JP3688784B2

JP3688784B2 - エアフィルタを備えた基板処理装置

Info

Publication number: JP3688784B2
Application number: JP35177095A
Authority: JP
Inventors: 洋昭杉本
Original assignee: Screen Holdings Co Ltd; Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Screen Holdings Co Ltd; Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1995-12-26
Filing date: 1995-12-26
Publication date: 2005-08-31
Anticipated expiration: 2015-12-26
Also published as: JPH09180974A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、半導体ウェハや液晶表示基板などの基板を処理する基板処理装置に関し、特に、エアフィルタを備えた基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体ウェハや液晶表示基板などの基板を処理する基板処理装置では、その処理環境を清浄に保つことが要求される。このために、基板処理装置は、いわゆるクリーンルーム内に設けられるが、環境の清浄度をさらに向上させたい場合がある。このような場合には、基板処理装置の本体の上部に、クリーンエアー（清浄空気）を下方に吹き出すためのクリーンベンチが設けられる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
クリーンベンチでは、クリーンエアーを吹き出すためのファンが用いられている。このファンには潤滑油が使用されており、潤滑油には有機成分が含まれているので、クリーンベンチから基板処理装置内に供給されるクリーンエアーにも有機成分が混入する。このため、従来は、基板処理装置内の搬送路や各処理ユニットに有機成分が流れ込み、基板を汚染する可能性があるという問題があった。
【０００４】
この発明は、従来技術における上述の課題を解決するためになされたものであり、有機成分による基板処理装置の汚染を防止することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段およびその作用・効果】
上述の課題の少なくとも一部を解決するため、第１の発明は、基板処理装置であって、
基板の処理を行なう基板処理部と、
基板処理部の上部空間を覆うように配設され、前記基板処理部に対して下向きにクリーンエアーを供給するクリーンベンチと、
前記クリーンベンチを通るエアーを駆動するファンと、
前記ファンよりも下流側の位置に設けられた有機物質除去用フィルタと、
前記ファンよりも上流側の位置に設けられたアルカリ成分除去用の第２のフィルタと、
前記第２のフィルタと前記ファンとの間に設けられ、エアー内のアルカリ成分の濃度を測定するためのセンサと、
前記センサで測定されたアルカリ成分の濃度が所定の許容値に達すると前記第２のフィルタの交換を促す警報を発生する手段と、
を備え、
前記第２のフィルタは、前記基板処理装置の運転中に交換可能なカセット交換式のフィルタエレメントを有することを特徴とする。
【０００６】
ファンの下流側に有機物質除去用フィルタを設けたので、ファンから発生した有機物質が除去されたよりクリーンなエアを基板処理部に供給することができる。従って、有機成分による基板処理装置の汚染を防止することができる。また、ファンの上流側に第２のフィルタを設けたので清浄度をさらに向上させることができる。特に、第２のフィルタはアルカリ成分除去用なので、有機成分のみでなく、アルカリ成分も除去することができ、清浄度をさらに向上させることができる。さらに、基板処理装置の運転を継続しながら第２のフィルタのフィルタエレメントを交換するようにすれば、基板処理装置のスループットを向上させることができる。また、センサにおいて検出されたアルカリ成分の濃度が所定の許容値に達すると警報が発生するので、作業者はこの警報に応じて第２のフィルタを交換することができる。
【０００７】
前記有機物質除去用フィルタは活性炭を含むことが好ましい。活性炭をフィルタエレメントとして用いれば、有機物質を効率良く除去するフィルタを比較的安価に構成できる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の実施の形態を実施例に基づき説明する。図１は、本発明の一実施例としての基板処理装置の概略平面図であり、図２は、その概略正面図である。但し、図１においては、クリーンベンチを取り外した状態を示している。
【００１２】
この基板処理装置１０は、インデクサ１２と、スピンコータ１８と、スピンデベロッパ２０と、ホットプレート２２と、クーリングプレート２４と、搬送装置２５とを備えている。インデクサ１２は、複数の基板を収納したカセットを載置するステージを有しており、図示しない移載装置を用いてカセットから基板を取出したり、処理済み基板をカセット内に収納したりする機能を有する。ホットプレート２２及びクーリングプレート２４は、基板を所定の温度で加熱・冷却する処理ユニットであり、それぞれ複数が上下方向に積み重ねて設けられている。なお、図１に示す基板処理装置１０の構成（すなわち、インデクサ１２と処理ユニット１８，２０，２２，２４で構成される部分）を、以下では「基板処理部」と呼ぶ。
【００１３】
図２に示すように、この基板処理装置１０には、基板処理部の上方空間を覆うようにクリーンベンチ２６が配設されている。クリーンベンチ２６は、基板処理部の上面に固着された支柱３０によって支持されている。クリーンベンチ２６からは、基板処理装置１０内の搬送路や各処理ユニットに対して下向きにクリーンエアー（清浄空気）が吹き出され、その環境が清浄にかつ一定の状態に保たれるようになっている。
【００１４】
図３は、クリーンベンチ２６の構成を示す概念図である。クリーンベンチ２６は、支柱３０の上に設けられた空洞のチェンバー部３２を有している。チェンバー部３２の内部には、クリーンエアーを下方に吹き出すためのファン３４が設けられており、ファン３４の下流側にあるエアー吹出口には２次フィルタ３６が設置されている。また、クリーンベンチ２６の上部側面にあるエアー吸込口には１次フィルタ３８が設置されている。なお、ファン３４は電動でもよく、他の駆動方式によって駆動されるものでもよい。
【００１５】
ファン３４が回転すると、外部のエアーが１次フィルタ３８を通ってチェンバー部３２内に取り入れられ、さらに、２次フィルタ３６を通過して下方の基板処理部に供給される。チェンバー部３２内には、さらに、１次フィルタ３８とファン３４の間の位置に第１のセンサ４０が設けられている。また、２次フィルタ３６の下流側の位置には、第２のセンサ４２が支柱３０に取付けられている。２つのセンサ４０，４２は、クリーンエアー内の成分を分析するためのセンサであり、特に、アンモニア濃度や有機成分濃度等を測定するようなセンサが用いられる。
【００１６】
１次フィルタ３８としては、アンモニア等のアルカリ成分を除去するためのフィルタエレメントを含むことが好ましい。このようなフィルタエレメントとしては、例えばイオン交換膜や活性炭を使用することができる。イオン交換膜は、薄いので設置や交換の作業が比較的容易であるが、その反面、比較的高価である。一方、活性炭は、比較的安価であるが、かなり大量に使用しなければならないので設置や交換の作業に比較的手間がかかる。
【００１７】
１次フィルタ３８のフィルタエレメントとしては、パーティクル（微小物質）を除去するためのフィルタエレメントを使用してもよい。もちろん、１次フィルタ３８に、アンモニア等のアルカリ成分を除去するためのフィルタエレメントと、パーティクルを除去するためのフィルタエレメントの両方を備えるようにしてもよい。
【００１８】
２次フィルタ３６は、ファン３４から発生する油などの有機物質を除去するためのフィルタエレメントを含んでいる。このようなフィルタエレメントとしては活性炭を使用することができる。２次フィルタ３６は、ファンから発生する有機物質を除去するので、有機物質が基板処理部内の搬送路や各処理ユニットに流れ込んで基板を汚染することを防止することができる。
【００１９】
なお、２次フィルタ３６のフィルタエレメントとして活性炭を使用すれば、１次フィルタ３８と２次フィルタ３６の両方でアンモニア等のアルカリ成分を除去することができる。この結果、基板処理部内に供給されるクリーンエアー内のアルカリ成分の濃度を極めて低くすることができる。
【００２０】
第１のセンサ４０において検出されたアルカリ成分（または有機成分）の濃度が所定の許容値に達すると、その旨が基板処理装置１０の図示しない表示パネルに表示されるとともに警報が発生する。作業者は、この警報に応じて１次フィルタ３８を交換する。１次フィルタ３８は、クリーンベンチ２６の外部側から交換可能に設けられているので、基板処理装置１０における基板の処理を中断せずに１次フィルタ３８のフィルタエレメントを交換することができる。このためには、１次フィルタ３８のフィルタエレメントをカセット交換式の形状にしておくことが好ましい。こうすれば、新旧のカセットを交換するだけで容易にフィルタエレメントを交換することができる。
【００２１】
１次フィルタ３８と２次フィルタ３６に、どちらも活性炭のフィルタエレメントを使用するようにすれば、１次フィルタ３８のフィルタエレメントの交換の間においても、２次フィルタ３６のみで十分なフィルタ効果を得ることができるという利点がある。
【００２２】
第２のセンサ４２において検出された有機成分の濃度が所定の許容値に達すると、その旨の警報が発生され、作業者が２次フィルタ３６を交換する。この場合には、基板処理装置１０における基板の処理は中断される。
【００２３】
図４は、他の実施例としてのクリーンベンチ２６ａの構成を示す概念図である。このクリーンベンチ２６ａは、ファン５０を有する送風器５２と、送風器５２とチェンバー部３２とを接続するダクト５４とを備えている。１次フィルタ３８は、送風器５２のファン５０の上流側に設けられている。図４のように、ファン５０で送り出されたクリーンエアーをダクト５４を経由してクリーンベンチ２６ａのチェンバー部３２に供給するようにすれば、ファン５０とその上流側に設けられた１次フィルタ３８とを、これらの保守作業がしやすい位置に設置することができる。特に、１次フィルタ３８のフィルタエレメントを容易に交換できる位置に設置できるという利点がある。
【００２４】
このように、上記実施例では、ファン３４，５０の下流側に有機成分除去用の２次フィルタ３６を設けたので、ファンから発生する有機成分を除去した、よりクリーンな空気を基板処理装置１０に供給することができる。また、１次フィルタ３８と２次フィルタ３６で構成されたのフィルタを設け、１次フィルタ３８をクリーンベンチ２６の外部側から交換可能な位置に設けたので、基板処理装置１０の運転を継続したままで１次フィルタ３８のフィルタエレメントを交換することができる。
【００２５】
なお、この発明は上記の実施例や実施形態に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の態様において実施することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例としての基板処理装置の概略平面図。
【図２】本発明の一実施例としての基板処理装置の概略正面図。
【図３】クリーンベンチの構成を示す概念図。
【図４】クリーンベンチの他の構成を示す概念図。
【符号の説明】
１０…基板処理装置
１２…インデクサ
１８…スピンコータ
２０…スピンデベロッパ
２２…ホットプレート
２４…クーリングプレート
２５…搬送装置
２６，２６ａ…クリーンベンチ
３０…支柱
３２…チェンバー部
３４…ファン
３６…１次フィルタ（第２のフィルタ）
３８…２次フィルタ（有機成分除去用フィルタ）
４０，４２…センサ
５０…ファン
５２…送風器
５４…ダクト

Claims

基板の処理を行なう基板処理部と、
基板処理部の上部空間を覆うように配設され、前記基板処理部に対して下向きにクリーンエアーを供給するクリーンベンチと、
前記クリーンベンチを通るエアーを駆動するファンと、
前記ファンよりも下流側の位置に設けられた有機物質除去用フィルタと、
前記ファンよりも上流側の位置に設けられたアルカリ成分除去用の第２のフィルタと、
前記第２のフィルタと前記ファンとの間に設けられ、エアー内のアルカリ成分の濃度を測定するためのセンサと、
前記センサで測定されたアルカリ成分の濃度が所定の許容値に達すると前記第２のフィルタの交換を促す警報を発生する手段と、
を備え、
前記第２のフィルタは、前記基板処理装置の運転中に交換可能なカセット交換式のフィルタエレメントを有することを特徴とする基板処理装置。
請求項１記載の基板処理装置であって、
前記有機物質除去用フィルタは活性炭を含む、基板処理装置。