JPH06298683A - 光反応による４−（２−置換）フェニルベンジルブロミド類の製造法 - Google Patents
光反応による４−（２−置換）フェニルベンジルブロミド類の製造法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/093—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens
- C07C17/10—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of hydrogen atoms
- C07C17/14—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of hydrogen atoms in the side-chain of aromatic compounds
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Abstract
(57)【要約】
【構成】４−（２−置換）フェニルトルエン類とＮ−ブ
ロモコハク酸イミド（以下 ＮＢＳと略記）、あるいは
１, ３−ジブロモ−５, ５−ジメチルヒダントイン（以
下 ＤＤＨと略記）とを脂肪酸エステル溶媒中で光を照
射し反応させることを特徴とする４−（２−置換）フェ
ニルベンジルブロミド類の製造法。 【効果】アンジオテンシンII拮抗剤の製造に有用な中間
体である４−（２−置換）フェニルベンジルブロミド類
を工業的に有利に合成できる。
ロモコハク酸イミド（以下 ＮＢＳと略記）、あるいは
１, ３−ジブロモ−５, ５−ジメチルヒダントイン（以
下 ＤＤＨと略記）とを脂肪酸エステル溶媒中で光を照
射し反応させることを特徴とする４−（２−置換）フェ
ニルベンジルブロミド類の製造法。 【効果】アンジオテンシンII拮抗剤の製造に有用な中間
体である４−（２−置換）フェニルベンジルブロミド類
を工業的に有利に合成できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、特願平４−３４９７０
号記載のアンジオテンシンII拮抗剤
号記載のアンジオテンシンII拮抗剤
【０００２】
【化３】
【０００３】（式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ6 は
水素原子、アルキル基、アルケニル基などを示し、Ｒ5
は保護されていてもよいカルボキシ基などを示し、Ｒ7
は保護されていてもよいカルボキシ基、テトラゾ−ル基
を示す。）の製造においてイミダゾ−ル環の窒素原子の
置換基を導入する際に有用な中間体である４−（２−置
換）フェニルベンジルブロミドの工業的製造法に関する
ものである。
水素原子、アルキル基、アルケニル基などを示し、Ｒ5
は保護されていてもよいカルボキシ基などを示し、Ｒ7
は保護されていてもよいカルボキシ基、テトラゾ−ル基
を示す。）の製造においてイミダゾ−ル環の窒素原子の
置換基を導入する際に有用な中間体である４−（２−置
換）フェニルベンジルブロミドの工業的製造法に関する
ものである。
【０００４】
【従来の技術】特開平１−１１７８７６号公報には４−
（２−置換）フェニルベンジルブロミドの製造法とし
て、四塩化炭素あるいはベンゼン中、原料である４−
（２−置換）フェニルトルエン類とＮ−ブロモスクシン
イミド（ＮＢＳ）を、触媒量の過酸化ベンゾイル等の過
酸化物の存在下、加熱反応させる方法が知られている。
（２−置換）フェニルベンジルブロミドの製造法とし
て、四塩化炭素あるいはベンゼン中、原料である４−
（２−置換）フェニルトルエン類とＮ−ブロモスクシン
イミド（ＮＢＳ）を、触媒量の過酸化ベンゾイル等の過
酸化物の存在下、加熱反応させる方法が知られている。
【０００５】一方、光反応については、特開平４−２８
２３２７号公報に、ｐ−キシレンをＮＢＳの存在下、光
照射して、ビス（ブロモメチル）ベンゼンが好収率で得
られることが記載されている。
２３２７号公報に、ｐ−キシレンをＮＢＳの存在下、光
照射して、ビス（ブロモメチル）ベンゼンが好収率で得
られることが記載されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし上記の方法は次
の欠点があるため、工業的製造法としては好ましくな
い。
の欠点があるため、工業的製造法としては好ましくな
い。
【０００７】1)ラジカル開始剤として、爆発の危険のあ
る過酸化物を使用し、反応時間が比較的長い。
る過酸化物を使用し、反応時間が比較的長い。
【０００８】2)高温下でのラジカル反応であるため、反
応の制御がし難く、ジブロモ体などの副生成物が生じ
る。
応の制御がし難く、ジブロモ体などの副生成物が生じ
る。
【０００９】3)光反応によるブロム化では、ベンゼン、
四塩化炭素を使用している。
四塩化炭素を使用している。
【００１０】4)本発明の出発物質を用いて、特開平４−
２８２３２７号記載の方法でブロム化しても、高純度の
ブロム体は得られない。
２８２３２７号記載の方法でブロム化しても、高純度の
ブロム体は得られない。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記欠点
を解決すべく鋭意努力検討の結果、欠点を画期的に克服
できる４−（２−置換）フェニルベンジルブロミドの製
造法を見いだし、本発明を完成した。
を解決すべく鋭意努力検討の結果、欠点を画期的に克服
できる４−（２−置換）フェニルベンジルブロミドの製
造法を見いだし、本発明を完成した。
【００１２】すなわち、本発明は一般式
【００１３】
【化４】
【００１４】［式中、Ｒは水素原子、シアノ基、トリチ
ル基で保護されたテトラゾール−５−イル基を示す。］
の化合物を脂肪酸エステル溶媒中ブロム化剤と光反応さ
せる事を特徴とする一般式
ル基で保護されたテトラゾール−５−イル基を示す。］
の化合物を脂肪酸エステル溶媒中ブロム化剤と光反応さ
せる事を特徴とする一般式
【００１５】
【化５】
【００１６】（式中、Ｒは前述したものと同意義を示
す。）を有する４−（２−置換）フェニルベンジルブロ
ミド類の製造法に関するものである。
す。）を有する４−（２−置換）フェニルベンジルブロ
ミド類の製造法に関するものである。
【００１７】以下、本発明を詳細に説明する。
【００１８】原料となる４−（２−置換）フェニルトル
エン類としては、４−フェニルトルエン、４−（２−シ
アノ）フェニルトルエン、４−（２−テトラゾール−５
−イル）フェニルトルエン、４−［２−（１−トリチ
ル）テトラゾール−５−イル]フェニルトルエン等があ
げられる。
エン類としては、４−フェニルトルエン、４−（２−シ
アノ）フェニルトルエン、４−（２−テトラゾール−５
−イル）フェニルトルエン、４−［２−（１−トリチ
ル）テトラゾール−５−イル]フェニルトルエン等があ
げられる。
【００１９】ブロム化剤としては臭素、ＮＢＳ、１，３
−ジブロモ−５，５−ジメチルヒダントイン（ＤＤＨ）
があげられ、好適にはＮＢＳ、ＤＤＨである。
−ジブロモ−５，５−ジメチルヒダントイン（ＤＤＨ）
があげられ、好適にはＮＢＳ、ＤＤＨである。
【００２０】ブロム化剤の使用量としては、原料となる
４−（２−置換）フェニルトルエン類に対し通常1 〜3
モル倍、好ましくは 1.0モル倍程度が良い。
４−（２−置換）フェニルトルエン類に対し通常1 〜3
モル倍、好ましくは 1.0モル倍程度が良い。
【００２１】反応温度としては通常０〜80℃、好ましく
は10〜40℃が良い。
は10〜40℃が良い。
【００２２】反応時間は通常５分乃至２時間であり、好
適には１０分乃至１時間である。
適には１０分乃至１時間である。
【００２３】照射する光としては、通常の光反応で使用
する高圧水銀燈を、直接外部あるいは内部から照射する
が、好ましくは390nm 以上の波長の光が良い。
する高圧水銀燈を、直接外部あるいは内部から照射する
が、好ましくは390nm 以上の波長の光が良い。
【００２４】使用される溶媒の脂肪酸エステルとして
は、例えばギ酸エチル、ギ酸プロピルのようなギ酸エス
テル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのよう
な酢酸エステル類、プロピオン酸メチル、プロピオン酸
エチル、プロピオン酸プロピルのようなプロピオン酸エ
ステル類があげられ、好適には酢酸エステル類であり、
更に好適には酢酸エチルである。
は、例えばギ酸エチル、ギ酸プロピルのようなギ酸エス
テル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのよう
な酢酸エステル類、プロピオン酸メチル、プロピオン酸
エチル、プロピオン酸プロピルのようなプロピオン酸エ
ステル類があげられ、好適には酢酸エステル類であり、
更に好適には酢酸エチルである。
【００２５】反応終了後生成物は、反応混合物より常法
により単離することができる。例えば反応終了後、反応
混合物を重曹水及び食塩水で洗浄し、減圧乾固すること
により単離できる。
により単離することができる。例えば反応終了後、反応
混合物を重曹水及び食塩水で洗浄し、減圧乾固すること
により単離できる。
【００２６】
【発明の効果】本発明方法に従うと、大量合成の場合で
も安全に、４−（２−置換）フェニルトルエン類から、
緩和な条件下、短時間で選択性よく４−（２−置換）フ
ェニルベンジルブロミド類を合成できる上、副生成物が
少ないため、精製工程を必要とせず、本製造法は化合物
（Ｉ）の工業的製造法として好適である。
も安全に、４−（２−置換）フェニルトルエン類から、
緩和な条件下、短時間で選択性よく４−（２−置換）フ
ェニルベンジルブロミド類を合成できる上、副生成物が
少ないため、精製工程を必要とせず、本製造法は化合物
（Ｉ）の工業的製造法として好適である。
【００２７】
【実施例】以下、実施例をあげ本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２８】実施例１ ４−[ ２−（１−トリチル）テトラゾール−５−イル]
フェニルベンジルブロミド 窒素雰囲気下、500ml の内部光源式の光反応容器（理工
科学産業 UVL-400H-500PS ）に、硫酸銅、アンモニア、
亜硝酸ナトリウムから調製した溶液フィルターを使用
し、酢酸エチル 200ml、４−[ ２−（１−トリチル）テ
トラゾール−５−イル] フェニルトルエン5.0g、１, ３
−ジブロモ−５, ５−ジメチルヒダントイン（ＤＤＨ）
1.79g を加え、室温で10分間、光を内部照射し反応させ
た。（光を外部照射する場合には、Ｌ−３９等のフィル
ターを使用してもよい。）次に、３％重曹水100ml と５
％食塩水で、 有機層を順次洗浄した。この有機層を減圧
乾固しイソプロピルエーテル（ＩＰＥ）25mlを加え、目
的物の白色結晶5.24g （収率90％）を得た。このものを
高速液体クロマトグラフィ（ＨＰＬＣ）分析したところ
目的物の純度は90％であった。
フェニルベンジルブロミド 窒素雰囲気下、500ml の内部光源式の光反応容器（理工
科学産業 UVL-400H-500PS ）に、硫酸銅、アンモニア、
亜硝酸ナトリウムから調製した溶液フィルターを使用
し、酢酸エチル 200ml、４−[ ２−（１−トリチル）テ
トラゾール−５−イル] フェニルトルエン5.0g、１, ３
−ジブロモ−５, ５−ジメチルヒダントイン（ＤＤＨ）
1.79g を加え、室温で10分間、光を内部照射し反応させ
た。（光を外部照射する場合には、Ｌ−３９等のフィル
ターを使用してもよい。）次に、３％重曹水100ml と５
％食塩水で、 有機層を順次洗浄した。この有機層を減圧
乾固しイソプロピルエーテル（ＩＰＥ）25mlを加え、目
的物の白色結晶5.24g （収率90％）を得た。このものを
高速液体クロマトグラフィ（ＨＰＬＣ）分析したところ
目的物の純度は90％であった。
【００２９】融点 137 〜138 ℃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，δｐｐｍ）４. ３８（ｓ，２
Ｈ），６. ８０〜７. ６５（ｍ, ２２Ｈ），７. ９０〜
８. １０（ｍ, １Ｈ） 実施例２〜３ 原料を他の４−（２−置換）フェニルトルエン類に替
え、実施例１と同様の処理を行った。
Ｈ），６. ８０〜７. ６５（ｍ, ２２Ｈ），７. ９０〜
８. １０（ｍ, １Ｈ） 実施例２〜３ 原料を他の４−（２−置換）フェニルトルエン類に替
え、実施例１と同様の処理を行った。
【００３０】目的物である４−（２−置換）フェニルベ
ンジルブロミドの収率、純度を表１に示す。
ンジルブロミドの収率、純度を表１に示す。
【００３１】
【表１】
【００３２】実施例４ ブロム化剤をＮ−ブロモスクシンイミド（ＮＢＳ）に替
え、実施例１と同様の処理を行った。
え、実施例１と同様の処理を行った。
【００３３】目的物の収率、及び純度を表２に示す。
【００３４】
【表２】 ──────────────────────────────────── 実施例 ブロム化剤 収率（％） 純度（％） ──────────────────────────────────── 実施例４ ＮＢＳ ８５ ８０ ────────────────────────────────────
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 233/90 Ａ
Claims (1)
- 【請求項１】一般式 【化１】 ［式中、Ｒは水素原子、シアノ基、トリチル基で保護さ
れたテトラゾール−５−イル基を示す。］の化合物を脂
肪酸エステル溶媒中ブロム化剤と光反応させる事を特徴
とする一般式 【化２】 （式中、Ｒは前述したものと同意義を示す。）を有する
４−（２−置換）フェニルベンジルブロミド類の製造
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5088591A JPH06298683A (ja) | 1993-04-15 | 1993-04-15 | 光反応による４−（２−置換）フェニルベンジルブロミド類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5088591A JPH06298683A (ja) | 1993-04-15 | 1993-04-15 | 光反応による４−（２−置換）フェニルベンジルブロミド類の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06298683A true JPH06298683A (ja) | 1994-10-25 |
Family
ID=13947084
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5088591A Pending JPH06298683A (ja) | 1993-04-15 | 1993-04-15 | 光反応による４−（２−置換）フェニルベンジルブロミド類の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06298683A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2771090A1 (fr) * | 1997-11-17 | 1999-05-21 | Sanofi Sa | Procede de preparation de derives de bromomethyl-biphenyle |
| WO2000063164A1 (de) * | 1999-04-15 | 2000-10-26 | Boehringer Ingelheim Pharma Kg | Verfahren zur seitenkettenbromierung von in 2'-stellung substituierten 4-methylbiphenyl-derivaten |
| US7528258B2 (en) | 2004-09-02 | 2009-05-05 | Teva Pharmaceutical Industries Ltd | Preparation of olmesartan medoxomil |
| US7563814B2 (en) | 2005-01-03 | 2009-07-21 | Teva Pharmaceutical Industries Ltd. | Olmesartan medoxomil with reduced levels of impurities |
-
1993
- 1993-04-15 JP JP5088591A patent/JPH06298683A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2771090A1 (fr) * | 1997-11-17 | 1999-05-21 | Sanofi Sa | Procede de preparation de derives de bromomethyl-biphenyle |
| WO1999025681A1 (fr) * | 1997-11-17 | 1999-05-27 | Sanofi-Synthelabo | Procede de preparation de derives de bromomethyl-biphenyle |
| JP2001523658A (ja) * | 1997-11-17 | 2001-11-27 | サノフィ−サンテラボ | ブロモメチル−ビフェニル誘導体の製造方法 |
| WO2000063164A1 (de) * | 1999-04-15 | 2000-10-26 | Boehringer Ingelheim Pharma Kg | Verfahren zur seitenkettenbromierung von in 2'-stellung substituierten 4-methylbiphenyl-derivaten |
| US7528258B2 (en) | 2004-09-02 | 2009-05-05 | Teva Pharmaceutical Industries Ltd | Preparation of olmesartan medoxomil |
| US7563814B2 (en) | 2005-01-03 | 2009-07-21 | Teva Pharmaceutical Industries Ltd. | Olmesartan medoxomil with reduced levels of impurities |
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