JPH0630219B2 - 螢光面形成方法 - Google Patents
螢光面形成方法Info
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- JPH0630219B2 JPH0630219B2 JP60216949A JP21694985A JPH0630219B2 JP H0630219 B2 JPH0630219 B2 JP H0630219B2 JP 60216949 A JP60216949 A JP 60216949A JP 21694985 A JP21694985 A JP 21694985A JP H0630219 B2 JPH0630219 B2 JP H0630219B2
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- Japan
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- phosphor
- coating
- resist
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
- H01J9/22—Applying luminescent coatings
- H01J9/227—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/02—Use of particular materials as binders, particle coatings or suspension media therefor
- C09K11/025—Use of particular materials as binders, particle coatings or suspension media therefor non-luminescent particle coatings or suspension media
-
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
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- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
- H01J9/22—Applying luminescent coatings
- H01J9/227—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines
- H01J9/2271—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines by photographic processes
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は陰極線管螢光面の形成方法に関するものであ
る。
る。
光粘着性を利用して粉体層を形成する方法には例えば特
開昭55-32332号公報に記載されているような、露光によ
り粘着性が発現するレジストを用いて、そのレジスト膜
の露光部に螢光体を接触させることにより、螢光体を付
着させ、露光部以外の螢光体を空気で吹きとばすという
基本プロセスを青・緑・赤発光螢光体の順でくり返して
行い、カラー受像管の螢光面を形成させる方法がある。
この方法に適する螢光体は通常の螢光体である。
開昭55-32332号公報に記載されているような、露光によ
り粘着性が発現するレジストを用いて、そのレジスト膜
の露光部に螢光体を接触させることにより、螢光体を付
着させ、露光部以外の螢光体を空気で吹きとばすという
基本プロセスを青・緑・赤発光螢光体の順でくり返して
行い、カラー受像管の螢光面を形成させる方法がある。
この方法に適する螢光体は通常の螢光体である。
又、特開昭55-69934号公報には、螢光体表面をZn(OH)2
で表面処理すること及びその被覆量が螢光体比0.01〜2w
t%にすることが開示されている。
で表面処理すること及びその被覆量が螢光体比0.01〜2w
t%にすることが開示されている。
しかしながら発明者の実験では、上記公報に示された方
法にはいくつかの欠点がみられた。例えば螢光体の流れ
が十分でなく、全面にべつたりくつついたり、逆に付着
力が不十分でピンホールだらけの膜になつたりして、鮮
明で緻密な膜が得られない場合がみられた。
法にはいくつかの欠点がみられた。例えば螢光体の流れ
が十分でなく、全面にべつたりくつついたり、逆に付着
力が不十分でピンホールだらけの膜になつたりして、鮮
明で緻密な膜が得られない場合がみられた。
この理由は、これらが、本質特性を開示しておらず、又
その態様が不明確であることに起因すると考える。例え
ば表面処理に使用する粒径との相関が考慮されていない
ため、表面処理剤の重量をコントロールしてもこれの粒
径が異なつたりすると最適域の重量はまつたく異なつて
しまう。また表面処理剤の形成のされ方例えば凝集のあ
る場合ない場合等によつても左右されるため、再現性が
得られない場合があることも問題である。
その態様が不明確であることに起因すると考える。例え
ば表面処理に使用する粒径との相関が考慮されていない
ため、表面処理剤の重量をコントロールしてもこれの粒
径が異なつたりすると最適域の重量はまつたく異なつて
しまう。また表面処理剤の形成のされ方例えば凝集のあ
る場合ない場合等によつても左右されるため、再現性が
得られない場合があることも問題である。
本発明は、混色やピンホールのない緻密な膜を備えた螢
光面の形成方法を提供することを目的とする。
光面の形成方法を提供することを目的とする。
本発明は光照射により粘着性を生じるレジストをフエー
スプレートに塗布する工程と、レジスト面をパターン状
に露光することによりパターン状に粘着性を発現させる
工程と、上記フエースプレートに螢光体を投入し、粘着
性を発現したレジスト面に螢光体を付着させる工程と、
フエースプレートに空気を吹き付けて余分な螢光体を除
去する工程とを有する螢光面形成方法において、前記螢
光体は、その表面を粉体粒子により被覆することにより
被覆体を形成しており、この被覆体のBET法比表面積
は、螢光体の比表面積の1.5〜4.0倍の範囲内にあること
を特徴とする螢光面形成方法である。
スプレートに塗布する工程と、レジスト面をパターン状
に露光することによりパターン状に粘着性を発現させる
工程と、上記フエースプレートに螢光体を投入し、粘着
性を発現したレジスト面に螢光体を付着させる工程と、
フエースプレートに空気を吹き付けて余分な螢光体を除
去する工程とを有する螢光面形成方法において、前記螢
光体は、その表面を粉体粒子により被覆することにより
被覆体を形成しており、この被覆体のBET法比表面積
は、螢光体の比表面積の1.5〜4.0倍の範囲内にあること
を特徴とする螢光面形成方法である。
光粘着性レジストを用いた螢光面形成法に適した螢光体
に要求される特性には、従来のスラリー法とは大きく異
なり第一に流動性が良好なことである。これは粘着面に
螢光体粒子を何回も接触させる必要があり滑らかに流れ
ないと、均一な又必要な粒子厚が得られなくなつたり
又、極端な場合は全面にくつついたりしてしまう。
に要求される特性には、従来のスラリー法とは大きく異
なり第一に流動性が良好なことである。これは粘着面に
螢光体粒子を何回も接触させる必要があり滑らかに流れ
ないと、均一な又必要な粒子厚が得られなくなつたり
又、極端な場合は全面にくつついたりしてしまう。
第2にレジスト粘着面との付着力が強いことである。付
着力が弱いと現像圧に耐えられず、又、必要な粒子厚
(膜厚)が得られなくなり、ひどい場合にはほとんど粒
子が付着しなくなる。
着力が弱いと現像圧に耐えられず、又、必要な粒子厚
(膜厚)が得られなくなり、ひどい場合にはほとんど粒
子が付着しなくなる。
第3に混色がないことである。これは従来のスラリー法
と共通する問題であるが、光粘着性法では、粘着面での
水分をすつて付着するため、より厳しいコントロールが
必要である。
と共通する問題であるが、光粘着性法では、粘着面での
水分をすつて付着するため、より厳しいコントロールが
必要である。
発明者等は芯となる螢光体の表面に種々の粉体粒子を被
覆する表面処理の実験を行なつた結果、BET法による
比表面積で評価するとき螢光体粉体粒子を被覆した被覆
体の比表面積と、螢光体の比表面積との比率が上記塗布
特性と強い相関を示すことを確認した。
覆する表面処理の実験を行なつた結果、BET法による
比表面積で評価するとき螢光体粉体粒子を被覆した被覆
体の比表面積と、螢光体の比表面積との比率が上記塗布
特性と強い相関を示すことを確認した。
第1図にこれを示す。
横軸に螢光体のBET法比表面積に対する粉体被覆体の
比表面積の倍率を、縦軸には付着力の目安すとして一定
条件下での取得膜厚を示す。倍率が1.5倍を割ると流れ
特性が悪くなるため、全面かぶるか極端な膜厚低下を示
す。倍率が1.5倍以上では流れは良好である。さらに大
きくなるにつれて付着力は徐々に低下していくが、混色
品位は逆に向上していく。取得膜厚は、他のパラメータ
ーによつても向上は可能であるが、倍率が4.0倍以上に
なると必要取得膜厚確保が困難となるので、実用域は1.
5〜4.0倍である。この範囲内で混色品位、ダステイング
条件等を考慮し最適値の設定を行えば全ての特性に良好
な品位が得られる。
比表面積の倍率を、縦軸には付着力の目安すとして一定
条件下での取得膜厚を示す。倍率が1.5倍を割ると流れ
特性が悪くなるため、全面かぶるか極端な膜厚低下を示
す。倍率が1.5倍以上では流れは良好である。さらに大
きくなるにつれて付着力は徐々に低下していくが、混色
品位は逆に向上していく。取得膜厚は、他のパラメータ
ーによつても向上は可能であるが、倍率が4.0倍以上に
なると必要取得膜厚確保が困難となるので、実用域は1.
5〜4.0倍である。この範囲内で混色品位、ダステイング
条件等を考慮し最適値の設定を行えば全ての特性に良好
な品位が得られる。
興味深いのは、上記相関特性が表面処理剤の種類、その
粒径、処理量や母体螢光体の種類に依存しないことであ
る。
粒径、処理量や母体螢光体の種類に依存しないことであ
る。
第1図において、○印は青螢光体ZnS:Ag(平均粒径6
μ)にSiO2(約0.5μ)を、・印は同じ母体にSiO2(約
0.1〜0.2μ)を、△印は赤螢光体(平均粒径6.5μ)にS
iO2(約0.5μ)を、×印は同じ母体にZn(OH)2をそれぞ
れ被覆したものである。いずれもほゞ同一傾向を示して
いる。
μ)にSiO2(約0.5μ)を、・印は同じ母体にSiO2(約
0.1〜0.2μ)を、△印は赤螢光体(平均粒径6.5μ)にS
iO2(約0.5μ)を、×印は同じ母体にZn(OH)2をそれぞ
れ被覆したものである。いずれもほゞ同一傾向を示して
いる。
なお、顔料を付着するため有機・無機の各種フイルムを
用いる場合があるが、これらに本発明の適用は可能であ
る。
用いる場合があるが、これらに本発明の適用は可能であ
る。
以下に本発明の実施例を示す。
(実施例1) SiO2微粒子(平均粒径0.05μ)分散液に緑色発光螢光体
ZnS:Cu(平均粒径6.5μ)を分散させ、硫酸塩を含む水
溶液を添加することによつてSiO2の表面処理を行なつ
た。螢光体とSiO2分散液との比率及び諸条件をコントロ
ールすることによつて、BET法比表面積が表面処理前
の0.22m2/gに対し1.7倍の0.37m2/gに増加した粉体被覆
体を得た。青螢光体ZnS:Ag及び赤螢光体Y2O2S:Euにつ
いても、各々同様の手法により1.5倍の0.33m2/g、2.5倍
の0.55m2/gの比表面積の粉体被覆体を得た。
ZnS:Cu(平均粒径6.5μ)を分散させ、硫酸塩を含む水
溶液を添加することによつてSiO2の表面処理を行なつ
た。螢光体とSiO2分散液との比率及び諸条件をコントロ
ールすることによつて、BET法比表面積が表面処理前
の0.22m2/gに対し1.7倍の0.37m2/gに増加した粉体被覆
体を得た。青螢光体ZnS:Ag及び赤螢光体Y2O2S:Euにつ
いても、各々同様の手法により1.5倍の0.33m2/g、2.5倍
の0.55m2/gの比表面積の粉体被覆体を得た。
フエースプレートに4−ジメチルアミノベンゼンジアゾ
ニウム塩化亜鉛複塩3wt%、アルギン酸プロピレングリ
コールエステル0.2wt%、界面活性剤プルロニツクL-92
0.01wt%及び残部水からなるレジストを塗布し、1色目
の露光を行なつた。次に青色発光螢光体を投入し、レジ
スト面を所定回数滑らせ、空気現像を行なうと露光部に
青螢光体層が形成された。
ニウム塩化亜鉛複塩3wt%、アルギン酸プロピレングリ
コールエステル0.2wt%、界面活性剤プルロニツクL-92
0.01wt%及び残部水からなるレジストを塗布し、1色目
の露光を行なつた。次に青色発光螢光体を投入し、レジ
スト面を所定回数滑らせ、空気現像を行なうと露光部に
青螢光体層が形成された。
次いで緑色発光螢光体、さらに赤色発光螢光体について
上記同様の手順で螢光体層を形成し螢光面を完成させ
た。
上記同様の手順で螢光体層を形成し螢光面を完成させ
た。
上記実施例により得られた螢光膜は、必要十分な膜厚2
〜3mg/cm2が得られ、混色、ピンホールのない緻密な螢
光膜が再現性良く得られた。
〜3mg/cm2が得られ、混色、ピンホールのない緻密な螢
光膜が再現性良く得られた。
(実施例2) 平均粒径0.01μの超微粒子SiO2懸濁液を用いて同様に芯
の螢光体に対し2〜3倍の比表面積を有する粉体被覆体
を得た。この場合のSiO2量は実施例1の場合に比べ約1/
5の重量で済んだ。
の螢光体に対し2〜3倍の比表面積を有する粉体被覆体
を得た。この場合のSiO2量は実施例1の場合に比べ約1/
5の重量で済んだ。
実施例1と同様にして三色の螢光体について順に作業を
行ない、螢光面を形成した結果、2〜3mg/cm2の膜厚、
混色のない良好な品位を再現性よく得た。
行ない、螢光面を形成した結果、2〜3mg/cm2の膜厚、
混色のない良好な品位を再現性よく得た。
(実施例3) ZnSO4水溶液に赤色発光螢光体Y2O2S:Euを投入し、充分
な撹拌下でアンモニア等のアルカリを添加してPHを7
〜8にまで上昇させ、表面にZn(OH)2を析出させ、水洗
・乾燥によつてZn(OH)2被覆螢光体を得た。この時ZnSO4
濃度、析出スピード等をコントロールし、芯の螢光体に
対し2倍の比表面積を有する粉体被覆体を得た。(実施
例1)にて仕上げた緑螢光体および青螢光体についての
被覆体と組み合せ、カラー受像管螢光面を形成した。
(実施例1)と同様良好な品位を得た。
な撹拌下でアンモニア等のアルカリを添加してPHを7
〜8にまで上昇させ、表面にZn(OH)2を析出させ、水洗
・乾燥によつてZn(OH)2被覆螢光体を得た。この時ZnSO4
濃度、析出スピード等をコントロールし、芯の螢光体に
対し2倍の比表面積を有する粉体被覆体を得た。(実施
例1)にて仕上げた緑螢光体および青螢光体についての
被覆体と組み合せ、カラー受像管螢光面を形成した。
(実施例1)と同様良好な品位を得た。
以上のように本発明によれば、混色、ピンホールのない
緻密な螢光面が得られる。
緻密な螢光面が得られる。
以上は実施例としてカラー受像管への応用について記述
したが、投写管、モノクロ管その他種々の管の螢光面形
成法に本発明を適用することができる。
したが、投写管、モノクロ管その他種々の管の螢光面形
成法に本発明を適用することができる。
第1図は本発明に係る螢光体のBET法比表面積に対す
るその螢光体を粉体粒子で被覆した被覆体の比表面積の
倍率(横軸)と、螢光面の取得膜厚(縦軸)との関係を
示す図である。
るその螢光体を粉体粒子で被覆した被覆体の比表面積の
倍率(横軸)と、螢光面の取得膜厚(縦軸)との関係を
示す図である。
Claims (1)
- 【請求項1】光照射により粘着性を生じるレジストをフ
エースプレートに塗布する工程と、レジスト面をパター
ン状に露光することによりパターン状に粘着性を発現さ
せる工程と、上記フエースプレートに螢光体を投入し、
粘着性を発現したレジスト面に螢光体を付着させる工程
と、フエースプレートに空気を吹き付けて余分な螢光体
を除去する工程とを有する螢光面形成方法において、 前記螢光体は、その表面を粉体粒子により被覆すること
により被覆体を形成しており、この被覆体のBET法比
表面積は、芯の螢光体の比表面積の1.5〜4.0倍の範囲内
にあることを特徴とする螢光面形成方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60216949A JPH0630219B2 (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | 螢光面形成方法 |
CN86106804.1A CN1004663B (zh) | 1985-09-30 | 1986-09-26 | 荧光面的形成方法 |
EP86113372A EP0217338B1 (en) | 1985-09-30 | 1986-09-29 | Method of forming a phosphor screen |
DE8686113372T DE3672263D1 (de) | 1985-09-30 | 1986-09-29 | Verfahren zur herstellung eines phosphorschirmes. |
KR1019860008300A KR900004177B1 (ko) | 1985-09-30 | 1986-09-30 | 음극선관 형광면의 형성방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60216949A JPH0630219B2 (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | 螢光面形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6276239A JPS6276239A (ja) | 1987-04-08 |
JPH0630219B2 true JPH0630219B2 (ja) | 1994-04-20 |
Family
ID=16696448
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60216949A Expired - Lifetime JPH0630219B2 (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | 螢光面形成方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0217338B1 (ja) |
JP (1) | JPH0630219B2 (ja) |
KR (1) | KR900004177B1 (ja) |
CN (1) | CN1004663B (ja) |
DE (1) | DE3672263D1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0445338A1 (de) * | 1990-03-09 | 1991-09-11 | Siemens Aktiengesellschaft | Ausgangsleuchtschirm für einen Röntgenbildverstärker |
CN101248157A (zh) * | 2005-08-24 | 2008-08-20 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 固体二氧化碳物质的形成 |
CN111413727B (zh) * | 2020-04-15 | 2021-12-28 | 中国科学院电工研究所 | 一种电子束发散角测量装置及其制备方法和测量方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6055943B2 (ja) * | 1978-10-25 | 1985-12-07 | 株式会社日立製作所 | けい光面形成方法 |
KR860000438B1 (ko) * | 1981-04-28 | 1986-04-19 | 미요시 세이지 | 수 상 관 |
-
1985
- 1985-09-30 JP JP60216949A patent/JPH0630219B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1986
- 1986-09-26 CN CN86106804.1A patent/CN1004663B/zh not_active Expired
- 1986-09-29 DE DE8686113372T patent/DE3672263D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1986-09-29 EP EP86113372A patent/EP0217338B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-09-30 KR KR1019860008300A patent/KR900004177B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0217338A1 (en) | 1987-04-08 |
CN1004663B (zh) | 1989-06-28 |
JPS6276239A (ja) | 1987-04-08 |
CN86106804A (zh) | 1987-04-01 |
KR870003536A (ko) | 1987-04-18 |
KR900004177B1 (ko) | 1990-06-18 |
EP0217338B1 (en) | 1990-06-27 |
DE3672263D1 (de) | 1990-08-02 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |