JPH06302406A - チップ型サーミスタ及びその製造方法 - Google Patents

チップ型サーミスタ及びその製造方法

Info

Publication number
JPH06302406A
JPH06302406A JP9150093A JP9150093A JPH06302406A JP H06302406 A JPH06302406 A JP H06302406A JP 9150093 A JP9150093 A JP 9150093A JP 9150093 A JP9150093 A JP 9150093A JP H06302406 A JPH06302406 A JP H06302406A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thermistor
electrode
electrodes
chip type
plating layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP9150093A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshinori Fujimoto
義典 藤本
Masami Koshimura
正己 越村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Materials Corp filed Critical Mitsubishi Materials Corp
Priority to JP9150093A priority Critical patent/JPH06302406A/ja
Publication of JPH06302406A publication Critical patent/JPH06302406A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Thermistors And Varistors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 電極間のはんだブリッジがなく、はんだ耐熱
性とはんだ付着性に優れ、電極のめっき処理による抵抗
値の変化がなく、抵抗値を広範囲に調整可能なチップ型
サーミスタを容易にかつ安価に製造する。 【構成】 サーミスタ素体用セラミック焼結シートの片
面に多数列の下地電極16を形成し、別の片面に抵抗値
調整用電極15を形成し、下地電極を露出しかつこれら
の下地電極間を埋めるように焼結シートの片面と別の片
面全体に絶縁性ペーストを塗布した後、シートを熱処理
して絶縁層13,14を形成する。露出した下地電極の
表面にNiめっき層17aとSn又はSn/Pbめっき
層17bをこの順に形成して下地電極とめっき層からな
る多数列の電極をシート上に形成し、シートを2列の電
極ずつ各電極が端縁に位置するように短冊状に切断し、
短冊状サーミスタ素体をその切断面と垂直な方向でチッ
プ状に切断する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、プリント回路基板等に
表面実装されるチップ型サーミスタ及びその製造方法に
関する。更に詳しくは電子機器の温度補償用サーミスタ
や表面温度測定用センサに適し、温度上昇に従って抵抗
値が減少するチップ型サーミスタ及びその製造方法に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、この種のチップ型サーミスタは、
サーミスタ素体の両端部に銀−パラジウムを主成分とす
る電極が焼付けられている。電極成分に銀の他にパラジ
ウムを含有する理由は、基板にチップ型サーミスタをは
んだ付けする際に、銀がはんだ中に溶出して消失するこ
とを防止し、電極のはんだ耐熱性を得るためである。
【0003】しかし、パラジウムの含有量を増加すると
電極のはんだ付着性が低下して基板へのチップ型サーミ
スタの固着力が弱くなるため、パラジウムの含有量には
一定の限界があった。このため電極のはんだ付けが高温
で長時間行われる場合には、従来のチップ型サーミスタ
はなおはんだ耐熱性が不十分であった。はんだ耐熱性と
はんだ付着性を向上させるために、チップ型コンデンサ
と同様に、焼付け電極である下地電極の表面にめっき層
を設けることが考えられるが、サーミスタ素体はコンデ
ンサ素体と異なり導電性を有するため、このサーミスタ
素体を露出したままめっき処理した場合、素体表面にめ
っきが付着してサーミスタの抵抗値が所期の値と異な
り、しかもサーミスタ素体がめっき液で浸食されてサー
ミスタの信頼性が低下する等の不具合を生じる。
【0004】この点を改善するため、本出願人は焼付け
電極層が接触する部分以外のサーミスタ素体の表面をガ
ラス層で被覆し、焼付け電極層の表面にめっき層を形成
したチップ型サーミスタを特許出願した(特開平3−2
50603)。
【0005】このチップ型サーミスタは、次の方法によ
り製造される。先ずサーミスタ素体用のセラミック焼結
シートの両面にガラスペーストを印刷して焼成すること
により絶縁性のガラス層を形成する。次いで両面がガラ
ス層で被覆された焼結シートを短冊状に切断した後、両
側の切断面に前述と同様にガラスペーストを印刷焼成し
てガラス層を形成する。次に前記切断面と垂直な方向に
この短冊状物を細かく切断してチップを作る。このチッ
プの切断面を包むようにチップの両端部に導電性ペース
トを塗布し、焼成して焼付け電極層を形成する。更にこ
の焼付け電極層を下地電極としてこの表面にめっき層を
形成して焼付け電極層とめっき層からなる端子電極を有
するチップ型サーミスタを得る。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記チップ型
サーミスタを含め、一般にチップ状サーミスタ素体の両
側面に端子電極を設ける構造のチップ型サーミスタは、
プリント回路基板に表面実装した後の熱的ストレスによ
る引張応力が加わったときにクラックを生じ易い。そし
てクラックが発生するとサーミスタとしての特性が変化
する。また上記製造方法では、ガラス層の被覆を2回に
分けて行う必要がある上、チップになった後に、その両
端部に導電性ペーストを塗布したり、めっき層を形成し
たりする必要がある。このため、チップにした後の取扱
いに多大の注意を払わなければならない。これらのこと
から製造工程が複雑化し、必然的に製造コストが高価に
なる問題点があった。
【0007】本発明の目的は、電極間にはんだブリッジ
が発生せず、はんだ耐熱性及びはんだ付着性に優れ、電
極のめっき処理による抵抗値の変化がなく、信頼性の高
いチップ型サーミスタを提供することにある。本発明の
別の目的は、抵抗値の調整が容易なチップ型サーミスタ
を提供することにある。本発明の別の目的は、熱的スト
レスに起因した引張応力に対する強度が高いチップ型サ
ーミスタを提供することにある。本発明の更に別の目的
は、上記優れたチップ型サーミスタを比較的容易にかつ
安価に製造できるチップ型サーミスタの製造方法を提供
することにある。
【0008】
【問題点を解決するための手段】図1〜図3に示すよう
に、本発明のチップ型サーミスタ10は、6面体からな
るチップ状サーミスタ素体11と、このサーミスタ素体
11の下面の相対向する2つの端縁に沿って間隔をあけ
て設けられた一対の端子電極12,12と、このサーミ
スタ素体11の下面の一対の端子電極12,12間に設
けられた絶縁性の下面絶縁層13と、このサーミスタ素
体11の上面全体に設けられた抵抗値調整用電極15
と、この抵抗値調整用電極15がサーミスタ素体11の
上面全体に設けられた上面絶縁層14とを備えたもので
ある。なお、端子電極12は貴金属を含む下地電極16
と、この下地電極16の表面に形成されたNiめっき層
17aと、このNiめっき層17aの表面に形成された
Sn又はSn/Pbめっき層17bとを備えることが好
ましい。
【0009】また、本発明のチップ型サーミスタの製造
方法は、図4に示されるサーミスタ素体用セラミック焼
結シート21の片面に多数列の下地電極16を形成し
(図5)、この焼結シート21の別の片面全体に抵抗値
調整用電極15を形成し(図6)、下地電極16を露出
しかつこれらの電極間を埋めるように焼結シート21の
片面に絶縁性ペーストを塗布し、調整用電極15を形成
した焼結シート21の別の片面全体に絶縁性ペーストを
塗布した後、この焼結シート21を熱処理して絶縁性の
絶縁層13,14を形成し(図7)、露出した下地電極
16の表面にNiめっき層17a及びSn又はSn/P
bめっき層17bをこの順に形成して下地電極16とめ
っき層17からなる多数列の電極を焼結シート上に形成
し(図1及び図8)、この焼結シート21を2列の電極
ずつ各電極が端縁に位置するように短冊状に切断し(図
9)、短冊状サーミスタ素体22をその切断面と垂直な
方向でチップ状に切断してチップ型サーミスタ10を得
る(図10)方法である。
【0010】以下、本発明を詳述する。 (a) セラミック焼結シートに対する多数列の下地電極の
形成 図4に示すように、サーミスタ素体用セラミック焼結シ
ート21を用意する。この焼結シート21は次の方法に
より作られる。先ずMn,Fe,Co,Ni,Cu,A
l等の金属の酸化物粉末を1種又は2種以上混合する。
2種以上混合するときは、所定の金属原子比になるよう
に各金属酸化物を秤量する。この混合物を仮焼し粉砕
し、有機結合材を加え混合して直方体に成形した後、焼
成してセラミック焼結ブロック(図示せず)を作製す
る。次いでこのブロックをバンドソーを用いてウエハ状
に切断し、図4に示す焼結シート21を得る。なお、金
属酸化物の混合物を仮焼し粉砕した後、有機結合材と溶
剤を加え混練してスラリーを調製し、このスラリーをド
クターブレード法等により成膜乾燥してグリーンシート
を成形し、これを焼成し焼結シート21を得てもよい。
【0011】次に、図5に示すように、焼結シート21
の片面に貴金属粉末と無機結合材を含む導電性ペースト
を縞状に塗布する。この塗布は所定の縞状パターンを焼
結シート21に重ね合せて導電性ペーストを印刷する印
刷法によることが好ましい。貴金属粉末を例示すれば、
Ag,Au,Pd,Pt等の貴金属、又はこれらを混合
した粉末が挙げられる。塗布したペーストを乾燥した
後、焼成することにより多数列の下地電極16を形成す
る。ここで、焼結シート21の一方の端縁に多数列の下
地電極16すべてに接続するめっき用電極層16aを形
成しておくことが好ましい。なお、導電性ペーストを印
刷法により塗布し、これを焼成して焼付け電極層の下地
電極を形成する以外に、焼結シート21の片面に所定の
縞状パターンを重ね合せて溶射法により下地電極を形成
することもできる。
【0012】(b) 抵抗値調整用電極の形成 図5のF部拡大である図6に示すように、焼結シート2
1の別の片面全体に下地電極用の導電性ペーストと同じ
導電性ペーストを印刷法により塗布し乾燥した後、焼成
することにより抵抗値調整用電極15を形成する。な
お、下地電極と同様に溶射法により抵抗値調整用電極を
形成することもできる。
【0013】(c) シート片面への絶縁性ペーストの塗布 図7に示すように、下地電極16が設けられたシート片
面には、下地電極16を露出しかつこれらの電極間を埋
めるように絶縁性ペーストがやはり縞状に塗布される。
めっき用電極層16aがある場合には、この電極層16
aも下地電極16と同様に露出される。この電極層16
aは後述するめっき層形成時の電解めっきに必要だから
である。絶縁性ペーストはガラスペースト又は樹脂ペー
ストである。ガラスペーストに含まれるガラス成分又は
樹脂ペーストに含まれる樹脂は耐めっき性があることが
必要である。ガラス成分は結晶質であっても非結晶質で
あってもよい。また樹脂としてはエポキシ樹脂のような
熱硬化性樹脂が例示される。
【0014】 (d) 別のシート片面への絶縁性ペーストの塗布 抵抗値調整用電極15が設けられた別のシート片面で
は、上記(c)と同じ絶縁性ペーストがシート全体に塗布
される。この塗布も印刷法によることが好ましい。
【0015】(e) 絶縁層の形成 図7に示すように、上記(c)及び(d)で絶縁性ペーストを
塗布した焼結シート21を熱処理して、10〜20μm
程度の厚さのガラス層又は樹脂層からなる絶縁層13,
14を形成する。絶縁層がガラス層の場合には、これら
のガラス層13,14はその熱膨張係数がサーミスタ素
体用焼結シート21の熱膨張係数の40%以上100%
以下であることが好ましい。熱膨張係数がこの範囲内に
あると、ガラス層がない場合に比較してサーミスタ10
の抗折強度が増加する。
【0016】抗折強度とは、間隔を設けて配置された2
つの台にチップ型サーミスタの両端を置き、チップ型サ
ーミスタの中央部に加重したときの破壊強度をいう。こ
れは、チップ型サーミスタをプリント回路基板に表面実
装したときのはんだ等による熱や実装後の熱サイクルに
よって生じる応力歪み(熱的ストレス)にどれだけ耐え
ることができるかの目安となる。本発明のガラス層を有
するサーミスタ10の抗折強度が増加するのは、サーミ
スタ素体表面のガラス層に圧縮応力が残留するためと考
えられる。即ち、製造時に熱膨張していたサーミスタ素
体11とガラス層13,14が冷えると、熱膨張係数の
大きなサーミスタ素体の方が縮み方が大きく、ガラス層
が圧縮された状態となる。この状態のサーミスタ10に
折曲げ力を加えると、折曲げの内側には圧縮応力が生
じ、外側には引張応力が生じる。サーミスタ素体とガラ
ス層は、ともに圧縮応力に強く引張応力に弱い特徴があ
る。このため、予めガラス層により圧縮応力を与えてお
くと、ガラス層がない場合に比べて、折曲げ力を加えた
ときにその曲げの外側の引張応力に対してクラックが生
じにくくなる。樹脂層はサーミスタの抗折強度を高める
作用はないが、ガラス層と比べて低い熱処理温度で硬化
して形成できる利点がある。
【0017】(f) めっき層の形成 図1及び図8に示すように、露出した下地電極16の表
面にめっき層17を設けて、下地電極16及びめっき層
17により多数列の電極を作ることが好ましい。めっき
層17はNiめっき層17a及びSn又はSn/Pbめ
っき層17bをこの順に形成する(図1)。これらのめ
っき層は電解めっきにより形成される。めっき浴はN
i,Sn又はSn/Pbともそれぞれ公知のものを使用
する。めっき層を二重構造にするのは、Niめっき層1
7aによりはんだ耐熱性を向上させはんだによる下地電
極16の電極食われを防止するためであり、Sn又はS
n/Pbめっき層17bにより端子電極12のはんだ付
着性を向上するためである。
【0018】(g) 短冊状サーミスタ素体の形成 図8及び図9に示すように、矢印Mの箇所でめっき層1
7を形成した焼結シート21を2列の電極ずつ各電極が
端縁に位置するようにダイヤモンドブレード付き切断機
のようなダイシングソーで短冊状に切断し、短冊状サー
ミスタ素体22を得る。
【0019】(h) チップ型サーミスタの作製 図9及び図10に示すように、上記ダイシングソーを用
いて矢印Nの箇所で短冊状サーミスタ素体22の切断面
と垂直な方向でチップ状に切断してチップ型サーミスタ
10を得る。図10で得られたチップ型サーミスタ10
を裏返せば、図1及び図3のチップ型サーミスタとな
る。
【0020】 (i) 絶縁性被膜付きチップ型サーミスタの作製 図11に示すように、一対の端子電極12,12を有す
るサーミスタ素体11の下面を除く他の5面に絶縁性被
膜20が形成される。この被膜20の形成は、図12に
示すように一対の端子電極12,12を有するサーミス
タ素体11の下面を樹脂シート又はフィルム20aに張
り付けてマスキングした後、樹脂を化学蒸着することに
より行われる。図12において符号Pは化学蒸着時の吹
き付け線を示す。この化学蒸着に適する樹脂としては、
ポリパラキシリレン樹脂(商品名:パリレン樹脂、ユニ
オンカーバイト社製)が挙げられる。なお、化学蒸着の
代わりに熱硬化性樹脂を塗布乾燥した後、熱処理しても
よい。
【0021】(j) その他の構造のチップ型サーミスタの
作製(その1) 図13及び図14に示すように焼結シート21の片面に
下地電極26を図13のx方向に連ねて多数歯状に形成
し、図13の焼結シートを裏返した図16及び図17に
示す焼結シート21の別の片面に抵抗値調整用電極25
を図16のy方向に多数列に形成する。この下地電極2
6は1つの単位が電極部26aと接続部26bからな
り、その電極部26aと抵抗値調整用電極25は焼結シ
ートを挟んで相対向する位置に形成され、下地電極26
の連なる方向(x方向)は抵抗値調整用電極25の配列
方向(y方向)と直交する。下地電極26に上述しため
っき層を形成し、抵抗値調整用電極25に上述した絶縁
層を形成した後に、図14及び図17の破線Rに示すよ
うに焼結シート21を切断すると、図18〜図20に示
されるチップ型サーミスタ30が得られる。このサーミ
スタ30は抵抗値調整用電極25及び下地電極26の露
出部分がサーミスタ10と比べて少なく、イオン移動の
影響を受けにくくなる。
【0022】(k) その他の構造のチップ型サーミスタの
作製(その2) また下地電極26に関して図13に示すように焼結シー
ト21の片面に多数歯状に形成し、抵抗値調整用電極2
5に関して図21に示すように焼結シート21の別の片
面に間隔をあけて小四角形状に形成する。抵抗値調整用
電極25はシートの別の片面において、下地電極26の
電極部26a,26aの丁度中間位置となるように形成
される。下地電極26にめっき層を、抵抗値調整用電極
25に絶縁層をそれぞれ形成した後に、図15及び図2
2の破線Sに示すように焼結シート21を切断すると、
図23〜図25に示されるチップ型サーミスタ40が得
られる。このサーミスタ40は抵抗値調整用電極25の
露出部分が全くなく、また下地電極26の露出部分も極
く一部であるため、イオン移動の影響をほとんど受けな
い。ただし、図15及び図22の接続部26bが連なる
符号Tに示す部分は破棄される。
【0023】
【作用】図3に示すように、はんだ23によりプリント
回路基板24にチップ型サーミスタ10を表面実装す
る。このとき、Niめっき層17aによりはんだ耐熱性
が向上し、はんだによる下地電極16の電極食われが防
止され、Sn又はSn/Pbめっき層17bにより端子
電極12のはんだ付着性が向上する。これらのめっき層
17は貴金属の下地電極16の表面を被覆するため、貴
金属のイオン移動(ion migration)が発生しにくい。
また、サーミスタ素体11下面の一対の下地電極16,
16間に絶縁層13が設けられるため、第一にめっき層
形成時にはサーミスタ素体が露出せず、サーミスタ素体
がめっき液で浸食されず、サーミスタの抵抗値が所期の
値に対して変動しない。第二に基板へのはんだ付け時に
は電極間にはんだブリッジを生じない。絶縁層13及び
14が所定の熱膨張係数を有するガラス層の場合には、
これらのガラス層により、チップ型サーミスタ10はそ
の抗折強度が向上し、熱的ストレスに対して耐久性の高
いものとなる。更に、抵抗値調整用電極15を設けるこ
とにより、サーミスタ内を通る電流は一方の端子電極1
2から抵抗値調整用電極15を介して他方の端子電極1
2に流れるため、サーミスタの低抵抗化が容易になり、
電極15の面積を適宜変えれば抵抗値の調整を広範囲に
わたって行うことができる。
【0024】
【発明の効果】以上述べたように、従来の製造方法で
は、工程数が多く複雑であったものが、本発明の製造方
法によれば、少ない工程で比較的容易にチップ型サーミ
スタを製造できるため、量産に適し、製造コストが安価
になる。特に、下地電極及びめっき層を形成した後でサ
ーミスタ素体を精密に切断することにより、素子の寸
法、電極面積等を厳格に制御できるので、チップになっ
た後の特別な加工を要さず、しかも抵抗値の精度が高い
チップ型サーミスタが得られる。本発明のチップ型サー
ミスタは、プリント回路基板に対向するサーミスタ素体
の下面の一対の端子電極が接触する部分を除いてサーミ
スタ素体が下面絶縁層で被覆され、サーミスタ素体上面
が上面絶縁層で被覆されるので、サーミスタ素体がめっ
き液で浸食されず、はんだブリッジが発生しなくなり、
イオン移動が生じにくくなる。絶縁層を所定の熱膨張係
数を有するガラス層で形成すれば、基板実装後の熱的ス
トレスに起因した引張応力に対する強度が高くなる。端
子電極と抵抗値調整用電極を図23〜図25に示した例
のように絶縁層で被覆するか、図11に示すように絶縁
性被膜で被包すると、より一層イオン移動が生じにくく
なる。絶縁性被膜で被包すると、サーミスタに不測の外
力が加わっても素体が欠けず、また導電性物質が絶縁層
を設けていないサーミスタ素体の側面に付着しても特性
が変化しない利点もある。
【0025】また、下地電極の表面にめっき層を形成す
ることにより、はんだ耐熱性とはんだ付着性に優れ、信
頼性の高いサーミスタが得られる。特に、サーミスタ素
体の上面に抵抗値調整用電極を設けることにより、一対
の端子電極の間隔を狭めずに抵抗値を低く調整でき、低
抵抗化を図るときに端子電極間をショートさせることが
なくなる。またその電極面積を変えれば抵抗値を容易に
かつ広範囲に調整できる。
【0026】
【実施例】次に本発明の具体的態様を示すために、本発
明を実施例に基づいて説明する。以下に述べる実施例は
本発明の技術的範囲を限定するものではない。 <実施例>次の方法により図1〜図3に示すチップ型サ
ーミスタを作製した。先ず市販のマンガン化合物、ニッ
ケル化合物、コバルト化合物を出発原料とし、これらを
MnO2:NiO:CoOに換算して金属原子比3:
1:2の割合でそれぞれ秤量した。秤量物をボールミル
で16時間均一に混合した後に脱水乾燥した。次いでこ
の混合物を900℃で2時間仮焼し、この仮焼物を再び
ボールミルで粉砕して脱水乾燥した。粉砕物に有機結合
材を加え、均一に混合した後、混合物を直方体に圧縮成
形した。この圧縮成形物を大気圧下、1200℃で4時
間焼成し、たて約35mm、よこ約50mm、厚さ約1
0mmのセラミック焼結ブロック(図示せず)を作製し
た。次にこのブロックをバンドソーでウエハ状に切断
し、図4に示すたて約35mm、よこ約50mm、厚さ
約0.3mmの焼結シート21を得た。
【0027】次に、図5及び図6に示すように、焼結シ
ート21の片面に貴金属粉末と無機結合材を含む導電性
ペーストを印刷法により縞状に塗布した。別の片面には
同じ導電性ペーストを印刷法により片面全体に塗布し
た。これらの導電性ペーストは市販の銀ペーストであっ
て、 Ag粉末とガラス微粒子と有機ビヒクルからな
る。導電性ペーストを塗布したサーミスタ素体を大気圧
下、乾燥した後、30℃/分の速度で、820℃まで昇
温しそこで10分間保持し、30℃/分の速度で室温ま
で降温して、シート片面にAgからなる多数列の焼付け
電極層の下地電極16を、別の片面全体に抵抗値調整用
電極15をそれぞれ得た。下地電極16の幅はすべて同
一であり、下地電極間は等間隔であった。1つの下地電
極の幅は約0.7mmであり、下地電極と下地電極の間
隔は約0.4mmであった。焼結シート21の一方の端
縁に多数列の下地電極16すべてに接続するめっき用電
極層16aを形成した。
【0028】図7に示すように、焼結シート21の両面
にそれぞれ同一の結晶化ガラスを含むペーストを印刷法
により塗布した。下地電極16間を埋めてガラスペース
トを塗布するときには下地電極16の互いに対向する端
縁を覆うように塗布した。塗布後、焼結シート21を焼
成して、厚さ約15μmのガラス層13,14を形成し
た。これらのガラス層13,14の熱膨張係数は68×
10-7/℃であって、焼結シート21の熱膨張係数85
×10-7/℃より小さい。めっき用電極層16aに図外
のめっき用電極を接続して、電解めっき法により下地電
極16の表面に厚さ1〜2μmのNiめっき層17aを
形成し、続いてその上に、同様に厚さ3〜6μmのSn
めっき層17bを形成した(図1及び図3)。
【0029】図8〜図10に示すように、矢印Mの箇所
でめっき層17を形成した焼結シート21を2列の電極
ずつ各電極が端縁に位置するようにダイヤモンドブレー
ド付き切断機で短冊状に切断し、短冊状サーミスタ素体
22を得た後、同一の切断機を用いて矢印Nの箇所で短
冊状サーミスタ素体22の切断面と垂直な方向でチップ
状に切断して、幅W=約0.5mm、長さL=約1.0
mm、厚さT=約0.3mm、下地電極間隔=約0.4
mm、下地電極幅=約0.3mmのチップ型サーミスタ
10を得た。図10で得られたチップ型サーミスタ10
は裏返して、図3に示すようにその端子電極12,12
がはんだ23によりプリント回路基板24に取付けられ
る。
【0030】<比較例>抵抗値調整用電極を設けない以
外は、実施例と同様にして同一形状、同一寸法のチップ
型サーミスタを作製した。
【0031】<比較試験と結果> ・抵抗値の減少率 実施例のサーミスタと比較例のサーミスタを100個ず
つ用意し、それぞれの抵抗値を測定した。比較例のサー
ミスタと比べて実施例のサーミスタは抵抗値が平均値で
約40%低下していた。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のチップ型サーミスタの外観斜視図。
【図2】その底面図。
【図3】図2のA−A線断面図。
【図4】本発明のチップ型サーミスタのサーミスタ素体
となるセラミック焼結シートの外観斜視図。
【図5】その焼結シートの片面に多数列の下地電極が形
成された斜視図。
【図6】その焼結シートの別の片面に抵抗値調整用電極
が形成された図5のF部拡大斜視図。
【図7】図6の焼結シートの一方の面の下地電極間及び
他方の面全体に絶縁層が形成された斜視図。
【図8】図7の露出した下地電極の表面にめっき層が形
成された斜視図。
【図9】図8の焼結シートを短冊状に切断した斜視図。
【図10】図9の短冊状サーミスタ素体をチップ状に切
断した斜視図。
【図11】図1のサーミスタ素体の端子電極形成面以外
の5面に絶縁性被膜が形成されたサーミスタの図3に対
応する断面図。
【図12】その絶縁性被膜の形成状況を示す図。
【図13】本発明の別の下地電極を示す図6に対応する
斜視図。
【図14】図13の下地電極を有する焼結シートの切断
状況を示す要部平面図。
【図15】焼結シートの別の切断状況を示す要部平面
図。
【図16】本発明の別の抵抗値調整用電極を示す図13
の焼結シートを裏返した斜視図。
【図17】図16の抵抗値調整用電極を有する焼結シー
トの切断状況を示す要部平面図。
【図18】図14及び図17の切断線Rで切断したチッ
プ型サーミスタの底面図。
【図19】図18のB−B線断面図。
【図20】図18のC−C線断面図。
【図21】本発明の更に別の抵抗値調整用電極を示す図
13の焼結シートを裏返した斜視図。
【図22】図21の抵抗値調整用電極を有する焼結シー
トの切断状況を示す要部平面図。
【図23】図15及び図22の切断線Sで切断したチッ
プ型サーミスタの底面図。
【図24】図23のD−D線断面図。
【図25】図23のE−E線断面図。
【符号の説明】
10,30,40 チップ型サーミスタ 11 サーミスタ素体 12 端子電極 13 下面絶縁層 14 上面絶縁層 15,25 抵抗値調整用電極 16,26 下地電極 17 めっき層 17a Niめっき層 17b Sn又はSn/Pbめっき層 20 絶縁性被膜 21 セラミック焼結シート 22 短冊状サーミスタ素体

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 6面体からなるチップ状サーミスタ素体
    (11)と、 前記サーミスタ素体(11)の下面の相対向する2つの端縁
    に沿って間隔をあけて設けられた一対の端子電極(12,1
    2)と、 前記サーミスタ素体(11)の下面の一対の端子電極(12,1
    2)間に設けられた下面絶縁層(13)と、 前記サーミスタ素体(11)の上面の一部又は全体に設けら
    れた抵抗値調整用電極(15)と、 前記抵抗値調整用電極(15)が設けられたサーミスタ素体
    (11)の上面全体に設けられた上面絶縁層(14)とを備えた
    チップ型サーミスタ。
  2. 【請求項2】 端子電極(12)が貴金属を含む下地電極(1
    6)と、この下地電極(16)の表面に形成されたNiめっき
    層(17a)と、このNiめっき層(17a)の表面に形成された
    Sn又はSn/Pbめっき層(17b)とを備えた請求項1
    記載のチップ型サーミスタ。
  3. 【請求項3】 Niめっき層(17a)及びSn又はSn/
    Pbめっき層(17b)の表面積が下地電極(16)の表面積よ
    り小さく形成され、下面絶縁層(13)が前記Niめっき層
    (17a)及びSn又はSn/Pbめっき層(17b)を除くサー
    ミスタ素体(11)の下面全体に設けられた請求項2記載の
    チップ型サーミスタ。
  4. 【請求項4】 下面絶縁層(13)及び上面絶縁層(14)はガ
    ラス層である請求項1記載のチップ型サーミスタ。
  5. 【請求項5】 下面絶縁層(13)及び上面絶縁層(14)は樹
    脂層である請求項1記載のチップ型サーミスタ。
  6. 【請求項6】 ガラス層はその熱膨張係数がサーミスタ
    素体(11)の熱膨張係数の40%以上100%以下である
    請求項1記載のチップ型サーミスタ。
  7. 【請求項7】 サーミスタ素体(11)の一対の端子電極(1
    2,12)が設けられた下面を除く他の5面に絶縁性被膜(2
    0)が設けられた請求項1ないし6いずれか記載のチップ
    型サーミスタ。
  8. 【請求項8】 (a) サーミスタ素体用セラミック焼結シ
    ート(21)の片面に多数列の下地電極(16)を形成する工程
    と、 (b) 前記焼結シート(21)の別の片面の一部又は全体に抵
    抗値調整用電極(15)を形成する工程と、 (c) 前記(a)工程で形成した下地電極(16)を露出しかつ
    前記下地電極(16,16)間を埋めるように前記焼結シート
    (21)の片面に絶縁性ペーストを塗布する工程と、 (d) 前記(b)工程で抵抗値調整用電極(15)を形成した焼
    結シート(21)の別の片面全体に前記絶縁性ペーストを塗
    布する工程と、 (e) 前記(c)工程及び(d)工程で絶縁性ペーストを塗布し
    た焼結シート(21)を熱処理して絶縁層(13,14)を形成す
    る工程と、 (f) 前記露出した下地電極(16)の表面にNiめっき層(1
    7a)及びSn又はSn/Pbめっき層(17b)をこの順に形
    成して前記下地電極(16)とめっき層(17)からなる多数列
    の電極を前記焼結シート(21)上に形成する工程と、 (g) 前記多数列の電極を形成した焼結シート(21)を2列
    の電極ずつ各電極が端縁に位置するように短冊状に切断
    する工程と、 (h) 前記短冊状サーミスタ素体(22)をその切断面と垂直
    な方向でチップ状に切断してチップ状サーミスタ素体(1
    1)の下面の相対向する2つの端縁に沿って間隔をあけて
    一対の端子電極(12,12)を有するチップ型サーミスタ(1
    0)を得る工程とを含むチップ型サーミスタの製造方法。
  9. 【請求項9】 前記(h)工程の後に、 (i) サーミスタ素体(11)の一対の端子電極(12,12)が設
    けられた下面を除く他の5面に絶縁性被膜(20)を形成す
    る工程を含む請求項8記載のチップ型サーミスタの製造
    方法。
JP9150093A 1993-04-19 1993-04-19 チップ型サーミスタ及びその製造方法 Withdrawn JPH06302406A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9150093A JPH06302406A (ja) 1993-04-19 1993-04-19 チップ型サーミスタ及びその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9150093A JPH06302406A (ja) 1993-04-19 1993-04-19 チップ型サーミスタ及びその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06302406A true JPH06302406A (ja) 1994-10-28

Family

ID=14028137

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9150093A Withdrawn JPH06302406A (ja) 1993-04-19 1993-04-19 チップ型サーミスタ及びその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06302406A (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6184772B1 (en) 1997-08-07 2001-02-06 Murata Manufacturing Co., Ltd. Chip thermistors
KR100481929B1 (ko) * 2002-06-18 2005-04-11 쌍신전자통신주식회사 써미스터 박막을 이용한 온도센서 및 그 제조방법
WO2012114874A1 (ja) * 2011-02-24 2012-08-30 株式会社村田製作所 電子部品の実装構造
WO2012114857A1 (ja) * 2011-02-24 2012-08-30 株式会社村田製作所 電子部品の実装構造
DE102011109007A1 (de) * 2011-07-29 2013-01-31 Epcos Ag Verfahren zum Herstellen eines elektrischen Bauelements und elektrisches Bauelement
WO2013073324A1 (ja) * 2011-11-15 2013-05-23 株式会社村田製作所 サーミスタおよびその製造方法
WO2019119981A1 (zh) * 2017-12-20 2019-06-27 广东爱晟电子科技有限公司 一种复合热敏电阻芯片及其制备方法
US11450483B2 (en) * 2017-05-23 2022-09-20 Murata Manufacturing Co., Ltd. Electronic component with baked electrodes and having a continuously curved recess

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6184772B1 (en) 1997-08-07 2001-02-06 Murata Manufacturing Co., Ltd. Chip thermistors
KR100481929B1 (ko) * 2002-06-18 2005-04-11 쌍신전자통신주식회사 써미스터 박막을 이용한 온도센서 및 그 제조방법
US9184362B2 (en) 2011-02-24 2015-11-10 Murata Manufacturing Co., Ltd. Electronic-component mounting structure
WO2012114874A1 (ja) * 2011-02-24 2012-08-30 株式会社村田製作所 電子部品の実装構造
WO2012114857A1 (ja) * 2011-02-24 2012-08-30 株式会社村田製作所 電子部品の実装構造
EP2680301A4 (en) * 2011-02-24 2016-05-25 Murata Manufacturing Co ELECTRONIC COMPONENT MOUNTING STRUCTURE
CN103380492A (zh) * 2011-02-24 2013-10-30 株式会社村田制作所 电子元器件的安装结构
CN103380467A (zh) * 2011-02-24 2013-10-30 株式会社村田制作所 电子元器件的安装结构
CN103380467B (zh) * 2011-02-24 2016-04-27 株式会社村田制作所 电子元器件的安装结构
JP5664760B2 (ja) * 2011-02-24 2015-02-04 株式会社村田製作所 電子部品の実装構造
JP5668837B2 (ja) * 2011-02-24 2015-02-12 株式会社村田製作所 電子部品の実装構造
US9153762B2 (en) 2011-02-24 2015-10-06 Murata Manufacturing Co., Ltd. Electronic component package structure
DE102011109007A1 (de) * 2011-07-29 2013-01-31 Epcos Ag Verfahren zum Herstellen eines elektrischen Bauelements und elektrisches Bauelement
US9230719B2 (en) 2011-07-29 2016-01-05 Epcos Ag Method for producing an electrical component, and electrical component
JP2014524154A (ja) * 2011-07-29 2014-09-18 エプコス アクチエンゲゼルシャフト 電子デバイスの製造方法および電子デバイス
WO2013073324A1 (ja) * 2011-11-15 2013-05-23 株式会社村田製作所 サーミスタおよびその製造方法
US11450483B2 (en) * 2017-05-23 2022-09-20 Murata Manufacturing Co., Ltd. Electronic component with baked electrodes and having a continuously curved recess
WO2019119981A1 (zh) * 2017-12-20 2019-06-27 广东爱晟电子科技有限公司 一种复合热敏电阻芯片及其制备方法
US10636550B2 (en) 2017-12-20 2020-04-28 Exsense Electronics Technology Co., Ltd. Composite thermistor chip and preparation method thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100204345B1 (ko) 더어미스터
EP0829886B1 (en) Chip resistor and a method of producing the same
US7524337B2 (en) Method for the manufacture of electrical component
KR100204255B1 (ko) 도전성 칩형 세라믹소자 및 그 제조방법
JP2591205B2 (ja) サーミスタ
JP3036567B2 (ja) 導電性チップ型セラミック素子及びその製造方法
JP3147134B2 (ja) チップ型サーミスタ及びその製造方法
JPH06302406A (ja) チップ型サーミスタ及びその製造方法
JP3109700B2 (ja) チップ型サーミスタ及びその製造方法
JP3625053B2 (ja) チップ型サーミスタ及びその製造方法
JPH10116707A (ja) チップ型サーミスタ及びその製造方法
JP2847102B2 (ja) チップ型サーミスタおよびその製造方法
JP3622853B2 (ja) サーミスタ
JP3580391B2 (ja) 導電性チップ型セラミック素子の製造方法
JP3622851B2 (ja) チップ型サーミスタの製造方法
JPH1092606A (ja) チップ型サーミスタ及びその製造方法
JP3622852B2 (ja) サーミスタの製造方法
JP3148026B2 (ja) サーミスタ及びその製造方法
JP2001135501A (ja) チップ型サーミスタ
JP2004088019A (ja) 電極組成物および電子部品
JP2000068109A (ja) チップ型サーミスタとその製造方法
JPH07201527A (ja) 導電性チップ型セラミック素子の製造方法
JPH08236306A (ja) チップ型サーミスタとその製造方法
JPH07183105A (ja) チップ型サーミスタ
JPH03250604A (ja) サーミスタ

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20000704