JPH06275661A - 半導体素子の基板接着構造 - Google Patents
半導体素子の基板接着構造Info
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- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32225—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
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- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32245—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 従来よりも作業工程の簡略化およびコストダ
ウンを図れる半導体素子の基板接着構造を提供する。 【構成】 UV硬化樹脂接着剤2’に予め、透明ガラス
または透光性樹脂等から作られた紫外光を透過するビー
ズ6を混入してなることを特徴とする。
ウンを図れる半導体素子の基板接着構造を提供する。 【構成】 UV硬化樹脂接着剤2’に予め、透明ガラス
または透光性樹脂等から作られた紫外光を透過するビー
ズ6を混入してなることを特徴とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばホログラムレー
ザーユニットの受光素子を基板に接着する半導体素子の
基板接着構造に関する。
ザーユニットの受光素子を基板に接着する半導体素子の
基板接着構造に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の技術について図4を参照して説明
する。図4(a),(b)は従来例によるUV硬化樹脂
接着剤を使用して、ホログラムレーザーユニット用の受
光素子を基板に接着する構造を説明するための断面図で
ある。
する。図4(a),(b)は従来例によるUV硬化樹脂
接着剤を使用して、ホログラムレーザーユニット用の受
光素子を基板に接着する構造を説明するための断面図で
ある。
【0003】従来は、例えば受光素子等の半導体ペレッ
トを基板に接着、接合させる場合、紫外光の照射によっ
て比較的短時間で硬化するUV硬化性樹脂を用いてい
た。ところが、紫外光が樹脂に十分照射できない環境、
構造等においてはUV硬化性のみでは十分な接合強度が
得られない、または十分な硬化までに時間を要するとい
った問題があり、UV硬化性樹脂に加え嫌気硬化性およ
び熱硬化性の2つの特性をもたせていた。さらに、UV
硬化性をより有効に生かせるために、以下のような構造
が実現されている。
トを基板に接着、接合させる場合、紫外光の照射によっ
て比較的短時間で硬化するUV硬化性樹脂を用いてい
た。ところが、紫外光が樹脂に十分照射できない環境、
構造等においてはUV硬化性のみでは十分な接合強度が
得られない、または十分な硬化までに時間を要するとい
った問題があり、UV硬化性樹脂に加え嫌気硬化性およ
び熱硬化性の2つの特性をもたせていた。さらに、UV
硬化性をより有効に生かせるために、以下のような構造
が実現されている。
【0004】まず図4(a)に示すように、基板1に対
してUV硬化樹脂接着剤(以下、単に接着剤と記す)2
を塗布し、その上に下面に光透過用の薄板3を設けた受
光素子4を載置する。ここで、接着剤2は、前述のよう
にUV硬化性に加え嫌気硬化性と熱硬化性の2つの特性
を有するものである。また、受光素子4の下面に薄板3
を設けているのは、受光素子4と基板1との間に紫外光
5を十分導き、硬化が速やかに行われるようにするため
である。
してUV硬化樹脂接着剤(以下、単に接着剤と記す)2
を塗布し、その上に下面に光透過用の薄板3を設けた受
光素子4を載置する。ここで、接着剤2は、前述のよう
にUV硬化性に加え嫌気硬化性と熱硬化性の2つの特性
を有するものである。また、受光素子4の下面に薄板3
を設けているのは、受光素子4と基板1との間に紫外光
5を十分導き、硬化が速やかに行われるようにするため
である。
【0005】次に、図4(b)に示すように、基板1全
体に対して紫外光5の照射を行い、接着剤2を硬化させ
受光素子を基板1に接着、固定する。
体に対して紫外光5の照射を行い、接着剤2を硬化させ
受光素子を基板1に接着、固定する。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところが上記の従来構
造によれば、紫外光5を基板1と受光素子4との間に導
く光透過用の薄板3を接着層の部分に設けなければなら
ず、この層を形成する工程が別途必要となり、作業効率
の低下、コストアップにつながっていた。
造によれば、紫外光5を基板1と受光素子4との間に導
く光透過用の薄板3を接着層の部分に設けなければなら
ず、この層を形成する工程が別途必要となり、作業効率
の低下、コストアップにつながっていた。
【0007】また、嫌気硬化性、熱硬化性を生かすため
には嫌気性の保持、加熱が可能という条件設定が不可欠
であり、不便であった。
には嫌気性の保持、加熱が可能という条件設定が不可欠
であり、不便であった。
【0008】そこで本発明の目的は、作業工程が少なく
従来よりもコストダウンを図れる接着構造を提供するこ
とにある。
従来よりもコストダウンを図れる接着構造を提供するこ
とにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明は、基板に半導体素子をUV硬化樹脂接着剤を
用いて接着する半導体素子の基板接着構造において、前
記UV硬化樹脂接着剤に予め紫外光を透過するビーズを
混入してなることを特徴とする。
に本発明は、基板に半導体素子をUV硬化樹脂接着剤を
用いて接着する半導体素子の基板接着構造において、前
記UV硬化樹脂接着剤に予め紫外光を透過するビーズを
混入してなることを特徴とする。
【0010】
【作用】樹脂に紫外光を透過するビーズを予め混入して
いるので、外部からの紫外光は樹脂中のビーズを介して
基板、半導体素子の接合部の内方にまで十分導かれる。
従って、従来不可欠であった導光のための薄板等は不要
となり、工程の簡略化、コストダウンを図れる。
いるので、外部からの紫外光は樹脂中のビーズを介して
基板、半導体素子の接合部の内方にまで十分導かれる。
従って、従来不可欠であった導光のための薄板等は不要
となり、工程の簡略化、コストダウンを図れる。
【0011】また、従来例による導光のための薄板は接
着剤とは別体であったが、本発明においては接着剤自体
に導光性をもたせているので、紫外光による硬化性が従
来よりも優れている。従って、従来の接着剤に加えてい
た嫌気硬化性、熱硬化性を持たせる必要がなくなり、さ
らにコストダウンを図れる。
着剤とは別体であったが、本発明においては接着剤自体
に導光性をもたせているので、紫外光による硬化性が従
来よりも優れている。従って、従来の接着剤に加えてい
た嫌気硬化性、熱硬化性を持たせる必要がなくなり、さ
らにコストダウンを図れる。
【0012】
【実施例】本発明の一実施例について、図1を参照して
説明する。図1(a)乃至(c)は、本実施例による半
導体素子の基板接着方法を示す工程図である。なお、図
5に示す従来例と同一機能部分には同一記号を付してい
る。
説明する。図1(a)乃至(c)は、本実施例による半
導体素子の基板接着方法を示す工程図である。なお、図
5に示す従来例と同一機能部分には同一記号を付してい
る。
【0013】本実施例の特徴は、図1(a)に示すよう
に、UV硬化樹脂接着剤2に紫外光を透過する材料、例
えば透明ガラスまたは樹脂から作られたビーズ6を混入
させた点にある。樹脂の材料としては、例えばジビニル
ベンゼン系の高分子樹脂を使用する。ビーズの形状は球
形とし、その大きさは5um〜100um(最適値は5
um〜50um)、混入の比率は重量パーセンテージで
5%〜30%(最適値は5%〜10%)である。
に、UV硬化樹脂接着剤2に紫外光を透過する材料、例
えば透明ガラスまたは樹脂から作られたビーズ6を混入
させた点にある。樹脂の材料としては、例えばジビニル
ベンゼン系の高分子樹脂を使用する。ビーズの形状は球
形とし、その大きさは5um〜100um(最適値は5
um〜50um)、混入の比率は重量パーセンテージで
5%〜30%(最適値は5%〜10%)である。
【0014】上記ビーズ入りのUV硬化樹脂接着剤2’
(以下、単に接着剤2’と記す)をディスペンサー7を
用いて基板1上に塗布する。その後、図1(b)に示す
ように、接着剤2’の上に半導体ペレット8を載置し、
次いで図1(c)に示すように、基板全体に紫外光5を
照射して接着剤2’を硬化して基板1への受光素子8の
接着、接合を完了する。
(以下、単に接着剤2’と記す)をディスペンサー7を
用いて基板1上に塗布する。その後、図1(b)に示す
ように、接着剤2’の上に半導体ペレット8を載置し、
次いで図1(c)に示すように、基板全体に紫外光5を
照射して接着剤2’を硬化して基板1への受光素子8の
接着、接合を完了する。
【0015】以上の方法によれば、樹脂に透光性のビー
ズ6を混入しているので、外部からの紫外光はビーズ6
を介して基板1、半導体ペレット8の接合部の内方にま
で十分導かれる。従って、従来不可欠であった導光のた
めの薄板等は不要となる。
ズ6を混入しているので、外部からの紫外光はビーズ6
を介して基板1、半導体ペレット8の接合部の内方にま
で十分導かれる。従って、従来不可欠であった導光のた
めの薄板等は不要となる。
【0016】また、従来例による導光のための薄板は接
着剤とは別体であったが、本実施例においては接着剤
2’自体に導光性をもたせているので、紫外光による硬
化性が従来よりも優れている。従って、従来の接着剤に
加えていた嫌気硬化性、熱硬化性を持たせる必要がなく
なる。このように、接着剤に紫外光を透過するビーズ6
を混入するという簡単な方法で接着剤2’の均一な硬化
を安定して行え、従来不可欠であった導光のための薄板
等を接合部に設けるといった工程を削除できるととも
に、接着剤には嫌気硬化性、熱硬化性を加える必要もな
くなるので、工程の簡略化、コストダウンを図れる。
着剤とは別体であったが、本実施例においては接着剤
2’自体に導光性をもたせているので、紫外光による硬
化性が従来よりも優れている。従って、従来の接着剤に
加えていた嫌気硬化性、熱硬化性を持たせる必要がなく
なる。このように、接着剤に紫外光を透過するビーズ6
を混入するという簡単な方法で接着剤2’の均一な硬化
を安定して行え、従来不可欠であった導光のための薄板
等を接合部に設けるといった工程を削除できるととも
に、接着剤には嫌気硬化性、熱硬化性を加える必要もな
くなるので、工程の簡略化、コストダウンを図れる。
【0017】図2及び図3は本発明の他の実施例であ
る。図2(a)及び(b)は基板部に半導体素子部を接
着する工程を示す斜視図、図3は図2(b)のA面断面
図である。
る。図2(a)及び(b)は基板部に半導体素子部を接
着する工程を示す斜視図、図3は図2(b)のA面断面
図である。
【0018】ここでは、図1の実施例と異なる点につい
てのみ説明する。
てのみ説明する。
【0019】本実施例は図2(a)に示すように、基板
部10に接着剤2’を塗布した後、図2(b)に示すよ
うに基板部10とほぼ同じ大きさの半導体素子部11を
搭載し、押圧して固定するものである。以下、紫外光を
照射して硬化させる工程は図1の実施例と同一である。
本実施例の特徴は、図3に示すようにビーズ6の直径が
基板部10と半導体素子部11との間隙分となっている
点である。このように、ビーズ6の直径を必要とする基
板部10,半導体素子部11間の間隙と同一とすること
によって、間隙の距離を調整機器等を使用する事なく容
易に確保できる。
部10に接着剤2’を塗布した後、図2(b)に示すよ
うに基板部10とほぼ同じ大きさの半導体素子部11を
搭載し、押圧して固定するものである。以下、紫外光を
照射して硬化させる工程は図1の実施例と同一である。
本実施例の特徴は、図3に示すようにビーズ6の直径が
基板部10と半導体素子部11との間隙分となっている
点である。このように、ビーズ6の直径を必要とする基
板部10,半導体素子部11間の間隙と同一とすること
によって、間隙の距離を調整機器等を使用する事なく容
易に確保できる。
【0020】なお、図1の実施例では、ビーズ6の形状
として球形のものを用いたが、たとえば、半球状や微小
な短冊形状でもよい。また、基板上に半導体ペレットを
接着、接合させる例を示しているが、基板の代わりにリ
ードフレーム、ステムを、また半導体ペレットの代わり
にC,R,L等の小型電子部品を接着、接合させる場合
でも同様である。また、図1乃至図3の実施例におい
て、樹脂の塗布方法としてディスペンス方式を用いた
が、この他にスタンピング方式でもよい。
として球形のものを用いたが、たとえば、半球状や微小
な短冊形状でもよい。また、基板上に半導体ペレットを
接着、接合させる例を示しているが、基板の代わりにリ
ードフレーム、ステムを、また半導体ペレットの代わり
にC,R,L等の小型電子部品を接着、接合させる場合
でも同様である。また、図1乃至図3の実施例におい
て、樹脂の塗布方法としてディスペンス方式を用いた
が、この他にスタンピング方式でもよい。
【0021】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、UV硬化
樹脂接着剤によって半導体素子を基板等に接着する際、
紫外光がUV硬化樹脂接着剤に十分導光される構造が非
常に容易に得られ、コストダウンを図れる。
樹脂接着剤によって半導体素子を基板等に接着する際、
紫外光がUV硬化樹脂接着剤に十分導光される構造が非
常に容易に得られ、コストダウンを図れる。
【図1】(a)乃至(c)は本発明の一実施例による半
導体素子の基板接着方法を示す断面図である。
導体素子の基板接着方法を示す断面図である。
【図2】(a)及び(b)は、本発明の他の実施例によ
る半導体素子の基板接着方法を示す斜視図である。
る半導体素子の基板接着方法を示す斜視図である。
【図3】本発明の他の実施例による接着方法による半導
体素子の基板接着状態を示す断面図である。
体素子の基板接着状態を示す断面図である。
【図4】(a)及び(b)は従来例による半導体素子の
基板接着方法を示す断面図である。
基板接着方法を示す断面図である。
1 基板 2’ UV硬化樹脂接着剤 6 ビーズ 8 受光素子(半導体素子)
Claims (1)
- 【請求項1】 基板に半導体素子をUV硬化樹脂接着剤
を用いて接着する半導体素子の基板接着構造において、
前記UV硬化樹脂接着剤に予め紫外光を透過するビーズ
を混入してなることを特徴とする半導体素子の基板接着
構造。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5063655A JPH06275661A (ja) | 1993-03-23 | 1993-03-23 | 半導体素子の基板接着構造 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5063655A JPH06275661A (ja) | 1993-03-23 | 1993-03-23 | 半導体素子の基板接着構造 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06275661A true JPH06275661A (ja) | 1994-09-30 |
Family
ID=13235584
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5063655A Pending JPH06275661A (ja) | 1993-03-23 | 1993-03-23 | 半導体素子の基板接着構造 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06275661A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011023683A1 (de) * | 2009-08-28 | 2011-03-03 | Eads Deutschland Gmbh | Verfahren zum fügen von mindestens zwei bauteilen unter verwendung einer dualhärtenden klebstoffzusammensetzung |
JP2012227436A (ja) * | 2011-04-21 | 2012-11-15 | Denso Corp | 半導体装置の製造方法及び半導体装置 |
EP3039091A1 (en) * | 2013-08-28 | 2016-07-06 | Corning Incorporated | Adhesive with embedded waveguides for curing |
-
1993
- 1993-03-23 JP JP5063655A patent/JPH06275661A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011023683A1 (de) * | 2009-08-28 | 2011-03-03 | Eads Deutschland Gmbh | Verfahren zum fügen von mindestens zwei bauteilen unter verwendung einer dualhärtenden klebstoffzusammensetzung |
DE102009039029B4 (de) * | 2009-08-28 | 2018-09-27 | Airbus Defence and Space GmbH | Verfahren zum Fügen von mindestens zwei Bauteilen unter Verwendung einer dualhärtenden Klebstoffzusammensetzung |
JP2012227436A (ja) * | 2011-04-21 | 2012-11-15 | Denso Corp | 半導体装置の製造方法及び半導体装置 |
EP3039091A1 (en) * | 2013-08-28 | 2016-07-06 | Corning Incorporated | Adhesive with embedded waveguides for curing |
JP2016534206A (ja) * | 2013-08-28 | 2016-11-04 | コーニング インコーポレイテッド | 硬化用導波路が埋め込まれた接着剤 |
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