｌｙ、５２３（１９７９）。
しかしながら、この方法はトリアルキルシリルニトリル
の１モル当たり１モルの塩化カリウムが副生物として発
生する。さらに、ＲａｓｍｕｓｓｅｎおよびＨｅｉｌｍ
ａｎｎは無水Ｎ−メチルピロリドンを溶媒として使用す
ることを報告しており、この溶媒は高価でありそして再
循環が困難である。

【００１１】シアン化水素の使用は、Ｂ．Ｕｚｎａｎｓ
ｋｉ、″シアン化トリメチルシリルの改良された製
造″、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、Ｏｃｏｂｅｒ、１５４（１
９７８）。Ｕｚｎａｎｓｋｉによると、シアン化トリメ
チルシリルをジエチルエーテル中の２５モル％過剰のシ
アン化水素およびトリエチルアミンと反応させて、トリ
アルキルシリルニトリルの７０％の収率が得られる。Ｕ
ｚｎａｎｓｋｉの方法は、中程度のみの収率を生成し、
そして等モル量のトリエチルアミン塩酸塩を副生物とし
て発生する。

【００１２】シアン化物を含むこの技術の現在の水準
は、米国特許第４，４２９，１４５号（Ｍ．Ｔ．Ｒｅｅ
ｔｚ）に記載されている。この米国特許の方法はシアン
化カリウムを使用する。この米国特許の方法は、溶媒と
して無水Ｎ−メチルピロリドンおよび触媒として１０モ
ル％のヨウ化カリウムを使用する。両者の化学物質は高
価でありそして再循環が困難である。

【００１３】トリアルキルシリルニトリルは、化学量論
的量のハロゲン化トリアルキルシリル、ヘキサアルキル
ジシラザンまたはトリアルキルシリルアミン、およびシ
アン化水素を、溶媒または不活性ガスの雰囲気の不存在
下または存在下に無水的に反応させることによって製造
される。

【００１４】本発明の方法によれば、トリアルキルシリ
ルニトリルは下記の反応式により表すことができる２つ
の別の反応（ＩおよびＩＩ）により製造される：

【００１５】

【化３】

【００１６】反応式ＩまたはＩＩに従う試薬は、好まし
くは、化学量論的量で反応させる。こうして、反応式Ｉ
に従い、好ましいモル比は次の通りである：ハロゲン化
トリアルキルシリル／シアン化水素は１：３である；ヘ
キサアルキルジシラザン／シアン化水素は１：３であ
る；そしてハロゲン化トリアルキルシリル／ヘキサアル
キルジシラザンは１：１である。反応式ＩＩに従うと、
好ましいモル比は次の通りである：ハロゲン化トリアル
キルシリル／シアン化水素は１：２である；ハロゲン化
トリアルキルシリル／トリアルキルシリルアミンは１：
１である；そしてトリアルキルシリルアミン／シアン化
水素は１：２である。反応成分の化学量論的量は、精製
および安全性に関する困難を最小とするために好まし
い。５重量％までのハロゲン化トリアルキルシリルのわ
ずかに過剰量は許容されるであろうが、過剰のシアン化
水素は一般に回避すべきである。好ましいモル比を±
０．２の限界内に維持する場合、反応成分は実質的に好
ましいモル比の範囲内にあるであろう。

【００１７】本発明によれば、置換基（Ｒ₁、Ｒ₂、
Ｒ₃）は次の通りであることができる： （Ａ）Ｒ₁＝Ｒ₂＝Ｒ₃＝Ｃ_１−Ｃ_６アルキル基； （Ｂ）Ｒ₁＝ｔ−ブチルかつＲ₂＝Ｒ₃＝Ｃ_１−Ｃ_６アル
キル基；そして （Ｃ）Ｒ₁＝アリール基かつＲ₂＝Ｒ₃＝Ｃ_１−Ｃ_６アル
キル基。

【００１８】置換基の各組み合わせ（Ａ）〜（Ｃ）につ
いて、ＸはＣｌ、ＢｒまたはＩであることができる。さ
らに、各組み合わせについて、Ｃ_１−Ｃ_６アルキル基は
分枝鎖状、直鎖状、飽和、不飽和、置換されたまたは環
状の基であることができ、例えば、イソプロピル、イソ
ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ネオペンチル、ｎ−
ヘキシルなどの基である。アリール基は、フェニル、ベ
ンジル、ナフチル、フェナントリル、アントラニルなど
の基を包含し、そして一般に３つまでの環を含むことが
できる。さらに、このようなアリール基はハロ、アルキ
ル、アラルキル、アリール、アルコキシ、シアノ、エー
テルなどの基を包含する１または２以上の置換基を有す
ることができる。

【００１９】本発明の方法を使用することによって、副
生物としての塩の形成はトリアルキルシリルニトリルの
１モル当たり１モルからトリアルキルシリルニトリルの
３モル当たり１モルに減少することができることに注意
すべきである。また、触媒、例えば、アルカリヨウ化物
またはイオン交換樹脂はもはや不必要である。

【００２０】空間収率は溶媒不含方法により実質的に改
良ことができ、そして生成物は蒸留を使用してあるいは
使用しないで高い純度で得ることができる。毒性生成物
の取り扱いを制限しかつ収率および純度を最大するため
に、溶媒の不存在は好ましい。溶媒を使用する場合、溶
媒、例えば、ヘキサン、オクタン、トルエン、クロロカ
ーボンなどは好ましい。この反応は、水が生成物を分解
するので、実質的に無水条件下に実施しなくてはならな
い。こうして、反応器および試薬の両者は開始前に注意
して乾燥すべきである。反応器が１，０００ｐｐｍより
少ない水を含有する場合、反応条件は実質的に無水であ
る。

【００２１】反応式ＩまたはＩＩに従う反応は、０℃〜
６０℃、好ましくは５℃〜２５℃の示唆する範囲内の温
度において実施すべきである。この反応は０℃より低い
か、あるいは６０℃を越える温度において実施すること
ができるが、そのように実施するとき利点は得られな
い。さらに、異なる反応成分を使用する場合あるいは反
応を圧力下に実施する場合、示唆した範囲はまた有用で
ある。

【００２２】不活性ガスの雰囲気は適用することができ
るが、必要ではない。不活性ガスを使用する場合、好ま
しいガスはコストおよび入手可能性のために窒素であ
る。他の不活性ガス、例えば、ヘリウムおよびアルゴン
をまた使用することができる。不活性ガスのわずかの正
圧は不活性雰囲気を維持するために十分である。

【００２３】最初に、乾燥した反応器にハロゲン化トリ
アルキルシリルおよびヘキサアルキルジシラザン（反応
式Ｉ）またはトリアルキルシリルアミン（反応式ＩＩ）
を供給し、そして混合物を撹拌することは有利である。
また、シアン化水素をこの混合物を５℃の温度において
することは有利である。シアン化水素を添加していると
き、反応混合物を徐々に１５℃まで加温することが好ま
しい。シアン化水素の添加が終わった後、トリアルキル
シリルニトリルへの完全な変換は２０℃においてほぼ１
〜３６時間で完結することができる。

【００２４】この方法により得られるトリアルキルシリ
ルニトリルは、ハロゲン化アンモニウムの副生物からの
濾過により精製することができる。ハロゲン化アンモニ
ウムは任意の無水溶媒で洗浄して、副生物の中に残留す
る微量のトリアルキルシリルニトリルを回収することが
できる。本発明により得られるトリアルキルシリルニト
リルの収率は理論値の９０％を越える。得られるトリア
ルキルシリルニトリルの純度は、ガスクロマトグラフィ
ーの分析により決定して９７％より大きい。

【００２５】シアン化水素の発生を回避するために、ト
リアルキルシリルニトリル生成物はヒドロキシル溶媒の
湿気と接触させるべきではない。ハロゲン化アンモニウ
ム副生物は、少量のシアン化物を含有すると考えられ、
そしてそれに応じて取り扱わなくてはならない。

【００２６】

【実施例】次の実施例によって本発明をさらに説明す
る。

【００２７】実施例１ トリメチルシリルニトリルの製造 １８０ｇ（１．６６モル）の塩化トリメチルシリルおよ
び２６９ｇ（１．６６モル）のヘキサメチルジシラザン
を乾燥した反応器に乾燥窒素の雰囲気下に添加し、そし
て撹拌した。次いで反応器を５℃の温度に冷却し、そし
て１３５ｇ（５．００モル）のシアン化水素を０．５時
間かけて供給した。シアン化水素の添加の間に、反応混
合物を１５℃の温度まで加温させた。シアン化水素の添
加後、反応混合物をほぼ２０℃の温度において１時間撹
拌した。トリメチルシリルニトリルを窒素雰囲気下に塩
化アンモニウムの白色沈澱から濾過した。塩化アンモニ
ウムをヘキサン（４×２５０ｍｌ）で洗浄して、副生物
とともに残る残留トリメチルシリルニトリルを得た。溶
媒を蒸留により除去し、そして４４８ｇのトリメチルシ
リルニトリルが淡黄色残留物として単離された。合計の
収率は理論値の９８．２％の純粋な生成物であった。

【００２８】実施例２ フェニルジメチルシリルニトリルの製造 ５６．８ｇ（０．３３モル）のフェニルジメチルクロロ
シランおよび９５．０ｇ（０．３３モル）の１，３−ジ
フェニルテトラメチルシラザンを乾燥反応器に乾燥窒素
雰囲気下に添加し、撹拌しそして５℃の温度に冷却し
た。次いで２７ｇ（１．００モル）のシアン化水素を反
応混合物に０．２５時間かけて添加し、その間反応混合
物を２０℃の温度まで加温させた。シアン化水素を完全
に添加した後、反応混合物を２０℃において２４時間撹
拌した。塩化アンモニウムの沈澱を濾過により除去し、
そしてヘキサン（２×１００ｍｌ）で洗浄した。溶媒を
濾過により除去し、そして合計１３７ｇの量のフェニル
ジメチルシリルニトリルが淡黄色液体として得られた。
収率は理論値の８５．１％の生成物であり、この生成物
は少量の出発クロロシランおよびジシラザンで汚染され
ていた。

【００２９】実施例３ ｔ−ブチルジメチルシリルニトリル 乾燥窒素の雰囲気を有する乾燥反応器に、溶媒として１
００ｍｌのペンタン、３７．６ｇ（０．２５モル）の塩
化ｔ−ブチルジメチルシリルおよび３２．７ｇ（０．２
５モル）のｔ−ブチルジメチルシリルアミンを供給し
た。この反応器を５℃の温度に冷却した。次いで１３．
５ｇ（０．５０モル）のシアン化水素を０．２５時間か
けて添加し、その間に反応混合物を２０℃の温度に加温
させた。シアン化水素の添加後、反応混合物２０℃にお
いて１２時間撹拌した。塩化アンモニウムの沈澱を反応
混合物から窒素雰囲気下に濾過した。次いで、除去した
塩化アンモニウムをペンタン（２×１００ｍｌ）で洗浄
した。合計６１ｇのｔ−ブチルジメチルシリルニトリル
が得られ、これは理論値の８６．５％の生成物であり、
この生成物は少量の出発クロロシランで汚染されてい
た。

【００３０】実施例４ ｔ−ブチルジフェニルシリルニトリルの製造 乾燥した反応器に前以て供給した２５．７ｇ（０．１０
モル）の塩化ｔ−ブチルジフェニルシリル、２５．５ｇ
（０．１０モル）のｔ−ブチルジフェニルシリルアミン
および溶媒として５０ｍｌのトルエンの撹拌した混合物
に、５．４ｇ（０．２０モル）のシアン化水素を０．２
５時間かけて添加し、そして５℃の温度に冷却した。添
加の間に、反応混合物を２０℃の温度まで加温させ、そ
の間塩化アンモニウムの白色固体が沈澱した。シアン化
水素の完全な添加後、反応混合物を２０℃において撹拌
し、窒素雰囲気下に濾過し、そして塩化アンモニウムの
ケークをトルエン（２×５０ｍｌ）で洗浄した。一緒に
した濾液を蒸留して溶媒を除去し、そして４５ｇのｔ−
ブチルジフェニルシリルニトリル（理論値の８５％）が
無色の油（沸点１５０〜１５１℃／３ｍｍＨｇ）として
単離された。

【００３１】実施例５ トリ−ｎ−ヘキシルシリルニトリルの製造 乾燥した反応器に前以て供給した１６．０ｇ（０．０５
モル）の塩化トリ−ｎ−ヘキシルおよび１５．０ｇ
（０．０５モル）のトリ−ｎ−ヘキシルシリルアミンの
撹拌した混合物に、２．７ｇ（０．１０モル）のシアン
化水素を０．２５時間かけて添加し、そして５℃に冷却
した。添加の間に、反応混合物を２０℃の温度に加温さ
せ、塩化アンモニウムの白色固体が沈澱する。シアン化
水素の完全な添加後、反応混合物を２０℃において２４
時間撹拌した。次いで反応混合物を窒素雰囲気下に濾過
し、そして塩化アンモニウムのケークをジエチルエーテ
ル（２×２５ｍｌ）で洗浄した。一緒にした濾液を蒸留
して溶媒を除去し、そして２５ｇのトリ−ｎ−ヘキシル
シリルニトリル（理論値の８１％）が無色の油（沸点１
４９〜１５１℃／０．２ｍｍＨｇ）として単離された。

【００３２】本発明の主な特徴および態様は、次の通り
である。

【００３３】１．ハロゲン化トリアルキルシリル／ヘキ
サアルキルジシラザン／シアン化水素のモル比が実質的
に１：１：３である、実質的に無水条件下に、ハロゲン
化トリアルキルシリルおよびヘキサアルキルジシラザン
をシアン化水素と反応させることからなる、トリアルキ
ルシリルニトリルを製造する方法。

【００３４】２．ハロゲン化トリアルキルシリル／トリ
アルキルシリルアミン／シアン化水素のモル比が実質的
に１：１：２である、実質的に無水条件下に、ハロゲン
化トリアルキルシリルおよびトリアルキルシリルアミン
をシアン化水素と反応させることからなる、トリアルキ
ルシリルニトリルを製造する方法。

【００３５】３．反応を０℃〜６０℃の温度範囲内で実
施する、上記第１項記載の方法。

【００３６】４．反応を０℃〜６０℃の温度範囲内で実
施する、上記第２項記載の方法。

【００３７】５．反応を５℃〜２５℃の温度範囲内で実
施する、上記第１項記載の方法。

【００３８】６．反応を５℃〜２５℃の温度範囲内で実
施する、上記第２項記載の方法。

【００３９】７．反応を溶媒中で実施する上記第１項記
載の方法。

【００４０】８．反応を溶媒中で実施する上記第２項記
載の方法。

【００４１】９．溶媒がペンタンである、上記第７項記
載の方法。

【００４２】１０．溶媒がペンタンである、上記第８項
記載の方法。

【００４３】１１．反応を不活性雰囲気下に実施する、
上記第１項記載の方法。

【００４４】１２．反応を不活性雰囲気下に実施する、
上記第２項記載の方法。

【００４５】１３．実質的に無水条件下に、（Ｒ₁）
（Ｒ₂）₂Ｓｉ−Ｘおよび（Ｒ₁）（Ｒ₂）₂Ｓｉ−ＮＨ−
Ｓｉ（Ｒ₁）（Ｒ₂）₂（式中、ＸはＣｌ、ＢｒまたはＩ
であり、そしてＲ₁はｔ−ブチルまたはアリール基であ
り、そしてＲ₂はＣ_１−Ｃ_６アルキル基である）をシア
ン化水素と反応させることからなる、（Ｒ₁）（Ｒ₂）₂
Ｓｉ−ＣＮを製造する方法。

【００４６】１４．実質的に無水条件下に、（Ｒ₁）
（Ｒ₂）₂Ｓｉ−Ｘおよび（Ｒ₁）（Ｒ₂）₂Ｓｉ−ＮＨ
₂（式中、ＸはＣｌ、ＢｒまたはＩであり、そしてＲ₁は
ｔ−ブチルまたはアリール基であり、そしてＲ₂はＣ_１
−Ｃ_６アルキル基である）をシアン化水素と反応させる
ことからなる、（Ｒ₁）（Ｒ₂）₂Ｓｉ−ＣＮを製造する
方法。

【００４７】１５．実質的に無水条件下に、（Ｒ）₃Ｓ
ｉ−Ｘおよび（Ｒ）₃Ｓｉ−ＮＨ−（Ｒ）₃（式中、Ｘは
Ｃｌ、ＢｒまたはＩであり、そしてＲはＣ_１−Ｃ_６アル
キル基である）をシアン化水素と反応させることからな
る、（Ｒ）₃Ｓｉ−ＣＮを製造する方法。

【００４８】１６．実質的に無水条件下に、（Ｒ）₃Ｓ
ｉ−Ｘおよび（Ｒ）₃Ｓｉ−ＮＨ₂（式中、ＸはＣｌ、Ｂ
ｒまたはＩであり、そしてＲはＣ_１−Ｃ_６アルキル基で
ある）をシアン化水素と反応させることからなる、
（Ｒ）₃Ｓｉ−ＣＮを製造する方法。

【００４９】１７．Ｒがメチル基であり、そしてＸがＣ
ｌである、上記第１５項記載の方法。

【００５０】１８．Ｒ₁がフェニル基であり、Ｒ₂がメチ
ル基であり、そしてＸがＣｌである、上記第１３項記載
の方法。

【００５１】１９．Ｒ₁がｔ−ブチル基であり、Ｒ₂がメ
チル基であり、そしてＸがＣｌである、上記第１４項記
載の方法。

【００５２】２０．シアン化水素、（Ｒ₁）（Ｒ₂）₂Ｓ
ｉ−Ｘおよび（Ｒ₁）（Ｒ₂）₂Ｓｉ−ＮＨ−Ｓｉ（Ｒ₁）
（Ｒ₂）₂または（Ｒ₁）（Ｒ₂）₂Ｓｉ−ＮＨ₂（式中、Ｘ
はＣｌ、ＢｒまたはＩであり、そしてＲ₁はｔ−ブチル
またはアリール基であり、そしてＲ₂はＣ_１−Ｃ_６アル
キル基である）からなる（Ｒ₁）（Ｒ₂）₂Ｓｉ−ＣＮを
製造するための実質的に無水の反応混合物。

【００５３】２１．シアン化水素、（Ｒ）₃Ｓｉ−Ｘお
よび（Ｒ）₃Ｓｉ−ＮＨ−（Ｒ）₃または（Ｒ）₃Ｓｉ−
ＮＨ₂（式中、ＸはＣｌ、ＢｒまたはＩであり、そして
ＲはＣ_１−Ｃ_６アルキル基である）からなる（Ｒ）₃Ｓ
ｉ−ＣＮを製造するための実質的に無水の反応混合物。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 トーマス・ブイ・ジヨン アメリカ合衆国ペンシルベニア州19067ヤ ードレイ・ウオードドライブ1207 (72)発明者 ラム・アール・チヤウラ アメリカ合衆国ペンシルベニア州19020ベ ンサレム・ワシントンレイン6218 (72)発明者 チトウール・エス・スブラマニアム アメリカ合衆国ニユージヤージイ州08824 ケンドールパーク・ウイーラーロード13

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ハロゲン化トリアルキルシリル／ヘキサ
   アルキルジシラザン／シアン化水素のモル比が実質的に
   １：１：３である、実質的に無水条件下に、ハロゲン化
   トリアルキルシリルおよびヘキサアルキルジシラザンを
   シアン化水素と反応させることからなる、トリアルキル
   シリルニトリルを製造する方法。
2. 【請求項２】 ハロゲン化トリアルキルシリル／トリア
   ルキルシリルアミン／シアン化水素のモル比が実質的に
   １：１：２である、実質的に無水条件下に、ハロゲン化
   トリアルキルシリルおよびトリアルキルシリルアミンを
   シアン化水素と反応させることからなる、トリアルキル
   シリルニトリルを製造する方法。
3. 【請求項３】 実質的に無水条件下に、（Ｒ₁）（Ｒ₂）
   ₂Ｓｉ−Ｘおよび（Ｒ₁）（Ｒ₂）₂Ｓｉ−ＮＨ−Ｓｉ（Ｒ
   ₁）（Ｒ₂）₂（式中、ＸはＣｌ、ＢｒまたはＩであり、
   そしてＲ₁はｔ−ブチルまたはアリール基であり、そし
   てＲ₂はＣ_１−Ｃ_６アルキル基である）をシアン化水素
   と反応させることからなる、（Ｒ₁）（Ｒ₂）₂Ｓｉ−Ｃ
   Ｎを製造する方法。
4. 【請求項４】 実質的に無水条件下に、（Ｒ₁）（Ｒ₂）
   ₂Ｓｉ−Ｘおよび（Ｒ₁）（Ｒ₂）₂Ｓｉ−ＮＨ₂（式中、
   ＸはＣｌ、ＢｒまたはＩであり、そしてＲ₁はｔ−ブチ
   ルまたはアリール基であり、そしてＲ₂はＣ_１−Ｃ_６ア
   ルキル基である）をシアン化水素と反応させることから
   なる、（Ｒ₁）（Ｒ₂）₂Ｓｉ−ＣＮを製造する方法。
5. 【請求項５】 実質的に無水条件下に、（Ｒ）₃Ｓｉ−
   Ｘおよび（Ｒ）₃Ｓｉ−ＮＨ−（Ｒ）₃（式中、ＸはＣ
   ｌ、ＢｒまたはＩであり、そしてＲはＣ_１−Ｃ_６アルキ
   ル基である）をシアン化水素と反応させることからな
   る、（Ｒ）₃Ｓｉ−ＣＮを製造する方法。
6. 【請求項６】 実質的に無水条件下に、（Ｒ）₃Ｓｉ−
   Ｘおよび（Ｒ）₃Ｓｉ−ＮＨ₂（式中、ＸはＣｌ、Ｂｒま
   たはＩであり、そしてＲはＣ_１−Ｃ_６アルキル基であ
   る）をシアン化水素と反応させることからなる、（Ｒ）
   ₃Ｓｉ−ＣＮを製造する方法。
7. 【請求項７】 シアン化水素、（Ｒ₁）（Ｒ₂）₂Ｓｉ−
   Ｘおよび（Ｒ₁）（Ｒ₂）₂Ｓｉ−ＮＨ−Ｓｉ（Ｒ₁）（Ｒ
   ₂）₂または（Ｒ₁）（Ｒ₂）₂Ｓｉ−ＮＨ₂（式中、ＸはＣ
   ｌ、ＢｒまたはＩであり、そしてＲ₁はｔ−ブチルまた
   はアリール基であり、そしてＲ₂はＣ_１−Ｃ_６アルキル
   基である）からなる（Ｒ₁）（Ｒ₂）₂Ｓｉ−ＣＮを製造
   するための実質的に無水の反応混合物。
8. 【請求項８】 シアン化水素、（Ｒ）₃Ｓｉ−Ｘおよび
   （Ｒ）₃Ｓｉ−ＮＨ−（Ｒ）₃または（Ｒ）₃Ｓｉ−ＮＨ₂
   （式中、ＸはＣｌ、ＢｒまたはＩであり、そしてＲはＣ
   _１−Ｃ_６アルキル基である）からなる（Ｒ）₃Ｓｉ−Ｃ
   Ｎを製造するための実質的に無水の反応混合物。