JPH06275486A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPH06275486A JPH06275486A JP5081129A JP8112993A JPH06275486A JP H06275486 A JPH06275486 A JP H06275486A JP 5081129 A JP5081129 A JP 5081129A JP 8112993 A JP8112993 A JP 8112993A JP H06275486 A JPH06275486 A JP H06275486A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- exposure apparatus
- main body
- exposure
- thermal
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
- G03F7/70875—Temperature, e.g. temperature control of masks or workpieces via control of stage temperature
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 操作性に優れかつ露光精度を向上させること
ができる露光装置を提供する。 【構成】 フォトリソグラフィー用の露光装置におい
て、露光装置本体１２をサーマルクリーンチャンバー１
１内に配置し、マスク２及び基板１を冷却するための冷
却手段１７を露光装置本体１２に設け、サーマルクリー
ンチャンバー１１の外壁に露光装置を制御するための操
作部３４を配置したことを特徴とする露光装置。
ができる露光装置を提供する。 【構成】 フォトリソグラフィー用の露光装置におい
て、露光装置本体１２をサーマルクリーンチャンバー１
１内に配置し、マスク２及び基板１を冷却するための冷
却手段１７を露光装置本体１２に設け、サーマルクリー
ンチャンバー１１の外壁に露光装置を制御するための操
作部３４を配置したことを特徴とする露光装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、フォトリソグラフィー
用の露光装置に関するものである。
用の露光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】露光処理の精度を高めるためには、装置
内の温度と雰囲気をきびしく管理する必要がある。この
ため、従来の露光装置はサーマルクリーンチャンバー内
に設けられており、恒温状態に保ちつつ所定のクリーン
度を実現する構成になっている。サーマルクリーンチャ
ンバー内には、チャンバー内部の温度を制御するための
温度コントローラと、同じくチャンバー内部をクリーン
に保つためのクリーンユニットが設けられている。
内の温度と雰囲気をきびしく管理する必要がある。この
ため、従来の露光装置はサーマルクリーンチャンバー内
に設けられており、恒温状態に保ちつつ所定のクリーン
度を実現する構成になっている。サーマルクリーンチャ
ンバー内には、チャンバー内部の温度を制御するための
温度コントローラと、同じくチャンバー内部をクリーン
に保つためのクリーンユニットが設けられている。
【０００３】他方、露光装置の操作を行う露光装置操作
部は、チャンバー内に設置された露光装置本体に直接設
けるか、又は、チャンバー外に別体として設けるのが常
であった。操作部を別体としてチャンバー外に設ける場
合には、例えば操作卓の形で設けるのが一般的であっ
た。
部は、チャンバー内に設置された露光装置本体に直接設
けるか、又は、チャンバー外に別体として設けるのが常
であった。操作部を別体としてチャンバー外に設ける場
合には、例えば操作卓の形で設けるのが一般的であっ
た。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、チャン
バー内の露光装置本体に露光装置の操作部を設ける場合
には、オペレーターがチャンバー内に入り、操作部を操
作しなければならない。このため、装置を恒温かつクリ
ーンに保つ上で不都合が生じていた。
バー内の露光装置本体に露光装置の操作部を設ける場合
には、オペレーターがチャンバー内に入り、操作部を操
作しなければならない。このため、装置を恒温かつクリ
ーンに保つ上で不都合が生じていた。
【０００５】また、操作部を露光装置とは別体でチャン
バー外に配置する場合には、操作部が特にフォトリソグ
ラフィー工程の工場ライン通路に置かれることになる。
このため、通路の妨害となったり露光装置操作面で使い
勝手が劣るなどの問題が生じていた。
バー外に配置する場合には、操作部が特にフォトリソグ
ラフィー工程の工場ライン通路に置かれることになる。
このため、通路の妨害となったり露光装置操作面で使い
勝手が劣るなどの問題が生じていた。
【０００６】本発明は、前述のような従来技術の問題点
を解決し、操作性に優れかつ露光精度を向上させること
ができる露光装置を提供することを目的としている。
を解決し、操作性に優れかつ露光精度を向上させること
ができる露光装置を提供することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この発明は、フォトリソ
グラフィー用の露光装置において、露光装置本体１２を
サーマルクリーンチャンバー１１内に配置し、マスク２
及び基板１を冷却するための冷却手段１７を露光装置本
体１２に設け、サーマルクリーンチャンバー１１の外壁
に露光装置を制御するための操作部３４を配置したこと
を特徴とする露光装置を要旨としている。
グラフィー用の露光装置において、露光装置本体１２を
サーマルクリーンチャンバー１１内に配置し、マスク２
及び基板１を冷却するための冷却手段１７を露光装置本
体１２に設け、サーマルクリーンチャンバー１１の外壁
に露光装置を制御するための操作部３４を配置したこと
を特徴とする露光装置を要旨としている。
【０００８】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を説明
する。図１は本発明による露光装置の外観を示す斜視
図、図２はその内部を示す概念図である。
する。図１は本発明による露光装置の外観を示す斜視
図、図２はその内部を示す概念図である。
【０００９】露光装置１０はサーマルクリーンチャンバ
ー１１を有し、その中に露光装置本体１２が配置されて
いる。
ー１１を有し、その中に露光装置本体１２が配置されて
いる。
【００１０】サーマルクリーンチャンバー１１内には、
チャンバー内の温度を制御するための温度制御手段、及
びチャンバー内をクリーンに保つためのクリーンユニッ
トが設けられているが、これらは図面では省略されてい
る。ただし、チャンバー１１上部に配置したクリーンフ
ィルター２５だけは図２に示してある。
チャンバー内の温度を制御するための温度制御手段、及
びチャンバー内をクリーンに保つためのクリーンユニッ
トが設けられているが、これらは図面では省略されてい
る。ただし、チャンバー１１上部に配置したクリーンフ
ィルター２５だけは図２に示してある。
【００１１】露光装置本体１２は、基板ステージ２２を
有している。基板ステージ２２の上方にはマスクステー
ジ２１が配置されている。図２では基板ステージ２２の
上に基板１が載置され、マスクステージ２１の上にマス
ク２が載置されている。
有している。基板ステージ２２の上方にはマスクステー
ジ２１が配置されている。図２では基板ステージ２２の
上に基板１が載置され、マスクステージ２１の上にマス
ク２が載置されている。
【００１２】露光装置本体１２には、マスク２及び基板
１を冷却するための冷却手段１７が設けられている。冷
却手段１７はジャバラ状の送風ダクト１７、ファン２
４、ファン用モータ（図示せず）及び温度センサー（図
示せず）から構成されている。ファン２４及びモータは
チャンバー１１の上部に配置されていて、ファン２４に
よって発生したエアの流れがクリーンフィルター２５を
通してマスク２と基板１に送られるようになっている。
クリーンフィルター２５のかわりに専用のフィルターを
設けてもよい。その場合には、基板ステージ２２やマス
クステージ２１の側方にファンを設けることが可能にな
り、送風ダクトを短くすることができる。ファン２４は
露光作業時にのみ作動させてもよいし、温度センサーの
検知結果に基づいて適宜作動させるようにしてもよい。
１を冷却するための冷却手段１７が設けられている。冷
却手段１７はジャバラ状の送風ダクト１７、ファン２
４、ファン用モータ（図示せず）及び温度センサー（図
示せず）から構成されている。ファン２４及びモータは
チャンバー１１の上部に配置されていて、ファン２４に
よって発生したエアの流れがクリーンフィルター２５を
通してマスク２と基板１に送られるようになっている。
クリーンフィルター２５のかわりに専用のフィルターを
設けてもよい。その場合には、基板ステージ２２やマス
クステージ２１の側方にファンを設けることが可能にな
り、送風ダクトを短くすることができる。ファン２４は
露光作業時にのみ作動させてもよいし、温度センサーの
検知結果に基づいて適宜作動させるようにしてもよい。
【００１３】サーマルクリーンチャンバー１１の外壁の
前面側には、露光装置を操作するための操作部３４、露
光処理をモニターするためのＣＲＴモニター３４、チャ
ンバー内温度制御手段及びクリーンユニットを操作する
ためのコントローラが配置されている。従って、オペレ
ーターがチャンバー１１の外部からＣＲＴモニター３４
を見ながら露光装置を適宜操作することが可能である。
前面側には、露光装置を操作するための操作部３４、露
光処理をモニターするためのＣＲＴモニター３４、チャ
ンバー内温度制御手段及びクリーンユニットを操作する
ためのコントローラが配置されている。従って、オペレ
ーターがチャンバー１１の外部からＣＲＴモニター３４
を見ながら露光装置を適宜操作することが可能である。
【００１４】図１でサーマルクリーンチャンバー１１の
左側には、露光工程の前工程を行うためのスピンコータ
ーユニット１３、ベークユニット１４、恒温ユニット１
５が接続されている。同じくチャンバー１１の右側には
露光工程の後工程である現像を行うための現像ユニット
１６が接続されている。そして、基板は露光処理を行う
ために矢印の方向に順次送られるのである。
左側には、露光工程の前工程を行うためのスピンコータ
ーユニット１３、ベークユニット１４、恒温ユニット１
５が接続されている。同じくチャンバー１１の右側には
露光工程の後工程である現像を行うための現像ユニット
１６が接続されている。そして、基板は露光処理を行う
ために矢印の方向に順次送られるのである。
【００１５】
【発明の効果】本発明の露光装置は、露光装置本体１２
をサーマルクリーンチャンバー１１内に配置し、マスク
２及び基板１を冷却するための冷却手段１７を露光装置
本体１２に設け、サーマルクリーンチャンバー１１の外
壁に露光装置を制御するための操作部３４を配置したこ
とを特徴とするので、操作性に優れている。また、冷却
手段によってよりきめの細かい温度制御を行って、露光
によるマスク及び基板の温度上昇を防止することができ
るので、露光精度が向上し品質のよい諸製品を製造する
ことができる。
をサーマルクリーンチャンバー１１内に配置し、マスク
２及び基板１を冷却するための冷却手段１７を露光装置
本体１２に設け、サーマルクリーンチャンバー１１の外
壁に露光装置を制御するための操作部３４を配置したこ
とを特徴とするので、操作性に優れている。また、冷却
手段によってよりきめの細かい温度制御を行って、露光
によるマスク及び基板の温度上昇を防止することができ
るので、露光精度が向上し品質のよい諸製品を製造する
ことができる。
【００１６】なお、本発明は前述の実施例に限定されな
い。例えば、露光装置操作部はチャンバー外壁の他の部
分に設けてもよい。
い。例えば、露光装置操作部はチャンバー外壁の他の部
分に設けてもよい。
【図１】本発明による露光装置の実施例を示す斜視図。
【図２】図１の露光装置のサーマルクリーンチャンバー
内を示す概念図。
内を示す概念図。
【符号の説明】 １ 基板 ２ マスク １０ 露光装置 １１ サーマルクリーンチャンバー １２ 露光装置本体 １７ 冷却手段 ２１ マスクステージ ２２ 基板ステージ ２３ 送風ダクト ２４ ファン ２５ クリーンフィルター ３２ ＣＲＴモニター ３３ 露光装置操作部 ３４ 温度制御手段・クリーンユニットコントローラ
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 7352−4Ｍ Ｈ０１Ｌ 21/30 ３０１ Ｈ
Claims (1)
- 【請求項１】 フォトリソグラフィー用の露光装置にお
いて、露光装置本体（１２）をサーマルクリーンチャン
バー（１１）内に配置し、マスク（２）及び基板（１）
を冷却するための冷却手段（１７）を露光装置本体（１
２）に設け、サーマルクリーンチャンバー（１１）の外
壁に露光装置を制御するための操作部（３４）を配置し
たことを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5081129A JPH06275486A (ja) | 1993-03-17 | 1993-03-17 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5081129A JPH06275486A (ja) | 1993-03-17 | 1993-03-17 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06275486A true JPH06275486A (ja) | 1994-09-30 |
Family
ID=13737791
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5081129A Pending JPH06275486A (ja) | 1993-03-17 | 1993-03-17 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06275486A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1327912A1 (en) * | 2001-11-30 | 2003-07-16 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US6879377B2 (en) | 2001-11-30 | 2005-04-12 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| CN1310093C (zh) * | 2003-01-14 | 2007-04-11 | 佳能株式会社 | 曝光装置 |
| JP2010243098A (ja) * | 2009-04-08 | 2010-10-28 | Airtech Japan Ltd | ガラス基板の温度慣らし装置 |
| JP2018160534A (ja) * | 2017-03-22 | 2018-10-11 | キヤノン株式会社 | リソグラフィ装置、および物品の製造方法 |
-
1993
- 1993-03-17 JP JP5081129A patent/JPH06275486A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1327912A1 (en) * | 2001-11-30 | 2003-07-16 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US6879377B2 (en) | 2001-11-30 | 2005-04-12 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| CN1295565C (zh) * | 2001-11-30 | 2007-01-17 | Asml荷兰有限公司 | 光刻装置和器件的制造方法 |
| CN1310093C (zh) * | 2003-01-14 | 2007-04-11 | 佳能株式会社 | 曝光装置 |
| JP2010243098A (ja) * | 2009-04-08 | 2010-10-28 | Airtech Japan Ltd | ガラス基板の温度慣らし装置 |
| JP2018160534A (ja) * | 2017-03-22 | 2018-10-11 | キヤノン株式会社 | リソグラフィ装置、および物品の製造方法 |
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