JPH06298574A - セラミック接合体及びその接合方法 - Google Patents

セラミック接合体及びその接合方法

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JPH06298574A
JPH06298574A JP10893993A JP10893993A JPH06298574A JP H06298574 A JPH06298574 A JP H06298574A JP 10893993 A JP10893993 A JP 10893993A JP 10893993 A JP10893993 A JP 10893993A JP H06298574 A JPH06298574 A JP H06298574A
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Takashi Morita
敬司 森田
Shunzo Shimai
駿蔵 島井
Noboru Igarashi
昇 五十嵐
Yoshiyuki Naito
良之 内藤
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Coorstek KK
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Toshiba Ceramics Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 セラミック形状体、特に中空部や凹凸部を有
する複雑形状のセラミック形状体を、構成部材で組立て
直接接合で、セラミックス特性を損なうことなく、且
つ、高歩留で形成する。 【構成】 2以上のセラミック部材の組合せからなり、
各部材間が焼成時の粒子成長により接合されていること
を特徴とするセラミック接合体。当該セラミック接合体
は、それを構成する2以上のセラミック部材を仮焼し、
該各仮焼体を組セて、組立て接合部を常圧、荷重下で焼
成して該各部材間を接合して得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はセラミック接合体及びそ
の接合方法に関し、詳しくは部材間に接合材を介するこ
となく接合されるセラミック接合体及びその接合方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】従来から、セラミック形状体、特に、複
雑形状体は、複数の構成部材を形成した後、それぞれを
組立て接合して所定の形状体を得ることが行われてい
る。セラミック部材の接合には、ホットプレス法、焼成
やきばめ法等の直接方式と、有機系、金属蝋付、ガラス
フリット等接合材を用いる間接方式とに大きく分類でき
る。このうち、間接方式接合では、部材間に接合材層が
配置されることになり、接合材の特性により接合体のセ
ラミック製品の特性が左右されることになり、耐熱性や
耐薬品性に問題が生じ、セラミックス本来の機能が損な
われるおそれがあった。
【0003】一方、直接方式のホットプレス法や焼きば
め法は、上記間接方式での問題は生じない。しかし、ホ
ットプレス法は接合部に一軸方向に加圧をかけ焼結時に
強制的に接合するもので、中空形状体の接合は困難であ
り、また、特別な設備を要し大量生産が難しく工業上実
用性に欠ける。また、焼きばめ法は、従来、高圧ナトリ
ウムランプの発光管の透光性アルミナ管と電極部ディス
クとの接合等リング状体に用いられるのみで、組合せ形
状が制限される。また、焼成後、外部部材の径より、内
部部材の径が大きくなるように設定し、焼結時に圧縮応
力を発生させると共に、結晶成長により接合部の結晶界
面が一体化されるようにするため、比表面積等の原料粉
末物性の選択や、収縮率を勘案し接合部材の一方を仮焼
して用いる等の焼成収縮を制御する必要があり、処理操
作が煩雑となるおそれがある。
【0004】更にまた、間接方式の1種として、成形体
原料とほぼ同一組成のスリップを接合材に用いる方式も
提案されている。例えば、中空形状や凹凸物等の複雑形
状のセラミック形状体を得る場合は、従来から鋳込成
形、押出成形、ドクターブレード等の湿式成形で得られ
た成形部材を、要すればスリップを用い、圧着または溶
融接合後、焼成する方法が行われている。しかし、この
方法では、高強度のセラミック接合体が得ることができ
ない。また、特開平1−133986号公報には、脱型
直後の成形部材でなく機械加工後の成形体や仮焼体の接
合を、スリップに解膠剤を含ませて行う方法が提案され
ている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記い
ずれの従来法も、成形部材の接合に際し、特別な設備や
接合材を必要とし、また、操作上煩雑な制御をしなけれ
ばならない。セラミック製品の工業的生産は、原料粉末
の造粒工程、プレス成形工程、乾燥工程、要すれば機械
加工及び/または仮焼工程を経て、焼成工程、機械加工
の一連の工程で処理するのが通常である。発明者らは、
上記従来の接合方法の問題点に鑑み、セラミック形状
体、特に中空部または凹凸部を有する複雑形状のセラミ
ック形状体の生産にあたり、成形部材の接合操作を上記
一連のセラミック製造工程内の操作で、直接接合方式で
行うことを目的に鋭意検討した結果、本発明を完成する
に到った。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、2以上
のセラミック部材の組合せからなり、各部材間が焼成時
の粒子成長により接合されていることを特徴とするセラ
ミック接合体が提供される。また、セラミック接合体を
構成する2以上のセラミック部材の各仮焼体を組立て、
組立て接合部を常圧、荷重下で焼成し該各部材間を接合
することを特徴とするセラミック接合体の接合方法が提
供される。更に、本発明では、各部材を平板状に形成
し、それら部材を積み重ねた積層部材の上部方向から加
重して、焼成することにより中空部または凹凸部を有す
るセラミック接合体を得ることができる。
【0007】
【作用】本発明のセラミック接合体は上記のように構成
され、セラミック接合体を構成する各部材間の接合界面
のセラミック微粒子が、焼成時に結晶粒子として成長し
て結合することにより一体化され、各部材間は接合材を
介することなく直接接合される。そのため、セラミック
スの特性が損なわれるとなく、耐熱性、耐薬品性に優れ
たセラミック接合体となる。また、本発明のセラミック
接合体の部材間の接合は、仮焼後、常圧、荷重下で焼成
して行うため、接合面での焼成収縮差により生じる剪断
応力に抗して各部材を緊密に接合することができる。特
に、中空体や凹凸の複雑形状のセラミック接合体を構成
する各部材を平板状に形成し、部材を積層して組立てる
ことにより、荷重下の焼成処理操作が容易に行うことが
できる。通常、単なるセラミック成形部材の重力接触焼
成では接合できず、また、荷重下での成形体の焼成で
は、荷重による座屈や焼成収縮応力による炉床等被焼成
体の支持板との摩擦のための破損が生じ易かったことに
比し、本発明の各接合部材は仮焼体として焼成接合する
ため、焼成収縮率が低減され、荷重下でも破損が生じる
ことなく、且つ、変形することなく所定の形状でセラミ
ック接合体を得ることできる。
【0008】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
セラミック接合体を構成するセラミック部材の原料セラ
ミックスは、Al23 系、Al23 ・SiO2 系、
ZrO2 系、SiC系、SiN3 系等常圧で焼結可能な
ものであれば特に制限されるものでない。セラミック部
材は、上記原料セラミック粉末に、必要に応じ成形助
剤、焼結助剤を添加し、要すれば造粒した後、加圧成
形、鋳込成形、押出成形、射出成形等で成形して得ると
ができる。通常、加圧成形で製作する。得られたセラミ
ック成形部材は、乾燥後、必要に応じて整形や孔穿設等
の加工処理することができる。
【0009】本発明において、上記のように成形、乾燥
して得たセラミック成形部材は、常圧荷重下の焼成接合
前に、仮焼処理をして仮焼体とする。仮焼体とすること
なく荷重下焼成で接合した場合は、乾燥体の強度では荷
重に十分抗することができず座屈したり、また焼成時の
収縮に対し荷重抵抗が大きく、乾燥成形体が破損するた
め好ましくない。本発明における仮焼は、セラミック粒
子を焼結させ上記のようにして得たセラミック成形部材
の圧縮強度が、次工程の焼成接合時の荷重量に耐え得る
ように増大させるようにすればよい。従って、仮焼の温
度及び時間等の仮焼条件は、セラミック部材の原料粉末
の種類、部材成形体の形状及び大きさ、荷重量等焼成接
合時の条件等に応じて適宜選択することができる。
【0010】上記のようにして仮焼されたセラミック成
形部材の仮焼体は、それぞれ所定の接合体を構成するよ
うに組立てる。この場合、セラミック部材仮焼体は、好
ましくは研削加工し、より好ましくは更に研磨加工し
て、各接合面を平滑処理した後組立てて焼成接合するの
がよい。セラミック成形部材は、仮焼により反り等の変
形が生じていることが多いことと、接合面間の間隙を極
小として焼成接合を容易に完全に行うためである。通
常、接合面の研削加工は、表面最大粗さ(Rmax )を仮
焼体の結晶粒径と同等またはそれ以下にするのが好まし
い。例えば、Al23 を1400℃で仮焼した場合の
結晶粒径は約1μmであり、この仮焼部材接合面の表面
粗さRmax は、1μm以下とするのが好ましく、より好
ましくは研磨して0.3μm以下とすることにより焼成
接合を完全化することができる。
【0011】接合面等を研削、研磨加工した仮焼部材
を、所定の形状に接合組立て、焼成接合する。この場
合、接合面に所定の荷重が課せられるようにして焼成す
る。通常、接合面の上部方向から加重されるように、荷
重用錘り等を組立部材の上部に載置する。本発明のセラ
ミック接合体は、特に、各部材を平板状に、例えば凹面
板や環状の枠板等に形成し、それぞれを積み重ねるよう
に積層して、中空部や凹凸部を有する形状体に組立てる
ようにするのが好ましい。この場合、積層した平板状部
材の上下に支持板を配置し、上部支持板上に錘り等を載
置することができる。荷重は接合面全体に均一にかかる
ようにする。荷重量は、各部材の組立接合面間が全体に
緊密に接するように、部材仮焼体の仮焼状態やセラミッ
ク接合体の形状、大きさ等により適宜選択することがで
きる。例えば、平板状で20〜100g/cm2 にすれ
ばよい。本発明の荷重下の焼成は、上記の荷重状態を保
持するようにすればよく、他の条件は通常公知のセラミ
ックスの常圧下の焼成と同様に行うことができる。即
ち、焼成炉としては、ガス燃焼炉、電気炉等いずれでも
よい。また、焼成雰囲気は、大気中、水素等の還元雰囲
気中、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気中等被焼成
体のセラミック仮焼組立部材の原料粉末の種類、目的と
するセラミックス体等に応じて適宜選択することができ
る。更に、焼成は、上記仮焼温度より高温で、原料セラ
ミック粉末の種類により適宜選択することができる。通
常、仮焼温度より約200〜500℃高い温度で、15
00〜1850℃で焼成する。
【0012】本発明のセラミック接合体は、上記のよう
にセラミック部材の仮焼体を研削、研磨加工し、所定形
状に接合面を組立て、接合面を荷重下に、常圧で焼成し
て各部材を接合面で焼結接合して、一体化することがで
きる。焼成接合により一体化されたセラミック接合体
は、更に最終加工等の処理を行い、所定のセラミック体
を得ることができる。
【0013】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づき更に詳細に説
明する。但し、本発明は下記実施例により制限されるも
のでない。 実施例1〜9 粒子径0.2μm、比表面積25m2 /gで、純度9
9.99%の高純度アルミナ粉末に、バインダーとして
ポリビニルアルコール(PVA)2重量%、酸化マグネ
シウム(MgO)500ppmを添加し、スプレードラ
イヤーにて造粒した。得られた造粒粉を用い、成形圧1
トン/cm2 でプレス成形して、厚さ20mm、50×
50(mm)の正方板の成形体を得た。成形体の表面を
粒度#80の砥石を用い平面研削加工して、接合用部材
試料を作製した。
【0014】上記のように作製した部材試料を、大気
中、表1に示した仮焼温度で仮焼した。得られた仮焼部
材試料の仮焼収縮率を測定し表1に示した。次いで、仮
焼部材試料2枚を、そのまま(実施例1〜2)、平板表
面を表1に示した粒度#140の砥石表面研削加工(実
施例3〜7)、#140での砥石研削後研磨加工(実施
例8〜9)の状態で合わせ、常圧、大気中、荷重下で焼
成接合した。各焼成温度及び荷重量は表1に示した。な
お、荷重は、合わせた部材試料2枚をアルミナ製耐火物
の平板間に静置し、その上部に当該荷重の錘りを載置し
て行った。得られた各接合体の接合断面をSEM(走査
型電子顕微鏡)で観察し、焼成後に接合界面で結晶が連
続している比率を接合比率として算出した。得られた結
果を表1に示した。接合比率が約80%以上では、接合
界面の殆どの結晶が一体となっており実質的に接合面が
残存しない状態であり、完全に接合されたことが確認さ
れた。
【0015】
【表1】
【0016】比較例1〜2 実施例1と同様にして接合用部材試料を作製した。得ら
れた接合用部材試料を仮焼することなく、2枚の成形体
の研削面を合わせて表1に示した条件で実施例1と同様
に焼成接合した。得られた接合体の接合断面を実施例1
と同様に観察し、接合比率を算出した。得られた結果を
表1に示した。
【0017】比較例3〜6 実施例1と同様にして作製した接合用部材試料を表1の
仮焼温度で、実施例1と同様に仮焼し、仮焼接合用部材
試料を作製した。得られた仮焼部材試料の仮焼収縮率を
測定し表1に示した。次いで、仮焼部材試料2枚を、そ
のまま(比較例3〜4)、平板表面を表1に示した粒度
#140の砥石表面研削加工(比較例5)、#140で
の砥石研削後研磨加工(比較例6)の状態で合わせ、表
1に示した条件で実施例1と同様に焼成接合した。得ら
れた接合体の接合断面を実施例1と同様に観察し、接合
比率を算出した。得られた結果を表1に示した。
【0018】上記の実施例及び比較例より、明らかに成
形部材は未仮焼のまま焼成接合することができないこ
と、仮焼温度が1000℃未満の900℃では仮焼収縮
率が低く、荷重下で焼成接合すると接合体に破損が生
じ、また仮焼温度が1000℃以上では、無荷重では焼
成接合力が低いことが分かる。一方、仮焼体表面を研削
研磨した場合には、無荷重の焼成接合でも接合力は比較
的向上するが、実施例の荷重下での焼成接合に比して接
合力が低下していることが分かる。また、仮焼温度が1
000℃以上で高くなるほど、荷重量を増大させる必要
があることも分かる。
【0019】実施例10 粒子径0.5μm、比表面積10m2 /gで、純度9
9.5%のアルミナ粉末に、有機バインダー、水等の成
形助剤を添加し、更に焼結助剤のMgOを1000pp
mを添加して、得られたスラリーを用い押出成形にて厚
さ2mmの生成形シートを作製した。得られた生成形シ
ートから、同一外形で、それぞれが図1に示したA、B
及びCの形状を有する平板形状体を切り出した。切り出
した各形状体を1100℃で大気中で仮焼して、有機バ
インダーを飛散させ強度を高めた。生成形シートの強度
は1MPaであったのに対し、得られた仮焼体の圧縮強
度は30MPaであった。得られたA、B及びCの仮焼
形状体を、図2に示したように外形を揃えて積み重ね組
立て、上下の支持板1及び2に挟んだ形態で、支持体2
上全体に加重されるように20g/cm2 の錘りWを載
置して荷重し、電気炉内に静置し大気中、常圧、160
0℃で焼成してA、B及びCの仮焼形状体を焼成接合し
た。得られた焼成接合体をダイヤモンド研削砥石で仕上
げ加工し、真空チャックを得た。得られた真空チャック
にはエアー漏れはなかった。更に、形成の際、従来法の
ように接着剤を用いていないため、300℃以上の高温
での使用が可能であった。
【0020】実施例11 粒子径1.0μm、比表面積5m2 /gで、純度99.
99%の高純度ムライト粉末に、バインダーとしてPV
A2重量%添加し、スプレードライヤーにて造粒した。
得られた造粒粉を用い、成形圧1トン/cm2 でプレス
成形して、厚さ10mm、直径150mmφの円板状成
形体を2枚得た。得られた成形体を1400℃、大気中
で仮焼した。仮焼体の収縮率を測定した結果、成形体収
縮の98%が完了していた。得られた仮焼成形体の接合
面を研削加工し、更に接合面をラップ研磨した。得られ
た研磨後の仮焼体の表面精度はRmax で0.3μmであ
った。次いで、研磨面を合わせ、80g/cm2 の荷重
下で、常圧大気中、1800℃で焼成接合した。得られ
た円板状セラミック接合体の、接合断面の接合比率は9
0%であり、接合強度は200MPaであった。
【0021】
【発明の効果】本発明のセラミック接合体は、接合材を
用いることなく各部材間を焼成時の結晶粒成長により接
合一体化して得られるため、接合強度が一体成形で得た
セラミック体に匹敵すると共に、セラミックスの本来の
特性を損なうこともない。また、接合方法は、成形部材
を仮焼した後、適宜、接合面を研削、研磨等で面精度を
向上させ、所定形状に組立てて接合面を荷重下に焼成す
るものであり、焼成時の破損もなく、セラミック接合体
の各部材を効率よく容易に接合することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例のセラミック接合体である真
空チャックを構成する部材である。
【図2】本発明の荷重下、焼成接合時の一形態のであっ
て、図1に示した部材を積層して組立て加重した例であ
る。
【符号の説明】
A、B、C セラミック接合体構成部材 W 荷重錘り 1、2 焼成支持板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 内藤 良之 千葉県東金市小沼田字戌開1573−8 東芝 セラミックス株式会社東金工場内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 2以上のセラミック部材の組合せからな
    り、各部材間が焼成時の粒子成長により接合されている
    ことを特徴とするセラミック接合体。
  2. 【請求項2】 セラミック接合体を構成する2以上のセ
    ラミック部材の各仮焼体を組立て、組立て接合部を常
    圧、荷重下で焼成し該各部材間を接合することを特徴と
    するセラミック接合体の接合方法。
  3. 【請求項3】 該セラミック部材が平板状で、且つ、該
    セラミック接合体が該平板状セラミック部材を積層して
    形成され、中空部または凹凸部を有する請求項2記載の
    セラミック接合体の接合方法。
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000179401A (ja) * 1998-12-17 2000-06-27 Daimlerchrysler Ag 推進装置
WO2002083597A1 (fr) * 2001-04-12 2002-10-24 Ibiden Co., Ltd. Corps soude en ceramique et son procede de fabrication, structure en ceramique destinee a une tranche a semi-conducteurs
JP2011104657A (ja) * 1998-11-20 2011-06-02 Rolls-Royce Corp 鋳造用金型装置
WO2014007339A1 (ja) * 2012-07-05 2014-01-09 株式会社ニコン 多結晶CaF2部材、プラズマ処理装置用部材、プラズマ処理装置およびフォーカスリングの製造方法
JP2015030629A (ja) * 2013-07-31 2015-02-16 太平洋セメント株式会社 アルミナセラミックス接合体及びその製造方法
JP2015515438A (ja) * 2012-03-22 2015-05-28 サン−ゴバン セラミックス アンド プラスティクス,インコーポレイティド 焼結結合されたセラミック物品
JP2015517969A (ja) * 2012-03-22 2015-06-25 サン−ゴバン セラミックス アンド プラスティクス,インコーポレイティド 長尺チューブ構造体
US9751686B2 (en) 2012-03-22 2017-09-05 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Sinter bonded containment tube
JP2021038101A (ja) * 2019-08-30 2021-03-11 日本特殊陶業株式会社 Al2O3焼結部材の製造方法

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011104657A (ja) * 1998-11-20 2011-06-02 Rolls-Royce Corp 鋳造用金型装置
JP2000179401A (ja) * 1998-12-17 2000-06-27 Daimlerchrysler Ag 推進装置
WO2002083597A1 (fr) * 2001-04-12 2002-10-24 Ibiden Co., Ltd. Corps soude en ceramique et son procede de fabrication, structure en ceramique destinee a une tranche a semi-conducteurs
CN107061873A (zh) * 2012-03-22 2017-08-18 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 加长管结构及其形成方法
JP2017071549A (ja) * 2012-03-22 2017-04-13 サン−ゴバン セラミックス アンド プラスティクス,インコーポレイティド 長尺チューブ構造体
JP2019023158A (ja) * 2012-03-22 2019-02-14 サン−ゴバン セラミックス アンド プラスティクス,インコーポレイティド 長尺チューブ構造体
US9995417B2 (en) 2012-03-22 2018-06-12 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Extended length tube structures
JP2015515438A (ja) * 2012-03-22 2015-05-28 サン−ゴバン セラミックス アンド プラスティクス,インコーポレイティド 焼結結合されたセラミック物品
JP2015517969A (ja) * 2012-03-22 2015-06-25 サン−ゴバン セラミックス アンド プラスティクス,インコーポレイティド 長尺チューブ構造体
US9751686B2 (en) 2012-03-22 2017-09-05 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Sinter bonded containment tube
JP2017081816A (ja) * 2012-03-22 2017-05-18 サン−ゴバン セラミックス アンド プラスティクス,インコーポレイティド 焼結結合されたセラミック物品
WO2014007339A1 (ja) * 2012-07-05 2014-01-09 株式会社ニコン 多結晶CaF2部材、プラズマ処理装置用部材、プラズマ処理装置およびフォーカスリングの製造方法
JPWO2014007339A1 (ja) * 2012-07-05 2016-06-02 株式会社ニコン 多結晶CaF2部材、プラズマ処理装置用部材、プラズマ処理装置およびフォーカスリングの製造方法
TWI612186B (zh) * 2012-07-05 2018-01-21 Nikon Corp 多晶CaF構件、電漿處理裝置用構件、電漿處理裝置及聚焦環之製造方法
KR20150035778A (ko) * 2012-07-05 2015-04-07 가부시키가이샤 니콘 다결정 CaF2 부재, 플라즈마 처리 장치용 부재, 플라즈마 처리 장치 및 포커스 링의 제조 방법
US10074523B2 (en) 2012-07-05 2018-09-11 Nikon Corporation Polycrystalline CaF2 member, member for plasma treatment device, plasma treatment device, and method for producing focusing ring
CN104428271A (zh) * 2012-07-05 2015-03-18 株式会社尼康 多晶CaF2构件、用于等离子体处理装置的构件、等离子体处理装置及聚焦环的制造方法
JP2015030629A (ja) * 2013-07-31 2015-02-16 太平洋セメント株式会社 アルミナセラミックス接合体及びその製造方法
JP2021038101A (ja) * 2019-08-30 2021-03-11 日本特殊陶業株式会社 Al2O3焼結部材の製造方法

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