JPS6276239A - 螢光面形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は陰極線管螢光面の形成方法に関するものである
。

〔発明の技術的背景〕

光粘着性を利用して粉体層を形成する方法には例えば特
開昭５５−３２３３２号公報に記載されているような、
露光により粘着性が発現するレジストを用いて、そのレ
ジスト膜の露光部に螢光体を接触させることにより、螢
光体を付着させ、露光部以外の螢光体を空気で吹きとば
すという基本プロセスを青・緑・赤発光螢光体の順でく
り返して行い、カラー受像管の螢光面を形成させる方法
がある。

この方法に適する螢光体は通常の螢光体である。

又、特開昭５５−６９９３４号公報には、螢光体表面を
Ｚｎ（ＯＨ）ｔで表面処理すること及びその被覆量が螢
光体比０．０１〜２ｗｔ％にすることが開示されている
。

〔背景技術の問題点〕

しかしながら発明者の実験では、上記公報に示された方
法にはいくつかの欠点が与られた。例えば螢光体の流れ
が十分でなく、全面にべったりくっついたり、逆に付着
力が不十分でピンホールだらけの膜になったりして、鮮
明で緻密な膜が得られない場合がみられた。

この理由は、これらが、本質特性を開示しておらず、又
その態様が不明確であることに起因すると考える。例え
ば表面処理に使用する粒径との相関が考慮されていない
ため、表面処理剤の重量をコントロールしてもこれの粒
径が異なったりすると最適域のＭ量は１つたく異なって
しまう。また表面処理剤の形成のされ方例えば凝集のあ
る場合ない場合等によっても左右されるため、再現性が
得られない場合があることも問題である。

〔発明の目的〕

本発明は、混色やピンホールのない緻密な膜を備えた螢
光面の形成方法を提供することを目的とする。

〔発明の概要〕

本発明は光照射により粘着性を生じるレジストをフェー
スプレートに塗布する工程と、レジスト面をパターン状
に露光することによりパターン状に粘着性を発現させる
工程と、上記フェースプレートに螢光体を投入し、粘着
性を発現したレジスト面に螢光体を付着させる工程と、
フェースプレートに空気を吹き付けて余分な螢光体を除
去する工程とを有する螢光面形成方法において、前記螢
光体は、その表面を粉体粒子により被覆することにより
被覆体を形成しており、この被覆体のＢＢＴ法比表面積
は、螢光体の比表面積の１．５〜４．０倍の範囲内にあ
ることを特徴とする螢光面形成方法である。

光粘着性レジストを用いた螢光面形成法に適した螢光体
に要求される特性には、従来のスラリー法とは大きく異
なり第一に流動性が良好なことである。これは粘着面に
螢光体粒子を側口も接触させる必要があり滑らかに流れ
ないと、均一な又必要な粒子厚が得られなくなったり又
、極端な場合は全面にくっついたりしてしまう。

第２にレジスト粘着面との付着力が強いことである。付
着力が弱いと現像圧に耐えられず、又、必要な粒子厚（
膜厚）が得られなくなり、ひどい場合にはほとんど粒子
が付着しなくなる。

第３に混色がないことである。これは従来のスラリー法
と共通する問題であるが、光粘着性法では、粘着面での
水分をすって付着するため、より厳しいコントロールが
必要である。

発明者等は芯となる螢光体の表面に種々の粉体粒子を被
覆する表面処理の実験を行なった結果、ＢＥＴ法による
比表面積で評価するとき螢光体粉体粒子を被覆した被覆
体の比表面積と、螢光体の比表面積との比率が上記塗布
特性と強い相関を示すことを確認した。

第１図にこれを示す。

横軸に螢光体のＢＥＴ法比表面積に対する粉体被覆体の
比表面積の倍率を、縦軸には付着力の目安すとして一定
条件下での取得膜厚を示す。倍率が１．５倍を割ると流
れ特性が悲くなるため、全面かぶるか極端な膜厚低下を
示す。倍率が１．５倍以上では流れは良好である。さら
に大きくなるにつれて付着力は徐々に低下していくが、
混色品位は逆に向上していく。取得膜厚は、他のパラメ
ーターによっても向上は可能であるが、倍率が４．０倍
以上になると必要取得膜厚確保が困難となるので、実用
域は１゜５〜４．０倍である。この範囲内で混色品位、
ダスティング条件等を考慮し最適値の設定を行えば全て
の特性に良好な品位が得られる。

興味深いのは、上記相関特性が表面処理剤の種類、その
粒径、処理量や母体螢光体の種類に応任しないことであ
る。

第１図において、Ｏ印は育螢光体ｚｎｓ：Ａｇ　（平均
粒径６μ）に５ｉｎ２（約０．５μ）を、・印は同じ母
体にＳｉＯ□（約０．１〜０．２μ）を、Δ印は赤螢光
体（平均粒径６．５μ）にＳｉｎ、（約０．５μ）を、
Ｘ印は同じ母体にｚｎ（ｏＨ）ｚ　（ｉ−それぞれ被覆
したものである。いずれもはソ同−１頃向を示している
。

なお、顔料を付着するため有機・無機の各種フィルムを
用いる場合があるが、これらにも本発明の適用は可能で
ある。

〔発明の実施例〕

以下に本発明の実施例を示す。

（実施例１） ｓｉｏ、微粒子（平均粒径０．０５μ）分数液に緑色発
光螢光体ＺｎＳ：Ｃｕ　（平均粒径６．５μ）を分散さ
せ、硫酸塩を含む水溶液を添加することによってＳｉＯ
２の表面処理を行なった。螢光体とｓｉｏ、分数液との
化部及び諸条件をコントロールすることによって、ＢＥ
Ｔ法比法面表面積面処理前の０．２２　ｍ’／ｇに対し
１．７倍の０．３７ｍ７ｇに増加ｌ−た粉体被覆体を得
た。

前値光体ＺｎＳ：Ａｇ及び赤螢光体Ｙ、Ｏ□Ｓ：Ｅｕ　
についても、各々同様の手法により１．５倍の０．３３
　ｍＶｇ　ｓ２．５倍の０．５５デ／ｇの比表面積の粉
体被覆体を得た。

フェースプレートに４−ジメチルアミノベンゼンジアゾ
ニウム塩化亜鉛複塩３ｗ＋４、アルギン酸プロピレング
リコールエステル０．２ｗｔ％　、　界ｆｆ１ｇ性剤プ
層剤プルロニック２０．０１ｗｔ％及び残部水からなる
レジストを塗布し、１色目の露光を行なった。

次に青色発光螢光体を投入し、レジスト面を所定回数滑
らせ、望見現像を行なうと露光部に背螢光体層が形成さ
れた。

次いで緑色発光螢光体、さらに赤色発光螢光体について
上記同様の手順で螢光体層を形成し螢光面を完成させた
。

上記実施例により得られた螢光膜は、必要十分な膜厚２
〜３ｍｇＡ靜が得られ、混色、ピンポールのない緻密な
螢光膜が再現性良く得られた。

（実施例２） 平均粒径０．０１μの超微粒子５ｉｏ２懸濁しトド、）
て同様に芯の螢光体に対し２〜３倍の比表面積を有する
粉体被覆体を得た。この場合のｓｉｏ、量は実施例】の
場合に比べ約１１５の重量で済Ａ７だ。

実施例】と同様にして三色の螢光体し・こついて１ｆｆ
ｉｔＫ作業？行ない、螢光面を形成した結果、２−３ｍ
ｇ７ｃｍ２の膜厚、混色のない艮好な品位を再現性よく
得た。

（実施例３） Ｚｎ８０．水溶液に赤色発光螢光体Ｙ２Ｏ２Ｓ　：ＥＩ
Ｊ　ｆ　没入し、充分な攪拌下でアンモニア等のアルカ
リを添加してＰＨを７〜８にまで上昇させ、表面にＺｎ
（ＯＨ）２を析出させ、水洗・乾燥によってＺｌｌ　（
ＯＨ）２被覆螢光体を得た。この時ｚｎｓｏ４濃度、析
出スピード等をコントロールし、芯の螢光体に対し、２
倍の比表面積を有する粉体被覆体を得た。（実施列１）
にて仕上げた緑螢光体および背蛍光体についての被覆体
と組み合せ、カラー受像管螢光面を形成した。（実施例
１）と同様良好な品位を得た。

以上のように本発明によれば、混色、ピンホールのない
緻密な螢光面が得られる。

以上は実施例としてカラー受像管への応用について記述
したが、投写管、モノクロ管その他徨々の管の螢光面形
成法に本発明を適用することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る螢光体のＢＥＴ法比法面表面積す
るその螢光体を粉体粒子で被覆した被覆体の比表面積の
倍率（横軸）と、螢光面の取得膜厚（縦軸）との関係を
示す図である。 代理人　弁理士　　則　近　、禮　佑 同　　　　　　　大　　胡　　典　　夫イ吾　　埒１゛ 第１図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 光照射により粘着性を生じるレジストをフェースプレー
   トに塗布する工程と、レジスト面をパターン状に露光す
   ることによりパターン状に粘着性を発現させる工程と、
   上記フェースプレートに螢光体を投入し、粘着性を発現
   したレジスト面に螢光体を付着させる工程と、フェース
   プレートに空気を吹き付けて余分な螢光体を除去する工
   程とを有する螢光面形成方法において、 前記螢光体は、その表面を粉体粒子により被覆すること
   により被覆体を形成しており、この被覆体のＢＥＴ法比
   表面積は、芯の蛍光体の比表面積の１．５〜４．０倍の
   範囲内にあることを特徴とする螢光面形成方法。