JPH0210837B2 - - Google Patents

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JPH0210837B2
JPH0210837B2 JP56167304A JP16730481A JPH0210837B2 JP H0210837 B2 JPH0210837 B2 JP H0210837B2 JP 56167304 A JP56167304 A JP 56167304A JP 16730481 A JP16730481 A JP 16730481A JP H0210837 B2 JPH0210837 B2 JP H0210837B2
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JP
Japan
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reaction
formula
group
carbon atoms
carried out
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JP56167304A
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Kaaru Arufuonsu
Buudaa Uorufugangu
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Evonik Operations GmbH
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Degussa GmbH
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Publication date
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Publication of JPH0210837B2 publication Critical patent/JPH0210837B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/38Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
    • C08G77/382Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon
    • C08G77/388Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon containing nitrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/0834Compounds having one or more O-Si linkage
    • C07F7/0838Compounds with one or more Si-O-Si sequences
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C07F7/1804Compounds having Si-O-C linkages
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/22Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
    • C08G77/26Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen nitrogen-containing groups

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
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  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 炭素鎖を有する中間員を介して珪素原子に結合
された官能性アジド基を有するシランはすでに公
知である。すなわちこのようなシランはシリルア
ジドホルメエート: (米国特許第3705911号及び同第3697551号明細
書、英国特許第1377214号明細書)及びシリルス
ルホン酸アジド N3―SO2―R―SiR1 o(OR23-o (米国特許第3705911号及び同第3697551号明細
書、英国特許第1516193号明細書)のグループで
ある。また式: で示されるシリルカルバミン酸アミドもすでに提
案された。
これらのアジドシランはその二官能性(珪素原
子にアルコキシ基を有し、中間員にアジド基を有
する)の故に有機ポリマーと無機基材との間の所
謂付着促進剤として適当である。しかしこれらの
アジドシランの広範な使用は、比較的高い製造コ
スト、部分的にはまた低い熱安定性及び加水分解
感受性のために妨げられている ところで、より簡単な構造の有機珪素化合物、
特にアジドアルキルシラン及びアジドアルカリル
コキシシラン及びそれらの加水分解生成物、及び
式で示されるこれらの新規化合物のグループ: 〔式中Rは、炭素原子1〜8個を有しかつエチレ
ン系不飽和結合を含まない2価の炭化水素残基、
炭素原子1〜8個を有しかつ―O―,―S―又は
―NR3―(R3=水素、メチル基、エチル基又は
フエニル基)の一つによつて中断されている炭素
鎖を有する2価の炭化水素残基を表わし、R1
最高3個までの炭素原子を有する1価のアルキル
基、フエニル基、ベンジル基又はトルイル基を表
わし、R2は最高4個までの炭素原子を有するア
ルキル基、フエニル基、ベンジル基又は合計最高
4個までの炭素原子を有するアルコキシアルキル
基を表わし、mは0,1又は2である〕の極めて
簡素で、好収率で順調に進行する経済的な製造方
法が見出された。
該方法は、式: X―R―SiR1 o(OR23-o 〔式中R、R1、R2及びnは前記のものを表わし、
Xは塩素又は臭素を表わす〕で示されるハロゲン
シランと式: MN3 〔式中Mはリチウム、ナトリウム、カリウム又は
アンモニウムを表わす〕で示されるアジ化物と
を、場合によつては相転移触媒の使用下に、場合
によつては圧力下にモル比1:1〜1:1.5で反
応させることを特徴としている。逆の反応順序も
可能であり、従つて先づハロゲンシランのアルコ
キシ基―OR2の加水分解(部分加水分解)を行な
い、次に前記式のアジ化物との反応を実施する
こともできる。前記ハロゲンシランのうち、nは
0であり、Rが炭素原子1〜4個を有する2価の
脂肪族炭化水素残基を表わすようなハロゲンシラ
ンが好ましい。
本発明によるシランの代表的例は以下の通りで
ある:アジドメチルトリエトキシシラン、2―ア
ジドエチルトリメトキシシラン、2―アジドエチ
ルトリエトキシシラン、3―アジドプロピルトリ
メトキシシラン、3―アジドプロピルトリエトキ
シシラン、3―アジドプロピルトリス(メトキシ
エトキシ)シラン、3―アジドプロピルメチルジ
エトキシシラン、p―アジドメチルフエニルトリ
メトキシシラン、4―アジドブチルトリ―n―ブ
トキシシラン、5―アジドペンチルジメトキシフ
エニルシラン、6―アジドヘキシルジエトキシベ
ンジルシラン、7―アジドヘプチルメトキシジメ
チルシラン、8―アジドオクチルエトキシジエチ
ルシラン、3―アジドプロピルジエトキシトルイ
ルイラン、2―アジド―1―プロピルジエトキシ
フエニルシラン、2―アジド―1―プロピルジメ
トキシベンジルオキシシラン、3―アジドプロピ
ルジエトキシベンジルオキシシラン、3―アジド
プロピルジエトキシフエニルオキシシラン、3―
アジドプロピルトリス(メトキシエトキシ)シラ
ン、3―アジドプロピルトリス(エトキシエトキ
シ)シラン及び3―アジドプロピルトリス(メト
キシプロポキシ)シラン。
Rが中断された炭素鎖を有する2価の炭化水素
残基を表わす場合、Rは以下の構造を有する:―
CH2―S―CH2―;―CH2―O―CH2―;―CH2
―NH―CH2―;―CH2―S―CH2CH2―;―
CH2―O―CH2CH2―;―CH2―NH―CH2CH2
―;―CH2CH2―S―CH2CH2―;―CH2CH2
O―CH2CH2―;―CH2CH2―NH―CH2CH2
―;―CH2CH2CH2―O―CH2CH2―;―
CH2CH2CH2―NH―CH2CH2―;―
CH2CH2CH2―S―CH2CH2―;―
CH2CH2CH2CH2―O―CH2CH2―;―
CH2CH2CH2CH2―NH―CH2CH2―;―
CH2CH2CH2CH2CH2―S―CH2CH2―;―
CH2CH2CH2CH2CH2―O―CH2CH2―;―
CH2CH2CH2CH2CH2―NH―CH2CH2―;―
(CH23―N(CH3)―(CH23―;―CH2CH
(CH3)―N(CH3)―CH3CH(CH3)―;―
(CH24―N(C2H5)―(CH24―;―(CH24
N(C6H5)―(CH24―。
式のハロゲンオルガニルアルコキシシランと
アルカリ金属アジ化物又はアンモニウムアジ化物
との反応は、場合によつては、好ましくは式の
アジ化物に対して0.1〜1.2mol%の量の好ましく
は固―液・相転移触媒の存在で実施する。当該反
応は次の方程式により進行する: (R2O)3-oR1 oSi−R−X+MN3→ (R2O)3-oR1 oSi−R−N3+MX 方程式中の記号は前記のものを表わす。反応実
施のためには必ずしも触媒の使用は必要ではな
い。すなわち、アジ化リチウムとの反応に関して
は触媒を要しない。これに対してブロムアルコキ
シシランとアジ化ナトリウムとの反応の場合には
同反応は触媒によつて加速される。相応の塩素置
換化合物とアジ化ナトリウムとの反応については
触媒の使用が必要である。触媒としては自体公知
の相転移触媒を使用する〔例えばE.V.デームロ
ウ(Dehmlow):“フオルトシユリツテ・デル・
フアーゼントランスフアー―カタリーゼ
(Fortschritte der phasentransfer―
Katalyse)”、Angew.Chem.89,521〜533(1977)
参照〕。そのうち特に、窒素原子に存在する有機
基、例えばアルキル基を有する第四級アンモニウ
ム塩のようなオニウム塩及びそれらの混合物が適
当である。またホスホニウム塩、アルソニウム塩
及びそれらの混合物も適当である。またクラウン
エーテルも適当な触媒である。相転移触媒につい
てはこれに関する文献、例えばE.V.デームロ
ウ/S.S.デームロウの著書“フエイス・トランス
フアー・カタリシス(Phase transfer
catalysis)”が参照される。クラウンエーテル
〔シンセシス(SYNTHESIS)1976,168〜184頁
参照〕は一般に例えば第四級アンモニウム化合物
よりも多量に必要である。最高約10mol%の量の
クラウンエーテルも異例ではない。
反応は、反応成分の少なくとも一方が反応温度
又は好ましくは室温で液状である限り、直接反応
成分で実施することができる。この際一般には約
80℃、好ましくは100℃乃至約180℃、好ましくは
150℃の温度が必要である。
しかし反応を、反応成分を少くとも部分的に溶
解することのできる好ましくは有機液体の存在で
実施するのが有利である。一般に溶剤又は希釈剤
と称されるこの種の液体は、例えばアルコール、
特に低級脂肪族アルコール、すなわちメタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、n―プロパ
ノール、ブタノールのような一価アルコール及び
相応の高級アルコール、更にジメチルケトン、ジ
エチルケトン、メチルエチルケトンのようなケト
ン及び他の自体公知の高級ケトンならびに例えば
ジオキサン及びテトラヒドロフランのような環状
ケトン、更に塩化炭化水素、例えば1,2―ジク
ロルエタン、テトラクロルエタン、トリクロルエ
チレン、クロロホルム、テトラクロルエチレン、
ジクロルベンゾール、テトラクロルベンゾール、
ヘキサクロルベンゾール、更に脂肪族ニトロ化合
物(ニトロアルカン)、例えばニトロメタン、ニ
トロエタン、ニトロプロパン及びこの種の高級ニ
トロ化合物、更にジメチルホルムアミド、ジエチ
ルホルムアミド及び液状アルキルシアン化物、例
えばアセトニトリル、プロピオニトリル及び相応
の高級シアン化物である。有機液体(溶剤)の存
在での反応温度は、ほぼ室温又は好ましくは稍々
高い温度の約25℃と溶剤又は反応混合物の沸点と
の間にある。
圧力下での反応実施は一般には必要ではない
が、例えばエタノール中でクロルオルガニルアル
コキシシランとアジ化ナトリウムを反応させる場
合には有利であることもあり、この際好ましくは
約110〜130℃での溶剤の自己圧で操作される。
式の出発物質と式の出発物質とのモル比は
1:1〜1:1.5、好ましくは1:1.2である。特
に反応は、例えばアジ化ナトリウムについてのよ
うにアジ化物の10%過剰で実施される。アジドシ
ランの収率は、実施例の示すように著しく高い、
つまり同収率は使用された反応成分の反応性に応
じて(非過剰成分の重量に対して)最高95%であ
る。
新規アジドシランは腐敗臭を有する無色の蒸留
可能液体である。同シランは衝撃又は衝突感受性
を有しない。また同シランはそのアジド基が加水
分解に安定であるという利点も有する。従つて同
シランから加水分解により、例えばアルコキシシ
リル基の部分加水分解によるようにシロキサンの
形の加水分解生成物が製造されうるが、アジド基
は脱離されない。この際安定なSi―O―Si結合が
形成され、分子の外側に存在する2個のアジド基
が次の反応のために利用されうる。例えば前記ア
ジド基は熱的又は光化学的窒素脱離下にニトレン
中間段階を経て共有結合を形成し、例えば有機ポ
リマーになる。
前記加水分解は完全でなくてもよいので、また
部分加水分解生成物も生じる。この部分加水分解
生成物は特に、シランが分子中に数個のアルコキ
シシリル基を有する場合に生じる。
また新規有機珪素化合物は、アルコキシ基を有
する中間生成物として縮合反応の能力もある。加
水分解ならびに縮合反応は自体公知の方法により
実施される。これらの反応は例えば低揮発性又は
高沸点を有する高分子化合物を生成する。
またアジド基を有する新規有機珪素化合物は、
熱的に極めて安定であるという他の利点も有す
る。すなわち例えばアジドプロピルトリエトキシ
シランは185℃以上で初めて窒素発生下に徐々に
分解する。一般式R―CO―N3の公知酸アジ化物
は、還流下の操作の際ベンゾール溶液中での加熱
時にすでに分解する。アジドシラン及びシロキサ
ンは前記製造方法により使用され易い有機珪素化
合物になつた。
次に実施例により本発明を説明するが、本発明
はこれら実施例に限定されるものではない。例中
元素分析値及び収率は常に重量%で記載し、元素
分析の計算値は括経内に付記してある。
例 1 別種の方法による3―アジドプロピルトリエト
キシシランの製法 (a) 3―クロルプロピルトリエトキシシラン
(C1―PTES)1.0mol及びアジ化ナトリウム
1.1molを、還流冷却器及び磁気撹拌機を有す
る500ml容ガラス製三頚フラスコ中でトリス
(n―C8―ビス―C10―アルキル)メチルアンモ
ニウムクロリドの混合物を基剤とする触媒
5mol%の存在で撹拌下に3時間140℃に加熱す
る。引続き実施された減圧下での精留は、3―
アジドプロピルトリエトキシシラン(N3
PTES)を収率95重量%で与えた。N3―PTES
は次の特性値を有していた: 沸点:0.9ミリバールの低圧で76〜78℃ ν(N3)=2095cm-1 (ν(N3)は赤外線スペクトル中のアジド基の
原子価振動を表わす) 元素分析は重量%で次の値を与えた: C:43.93(43.70)、H:8.75(8.56)、N:
16.68(16.99) 計算値は括弧内に付記してある。
(b) アセトニトリル500ml中のC1―PTES1.0mol
及びアジ化ナトリウム1.1molを(a)と同じ触媒
3mol%の存在で撹拌及び還流下に7時間加熱
した。沈殿した塩を分離した。次の減圧下での
蒸留は今度は収率92重量%でN3―PTESを与
えた。
(c)〜(h) 次の製造方法を(b)と同様にして実施した
が、異なるのはその都度溶剤としてエタノー
ル、ジオキサン、アセトン、1,2―ジクロル
エタン、ニトロエタン及びジメチルホルムアミ
ドを使用した点である。エタノール中での反応
はオートクレーブで130℃で実施した。またジ
オキサン、アセトン、1,2―ジクロルエタン
及びニトロメタン中での反応は反応混合物の沸
点で実施し、更にジメチルホルムアミド中での
反応は140℃で実施した。N3―PTESの収率は
それぞれ約80〜95重量%の間にあつた。
(i) エタノール500ml中のCl―PTES1.0mol及び
アジ化リチウム1.2molを撹拌及び還流下に12
時間加熱した。塩の分離後に続く減圧下での蒸
留はN3―PTESを収率73重量%で与えた。
(j) 3―ブロムプロピルトリエトキシシラン
1.0mol及びアジ化ナトリウム1.1molを(a)で記
載した触媒3mol%の存在でエタノール500ml中
で撹拌及び還流下に8時間加熱した。沈殿した
塩の分離後に続く減圧下での蒸留はN3
PTESを収率89重量%で与えた。
例 2 3―アジドプロピルトリメトキシシランの製造 (a) 3―ブロムプロピルトリメトキシシラン
(Br―PTMS)1.1mol及びアジ化ナトリウム
1.1molを、メタノール500ml中で例1(a)で記載
した触媒3mol%の存在で12時間撹拌及び還流
下に加熱した。塩の分離後に行なう減圧下での
蒸留は3―アジドプロピルトリメトキシシラン
を収率の1重量%で与えた。同化合物に関して
は次の特性値が測定された: 沸点:49〜50℃(1.1ミリバール) ν(N3)=2095cm-1 元素分析は次の値を与えた: C:35.22(35.10)、H:7.40(7.36)、N:
20.41(20.47) 計算値はやはり括弧内に記載してある。
(b) 3―クロルプロピルトリメトキシシラン
1.0mol及びアジ化ナトリウム1.1molを、アセ
トニトリル500ml中で例1(a)に記載した触媒
3mol%の存在で撹拌及び還流下に8時間加熱
した。塩の分離後に行なう減圧下での蒸留は、
3―アジドプロピルトリメトキシシランを収率
95重量%で与えた。
例 3 3―アジドプロピルメチルジエトキシシランの
製造 3―クロルプロピルメチルジエトキシシラン
1.0mol及びアジ化ナトリウム1.1molを、例1(a)
で記載した触媒5mol%の存在で撹拌下に3時間
140℃に加熱した。減圧下での蒸留後に3―アジ
ドプロピルメチルジエトキシシランが収率94重量
%で得られた。
この化合物から次の特性値が測定された: 沸点:56〜58℃(1.33ミリバール) ν(N3)=2090cm-1 元素分析: C:44.19(43.80)、H:9.55(9.65)、N:18.91
(19.16) 例 4 3―アジドプロピルトリス(メトキシエトキ
シ)シランの製造 アセトンニトリル500ml中の3―クロルプロピ
ルトリス(メトキシエトキシ)シラン1.0mol及
びアジ化ナトリウム1.1molを、例1(a)で記載し
た触媒5mol%の存在で還流及び撹拌下に8時間
加熱した。塩の分離後に続く減圧下での蒸留は、
3―アジドプロピルトリス(メトキシエトキシ)
シランを収率84重量%で与えた。
特性値: 沸点:120℃(0.01ミリバール) ν(N3)=2095cm-1 元素分析の結果: C:42.82(42.71)、H:8.20(8.06)、N:12.10
(12.45) 例 5 2―アジドエチルトリメトキシシランの製造 アセトニトリル500ml中の2―クロルエチルト
リメトキシシラン1.0mol及びアジ化ナトリウム
1.1molを、例1(a)で記載した触媒3mol%の存在
で撹拌及び還流下に10時間加熱した。塩の分離後
に引続いて行なつた減圧下での蒸留は、2―アジ
ドエチルトリメトキシシランを収率61重量%で与
えた。
特性値: 沸点:54〜56℃(1.33ミリバール) ν(N3)=2090cm-1 元素分析は次の結果を与えた: C:31.42(31.40)、H:7.06(6.85)、N:24.60
(21.97) 例 6 2―アジドエチルトリエトキシシランの製造 アセトニトリル500ml中の2―クロルエチルト
リエトキシシラン1.0mol及びアジ化ナトリウム
1.1molを、例1(a)で記載した触媒3mol%の存在
で激しく撹拌しつつ還流下に10時間加熱した。塩
の分離後に行つた減圧下での蒸留は、2―アジド
エチルエトキシシランを収率69重量%で与えた。
特性値: 沸点:68〜70℃(2.0ミリバール) ν(N3)=2090cm-1 元素分析の結果: C:41.57(41.18)、H:8.31(8.21)、N:17.66
(18.01) 例 7 アジドメチルトリエトキシシランの製造 エタノール250ml中のクロルメチルトリエトキ
シシラン0.5mol及びアジ化リチウム0.6molを、
撹拌及び還流下に12時間加熱した。塩を分離し、
引続き減圧下で蒸留を行つて、アジドメチルトリ
エトキシシランが収率70重量%で得られた。
特性値: 沸点:90〜94℃(21.3ミリバール) ν(N3)=2095cm-1 元素分析は次の値を与えた: C:38.52(38.34)、H:8.03(7.81)、N:19.26
(19.16) 例 8 p―アジドメチルフエニルトリメトキシシラン
の製造 p―クロルメチルフエニルトリメトキシシラン
1.0mol及びアジ化ナトリウム1.1molを、例1(a)
で記載した触媒5mol%の存在で撹拌しつつ3時
間150℃に加熱した。次に生じた塩を分離し、引
続き減圧下で蒸留すると、p―アジドメチルフエ
ニルトリメトキシシランが収率89重量%で得られ
た。
特性値: 沸点:94〜96℃(0.3ミリバール) ν(N3)=2095cm-1 元素分析は次の値を与えた: C:46.90(41.41)、H:6.11(5.97)、N:16.39
(16.59) 例 9 Cl―PTES1.0mol及びアジ化ナトリウム1.1mol
をアセトニトリル500ml中で触媒としての18―ク
ラウン―6(1,4,7,10,13,16―ヘキサオ
キサシクロオクタデカン)5mol%の存在で激し
く撹拌しつつ還流下に8時間加熱した。沈殿した
塩化ナトリウムを分離した。次に0.9ミリバール
の減圧下で蒸留を行なうとN3―PTESが収率83
重量%で得られた。
例 10 アセトニトリル500ml中のCl―PTES1.0mol及
びアジ化ナトリウム1.1molを、触媒としてベン
ジルトリエチルアンモニウムクロリド3mol%を
使用して激しく撹拌しつつ還流下に8時間加熱し
た。沈殿した塩を分離した。引続き減圧下で蒸留
を行なうとN3―PTESが収率93重量%で得られ
た。
例 11 アセトニトリル500ml中のCl―PTES1.0mol及
びアジ化ナトリウム1.1molを、触媒としてのト
リブチルヘキサデシルホスホニウムブロミド
3mol%の存在で、激しく撹拌しつつ還流下に8
時間加熱した。すると塩化ナトリウムが沈殿し
た。これを分離し、次に減圧で蒸留を行なうと、
N3―PTESが収率90重量%で得られた。
アルコキシシリル基を有する本発明による化合
物からは、公知方法によれば相応する加水分解生
成物、つまりシロキサンが製造されうる。次の例
にはこのような製造方法を記載する。
例 12 撹拌機、滴下漏斗及び温度計を有する慣用の1
容ガラスフラスコで、N3―PTES2molに室温
で水1molとエタノール50mlとから成る混合物を
撹拌下に徐々に滴加した。同様に室温での2時間
の撹拌後に反応を終え、0.133バールの減圧下に
エタノールを除去した。残留する透明な液体であ
るN3―PTESの“二量体”はすでに純化合物と
して存在している。
反応は次の方程式により事実上完全に進行し
た: N3(CH23Si(OC2H53+HOH +(C2H5O)3Si(CH23N3 このシロキサンから次の特性値が測定された: ν(N3)=2090cm-1 分子量:42062 結合式:C14N32N6O5Si 重量分析により次の値(%)が測定された:
C:40.18(39.98)、H:8.06(7.67)、N:19.54
(19.98)。計算値は括弧内に付記した。
また加水分解又は部分加水分解は置換反応の直
後に、場合によつては同一反応容器で実施するこ
ともできる。
新規シラン及びシロキサンは、中間生成物とし
て更に他の合成のためにも使用することができ
る。すなわち例えばアジド基を還元したり又は不
飽和化合物に付加することができる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 式: 〔式中Rは、炭素原子1〜8個を有しかつエチレ
    ン系不飽和結合を含まない2価の炭化水素残基、
    炭素原子素1〜8個を有しかつ―O―,―S―又
    は―NR3―(R3=水素、メチル基、エチル基又
    はフエニル基)の一つによつて中断されている炭
    素鎖を有する2価の炭化水素残基を表わし、R1
    は最高3個までの炭素原子を有する1価のアルキ
    ル基、フエニル基、ベンジル基又はトルイル基を
    表わし、R2は最高4個までの炭素原子を有する
    アルキル基、フエニル基、ベンジル基又は合計し
    て最高4個までの炭素原子を有するアルコキシア
    ルキル基を表わし、nは0、1又は2である〕で
    示される有機珪素化合物を製造するに当り、式
    : X―R―SiR1 o(OR23-o 〔式中R,R1,R2及びnは前記のものを表わし、
    Xは塩素又は臭素を表わす〕で示されるハロゲン
    シランと、式: MN3 〔式中Mはリチウム、ナトリウム、カリウム又は
    アンモニウムを表わす〕で示されるアジ化物とを
    モル比1:1〜1:1.5で反応させることを特徴
    とする前記有機珪素化合物の製造方法。 2 反応を式で示されるアジ化物の10%過剰量
    で実施する特許請求の範囲第1項記載の方法。 3 有機液体又はその混合物の存在における反応
    の場合に反応を室温から反応混合物の沸騰温度ま
    での温度で実施する特許請求の範囲第1項又は第
    2項記載の方法。 4 反応成分を約80〜180℃の温度でさえ反応さ
    せる特許請求の範囲第1項から第3項までのいず
    れか1項記載の方法。 5 式: 〔式中Rは、炭素原子1〜8個を有しかつエチレ
    ン系不飽和結合を含まない2価の炭化水素残基、
    炭素原子1〜8個を有しかつ―O―,―S―又は
    NR3―(R3=水素、メチル基、エチル基又はフ
    エニル基)の一つによつて中断されている炭素鎖
    を有する2価の炭化水素残基を表わし、R1は最
    高3個までの炭素原子を有する1価のアルキル
    基、フエニル基、ベンジル基又はトルイル基を表
    わし、R2は最高4個までの炭素原子を有するア
    ルキル基、フエニル基、ベンジル基又は合計して
    最高4個までの炭素原子を有するアルコキシアル
    キル基を表わし、nは0,1又は2である〕で示
    される有機珪素化合物を製造するに当り、式: X―R―SiR1 o(OR23-o 〔式中R、R1、R2及びnは前記のものを表わし、
    Xは塩素又は臭素を表わす〕で示されるハロゲン
    シランと、式: MN3 〔式中Mはリチウム、ナトリウム、カリウム又は
    アンモニウムを表わす〕で示されるアジ化物とを
    モル比1:1〜1:1.5で相転移触媒の使用下に
    反応させることを特徴とする前記有機珪素化合物
    の製造方法。 6 反応を式で示されるアジ化物の10%過剰量
    で実施する特許請求の範囲第5項記載の方法。 7 式の塩素で置換されたシランとアジ化ナト
    リウムアジドとの反応の際に触媒として固―液・
    相転移触媒を0.1〜12モル%の量で使用する特許
    請求の範囲第5又は6項記載の方法。 8 有機液体又はその混合物の存在における反応
    の場合に反応を室温から反応混合物の沸騰温度ま
    での温度で実施する特許請求の範囲第5項から第
    7項までのいずれか1項記載の方法。 9 反応成分を約80〜180℃の温度でさえ反応さ
    せる特許請求の範囲第5項から第7項までのいず
    れか1項記載の方法。
JP56167304A 1980-10-25 1981-10-21 Manufacture of organosilicon compound Granted JPS5799594A (en)

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DE4113655A1 (de) * 1991-04-26 1992-10-29 Basf Lacke & Farben Haftvermittler
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EP0050768A2 (de) 1982-05-05
DE3168184D1 (en) 1985-02-21
JPS5799594A (en) 1982-06-21
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