JPH1083949A - 半導体露光装置および半導体露光制御方法並びに半導体露光装置用制御プログラムを記録した媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体露光装置で扱うパラメータの座標系を
ユーザが任意に設定、変更できるようにする。 【解決手段】 コンソールＣＰＵ３３１はディスプレイ
１０２に、パラメータの座標系を選択あるいは設定する
ためのセットアップエディタを表示し、セットアップエ
ディタ上の複数の特定パラメータの１つが選択される
と、選択された特定パラメータが装置メーカのあらかじ
め決定した座標系を選択するものであるときには、その
座標系を確認のために表示し、選択された特定のパラメ
ータが座標系の任意の設定を可能とするものであるとき
には、座標変換を許容する座標変換エディタを表示し、
エディタ上の各パラメータ毎に座標変換を実行可能とす
ることで新規な座標系を設定可能としている。本体ＣＰ
Ｕ３２１はそれに応じてあらかじめ装置メーカの決定し
た座標系で、または設定された新規な座標系で半導体露
光装置の入出力制御をする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体の製造装
置、特にウエハ上に回路パターンを焼き付ける半導体露
光装置であって、任意のパラメータの座標系を任意に指
定できるエディタ（編集画面）を有する半導体露光装置
に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体製造（露光）工程に用いる
縮小投影型露光装置では、その露光装置メーカで決めら
れた座標系にしたがって運用方法を決めており、任意の
座標系に変換することはできなかった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、半導体
露光装置を使う側では、その半導体露光装置の座標系に
対し他の装置の座標系、即ち計測装置などの周辺機器の
座標系、使用する側の運用している座標系などが異なる
場合も考えられる。そのため、例えば露光した後に、計
測を行う場合には、露光装置あるいは計測装置の座標系
に合わせるために、計測データの符合を反転して、入力
をしなければならない場合もある。

【０００４】本発明は、上記のような従来技術の事情を
考慮してなされたもので、その目的は、半導体露光装置
で扱うパラメータの座標系をユーザ（使用者）が任意に
設定、変換できるようにすることで、ユーザが任意に指
定した座標系で各種パラメータを入力することができる
ようにすることにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】そこで、本発明では、半
導体露光装置においてユーザが任意に指定した座標系で
各種パラメータを入力することができるようにするた
め、セットアップパラメータの設定および座標変換エデ
ィタを用いて、各パラメータの座標の編集、設定、登録
をすることで、半導体露光装置で扱うパラメータの座標
系をユーザが任意に設定、変換できるようにした。

【０００６】具体的には、請求項１の本発明では、半導
体露光装置で扱うパラメータの座標系を予め設定した複
数の特定のパラメータの中から選択する選択手段と、前
記半導体露光装置で扱うパラメータの座標系を新規に設
定する設定手段と、前記設定手段で設定された前記座標
系を記憶する記憶手段と、前記選択手段により前記特定
のパラメータの１つが選択された場合は、選択されたパ
ラメータに対応する所定の座標系を用いて前記半導体露
光制御を行い、前記設定手段で前記パラメータが設定さ
れた場合は前記記憶手段に記憶された座標系を用いて前
記半導体露光装置の露光制御を行う制御手段とを有する
ことにより、半導体露光装置で扱うパラメータの座標系
をユーザが任意に設定、変換できるようにした。

【０００７】請求項２の本発明では、更に、前記パラメ
ータの座標系を選択、設定するための専用ウィンドウを
ポップアップにより編集画面上に表示する第１の表示手
段と、現在選択されている座標系の確認を行うための表
示を前記編集画面上に行う第２の表示手段と、前記パラ
メータの座標系の新規の設定を行うための表示を前記編
集画面上に行う第３の表示手段とを有することにより半
導体露光装置で扱うパラメータの座標系の設定、変換を
ユーザが容易に、効率よくできるようにした。

【０００８】また、請求項３の本発明は、半導体露光装
置で扱うパラメータの座標系を選択または任意に設定す
るためにセットアップエディタの表示を指示する指示手
段と、ウインドウ表示が可能な画面を有する表示手段
と、前記指示手段の前記指示に応じて所定のセットアッ
プエディタを前記表示手段に表示する第１の表示制御手
段と、前記セットアップエディタに表示された複数の特
定のパラメータの１つを選択する選択手段と、前記選択
手段により選択された前記特定のパラメータがあらかじ
め装置メーカの決定した座標系を選択するものであると
きには、該パラメータに対応する所定の座標系を確認の
ための座標変換エディタを前記表示手段に表示する第２
の表示制御手段と、前記選択手段により選択された前記
特定のパラメータが座標系の任意の設定を可能とするも
のであるときには、座標変換を許容する座標変換エディ
タを前記表示手段に表示する第３の表示制御手段と、前
記座標変換を許容する座標変換エディタ上で該エディタ
上の各パラメータ毎に座標変換を実行することで新規な
座標系を設定する設定手段と、前記選択手段により選択
された前記特定のパラメータの種類に応じて、前記あら
かじめ装置メーカの決定した座標系で、または前記設定
手段で設定された前記新規な座標系で半導体露光装置の
入出力制御をする駆動制御手段とを有する。

【０００９】また、請求項４の本発明は、前記第２の表
示制御手段は座標変換エディタ上で、座標変換しないこ
とを“×１”で表し、座標変換をすることを“×（−
１）”で表すことを特徴とする。

【００１０】また、請求項５の本発明は、前記設定手段
は座標変換エディタ上で、座標変換しない場合は“×
１”を選択入力し、座標変換をする場合は“×（−
１）”を選択入力することを特徴とする。

【００１１】また、請求項６の本発明は、前記設定手段
で設定された前記新規な座標系を記憶する記憶手段を有
することを特徴とする。

【００１２】また、請求項７の本発明は、半導体露光装
置の半導体露光制御方法において、前記半導体露光装置
で扱うパラメータの座標系を予め設定した複数の特定の
パラメータの中から選択する選択ステップと、前記半導
体露光装置で扱うパラメータの座標系を新規に設定する
設定ステップと、前記設定ステップで設定された前記座
標系を記憶手段に記憶する記憶ステップと、前記選択ス
テップにより前記特定のパラメータの１つが選択された
場合は、選択されたパラメータに対応する所定の座標系
を用いて前記半導体露光制御を行い、前記設定ステップ
で前記パラメータが設定された場合は前記記憶手段に記
憶された座標系を用いて前記半導体露光装置の露光制御
を行う制御ステップとを有することを特徴とする。

【００１３】また、請求項８の本発明は、前記パラメー
タの座標系を選択、設定するための専用ウィンドウをポ
ップアップにより編集画面上に表示する第１の表示ステ
ップと、現在選択されている座標系の確認を行うための
表示を前記編集画面上に行う第２の表示ステップと、前
記パラメータの座標系の新規の設定を行うための表示を
前記編集画面上に行う第３の表示ステップとを有するこ
とを特徴とする。

【００１４】また、請求項９の本発明は、半導体露光装
置で扱うパラメータの座標系を選択または任意に設定す
るためにセットアップエディタの表示を指示する指示ス
テップと、前記指示ステップの前記指示に応じて所定の
セットアップエディタを表示手段に表示する第１の表示
制御ステップと、前記セットアップエディタに表示され
た複数の特定のパラメータの１つを選択する選択ステッ
プと、前記選択ステップにより選択された前記特定のパ
ラメータがあらかじめ装置メーカの決定した座標系を選
択するものであるときには、該パラメータに対応する所
定の座標系を確認のための座標変換エディタを前記表示
手段に表示する第２の表示制御ステップと、前記選択ス
テップにより選択された前記特定のパラメータが座標系
の任意の設定を可能とするものであるときには、座標変
換を許容する座標変換エディタを前記表示手段に表示す
る第３の表示制御ステップと、前記座標変換を許容する
座標変換エディタ上で該エディタ上の各パラメータ毎に
座標変換を実行することで新規な座標系を設定する設定
ステップと、前記選択ステップにより選択された前記特
定のパラメータの種類に応じて、前記あらかじめ装置メ
ーカの決定した座標系で、または前記設定ステップで設
定された前記新規な座標系で半導体露光装置の入出力制
御をする駆動制御ステップとを有することを特徴とす
る。

【００１５】また、請求項１０の本発明は、コンピュー
タによって半導体露光装置を制御するためのプログラム
を記録した媒体であって、該制御プログラムはコンピュ
ータに、前記半導体露光装置で扱うパラメータの座標系
を予め設定した複数の特定のパラメータの中の１つが選
択された場合は、選択されたパラメータに対応する所定
の座標系を用いて前記半導体露光制御を行わせ、前記半
導体露光装置で扱うパラメータの座標系を新規に設定さ
れた場合は設定された該新規の座標系を用いて前記半導
体露光装置の露光制御を行わせることを特徴とする。

【００１６】また、請求項１１の本発明は、前記制御プ
ログラムはコンピュータに、前記パラメータの座標系を
選択、設定するための専用ウィンドウをポップアップに
より編集画面上に表示させ、現在選択されている座標系
の確認を行うための表示を前記編集画面上に行わせ、前
記パラメータの座標系の新規の設定を行うための表示を
前記編集画面上に行わせることを特徴とする。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。

【００１８】図１は本発明の第１の実施形態における半
導体露光装置の外観を示す。同図に示すように、この半
導体露光装置は、装置本体の環境温度制御を行う温調チ
ャンバ１０１、その温調チャンバの内部に配置され、装
置本体の制御を行うＣＰＵを有するＥＷＳ（エンジニヤ
リングワークステーション）本体１０６、ならびに、本
装置における所定の情報を表示するＥＷＳ用ディスプレ
イ装置１０２、装置本体において撮像手段（不図示）を
介して得られる画像情報を表示するモニタＴＶ１０５、
本装置に対し所定の入力を行うための操作パネル１０
３、およびＥＷＳ用キーボード１０４等を含むコンソー
ル部を備えている。

【００１９】また、図１中、１０７はＯＮ−ＯＦＦ（オ
ン・オフ）スイッチ、１０８は非常停止スイッチ、１０
９はその他の各種スイッチおよびマウス等である。１１
０はＬＡＮ（ローカルエリアネットワーク）通信ケーブ
ル、１１１はコンソール機能からの発熱の排気ダクト、
そして１１２はチャンバの排気装置である。半導体露光
装置本体はチャンバ１０１の内部に設定される。

【００２０】ＥＷＳ用ディスプレイ装置１０２は、ＥＬ
（エレクトロルミネッセンス）、プラズマ、液晶等の薄
型フラットタイプのディスプレイ装置であり、チャンバ
１０１の前面に納められ、ＬＡＮ通信ケーブル１１０に
よりＥＷＳ本体１０６と接続される。操作パネル１０
３、キーボード１０４、およびモニタＴＶ（テレビジョ
ン）１０５等もチャンバ１０１の前面に設置し、チャン
バ１０１の前面から従来と同様のコンソール操作が行え
るように構成してある。

【００２１】図２は、図１の装置の内部構造を示す。図
２においては、半導体露光装置としてのステッパが示さ
れている。図中、２０２はレチクル、２０３はウエハで
あり、光源装置２０４から出た光束が照明光学系２０５
を通ってレチクル２０２を照明するとき、投影レンズ２
０６によりレチクル２０２上のパターンをウエハ２０３
上の感光層に転写することができる。レチクル２０２は
レチクル２０２を保持、移動するためのレチクルステー
ジ２０７により支持されている。ウエハ２０３はウエハ
チャック２９１により真空吸着された状態で露光され
る。ウエハチャック２９１はウエハステージ２０９によ
り各軸方向に移動可能である。レチクル２０２の上側に
はレチクルの位置ずれ量を検出するためのレチクル光学
系２８１が配置される。

【００２２】ウエハステージ２０９の上方に、投影レン
ズ２０６に隣接してオフアクシス顕微鏡２８２が配置さ
れている。オフアクシス顕微鏡２８２は内部の基準マー
クとウエハ２０３上のアライメントマークとの相対位置
検出を行うのが主たる役割である。また、これらステッ
パ本体に隣接して、周辺装置であるレチクルライブラリ
２２０やウエハキャリアエレベータ２３０が配置され、
必要なレチクルやウエハはレチクル搬送装置２２１およ
びウエハ搬送装置２３１によってステッパ本体に搬送さ
れる。

【００２３】チャンバ１０１は、主に空気の温度調節を
行う空調機室２１０および微小異物を濾過し洗浄空気の
均一な流れを形成するフィルタボックス２１３、また装
置環境を外部と遮断するブース２１４で構成されてい
る。

【００２４】チャンバ１０１内では、空調機室２１０内
にある冷却器２１５および再熱ヒータ２１６により温度
調節された空気が、送風機２１７によりエアフィルタｇ
を介してブース２１４内に供給される。このブース２１
４に供給された空気は、リターン口ｒａから再度空調機
室２１０に取り込まれチャンバ１０１内を循環する。通
常、このチャンバ１０１は厳密には完全な循環系ではな
く、ブース２１４内を常時陽圧に保つために循環空気量
の約１割のブース２１４外の空気を空調機室２１０に設
けられた外気導入口ｏａから送風機を介して導入してい
る。このようにしてチャンバ１０１は本装置の置かれる
環境温度を一定に保ち、かつ空気を洗浄に保つことを可
能としている。

【００２５】また、光源装置２０４には超高圧水銀灯の
冷却やレーザ異常時の有毒ガス発生に備えて吸気口ｓａ
と排気口ｅａが設けられ、ブース２１４内の空気の一部
が光源装置２０４を経由し、空調機室２１０に備えられ
た専用の排気ファンを介して工場設備へ強制排気されて
いる。また、空気中の化学物質を除去するための化学吸
着フィルタｃｆを、空調機室２１０の外気導入口ｏａお
よびリターン口ｒａにそれぞれ接続して備えている。

【００２６】図３は、図１の装置の電気回路の構成を示
す。図３において、３２１は本装置全体の制御を司る、
上記ＥＷＳ本体１０６に内蔵された本体ＣＰＵであり、
マイクロコンピュータまたはミニコンピュータ等の中央
演算装置からなる。３２２はウエハステージ駆動装置、
３２３は上記オフアクシス顕微鏡２８２等のアライメン
ト検出系、３２４はレチクルステージ駆動装置、３２５
は上記光源装置２０４等の照明系、３２６はシャッタ駆
動装置、３２７はフォーカス検出系、３２８はＺ駆動装
置であり、これらは、本体ＣＰＵ３２１により制御され
ている。３２９は上記レチクル搬送装置２２１、ウエハ
搬送装置２３１等の搬送系である。

【００２７】また、３３０は上記ディスプレイ（ＥＷＳ
用ディスプレイ装置）１０２、キーボード１０４等を有
するコンソールユニットであり、本体ＣＰＵ３２１にこ
の露光装置の動作に関する各種のコマンドやパラメータ
を与えるための、すなわち、オペレータとの間で情報の
授受を行うためのものである。３３１は、例えばハード
ディスクであり、内部にデータベースが構築されてお
り、各種パラメータおよびその管理データ、ならびにオ
ペレータのグループ等が記録されている。

【００２８】図４ないし図８は、それぞれ図１のディス
プレイ１０２の表示画面に表示される各種設定を決定す
るためのセットアップエディタを示す。

【００２９】図４は、図１の装置において各種設定を決
定するためのセットアップエディタの一部分で、座標変
換用のパラメータであるCoordinate System の設定例を
示す。パラメータCoordinate System は例えばｔｙｐｅ
−１，ｔｙｐｅ−２，ｕｓｅｒのような設定をし、ｔｙ
ｐｅ−１，ｔｙｐｅ−２をユーザ（使用者）が選択した
場合は、あらかじめ装置メーカの決定した座標系を選択
することになる。また、ユーザはｕｓｅｒを選択すると
任意に座標を設定できることになる。

【００３０】図５は、図１の装置においてユーザが任意
に座標系を設定できるウィンドウ（座標変換エディタ）
をさらに詳細に示した図である。図５のウィンドウは、
装置で使用するパラメータの座標系を設定する際に、ポ
ップアップにより表示される。またこのウィンドウは、
ウィンドウタイトル領域１０と、パラメータ座標系設定
領域２０から構成される。図５において、２１はパラメ
ータ名称表示部、２２はパラメータ座標条件選択ボタ
ン、２３は“Ｓｅｔ”ボタンである。

【００３１】次に、図４および図６〜図８の表示画面に
おいて、座標変換を行うパラメータの設定をする際の操
作手順を説明する。

【００３２】（１）まず、コンソールユニット３３０の
入力手段（タッチパネル１０３、キーボード１０４、マ
ウス（不図示）等）の操作入力により、セットアップエ
ディタ（図４）をディスプレイ（ＥＷＳ用ディスプレイ
装置）１０２の画面に表示する。

【００３３】（２）次に、上記入力手段の操作入力によ
り、セットアップエディタ中のCoorditate System とい
うパラメータの中でどの座標系を使用するかを選択す
る。ここで、Coordinate System は例えば、ｔｙｐｅ−
１，ｔｙｐｅ−２，ｕｓｅｒのような入力範囲をもつと
する。

【００３４】（３）Coordinate System でｔｙｐｅ−
１，ｔｙｐｅ−２のパラメータをユーザが選択すると、
あらかじめ装置メーカの決定した座標系を選択すること
になる。その後、座標変換エディタを表示させた時の様
子を示したのが、図６（ｔｙｐｅ−１を選択した場
合）、および図７（ｔｙｐｅ−２を選択した場合）であ
る。ここでは確認のみで、座標変換エディタは入力でき
ない。また、２２のパラメータ座標選択ボタンにおい
て、“×１”は符合が変わらないので座標変換しないこ
とを表している。これに対し“×（−１）”は、符合が
反転するため、座標変換をすることを表している。

【００３５】（４）一方、上記Coordinate System でｕ
ｓｅｒのパラメータを選択した場合は、ユーザが任意に
座標系を設定できる。その後、座標変換エディタを表示
させた時の様子を示したのが、図８である。ここで、２
２のパラメータ座標選択ボタンにより、エディタ上のパ
ラメータ毎に“×１”あるいは“×（−１）”を、上記
入力手段の操作入力により、任意に選択することができ
る。この選択が終了したら、ソフトキーである２３の
“Ｓｅｔ”ボタンをユーザが押すと、この選択が装置に
反映する。すなわち、エディタ上のパラメータ毎の“×
１”あるいは“×（−１）”の選択内容がパラメータの
座標系を記憶するメモリ、例えば外部メモリ３３２、あ
るいは本体ＣＰＵ３２１の内部メモリに記憶され、この
記憶された座標系により半導体露光装置の本体ＣＰＵ３
２１が動作する。

【００３６】図９のフローチャートは上述の座標系の選
択・変換処理を実行する図３のコンソールユニット３３
０内のコンソールＣＰＵ３３１の制御手順の一例を示
す。この処理の詳細な内容は上記と同様であるので、以
下手順の流れのみを簡潔に説明する。

【００３７】コンソールＣＰＵ３３１は、まずコンソー
ルユニット３３０の入力手段（キーボード１０４等）か
らのセットアップキーの入力を待ち、そのキー入力があ
る場合は（ステップＳ１）、図４のセットアップエディ
タをＥＷＳ用ディスプレイ装置１０２の画面に表示する
（ステップＳ２）。

【００３８】次に、パラメータ座標条件選択ボタン２２
の入力を待ち（ステップＳ３）、この選択ボタンがセッ
トアップエディタ中のCoorditate System というパラメ
ータの中でｔｙｐｅ−１を選択した場合は、あらかじめ
装置メーカの決定した座標系を選択したこととなるの
で、図６に示す確認用の座標変換エディタをＥＷＳ用デ
ィスプレイ装置１０２の画面に表示する（ステップＳ
４）。その後、図６の“Ｓｅｔ”ボタン２３が押される
まで待ち（ステップＳ５）、このボタンが押されたら、
ｔｙｐｅ−１の座標系が選択された旨を示す信号を本体
ＣＰＵ３２１に通知する（ステップＳ６）。

【００３９】上記ステップＳ３において、パラメータ座
標条件選択ボタン２２がセットアップエディタ中のCoor
ditate System というパラメータの中でｔｙｐｅ−２を
選択した場合は、あらかじめ装置メーカの決定した別の
座標系を選択したことになり、上記と同様に、図７に示
す確認用の座標変換エディタをＥＷＳ用ディスプレイ装
置１０２の画面に表示する（ステップＳ７）。その後、
図７の“Ｓｅｔ”ボタン２３が押されるまで待ち（ステ
ップＳ８）、このボタンが押されたら、ｔｙｐｅ−２の
座標系が選択された旨を示す信号を本体ＣＰＵ３２１に
通知する（ステップＳ９）。

【００４０】一方、上記ステップＳ３において、パラメ
ータ座標条件選択ボタン２２がセットアップエディタ中
のCoorditate System というパラメータの中でｕｓｅｒ
のパラメータを選択した場合は、ユーザが任意に座標系
を設定できることになり、図８の座標系設定用の座標変
換エディタをＥＷＳ用ディスプレイ装置１０２の画面に
表示する（ステップＳ１０）。上記入力手段の操作入力
を介してのパラメータ座標選択ボタン２２の選択入力に
応じて、座標系設定用の座標変換エディタ上のパラメー
タ毎に“×１”あるいは“×（−１）”を設定する（ス
テップＳ１１）。その後、“Ｓｅｔ”ボタン２３が押さ
れたら、設定処理を終了し（ステップＳ１２）、すなわ
ち、エディタ上のパラメータ毎の“×１”あるいは“×
（−１）”の選択内容をパラメータの座標系を記憶する
メモリ、例えば外部メモリ３３２、あるいは本体ＣＰＵ
３２１の内部メモリに記憶し（ステップＳ１３）、ｕｓ
ｅｒの座標系が選択された旨を示す制御信号を本体ＣＰ
Ｕ３２１に通知する（ステップＳ１４）。

【００４１】本体ＣＰＵ３２１は、ｔｙｐｅ−１または
ｔｙｐｅ−２の通知を受けた時には、このパラメータに
相応するあらかじめ装置メーカの決定した座標系により
半導体露光装置を動作し、ｕｓｅｒの通知を受けたとき
には新たに変更・設定され上記所定のメモリに記憶され
た座標系により半導体露光装置を動作する。

【００４２】なお、図６または図７の画面を表示中に、
別のパラメータのものを選択可能となるようにするに
は、例えば上記Ｓ５、Ｓ８のステップにおいて、“Ｓｅ
ｔ”ボタン２３が連続して短時間に２回押されたら、ス
テップＳ２に戻るようにすればよい。

【００４３】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
セットアップパラメータの設定および座標変換エディタ
を用いて、半導体露光装置の各パラメータの座標の編
集、設定、登録ができるようにしたので、半導体露光装
置の座標系をユーザが任意に指定する座標系に変換する
ことができる。

【００４４】したがって、本発明によれば、露光装置に
おいて、パラメータの座標系を任意に変換することで、
ユーザが任意に指定した座標系で計測データ等を入力す
ることができるという効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態の半導体露光装置の外観を
示す斜視図である。

【図２】図１の装置の内部構造を示す断面図である。

【図３】図１の装置の電気回路の構成を示すブロック図
である。

【図４】図１の装置において、座標系の設定を含む装置
の各種設定を行うセットアップエディタの表示例を示す
平面図である。

【図５】図１の装置において、座標変換の設定を行うウ
ィンドウの内容を説明する説明図である。

【図６】図１の装置において、パラメータCoordinate S
ystem のｔｙｐｅ−１が選択された時の座標変換エディ
タの表示例を示す平面図である。

【図７】図１の装置において、パラメータCoordinate S
ystem のｔｙｐｅ−２が選択された時の座標変換エディ
タの表示例を示す平面図である。

【図８】図１の装置において、パラメータCoordinate S
ystem のｕｓｅｒが選択された時の座標変換エディタの
表示例を示す平面図である。

【図９】図３のコンソールユニット内のコンソールＣＰ
Ｕが実行する本発明の座標選択・変換に関わる制御動作
の手順の一例を示すフローチャートである。

【符号の説明】

１０ ウインドウタイトル領域 ２０ パラメータ座標系設定領域 ２１ パラメータ名称表示部 ２２ パラメータ座標条件選択ボタン ２３ “Ｓｅｔ”ボタン １０１ 半導体露光装置本体を内蔵する温調チャンバ １０２ ＥＷＳ用ディスプレイ装置（ディスプレイ） １０３ 操作パネル １０４ ＥＷＳ用キーボード １０５ モニタＴＶ １０６ ＥＷＳ本体 １０７ ＯＮ−ＯＦＦスイッチ １０８ 非常停止スイッチ １０９ 各種スイッチ、マウス等 ２０２ レチクル ２０３ ウエハ ２０４ 光源装置 ２０５ 照明光学系 ２０６ 投影レンズ ２０７ レチクルステージ ２１３ フィルタボックス ３２１ 本体ＣＰＵ ３３０ コンソールユニット ３３１ コンソールＣＰＵ ３３２ 外部メモリ

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 半導体露光装置で扱うパラメータの座標
   系を予め設定した複数の特定のパラメータの中から選択
   する選択手段と、 前記半導体露光装置で扱うパラメータの座標系を新規に
   設定する設定手段と、 前記設定手段で設定された前記座標系を記憶する記憶手
   段と、 前記選択手段により前記特定のパラメータの１つが選択
   された場合は、選択されたパラメータに対応する所定の
   座標系を用いて前記半導体露光制御を行い、前記設定手
   段で前記パラメータが設定された場合は前記記憶手段に
   記憶された座標系を用いて前記半導体露光装置の露光制
   御を行う制御手段とを有することを特徴とする半導体露
   光装置。
2. 【請求項２】前記パラメータの座標系を選択、設定する
   ための専用ウィンドウをポップアップにより編集画面上
   に表示する第１の表示手段と、 現在選択されている座標系の確認を行うための表示を前
   記編集画面上に行う第２の表示手段と、 前記パラメータの座標系の新規の設定を行うための表示
   を前記編集画面上に行う第３の表示手段とを有すること
   を特徴とする請求項１に記載の半導体露光装置。
3. 【請求項３】 半導体露光装置で扱うパラメータの座標
   系を選択または任意に設定するためにセットアップエデ
   ィタの表示を指示する指示手段と、 ウインドウ表示が可能な画面を有する表示手段と、 前記指示手段の前記指示に応じて所定のセットアップエ
   ディタを前記表示手段に表示する第１の表示制御手段
   と、 前記セットアップエディタに表示された複数の特定のパ
   ラメータの１つを選択する選択手段と、 前記選択手段により選択された前記特定のパラメータが
   あらかじめ装置メーカの決定した座標系を選択するもの
   であるときには、該パラメータに対応する所定の座標系
   を確認のための座標変換エディタを前記表示手段に表示
   する第２の表示制御手段と、 前記選択手段により選択された前記特定のパラメータが
   座標系の任意の設定を可能とするものであるときには、
   座標変換を許容する座標変換エディタを前記表示手段に
   表示する第３の表示制御手段と、 前記座標変換を許容する座標変換エディタ上で該エディ
   タ上の各パラメータ毎に座標変換を実行することで新規
   な座標系を設定する設定手段と、 前記選択手段により選択された前記特定のパラメータの
   種類に応じて、前記あらかじめ装置メーカの決定した座
   標系で、または前記設定手段で設定された前記新規な座
   標系で半導体露光装置の入出力制御をする駆動制御手段
   とを有することを特徴とする半導体露光装置。
4. 【請求項４】 前記第２の表示制御手段は座標変換エデ
   ィタ上で、座標変換しないことを“×１”で表し、座標
   変換をすることを“×（−１）”で表すことを特徴とす
   る請求項３に記載の半導体露光装置。
5. 【請求項５】 前記設定手段は座標変換エディタ上で、
   座標変換しない場合は“×１”を選択入力し、座標変換
   をする場合は“×（−１）”を選択入力することを特徴
   とする請求項４に記載の半導体露光装置。
6. 【請求項６】 前記設定手段で設定された前記新規な座
   標系を記憶する記憶手段を有することを特徴とする請求
   項３ないし５のいずれかに記載の半導体露光装置。
7. 【請求項７】 半導体露光装置の半導体露光制御方法に
   おいて、 前記半導体露光装置で扱うパラメータの座標系を予め設
   定した複数の特定のパラメータの中から選択する選択ス
   テップと、 前記半導体露光装置で扱うパラメータの座標系を新規に
   設定する設定ステップと、 前記設定ステップで設定された前記座標系を記憶手段に
   記憶する記憶ステップと、 前記選択ステップにより前記特定のパラメータの１つが
   選択された場合は、選択されたパラメータに対応する所
   定の座標系を用いて前記半導体露光制御を行い、前記設
   定ステップで前記パラメータが設定された場合は前記記
   憶手段に記憶された座標系を用いて前記半導体露光装置
   の露光制御を行う制御ステップとを有することを特徴と
   する半導体露光制御方法。
8. 【請求項８】 前記パラメータの座標系を選択、設定す
   るための専用ウィンドウをポップアップにより編集画面
   上に表示する第１の表示ステップと、 現在選択されている座標系の確認を行うための表示を前
   記編集画面上に行う第２の表示ステップと、 前記パラメータの座標系の新規の設定を行うための表示
   を前記編集画面上に行う第３の表示ステップとを有する
   ことを特徴とする請求項７に記載の半導体露光制御方
   法。
9. 【請求項９】 半導体露光装置で扱うパラメータの座標
   系を選択または任意に設定するためにセットアップエデ
   ィタの表示を指示する指示ステップと、 前記指示ステップの前記指示に応じて所定のセットアッ
   プエディタを表示手段に表示する第１の表示制御ステッ
   プと、 前記セットアップエディタに表示された複数の特定のパ
   ラメータの１つを選択する選択ステップと、 前記選択ステップにより選択された前記特定のパラメー
   タがあらかじめ装置メーカの決定した座標系を選択する
   ものであるときには、該パラメータに対応する所定の座
   標系を確認のための座標変換エディタを前記表示手段に
   表示する第２の表示制御ステップと、 前記選択ステップにより選択された前記特定のパラメー
   タが座標系の任意の設定を可能とするものであるときに
   は、座標変換を許容する座標変換エディタを前記表示手
   段に表示する第３の表示制御ステップと、 前記座標変換を許容する座標変換エディタ上で該エディ
   タ上の各パラメータ毎に座標変換を実行することで新規
   な座標系を設定する設定ステップと、 前記選択ステップにより選択された前記特定のパラメー
   タの種類に応じて、前記あらかじめ装置メーカの決定し
   た座標系で、または前記設定ステップで設定された前記
   新規な座標系で半導体露光装置の入出力制御をする駆動
   制御ステップとを有することを特徴とする半導体露光制
   御方法。
10. 【請求項１０】 コンピュータによって半導体露光装置
    を制御するためのプログラムを記録した媒体であって、
    該制御プログラムはコンピュータに、前記半導体露光装
    置で扱うパラメータの座標系を予め設定した複数の特定
    のパラメータの中の１つが選択された場合は、選択され
    たパラメータに対応する所定の座標系を用いて前記半導
    体露光制御を行わせ、前記半導体露光装置で扱うパラメ
    ータの座標系を新規に設定された場合は設定された該新
    規の座標系を用いて前記半導体露光装置の露光制御を行
    わせることを特徴とする半導体露光装置用制御プログラ
    ムを記録した媒体。
11. 【請求項１１】 前記制御プログラムはコンピュータ
    に、前記パラメータの座標系を選択、設定するための専
    用ウィンドウをポップアップにより編集画面上に表示さ
    せ、現在選択されている座標系の確認を行うための表示
    を前記編集画面上に行わせ、前記パラメータの座標系の
    新規の設定を行うための表示を前記編集画面上に行わせ
    ることを特徴とする請求項１０に記載の半導体露光装置
    用制御プログラムを記録した媒体。