JPH09199385A - 半導体露光装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
半導体露光装置およびデバイス製造方法Info
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- JPH09199385A JPH09199385A JP8021624A JP2162496A JPH09199385A JP H09199385 A JPH09199385 A JP H09199385A JP 8021624 A JP8021624 A JP 8021624A JP 2162496 A JP2162496 A JP 2162496A JP H09199385 A JPH09199385 A JP H09199385A
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- ews
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
-
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70883—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of optical system
- G03F7/70891—Temperature
Abstract
(57)【要約】
【課題】 装置の状態と必要なコマンドとの関係を把
握、管理する煩雑さを解消するとともに、誤ったコマン
ドの実行を防止する。 【解決手段】 装置との間で情報の授受を行なうための
入出力手段１０２、１０３、１０４、１０５、およびこ
の入出力手段を介して入力される情報に基づいて露光処
理の実行および装置の駆動を行なう制御手段１０６を備
えた半導体製造装置において、前記入出力手段を介して
得られる装置の状態と必要なコマンドとの対応情報を記
憶する記憶手段を有し、装置の状態により必要なコマン
ド名を前記対応情報に基づいて、前述入出力手段を介し
て表示する。この表示コマンドから選択してコマンドを
入力する。
握、管理する煩雑さを解消するとともに、誤ったコマン
ドの実行を防止する。 【解決手段】 装置との間で情報の授受を行なうための
入出力手段１０２、１０３、１０４、１０５、およびこ
の入出力手段を介して入力される情報に基づいて露光処
理の実行および装置の駆動を行なう制御手段１０６を備
えた半導体製造装置において、前記入出力手段を介して
得られる装置の状態と必要なコマンドとの対応情報を記
憶する記憶手段を有し、装置の状態により必要なコマン
ド名を前記対応情報に基づいて、前述入出力手段を介し
て表示する。この表示コマンドから選択してコマンドを
入力する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＬＳＩ、ＶＬＳＩ
等の半導体デバイスを製造するための半導体露光装置お
よびデバイス製造方法に関する。
等の半導体デバイスを製造するための半導体露光装置お
よびデバイス製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、このような半導体製造装置では、
露光処理を実行するに際して、オペレータが実行するの
に必要なコマンド名を入力装置を介して入力することに
より露光処理を行なう。また、露光途中で、装置のエラ
ーまたは、アライメントのエラーにより装置が一時停止
する場合があり、この場合にも、オペレータが処理を継
続するのに必要なコマンド名を入力することにより、露
光処理が継続される。
露光処理を実行するに際して、オペレータが実行するの
に必要なコマンド名を入力装置を介して入力することに
より露光処理を行なう。また、露光途中で、装置のエラ
ーまたは、アライメントのエラーにより装置が一時停止
する場合があり、この場合にも、オペレータが処理を継
続するのに必要なコマンド名を入力することにより、露
光処理が継続される。
【０００３】したがって、オペレータは露光処理の実
行、継続のそれぞれに必要なコマンド名を記憶しておく
必要がある。
行、継続のそれぞれに必要なコマンド名を記憶しておく
必要がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これに
よれば、露光処理の実行、継続においてそれぞれ必要な
コマンド名を記憶していなければならず、オペレータの
ミスにより誤ったコマンドを実行してしまう等の問題が
ある。
よれば、露光処理の実行、継続においてそれぞれ必要な
コマンド名を記憶していなければならず、オペレータの
ミスにより誤ったコマンドを実行してしまう等の問題が
ある。
【０００５】本発明の目的は、このような従来技術の問
題点に鑑み、装置の状態と必要なコマンドとの関係を把
握、管理する煩雑さを解消するとともに、誤ったコマン
ドの実行を防止することにある。
題点に鑑み、装置の状態と必要なコマンドとの関係を把
握、管理する煩雑さを解消するとともに、誤ったコマン
ドの実行を防止することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
本発明の装置は、装置との間で情報の授受を行なうため
の入出力手段、およびこの入出力手段を介して入力され
る情報に基づいて露光処理の実行および装置の駆動を行
なう制御手段を備えた半導体製造装置において、前記入
出力手段を介して得られる装置の状態と必要なコマンド
との対応情報を記憶する記憶手段を有し、装置の状態に
より必要なコマンド名を前記対応情報に基づいて、前述
入出力手段を介して表示することを特徴とする。
本発明の装置は、装置との間で情報の授受を行なうため
の入出力手段、およびこの入出力手段を介して入力され
る情報に基づいて露光処理の実行および装置の駆動を行
なう制御手段を備えた半導体製造装置において、前記入
出力手段を介して得られる装置の状態と必要なコマンド
との対応情報を記憶する記憶手段を有し、装置の状態に
より必要なコマンド名を前記対応情報に基づいて、前述
入出力手段を介して表示することを特徴とする。
【０００７】また本発明の方法は、装置との間で情報の
授受を行なうための入出力手段、およびこの入出力手段
を介して入力される情報に基づいて露光処理の実行およ
び装置の駆動を行なう制御手段を備えた半導体露光装置
を用いて半導体デバイスを製造するデバイス製造方法に
おいて、前記入力手段を介して得られる装置の状態と、
それに対応したコマンド名を記憶し、これに基づいて、
装置の状態により必要なコマンド名を前記入出力手段を
介して表示し、この表示コマンドから選択してコマンド
を入力することを特徴とする。
授受を行なうための入出力手段、およびこの入出力手段
を介して入力される情報に基づいて露光処理の実行およ
び装置の駆動を行なう制御手段を備えた半導体露光装置
を用いて半導体デバイスを製造するデバイス製造方法に
おいて、前記入力手段を介して得られる装置の状態と、
それに対応したコマンド名を記憶し、これに基づいて、
装置の状態により必要なコマンド名を前記入出力手段を
介して表示し、この表示コマンドから選択してコマンド
を入力することを特徴とする。
【０００８】これによれば、表示されたコマンドをオペ
レータが入力することにより、オペレータはコマンド名
を覚えていなくても操作が可能であり、誤った操作も回
避できる。
レータが入力することにより、オペレータはコマンド名
を覚えていなくても操作が可能であり、誤った操作も回
避できる。
【０００９】
【発明の実施の形態】図１は、本発明の一実施形態に係
わる半導体露光装置の外観を示す斜視図である。同図に
示すように、この半導体露光装置は、装置本体の制御を
行なうＣＰＵを有するＥＷＳ本体１０６、ならびに、装
置における所定の情報を表示するＥＷＳ用ディスプレイ
装置１０２、装置本体において撮像手段を介して得られ
る画像情報を表示するモニタＴＶ１０５、装置に対し所
定の入力を行なうための操作パネル１０３、ＥＷＳ用キ
ーボード１０４等を含むコンソール部を備えている。図
中、１０７はＯＮ−ＯＦＦスイッチ、１０８は非常停止
スイッチ、１０９は各種スイッチ、マウス等、１１０は
ＬＡＮ通信ケーブル、１１１はコンソール部からの発熱
の排気ダクト、そして１１２はチャンバの排気装置であ
る。半導体露光装置本体はチャンバ１０１の内部に設置
される。
わる半導体露光装置の外観を示す斜視図である。同図に
示すように、この半導体露光装置は、装置本体の制御を
行なうＣＰＵを有するＥＷＳ本体１０６、ならびに、装
置における所定の情報を表示するＥＷＳ用ディスプレイ
装置１０２、装置本体において撮像手段を介して得られ
る画像情報を表示するモニタＴＶ１０５、装置に対し所
定の入力を行なうための操作パネル１０３、ＥＷＳ用キ
ーボード１０４等を含むコンソール部を備えている。図
中、１０７はＯＮ−ＯＦＦスイッチ、１０８は非常停止
スイッチ、１０９は各種スイッチ、マウス等、１１０は
ＬＡＮ通信ケーブル、１１１はコンソール部からの発熱
の排気ダクト、そして１１２はチャンバの排気装置であ
る。半導体露光装置本体はチャンバ１０１の内部に設置
される。
【００１０】ＥＷＳ用ディスプレイ１０２は、ＥＬ、プ
ラズマ、液晶等の薄型のフラットタイプのものであり、
チャンバ１０１全面に納められ、ＬＡＮケーブル１１０
によりＥＷＳ本体１０６と接続される。操作パネル１０
３、キーボード１０４、モニタＴＶ１０５等もチャンバ
１０１前面に設置し、チャンバ１０１前面から従来と同
様のコンソール操作が行なえるようにしてある。
ラズマ、液晶等の薄型のフラットタイプのものであり、
チャンバ１０１全面に納められ、ＬＡＮケーブル１１０
によりＥＷＳ本体１０６と接続される。操作パネル１０
３、キーボード１０４、モニタＴＶ１０５等もチャンバ
１０１前面に設置し、チャンバ１０１前面から従来と同
様のコンソール操作が行なえるようにしてある。
【００１１】図２は、図１の装置の内部構造を示す図で
ある。同図においては、半導体露光装置としてのステッ
パが示されている。図中、２０２はレチクル、２０３は
ウエハであり、光源装置２０４から出た光束が照明光学
系２０５を通ってレチクル２０２を照明するとき、投影
レンズ２０６によりレチクル２０２上のパターンをウエ
ハ２０３上の感光層に転写することができる。レチクル
２０２はレチクル２０２を保持、移動するためのレチク
ルステージ２０７により支持されている。ウエハ２０３
はウエハチャック２９１により真空吸着された状態で露
光される。ウエハチャック２９１はウエハステージ２０
９により各軸方向に移動可能である。レチクル２０２の
上側にはレチクルの位置ずれ量を検出するためのレチク
ル光学系２８１が配置される。ウエハステージ２０９の
上方に、投影レンズ２０６に隣接してオフアクシス顕微
鏡２８２が配置されている。オフアクシス顕微鏡２８２
は内部の基準マークとウエハ２０３上のアライメントマ
ークとの相対位置検出を行なうのが主たる役割である。
また、これらステッパ本体に隣接して周辺装置であるレ
チクルライブラリ２２０やウエハキャリアエレベータ２
３０が配置され、必要なレチクルやウエハはレチクル搬
送装置２２１およびウエハ搬送装置２３１によって本体
に搬送される。
ある。同図においては、半導体露光装置としてのステッ
パが示されている。図中、２０２はレチクル、２０３は
ウエハであり、光源装置２０４から出た光束が照明光学
系２０５を通ってレチクル２０２を照明するとき、投影
レンズ２０６によりレチクル２０２上のパターンをウエ
ハ２０３上の感光層に転写することができる。レチクル
２０２はレチクル２０２を保持、移動するためのレチク
ルステージ２０７により支持されている。ウエハ２０３
はウエハチャック２９１により真空吸着された状態で露
光される。ウエハチャック２９１はウエハステージ２０
９により各軸方向に移動可能である。レチクル２０２の
上側にはレチクルの位置ずれ量を検出するためのレチク
ル光学系２８１が配置される。ウエハステージ２０９の
上方に、投影レンズ２０６に隣接してオフアクシス顕微
鏡２８２が配置されている。オフアクシス顕微鏡２８２
は内部の基準マークとウエハ２０３上のアライメントマ
ークとの相対位置検出を行なうのが主たる役割である。
また、これらステッパ本体に隣接して周辺装置であるレ
チクルライブラリ２２０やウエハキャリアエレベータ２
３０が配置され、必要なレチクルやウエハはレチクル搬
送装置２２１およびウエハ搬送装置２３１によって本体
に搬送される。
【００１２】チャンバ１０１は、主に空気の温度調節を
行なう空調装置２１０および微小異物を濾過し、清浄空
気の均一な流れを形成するフィルタボックス２１３、ま
た装置環境を外部と遮断するブース２１４で構成されて
いる。チャンバ１０１内では、空調機室２１０内にある
冷却器２１５および再熱ヒーター２１６により温度調節
された空気が、送風機２１７によりエアフィルタｇを介
してブース２１４内に供給される。このブース２１４に
供給された空気はリターン口ｒａより再度空調機室２１
０に取り込まれチャンバ１０１内を循環する。通常、こ
のチャンバ１０１は厳密には完全な循環系ではなく、ブ
ース２１４内を常時陽圧に保つため循環空気量の約１割
のブース２１４外の空気を空調機室２１０に設けられた
外気導入口ｏａより送風機を介して導入している。この
ようにしてチャンバ１０１は本装置の置かれる環境温度
を一定に保ち、かつ空気を清浄に保つことを可能にして
いる。また光源装置２０４には超高圧水銀灯の冷却やレ
ーザ異常時の有毒ガス発生に備えて吸気口ｓａと排気口
ｅａが設けられ、ブース２１４内の空気の一部が光源装
置２０４を経由し、空調機室２１０に備えられた専用の
排気ファンを介して工場設備に強制排気されている。ま
た、空気中の化学物質を除去するための化学吸着フィル
タｃｆを、空調機室２１０の外気導入口ｏａおよびリタ
ーン口ｒａにそれぞれ接続して備えている。
行なう空調装置２１０および微小異物を濾過し、清浄空
気の均一な流れを形成するフィルタボックス２１３、ま
た装置環境を外部と遮断するブース２１４で構成されて
いる。チャンバ１０１内では、空調機室２１０内にある
冷却器２１５および再熱ヒーター２１６により温度調節
された空気が、送風機２１７によりエアフィルタｇを介
してブース２１４内に供給される。このブース２１４に
供給された空気はリターン口ｒａより再度空調機室２１
０に取り込まれチャンバ１０１内を循環する。通常、こ
のチャンバ１０１は厳密には完全な循環系ではなく、ブ
ース２１４内を常時陽圧に保つため循環空気量の約１割
のブース２１４外の空気を空調機室２１０に設けられた
外気導入口ｏａより送風機を介して導入している。この
ようにしてチャンバ１０１は本装置の置かれる環境温度
を一定に保ち、かつ空気を清浄に保つことを可能にして
いる。また光源装置２０４には超高圧水銀灯の冷却やレ
ーザ異常時の有毒ガス発生に備えて吸気口ｓａと排気口
ｅａが設けられ、ブース２１４内の空気の一部が光源装
置２０４を経由し、空調機室２１０に備えられた専用の
排気ファンを介して工場設備に強制排気されている。ま
た、空気中の化学物質を除去するための化学吸着フィル
タｃｆを、空調機室２１０の外気導入口ｏａおよびリタ
ーン口ｒａにそれぞれ接続して備えている。
【００１３】図３は、図１の装置の電気回路構成を示す
ブロック図である。同図において、３２１は装置全体の
制御を司る。前記ＥＷＳ本体１０６に内蔵された本体Ｃ
ＰＵであり、マイクロコンピュータまたはミニコンピュ
ータ等の中央演算処理装置からなる。３２２はウエハス
テージ駆動装置、３２３は前記オフアクシス顕微鏡２８
２等のアライメント検出系、３２４はレチクルステージ
駆動装置、３２５は前記光源装置２０４等の照明系、３
２６はシャッタ駆動装置、３２７はフォーカス検出系、
３２８はＺ駆動装置であり、これらは、本体ＣＰＵ３２
１により制御される。３２９は前記レチクル搬送装置２
２１、ウエハ搬送装置２３１等の搬送系である。３３０
は前記ディスプレイ１０２、キーボード１０４等を有す
るコンソールユニットであり、本体ＣＰＵ３２１にこの
露光装置の動作に関する各種のコマンドやパラメータを
与えるためのものである。すなわち、オペレータとの間
で情報の授受を行なうためのものである。３３１はコン
ソールＣＰＵ、３３２はパラメータ等を記憶する外部メ
モリである。
ブロック図である。同図において、３２１は装置全体の
制御を司る。前記ＥＷＳ本体１０６に内蔵された本体Ｃ
ＰＵであり、マイクロコンピュータまたはミニコンピュ
ータ等の中央演算処理装置からなる。３２２はウエハス
テージ駆動装置、３２３は前記オフアクシス顕微鏡２８
２等のアライメント検出系、３２４はレチクルステージ
駆動装置、３２５は前記光源装置２０４等の照明系、３
２６はシャッタ駆動装置、３２７はフォーカス検出系、
３２８はＺ駆動装置であり、これらは、本体ＣＰＵ３２
１により制御される。３２９は前記レチクル搬送装置２
２１、ウエハ搬送装置２３１等の搬送系である。３３０
は前記ディスプレイ１０２、キーボード１０４等を有す
るコンソールユニットであり、本体ＣＰＵ３２１にこの
露光装置の動作に関する各種のコマンドやパラメータを
与えるためのものである。すなわち、オペレータとの間
で情報の授受を行なうためのものである。３３１はコン
ソールＣＰＵ、３３２はパラメータ等を記憶する外部メ
モリである。
【００１４】図４は本装置による処理を示すフローチャ
ートである。また、図５〜図８はこの処理において、デ
ィスプレイ１０２に表示される画面の様子を示す。これ
らの図を参照し、動作を説明する。
ートである。また、図５〜図８はこの処理において、デ
ィスプレイ１０２に表示される画面の様子を示す。これ
らの図を参照し、動作を説明する。
【００１５】まず、装置がスタート待ちの状態（ステッ
プ４０１）において、図５に示されるスタート画面上
で、スタートボタン５１を押下して処理をスタートする
と（ステップ４０５）、装置はアライメントを行なうた
めに一時停止状態となる（ステップ４０２）。また、装
置からのステータス情報により画面（図６）にはアライ
メント状態を示すステータス６０を表示するとともに、
このステータスをキーとして、図９に示されるようなス
テータス、コマンド対応表よりこの状態で必要なコマン
ド名６２を検索し表示する（ステップ４０６）。この図
６の画面上で、アライメントボタン６１を押下すること
により、アライメントを行ない、装置は露光を開始する
（ステップ４０３）。これと同時に、装置からのステー
タス情報により画面（図７）には露光中を示すステータ
ス７０と、露光中に使用可能なコマンド７３、７４が表
示される（ステップ４０７）。そこで、露光を中断した
い場合は、ストップボタン７１を押下することにより装
置が停止する（ステップ４０４）。すると、装置からの
ステータス情報により、画面（図８）には停止中を示す
ステータス８０と使用可能なコマンド８２が表示される
（ステップ４０８）。露光を再開したい場合はコンティ
ニューボタン８１を押下することにより、露光を再開
し、露光が終了すると再びスタート待ち状態（ステップ
４０１）になり、画面も、スタート待ちのステータスと
スタートボタンを示す画面（図５）になる（ステップ４
０５）。
プ４０１）において、図５に示されるスタート画面上
で、スタートボタン５１を押下して処理をスタートする
と（ステップ４０５）、装置はアライメントを行なうた
めに一時停止状態となる（ステップ４０２）。また、装
置からのステータス情報により画面（図６）にはアライ
メント状態を示すステータス６０を表示するとともに、
このステータスをキーとして、図９に示されるようなス
テータス、コマンド対応表よりこの状態で必要なコマン
ド名６２を検索し表示する（ステップ４０６）。この図
６の画面上で、アライメントボタン６１を押下すること
により、アライメントを行ない、装置は露光を開始する
（ステップ４０３）。これと同時に、装置からのステー
タス情報により画面（図７）には露光中を示すステータ
ス７０と、露光中に使用可能なコマンド７３、７４が表
示される（ステップ４０７）。そこで、露光を中断した
い場合は、ストップボタン７１を押下することにより装
置が停止する（ステップ４０４）。すると、装置からの
ステータス情報により、画面（図８）には停止中を示す
ステータス８０と使用可能なコマンド８２が表示される
（ステップ４０８）。露光を再開したい場合はコンティ
ニューボタン８１を押下することにより、露光を再開
し、露光が終了すると再びスタート待ち状態（ステップ
４０１）になり、画面も、スタート待ちのステータスと
スタートボタンを示す画面（図５）になる（ステップ４
０５）。
【００１６】
【発明の効果】本発明によれば、装置の状態により必要
なコマンドを表示するようにしたため、オペレータが装
置を熟知していなくても、操作が可能であり、装置を誤
って動作させることも防ぐことができる。
なコマンドを表示するようにしたため、オペレータが装
置を熟知していなくても、操作が可能であり、装置を誤
って動作させることも防ぐことができる。
【図１】 本発明の一実施形態に係わる半導体製造装置
の外観を示す斜視図である。
の外観を示す斜視図である。
【図２】 図１の装置の内部構造を示すブロック図であ
る。
る。
【図３】 図１の装置の電気回路構成を示すブロック図
である。
である。
【図４】 図１の装置の露光処理を示すフローチャート
である。
である。
【図５】 図１の装置におけるスタート待ち状態の画面
の図である
の図である
【図６】 図１の装置におけるアライメント待ち状態の
画面の図である。
画面の図である。
【図７】 図１の装置における露光状態の画面の図であ
る。
る。
【図８】 図１の装置におけるコンティニュー待ち状態
の画面の図である。
の画面の図である。
【図９】 図１の装置におけるステータス・コマンド対
応表である。
応表である。
１０１：温調チャンバ、１０２：ＥＷＳ用ディスプレイ
装置、１０３：操作パネル、１０４：ＥＷＳ用キーボー
ド、１０５：モニタＴＶ、１０６：ＥＷＳ本体、１０
７：ＯＮ−ＯＦＦスイッチ、１０８：非常停止スイッ
チ、１０９：各種スイッチ、マウス等、１１０：ＬＡＮ
通信ケーブル、１１１：排気ダクト、１１２：排気装
置、２０２：レチクル、２０３：ウエハ、２０４：光源
装置、２０５：照明光学系、２０６：投影レンズ、２０
７：レチクルステージ、２０９：ウエハステージ、２８
１：レチクル顕微鏡、２８２：オフアクシス顕微鏡、２
１０：空調機室、２１３：フィルタボックス、２１４：
ブース、２１７：送風機、ｇ：エアフィルタ、ｃｆ：化
学吸着フィルタ、ｏａ：外気導入口、ｒａ：リターン
口、３２１：本体ＣＰＵ、３３０：コンソール、３３
１：コンソールＣＰＵ、３３２：外部メモリ、５１，６
１，７１，７２，８１：ボタン。
装置、１０３：操作パネル、１０４：ＥＷＳ用キーボー
ド、１０５：モニタＴＶ、１０６：ＥＷＳ本体、１０
７：ＯＮ−ＯＦＦスイッチ、１０８：非常停止スイッ
チ、１０９：各種スイッチ、マウス等、１１０：ＬＡＮ
通信ケーブル、１１１：排気ダクト、１１２：排気装
置、２０２：レチクル、２０３：ウエハ、２０４：光源
装置、２０５：照明光学系、２０６：投影レンズ、２０
７：レチクルステージ、２０９：ウエハステージ、２８
１：レチクル顕微鏡、２８２：オフアクシス顕微鏡、２
１０：空調機室、２１３：フィルタボックス、２１４：
ブース、２１７：送風機、ｇ：エアフィルタ、ｃｆ：化
学吸着フィルタ、ｏａ：外気導入口、ｒａ：リターン
口、３２１：本体ＣＰＵ、３３０：コンソール、３３
１：コンソールＣＰＵ、３３２：外部メモリ、５１，６
１，７１，７２，８１：ボタン。
Claims (2)
- 【請求項１】 装置との間で情報の授受を行なうための
入出力手段、およびこの入出力手段を介して入力される
情報に基づいて露光処理の実行および装置の駆動を行な
う制御手段を備えた半導体製造装置において、前記入出
力手段を介して得られる装置の状態と必要なコマンドと
の対応情報を記憶する記憶手段を有し、装置の状態によ
り必要なコマンド名を前記対応情報に基づいて、前述入
出力手段を介して表示することを特徴とする半導体製造
装置。 - 【請求項２】 装置との間で情報の授受を行なうための
入出力手段、およびこの入出力手段を介して入力される
情報に基づいて露光処理の実行および装置の駆動を行な
う制御手段を備えた半導体露光装置を用いて半導体デバ
イスを製造するデバイス製造方法において、前記入力手
段を介して得られる装置の状態と、それに対応したコマ
ンド名を記憶し、これに基づいて、装置の状態により必
要なコマンド名を前記入出力手段を介して表示し、この
表示コマンドから選択してコマンドを入力することを特
徴とするデバイス製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8021624A JPH09199385A (ja) | 1996-01-16 | 1996-01-16 | 半導体露光装置およびデバイス製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8021624A JPH09199385A (ja) | 1996-01-16 | 1996-01-16 | 半導体露光装置およびデバイス製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09199385A true JPH09199385A (ja) | 1997-07-31 |
Family
ID=12060226
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8021624A Pending JPH09199385A (ja) | 1996-01-16 | 1996-01-16 | 半導体露光装置およびデバイス製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09199385A (ja) |
-
1996
- 1996-01-16 JP JP8021624A patent/JPH09199385A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040114 |