JPH06252485A - レーザ加工機 - Google Patents

レーザ加工機

Info

Publication number
JPH06252485A
JPH06252485A JP5025277A JP2527793A JPH06252485A JP H06252485 A JPH06252485 A JP H06252485A JP 5025277 A JP5025277 A JP 5025277A JP 2527793 A JP2527793 A JP 2527793A JP H06252485 A JPH06252485 A JP H06252485A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser
light
processing
laser light
resonator
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP5025277A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2720744B2 (ja
Inventor
Mitsuki Kurosawa
満樹 黒澤
Shuji Ogawa
周治 小川
Masayuki Sugawara
雅之 菅原
Kiyoshi Funai
潔 船井
Takashi Yumura
敬 湯村
Satoru Yamamoto
哲 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP5025277A priority Critical patent/JP2720744B2/ja
Priority to TW082106416A priority patent/TW219906B/zh
Priority to US08/120,829 priority patent/US5463202A/en
Priority to DE4336136A priority patent/DE4336136C2/de
Publication of JPH06252485A publication Critical patent/JPH06252485A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2720744B2 publication Critical patent/JP2720744B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/03Observing, e.g. monitoring, the workpiece
    • B23K26/032Observing, e.g. monitoring, the workpiece using optical means
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/04Automatically aligning, aiming or focusing the laser beam, e.g. using the back-scattered light
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/04Automatically aligning, aiming or focusing the laser beam, e.g. using the back-scattered light
    • B23K26/042Automatically aligning the laser beam
    • B23K26/043Automatically aligning the laser beam along the beam path, i.e. alignment of laser beam axis relative to laser beam apparatus
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/064Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms
    • B23K26/0643Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms comprising mirrors
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/36Removing material
    • B23K26/38Removing material by boring or cutting
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/36Removing material
    • B23K26/38Removing material by boring or cutting
    • B23K26/382Removing material by boring or cutting by boring

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 長期間の安定動作が可能で、加工点の実体像
が得られ、かつ感度の高い検出が可能なセンサ機構を装
置に一つ設けるだけでよい安価なレーザ加工機を提供す
る。 【構成】 レーザ発振器12から発するレーザ光8を被
加工物Wに照射することにより、被加工物の加工面に発
生し、上記レーザ光8の導光路を介してレーザ発振器内
12に戻ってきた上記レーザ光以外の光9をレーザ発振
器12のリアミラー14から取り出し、このレーザ光以
外の光9をレーザ発振機の後方へ設けた光センサ1で検
出するように構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はレーザ加工機、特に焦点
合わせや、加工不良検出等を行うための光センサに関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】レーザ光による切断加工を行うレーザ加
工機において、切断開始点で行うピアス加工時間の短縮
や同加工中のブローアップの防止、また、ガウジングや
バーニング、ドロス付着などの加工不良の発生防止のた
め、被加工物の加工状態を常に監視する必要がある。そ
のためには、加工時に被加工物の加工面上に発生する光
を検出して監視する装置が必要である。
【0003】図29は、例えば、特開平4−91880
号公報、あるいは特開平4−105780号公報に示さ
れた従来のレーザ加工機における可視光検出装置であ
る。図において、1は光電素子または撮像素子を用いた
光センサ、2は加工ヘッド、3は加工レンズ、4はノズ
ル、5は加工面からの光をセンサ方向に反射させるため
のミラー、6は加工ヘッド2に設けられた窓、7は光セ
ンサで検出された光によりピアス完了や加工不良などの
判断を行う検出部、8はレーザ光、9は被加工物からの
光、10はNC装置、11はベンドミラー、12はレー
ザ発振器、Wは被加工物である。
【0004】従来のレーザ加工機は上記のように構成さ
れ、例えば、レーザ光8を被加工物Wに照射すると、照
射点の溶融などにより加工面に光が発生し、その光の一
部が、ミラー5に反射されてセ光ンサ1に導かれる。光
センサ1はこの光の強度の変化を検出し、検出部7にお
いてピアス加工の完了時期や加工不良の発生を検出し、
これらの情報をNC装置10に伝送し、レーザ加工機の
制御を行う。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記のような従来のレ
ーザ加工機では、ミラー及びセンサが被加工物近傍の加
工ヘッドに取り付けられているため操作上邪魔になり、
加工時に被加工物より発生するヒューム、スパッタによ
りミラーやセンサが汚れたり、あるいはレーザ光の散乱
光により損傷を来たし長期間の安定した動作が困難であ
る。また、レーザ光が当らないようにミラーを配置する
必要があり、真上から加工部を見ることができないた
め、十分な光量が得られないため検出感度が低く、また
加工点の実体像を得ることが難しく得られる情報量が少
なかった。さらに加工内容に応じて交換する加工ヘッド
すべてにセンサ機構を設ける必要があるため、高価にな
るなどの問題点があった。
【0006】この発明は、かかる問題点を解決するため
になされたものであり、長期間安定して動作可能な、ま
た加工点の実体像が得られ、かつ感度の高い検出が可能
な、さらにセンサ機構は装置に1つ設けるだけでよい安
価なレーザ加工機を提供することを目的としている。
【0007】
【課題を解決するための手段】第1の発明に係るレーザ
加工機は、レーザ発振器から伝送されたレーザ光を被加
工物上に集光光学系にて集光照射して加工を行うレーザ
加工機において、上記被加工物上の加工点で発生し、上
記レーザ発振器内に戻ってきた、上記レーザ光以外の光
を、上記発振器を構成する共振器のリアミラーから上記
共振器外に取り出す手段と、この取り出し手段により取
り出された上記レーザ光以外の光を検出する光センサと
を備えるようにした。
【0008】第2の発明に係るレーザ加工機は、レーザ
発振器から伝送されたレーザ光を被加工物上に集光光学
系にて集光照射して加工を行うレーザ加工機において、
上記発振器を構成する複数の共振器ミラーのうち少なく
とも1枚の共振器ミラーを、上記レーザ光は反射しかつ
上記レーザ光以外の光は透過できるようにすることによ
り、上記被加工物上の加工点で発生し上記レーザ発振器
内に戻ってきた上記レーザ光以外の光を上記共振器の外
に取り出す手段と、この取り出し手段により取り出され
た上記レーザ光以外の光を検出する光センサと、上記レ
ーザ発振器内に発生した上記レーザ光の一部を上記共振
器のリアミラーから上記共振器の外に取り出す手段と、
この取り出し手段により取り出されたレーザ光を検出す
るレーザ光センサとを備えるようにした。
【0009】第3の発明に係るレーザ加工機は、レーザ
発振器から伝送されたレーザ光を被加工物上に集光光学
系にて集光照射して加工を行うレーザ加工機において、
上記レーザ発振器の共振器を構成する複数の共振器ミラ
ーの間に、上記レーザ光を透過し上記レーザ光以外の光
を反射するビームスプリッタを設けることにより、上記
被加工物上の加工点で発生し上記レーザ発振器内に戻っ
てきた上記レーザ光以外の光を上記共振器の外に取り出
す手段と、この取り出し手段により取り出された上記レ
ーザ光以外の光を検出する光センサと、上記レーザ発振
器内に発生した上記レーザ光の一部を、上記共振器のリ
アミラーから上記共振器の外に取り出す手段と、この取
り出し手段により取り出されたレーザ光を検出するレー
ザ光センサとを備えるようにした。
【0010】第4の発明に係るレーザ加工機は、レーザ
発振器から伝送されたレーザ光を被加工物上に集光光学
系にて集光照射して加工を行うレーザ加工機において、
上記レーザ発振器の共振器を構成する複数の共振器ミラ
ーの間に、上記共振器内のレーザ光が通る穴を有し且つ
上記レーザ光以外の光を反射する穴付きミラーを設ける
ことにより、上記被加工物上の加工点で発生し上記レー
ザ発振器内に戻ってきた上記レーザ光以外の光を上記共
振器の外に取り出す手段と、この取り出し手段により取
り出された上記レーザ光以外の光を検出する光センサ
と、上記レーザ発振器内に発生したレーザ光の一部を、
上記共振器のリアミラーから上記共振器の外に取り出す
手段と、この取り出し手段により取り出されたレーザ光
を検出するレーザ光センサとを備えるようにした。
【0011】第5の発明に係るレーザ加工機は、レーザ
発振器から伝送されたレーザ光を被加工物上に集光光学
系にて集光照射して加工を行うレーザ加工機において、
上記被加工物上の加工点で発生し上記レーザ発振器内に
戻ってきた上記レーザ光以外の光と、上記レーザ発振器
内に発生したレーザ光の一部とを、上記レーザ発振器を
構成する共振器のリアミラーから上記共振器の外に取り
出す手段と、この取り出し手段により取り出された上記
レーザ光の一部と上記レーザ光以外の光の中からレーザ
光とレーザ光以外の光とを分離するためのビームスプリ
ッタと、分離された上記レーザ光以外の光を検出する光
センサと、上記レーザ光を検出するレーザ光センサとを
備えるようにした。
【0012】第6の発明に係るレーザ加工機は、レーザ
発振器から伝送されたレーザ光を被加工物上に集光光学
系にて集光照射して加工を行うレーザ加工機において、
上記被加工物上の加工点で発生し、上記レーザ発振器内
に戻ってきた、上記レーザ光以外の光と、上記レーザ発
振器内に発生したレーザ光の一部とを、上記レーザ発振
器を構成する共振器のリアミラーから上記共振器の外に
取り出す手段と、この取り出し手段により取り出された
上記レーザ光の一部と上記レーザ光以外の光を均一に拡
散、減光するための積分球と、積分球内部に伝送された
光の中からレーザ光以外の光を検出する光センサと、積
分球内部に伝送された光の中からレーザ光を検出するレ
ーザ光センサとを備えるようにした。
【0013】第7の発明に係るレーザ加工機は、第6の
発明のレーザ加工機において、積分球内部に配置されレ
ーザ光成分とそれ以外の光とを分離するビームスプリッ
タと、上記ビームスプリッタで分離された後、積分球内
で拡散、減光されたレーザ光を検出するレーザ光センサ
と、上記ビームスプリッタで分離されたレーザ光以外の
光を検出する光センサとを備えるようにした。
【0014】第8の発明に係るレーザ加工機は、第7の
発明のレーザ加工機において、積分球の一部を構成し且
つ積分球内部に伝送された光のうちレーザ光成分はその
内面で反射、拡散し、それ以外の光は透過するビームス
プリッタと、上記ビームスプリッタを透過した光を検出
する光センサと、上記積分球内で拡散、減光されたレー
ザ光を検出するレーザ光センサとを備え
【0015】第9の発明に係るレーザ加工機は、第1の
発明ないし第8の発明のレーザ加工機において、光セン
サにより検出した光の強度、強度分布、波長の変化のう
ち少なくとも何れか一つの変化に基づいて、集光光学系
の焦点位置を検出する検出手段を備えるようにした。
【0016】第10の発明に係るレーザ加工機は、第1
の発明ないし第9の発明のレーザ加工機において、光セ
ンサにより検出した光の強度、強度分布、波長の変化の
うち少なくとも何れか一つの変化に基づいて、ピアス加
工の完了、ピアス加工中の異常の少なくとも何れか一つ
を検出する検出手段を備えるようにした。
【0017】第11の発明に係るレーザ加工機は、第1
の発明ないし第10の発明のレーザ加工機において、光
センサにより検出した光の強度、強度分布、波長の変化
のうち少なくとも何れか一つの変化に基づいて、加工状
況を検出する検出手段を備えるようにした。
【0018】第12の発明に係るレーザ加工機は、第1
1の発明のレーザ加工機において、光センサにより検出
した光の強度、強度分布、波長の変化のうち少なくとも
何れか一つの変化を検出し、焦点位置を検出する検出手
段、ピアス加工の完了またはピアス加工中の異常を検出
する検出手段、及び加工状況を検出する検出手段の少な
くとも一つを備え、上記検出手段の信号に基づき、レー
ザ発振器の発振条件、加工ガスの状態、焦点位置、送り
速度、ノズル状態の少なくとも一つを制御する制御手段
を備えるようにした。
【0019】第13の発明に係るレーザ加工機は、第
1、第2、第3、第4、第5、第7、第8ないし第12
の発明のいずれかのレーザ加工機において、レーザ光と
同軸に光を発生する照明装置と、レーザ発振器に戻って
きた光の中から、上記照明装置で発生した上記光の被加
工物の加工面からの反射光とこの反射光以外の光を分離
するためのビームスプリッタと、光センサの出力信号を
用いて加工面を検出する検出手段と、被加工物に施され
た加工経路情報を上記検出手段で読みとり、上記加工経
路に沿って倣い制御する制御手段を備えるようにした。
【0020】第14の発明に係るレーザ加工機は、第
1、第2、第3、第4、第5、第7、第8ないし第13
の発明のいずれかのレーザ加工機において、光センサに
より検出した光と、加工ヘッド先端のノズル穴との位置
関係に基づき、レーザ光の光軸ずれを検出する検出手段
と、上記検出手段の信号に基づき、上記レーザ光に対す
る上記ノズル穴、及び集光光学系の芯ずれを補正する補
正手段を備えるようにした。
【0021】第15の発明に係るレーザ加工機は、第
1、第2、第3、第4、第5、第7、第8ないし第14
の発明のいずれかのレーザ加工機において、レーザ光と
同軸にリアミラー後方から可視レーザ光を発生する可視
レーザ発振器と、被加工物の加工面から反射され、上記
レーザ発振器内に戻ってきた上記可視レーザ光と上記可
視レーザ光以外の光を分離するビームスプリッタと、光
センサが受光する可視レーザ光を用いて、共振器ミラ
ー、もしくはレーザ光を被加工物に導く導光路ミラーの
光軸ずれまたは傾きを検出する検出手段と、上記検出手
段の信号に基づき、上記ミラーの傾きを変え、光軸ずれ
を補正する補正手段とを備えるようにした。
【0022】第16の発明に係るレーザ加工機は、第
1、第2、第3、第4、第5、第7、第8ないし第15
の発明のいずれかのレーザ加工機において、レーザ発振
器内に戻ってきた光のうちレーザ光以外の光を集光し、
光センサに入射させるための集光レンズと、上記集光レ
ンズを光軸方向に動かして焦点距離を可変にするための
駆動手段とを備えるようにした。
【0023】第17の発明に係るレーザ加工機は、第
1、第2、第3、第4、第5、第7、第8ないし第16
の発明のいずれかのレーザ加工機において、レーザ共振
のための共振器のリアミラー後方に設けられ、加工面ま
での距離を検出する距離センサと、上記距離センサで検
出した距離に基づき、レーザ光を集光する光学集光素子
を光軸方向に駆動する駆動装置とを備えるようにした。
【0024】第18の発明に係るレーザ加工機は、第
1、第2、第3、第4、第5、第7、第8ないし第17
の発明のいずれかのレーザ加工機において、光センサの
検出信号に基づきレーザ光のビームモードを検出するた
めの検出手段と、共振器ミラーの角度を調整する能動支
持機構と、上記回路で検出した結果により、上記能動支
持機構を制御してビームモードを補正する制御手段を備
えるようにした。
【0025】第19の発明に係るレーザ加工方法は、第
12の発明のレーザ加工機を用いたレーザ加工におい
て、(1)光センサの出力信号を用いて(a)集光光学
系の焦点位置、(b)ピアス加工の完了、(c)ピアス
異常、(d)加工状況のうち少なくとも何れか一つを検
出手段にて検出し、(2)この検出手段の出力信号を用
いて、制御手段が(a)レーザ発振器の発振条件、
(b)加工ガスの状態、(c)焦点位置、(d)送り速
度、(e)ノズル状態のうち少なくとも何れか一つを制
御するようにした。
【0026】第20の発明に係るレーザ加工方法は、第
13の発明のレーザ加工機を用いたレーザ加工におい
て、(1)光センサの出力信号を用いて被加工物上の加
工経路情報を検出手段にて検出し、(2)この検出手段
の出力信号を用いて、制御手段が上記レーザ加工機の上
記加工経路に沿ったならい制御をするようにした。
【0027】第21の発明に係るレーザ加工方法は、第
14の発明のレーザ加工機を用いたレーザ加工におい
て、(1)光センサの出力信号を用いて加工ヘッド先端
のノズル穴および集光光学系のレーザ光の光軸からのず
れを検出手段にて検出し、(2)この検出手段の出力信
号を用いて、制御手段が上記ノズル穴および上記集光光
学系の上記レーザ光の光軸からのずれを補正するように
した。
【0028】第22の発明に係るレーザ加工方法は、第
15の発明のレーザ加工機を用いたレーザ加工におい
て、(1)光センサの出力信号を用いて共振機ミラー、
導光路ミラーのうち少なくとも何れか一つの傾きを検出
手段にて検出し、(2)この検出手段の出力信号を用い
て、制御手段が上記共振機ミラー、上記導光路ミラーの
うち少なくとも何れか一つの傾きを変え、光軸ずれを補
正するようにした。
【0029】第23の発明に係るレーザ加工方法は、第
18の発明のレーザ加工機を用いたレーザ加工におい
て、(1)光センサの出力信号を用いてレーザ光のビー
ムモードを検出手段にて検出し、(2)この検出手段の
出力信号を用いて、制御手段が能動支持機構を制御して
上記ビームモードを補正するようにした。
【0030】
【作用】第1の発明から第8の発明のレーザ加工機は、
被加工物の加工面上に発生した光のうち、レーザ光の導
光路を逆に戻ってきた光の一部をレーザ発振器の共振器
からレーザ光と分離して取り出し、検出可能とする。第
9の発明のレーザ加工機は、集光光学系の焦点位置を検
出可能にする。第10の発明のレーザ加工機は、ピアス
加工の完了、ピアス加工中の異常の少なくとも何れか一
つを検出可能にする。第11の発明のレーザ加工機は、
被加工物の加工点の加工状況を検出可能にする。
【0031】第12の発明のレーザ加工機は、焦点位
置、ピアス加工の完了またはピアス加工中の異常、被加
工物の加工点の加工状況に基づき、加工条件を制御可能
にする。第13の発明のレーザ加工機は、被加工物に施
された加工経路情報に基づき、上記加工経路に沿った倣
い制御を可能にする。第14の発明のレーザ加工機は、
レーザ光に対するノズル穴、及び集光光学系の芯ずれの
補正を可能にする。
【0032】第15の発明のレーザ加工機は、共振器ミ
ラー、導光路ミラーの傾きを変え、光軸ずれを補正可能
にする。第16の発明のレーザ加工機は、集光レンズを
光軸方向に動かして集光レンズの焦点距離を可変にす
る。第17の発明のレーザ加工機は、加工レンズから被
加工物表面までの距離を検出可能にする。第18の発明
のレーザ加工機は、共振器ミラーの角度を調整する能動
支持機構を制御してビームモードを補正可能にする。
【0033】第19の発明のレーザ加工方法は、焦点位
置、ピアス加工の完了またはピアス加工中の異常、被加
工物の加工点の加工状況に基づき、レーザ発振器の発振
条件加工条件、加工ガスの状態、焦点位置、送り速度、
ノズル状態のうち少なくとも何れか一つを自動制御可能
にする。第20の発明のレーザ加工方法は、被加工物上
の加工経路情報に基づき、加工経路に沿った自動倣い制
御を可能にする。第21の発明のレーザ加工方法は、レ
ーザ光に対するノズル穴、及び集光光学系の芯ずれの自
動補正を可能にする。第22の発明のレーザ加工機は、
共振器ミラー、導光路ミラーの傾きを変え、光軸ずれの
自動補正を可能にする。第23の発明のレーザ加工機
は、共振器ミラーの角度を調整する能動支持機構を制御
してビームモードの自動補正を可能にする。
【0034】
【実施例】実施例1.図1は第1の発明の一実施例を示
す構成図であり、1は光センサ、2はノズル4と加工レ
ンズ3を含む加工ヘッド、8はレーザ光、9は被加工物
Wの加工面に発生し戻ってきた光、10はレーザ光8に
より加工される被加工物Wを移動させる駆動テーブル2
3を制御するためのNC装置、11は導光路に設けられ
たベンドミラー、12は電極15の間で形成される放電
により分子を励起し、その誘導放出によりレーザ光を得
るレーザ発振器、13はレーザ発振器の共振器ミラーの
ひとつで、レーザ光を取り出すための部分透過ミラー、
14はレーザ発振器の共振器ミラーのひとつのリアミラ
ーであり、このミラー14は例えばZnSe(ジンクセ
レン)などに多層膜をコーティングし、レーザ光に対し
て反射率がほぼ100%、それ以外の光(特に可視光)
に対して反射率が数10%のものを用いる。そのため、
加工面に発生して導光路を逆に戻り、レーザ発振器内に
戻ってきた光9の一部を共振器の外に取り出すことがで
きる。
【0035】16はリアミラー14を透過した光9のう
ち、光センサ1を損傷しないようにレーザ光成分を完全
に除去し、かつ、検出感度の良い波長域の光を選択的に
透過するための、例えば色付きガラスのような波長選択
フィルタであり、光センサ1の中に内蔵されていても良
い。9’は被加工物Wの加工面に発生し戻ってきた光9
のうち上記波長選択フィルタ16を通ることでレーザ光
成分を完全に取り除かれた光である。なお、光センサ1
は、波長選択フィルタ16を透過した光9’の波長域に
対して検出感度の良いものを用いており、光センサ1は
Siフォトダイオードのように受光素子が単一なもので
も、あるいは受光素子をアレイ状に集積したCCDのよ
うな撮像素子であってもよく、単一素子の場合は加工点
の発光の強度の変化を、撮像素子の場合は上記加工点の
発光強度の変化のほか、加工点の実体像から発光の強度
分布の変化あるいは色(波長)の変化を検出することが
できる。
【0036】このように構成すると、光センサ1や光セ
ンサ1に光を導くためのミラーを加工ヘッド内のように
被加工物近傍に設ける必要がないので、レーザ光の散乱
光で損傷を受けたり、十分な光量が得られず感度が低い
といった従来の問題点を解決でき、かつ装置全体を小型
化でき、信頼性の高い検出機構を得ることができる。
【0037】実施例2.図2は第2の発明の一実施例を
示すレーザ加工機のレーザ発振器を示す構成図であり、
図において、17a、17b、および18はレーザ発振
器内部の共振光軸を構成するためのミラーである。これ
らのミラーのうち、18はリアミラー14と同様に、レ
ーザ光の反射率がほぼ100%で、それ以外の光(特に
可視光)の反射率が数10%の、例えばZnSe(ジン
クセレン)に多層コーティングして製造されたビームス
プリッタであり、偏光による反射率の違いを利用して出
力されるレーザ光を直線偏光とする作用を持ち合わせて
いても良い。19はリアミラー14をわずかに透過した
レーザ光8を検出する、例えばサーモパイルのような熱
電変換素子あるいはHgCdTeのような光電変換素子
であるレーザ光センサである。
【0038】レーザ発振器に戻ってきた光9は、ミラー
18を透過し、波長選択フィルタ16を経てレーザ光成
分は完全に除去され、例えばSiフォトダイオードのよ
うな光センサ1で検出される。図3は光センサ1とレー
ザ光センサ19の光検出感度と波長選択フィルタ16の
透過特性の一例であり、光センサ1の感度の中心を可視
光域とし、レーザ光センサ19の感度を赤外光域とし、
波長選択フィルタ16を可視光透過形にすると、センサ
の感度が干渉することなく検出することが出来る。ここ
で、光センサ1はSiフォトダイオードのように受光素
子が単一なものでも、あるいは受光素子をアレイ状に集
積したCCDのような撮像素子であってもよく、単一素
子の場合は加工点の発光の強度の変化を、撮像素子の場
合は上記加工点の発光強度の変化のほか、加工点の実体
像から発光の強度分布の変化あるいは色(波長)の変化
を検出することができる。このように構成することによ
り、レーザ出力のモニタのためのレーザ光検出と、加工
点から発生しレーザ発振器に戻ってきたレーザ光以外の
光の検出を同時に行うことが可能になる。
【0039】なお、本実施例では、ミラー18をビーム
スプリッタとしたが、17a、17bなどその他の共振
器ミラーを、ビームスプリッタとして、その後方に波長
選択フィルタ16及び光センサ1を置くことによっても
同様の効果を得ることができる。
【0040】実施例3.図4は第3の発明の一実施例を
示すレーザ加工機のレーザ発振器を示す構成図であり、
図において、20はレーザ加工機のレーザ発振器内部の
共振器ミラーの間に設けたビームスプリッタであり、レ
ーザ光をほぼ100%透過し、それ以外の光をほぼ10
0%反射する、例えばGaAs(ガリウムヒ素)などの
材質で製造されており、レーザ光8を直線偏光とするた
めに、レーザ光の入射角がブリュースタ角となるように
配置されていてもよい。
【0041】加工点に発生しレーザ発振器に戻った光9
は、ビームスプリッタ20により反射され、波長選択フ
ィルタ16を通り、光センサ1で検出される。また、ビ
ームスプリッタ20を透過したレーザ光8は、リアミラ
ー14をわずかに透過し、レーザ光センサ19により検
出される。これにより、レーザ出力のモニタのためのレ
ーザ光検出と、加工点から発生しレーザ発振器に戻って
きたレーザ光以外の光の検出を同時に行うことが可能に
なる。なお、光センサ1はSiフォトダイオードのよう
に受光素子が単一なものでも、あるいは受光素子をアレ
イ状に集積したCCDのような撮像素子であってもよ
く、単一素子の場合は加工点の発光の強度の変化を、撮
像素子の場合は上記加工点の発光強度の変化のほか、加
工点の実体像から発光の強度分布の変化あるいは色(波
長)の変化を検出することができる。
【0042】実施例4.図5は第4の発明の一実施例を
示すレーザ加工機のレーザ発振器を示す構成図であり、
図において、21はレーザ発振器内部の共振器ミラーの
間に設けられた、その中心部にレーザ光8が通る大きさ
の穴を設けた穴付きミラーである。加工点に発生しレー
ザ発振器に戻ってきた光9は、この穴付きミラー21に
よって反射され、波長選択フィルタ16を通り、光セン
サ1で検出される。ここで、波長選択フィルタ16は加
工点の像を光センサ1の受光面上に結像するために集光
作用を持ち合わせていてもよい。穴付きミラー21の穴
の大きさが、レーザ光8のビーム径よりも大きいため、
レーザ光8は穴付きミラー21に邪魔されることなく部
分透過ミラー13とリアミラー14の間で発振し、また
その一部は、リアミラー14を経由して、レーザ光セン
サ19により検出される。これにより、レーザ出力のモ
ニタのためのレーザ光検出と、加工点から発生しレーザ
発振器に戻ってきたレーザ光以外の光の検出を同時に行
うことが可能になる。なお、光センサ1はSiフォトダ
イオードのように受光素子が単一なものでも、あるいは
受光素子をアレイ状に集積したCCDのような撮像素子
であってもよく、単一素子の場合は加工点の発光の強度
の変化を、撮像素子の場合は上記加工点の発光強度の変
化のほか、加工点の実体像から発光の強度分布の変化あ
るいは色(波長)の変化を検出することができる。
【0043】実施例5.図6は第5の発明の一実施例を
示すレーザ加工機を示す構成図であり、図において、3
2はレーザ発振器のリアミラー14から一部取り出され
たレーザ光8と、加工点に発生してレーザ発振器内に戻
ってきた光9とを分離する、例えばZnSe(ジンクセ
レン)などに多層コーティングされたビームスプリッタ
である。19は上記レーザ光8を検出するレーザ光セン
サであり、1は上記光9のうち波長選択フィルタ16に
よりレーザ光成分を完全に除去された光9’を検出する
ための光センサである。この様に構成することによっ
て、レーザ出力のモニタのためのレーザ光検出と、光セ
ンサによる加工点から光の検出とを同時に行うことが可
能になる。なお、光センサ1はSiフォトダイオードの
ように受光素子が単一なものでも、あるいは受光素子を
アレイ状に集積したCCDのような撮像素子であっても
よく、単一素子の場合は加工点の発光の強度の変化を、
撮像素子の場合は上記加工点の発光強度の変化のほか、
加工点の実体像から発光の強度分布の変化あるいは色
(波長)の変化を検出することができる。
【0044】なお、本実施例では、レーザ光8を反射し
て、それ以外の光9を透過するビームスプリッタを用い
たが、このかわりに、レーザ光8を透過し、それ以外の
光9を反射する例えばGaAs(ガリウムヒ素)などの
材料で作られたビームスプリッタを用いても、レーザ光
センサ19と光センサ1の位置を逆にする事により、同
様の効果を得ることができる。
【0045】実施例6.図7は第6の発明の一実施例を
示すレーザ加工機を示す構成図であり、図において、3
3はリアミラー14から一部取り出されたレーザ光8を
均一に減光するための積分球である。19はレーザ光セ
ンサであり、上記積分球33によって減光・平均化され
た光のうちレーザ光成分を検出し、発振中のレーザ光の
出力を検出することができる。また、加工点に発生して
レーザ発振器内に戻り、リアミラー14を透過し、積分
球33に導光されたレーザ光以外の光9は、フィルタ1
6を通して積分球33の内面に検出部が向くように設け
られた光センサ1によって検出される。この様に構成す
ることにより、レーザ光センサ19によるレーザ出力の
モニタのためのレーザ光検出と、光センサ1による加工
点からの光検出とを同時に行うことができる。さらに本
構成ではビームスプリッタの代わりに積分球を用い、ま
た、積分球に各センサを設置するので安価で小型の装置
が得られる。
【0046】実施例7.図8は第6の発明の他の実施例
を示すレーザ加工機を示す構成図であり、図において、
光センサ1は、レーザ光センサ19及び波長選択フィル
タ16と一体に構成されている。このように構成するこ
とによっても、実施例6と同様の効果を得ることができ
る。
【0047】実施例8.図9は第7の発明の一実施例を
示すレーザ加工機を示す構成図であり、図において、3
4はレーザ光8とそれ以外の光9とを分離するため、レ
ーザ光8は透過し、それ以外の光9は反射するように、
例えばGaAs(ガリウムヒ素)などで作られたミラー
(ビームスプリッタ)であり、積分球33内に設置され
ている。レーザ光成分は、ミラー34を透過し、積分球
33によって減光・平均化され、レーザ光センサ19で
検出される。加工点で発生し、レーザ発振器に戻り、リ
アミラー14を出てきたレーザ光以外の光9はミラー3
4で反射され、波長選択フィルタ16、集光レンズ35
を経て光センサ1に導かれ検出される。ここで光センサ
1はSiフォトダイオードのように受光素子が単一なも
のでも、あるいは受光素子をアレイ状に集積したCCD
のような撮像素子であってもよく、単一素子の場合は加
工点の発光の強度の変化を、撮像素子の場合は上記加工
点の発光強度の変化のほか、加工点の実体像から発光の
強度分布の変化あるいは色(波長)の変化を検出するこ
とができる。この様に構成することにより、レーザ光セ
ンサによるレーザ出力のモニタのためのレーザ光検出と
光センサによる加工点からの光検出とを同時に行うこと
ができる。
【0048】実施例9.図10は第8の発明の一実施例
を示すレーザ加工機を示す構成図であり、図において、
36はレーザ光8とそれ以外の光9とを分離するため
の、レーザ光はほぼ100%反射し、それ以外の光は透
過するように、例えばZnSe(ジンクセレン)で作ら
れたフィルタであり、積分球33の内側に面している部
分が積分球内面と同様な曲面を有している。リアミラー
14から出てきたレーザ光8とそれ以外の光9は共に積
分球33内に導光され、フィルタ36によって、レーザ
光8は積分球33内に反射、拡散され、それ以外の光9
は透過し、波長選択フィルタ16、集光レンズ35を経
て光センサ1に導かれる。ここで、光センサ1はSiフ
ォトダイオードのように受光素子が単一なものでも、あ
るいは受光素子をアレイ状に集積したCCDのような撮
像素子であってもよく、単一素子の場合は加工点の発光
の強度の変化を、撮像素子の場合は上記加工点の発光強
度の変化のほか、加工点の実体像から発光の強度分布の
変化あるいは色(波長)の変化を検出することができ
る。また、レーザ光センサ19を積分球33に設けるこ
とにより、レーザ出力のモニタのためのレーザ光検出と
光センサ1による加工点からの光検出とを同時に行うこ
とができる。
【0049】実施例10.図11は第8の発明の他の実
施例を示す他のレーザ加工機を示す構成図であり、図に
おいて、37は実施例9で示したフィルタ36をレンズ
状にして結像作用をもたせたもので、レーザ光8は反射
し、それ以外の光を透過するように、例えばZnSe
(ジンクセレン)などの材料で作られた両凸または平凸
レンズである。積分球33の内面に面している部分が、
凸球面となっているため、加工点に発生し、レーザ発振
器に戻りリアミラー14から出てきた光のうち、レーザ
光成分は反射、拡散され、それ以外の光は、収束され、
波長選択フィルタ16を経て光センサ1に導かれる。こ
のような構成をすることにより、図10で用いた集光レ
ンズ35を使用すること無く、加工点の実体像を得るこ
とが可能となり、また、レーザ光センサ19を設けるこ
とにより、レーザ出力が検出でき、実施例9と同様の効
果を得ることができる。なお、光センサ1はSiフォト
ダイオードのように受光素子が単一なものでも、あるい
は受光素子をアレイ状に集積したCCDのような撮像素
子であってもよく、単一素子の場合は加工点の発光の強
度の変化を、撮像素子の場合は上記加工点の発光強度の
変化のほか、加工点の実体像から発光の強度分布の変化
あるいは色(波長)の変化を検出することができる。
【0050】実施例11.図12は、実施例10で示し
たレンズ37を積分球33内の任意の位置に設けた他の
実施例であり、請求項6に係わるレーザ加工機を示すも
のである。このようにレンズ37を設けることにより、
加工点に発生し、レーザ発振器に戻りリアミラー14か
ら出てきて積分球33内で拡散・平均化された光のう
ち、レーザ光以外の光を集めることができ、より多くの
光を光センサ1に導くことができる。また、レーザ光セ
ンサ19を設けることにより、レーザ出力のモニタのた
めのレーザ光検出と光センサ1による加工点からの光検
出とを同時に行うことができる。
【0051】実施例12.図13は第9、10、11、
12の発明に係わるレーザ加工機を示す構成図であり、
図において、22は例えば加工レンズ3のような集光光
学系を光軸(上下)方向に動かすため位置エンコーダを
内蔵した駆動装置で、加工レンズのみではなく加工レン
ズを内蔵した加工ヘッド全体を駆動してもよい。26は
被加工物とノズルの間の距離及びノズル形状を変えるこ
とができる駆動式ノズルである。23は被加工物Wを動
かすための駆動テーブルで、24は加工ガスの圧力、流
量、種類、成分など加工ガスの状態を調整する加工ガス
調整装置で、10は駆動装置22及び駆動テーブル23
及び駆動式ノズル26を制御するためのサーボ回路を含
み、加工ガス調整装置24及びレーザ発振器12への指
令信号を発生する機能を含むNC装置で、27はレーザ
光センサ19の検出信号から発振中のレーザ出力を換算
し、NC装置10からのレーザ出力指令値と一致するよ
うにフィードバック制御を行うためのレーザ発振制御回
路である。25は加工点に発生し、導光路及びレーザ発
振器を介して実施例1から11のいずれかの方法により
光センサ1で検出された出力を信号から、光センサ1が
単一素子の場合は加工点の発光の強度の変化、あるいは
光センサ1が撮像素子の場合は画像処理し加工点の発光
の強度分布または色(波長)の変化を求め、ピーク検
出、比較演算などを行い、NC装置10への信号を発生
するための光センサ検出信号処理回路である。28はレ
ーザ加工機から離れたところにいるオペレータに装置の
異常等を知らせるための遠隔表示装置である。
【0052】次に動作について説明する。被加工物Wを
駆動テーブル23により水平方向に移動させながら、か
つ加工ガスにN2 などの不活性ガスを用いながら、10
0W程度の微弱なレーザ光を照射し、加工レンズ3を上
下させると、照射点が発光し、被加工物表面に加工レン
ズの焦点が一致した時に、特に輝度の高い青色の発光
(ブルーフレーム)が生じる。図14は上記照射点の発
光を光センサ1で検出し、光センサ検出信号処理回路2
5で処理することで得られた光センサ検出信号処理出力
の一例である。加工レンズの光軸(上下)方向の移動に
対して照射点の発光の強度は変化し、光センサ1が単一
素子である場合は、照射点全体からの発光強度の変化が
検出されることから出力Aが得られ、光センサ1を撮像
素子すると発光強度分布が検出されることからの強度分
布の輝度の高い点に着目すると出力Bが得られ、ブルー
フレーム時に生じる光の波長(色)の輝度変化に着目す
ると出力Cが得られる。
【0053】出力A,B,Cのいずれにおいても、加工
レンズを上下に移動させ、上記出力が最大値になった位
置が被加工物表面に加工レンズの焦点が一致した状態に
相当する。従って、出力A,B,Cのうち、いずれかの
光センサ検出信号処理出力に着目し、出力が最大になっ
たときに光センサ検出信号処理回路25からNC装置1
0に焦点検出信号を送り、その時の駆動装置22の位置
エンコーダの値を記憶することにより、被加工物表面と
加工レンズの焦点が一致するような加工レンズの位置を
知ることができ、焦点出し作業が自動に行える。なお、
集光光学系が反射型の場合、例えば放物面鏡などであっ
ても同様な操作が行える。
【0054】図15a,15bはレーザ切断開始点での
ピアス加工を行う際の加工点の状態を撮像素子とした光
センサ1で検出し、光センサ検出信号処理回路25によ
り画像処理した一例の模式図である。ノズル穴29を通
して観察される加工点は、ピアス穴の貫通前は(a)の
ように全体が発光してるが、貫通後は(b)のようにピ
アス穴の外縁のみが発光し、中心の強度は大きく低下す
る。図16はピアス加工中の加工点から発生する光を光
センサ1で検出し、光センサ検出信号処理回路25で処
理することで得られた光センサ検出信号処理出力の一例
である。光センサ1が単一素子あるいは撮像素子であっ
てもほぼ同様になり、ピアス穴が貫通後は光の強度が減
少するため出力レベルが低下し、予め決められた規定レ
ベルA以下で貫通とみなすことでピアス完了を検知する
ことができる。そこで、加工点の光の強度に対応する上
記光センサ検出信号処理出力と上記規定レベルAを光セ
ンサ検出信号処理回路25中に設けた比較回路で比較
し、上出力が規定レベルA以下になったときに光センサ
検出信号処理回路25からピアス完了信号をNC装置1
0に送信し、NC装置10は上記信号を受信後、つぎの
動作を開始するようにすると、被加工物の初期温度など
により変化するピアス時間を予め設定せずに順次、加工
が行え、加工時間を短縮することができる。
【0055】また、ピアス加工中にブローアップが発生
する直前は、照射点周辺の温度が上昇するため熱輻射に
より発光部が広がり、光センサ1で検出される加工点か
ら発生する光の強度は増加する。図17はその様子を示
した一例である。光の強度の増大に対応し光センサ検出
信号処理出力が上昇するので、ブローアップ発生のしき
い値として規定レベルBを予め決めておき、上記光セン
サ検出信号処理出力と上記規定レベルBを比較し、上記
出力が規定レベルBを越えたときに光センサ検出信号処
理回路25からブローアップ防止信号をNC装置10に
送信し、NC装置10は上記信号を受信後、直ちにレー
ザ発振器の出力、周波数、デュティーなどの発振状態あ
るいは加工ガス圧を制御することにより、ブローアップ
によるピアス加工の失敗を防止することができる。ま
た、ブローアップ発生時の光センサ検出信号処理出力レ
ベルに対応する規定レベルCを設定することにより、上
記方法でピアス加工失敗を回避できずブローアップした
ことを検知することができ、その情報をNC装置10に
送ることにより、運転休止したり、遠隔表示装置28に
よりオペレータに異常を知らせることができる。
【0056】以上のように、加工点を真上から観察でき
るようにすると、加工点の発光の強弱が明確になりS/
N比が良くなるため、ブルーフレーム発生、ピアス穴貫
通、ブローアップ発生の前兆を正確に捕らえることがで
き、従来に比較して焦点検出、ピアス完了検出、ブロー
アップ防止のための信号処理が容易に行える。
【0057】図18はレーザ切断加工中の加工点の状態
を撮像素子とした光センサ1で検出し、その検出出力を
光センサ検出信号処理回路25により画像処理した一例
の模式図であり、レーザ照射点の発光のほか、レーザ光
の進行方向の後方に切断により生じた溝と、溝の中を流
れる落ちる溶融金属の熱輻射による発光が観察され、切
断加工中に加工状態が変化すると加工点の発光状態が変
化する。図19はガウジング、切断面キズ発生、バーニ
ング、ドロス発生などの加工不良が生じた場合の光セン
サ検出信号処理出力の一例である。光センサ1が単一素
子あるいは撮像素子であってもほぼ同様になり、上記加
工不良が生じると正常な状態に比較して加工点の発光強
度が不規則に変動し、それに対応し光センサ検出信号処
理出力も変動する。そこで、上記光センサ検出信号処理
出力と予め決められた規定レベルD及びEを比較し、上
記規定レベルD,Eで挟まれる範囲外への変化を検知す
ることで加工不良の発生を知ることができる。その情報
をNC装置10に送信することで、遠隔表示装置28に
よりオペレータに加工不良発生を知らせることができ
る。また、通常は加工中に上記加工不良が発生しても、
ビームモード、出力、周波数、デュティーなどの発振状
態、加工ガスの圧力、流量、種類、焦点位置、送り速
度、ノズル高さ、ノズル形状などを適宜調整することに
より良好な加工状態に復元でき、加工不良の改善がなさ
れることから、予め上記加工不良の発生状況に応じて、
ビームモード、出力、周波数、デュティーなどの発振状
態、加工ガスの圧力、流量、種類、焦点位置、送り速
度、ノズル高さ、ノズル形状などの調整項目をNC装置
10に記憶させておき、光センサ1で加工点の状態を検
知しながら、上記調整項目をNC装置10の指令により
調整することで、加工不良の改善が自動で行える。図2
0に上記自動加工不良の改善処理のフローチャートを示
す。なお、光センサ1を撮像素子とし、その出力を光セ
ンサ検出信号処理回路25で画像処理した場合は、加工
点の発光の強度分布の変化がわかることから、光の強度
の変化を検出する以上に詳細な加工状況監視ができ、加
工点の温度分布なども知ることができることから、切断
以外の例えば焼入れ、溶接などの加工でも同様な加工の
自動化が可能となる。
【0058】以上のように、加工点に発生しレーザ発振
器に戻ってきた光を光センサで検出し、上記検出出力を
信号処理し、上記処理結果に応じてレーザ加工機を制御
することにより、焦点出し、ピアス完了検出、ブローア
ップ検出、加工不良検出及び加工不良改善が可能とな
り、加工の自動化及び無人運転を行うことが可能とな
る。
【0059】実施例13.図21は第13の発明の一実
施例のレーザ加工機を示す構成図であり、図において、
40は照明装置であり、そこから発生した光はレンズ4
1により平行光線にされ、ビームスプリッタ42により
レーザ発振器12内に導入され、レーザ発振器12から
導光路、加工レンズ3、ノズル穴29を経て、被加工物
Wの加工面を照らす。照明装置40の光により照らされ
た加工面はノズル穴29を通して、実施例1から5及び
8から10のいずれかの方法により撮像素子を用いた光
センサ1で検出され、その出力を光センサ検出信号処理
回路25で画像処理することにより、被加工物Wの表面
に予め記された加工経路に相当する加工経路ケガキ線4
3を検知することができる。図22は上記の一例であ
り、画像からノズル穴29に対するノズル中心44を求
め、ノズル中心44が上記加工経路ケガキ線43上にな
るように、NC装置10より駆動テーブル23に駆動指
令を送ることにより、加工経路ケガキ線43に沿った倣
い動作及び位置決めが可能となり、NC装置に予め加工
経路が書き込まれた形状プログラムを入力するこなく、
形状加工を行うことが可能になる。
【0060】この被加工物Wの表面に記された加工経路
ケガキ線43の検出及び倣い動作は、実際にレーザ光を
被加工物Wに照射し加工をしながら行ってもよく、ま
た、先に倣い動作だけによる加工経路学習(ティーチン
グ)を行ない、その後、上記ティーチングデータに基づ
いて加工を行ってもよい。
【0061】さらに、駆動テーブル23を水平移動以外
に回転軸を設けた3次元加工テーブルとした場合は、3
次元立体物に予め記された加工経路ケガキ線43の倣い
動作が可能となり、従来、手動により行っていたティー
チング作業が自動化され、大幅な作業時間の短縮が可能
となる。なお、導光路のベンドミラー11をレーザ光を
反射し、それ以外の光を透過するビームスプリッタとし
て、その位置に照明装置40を設け、被加工物Wを照ら
すことによっても同様な機能が得られる。また、実施例
12においても上記照明装置を付加し、加工中に加工点
を照らして検出を行ってもよい。
【0062】実施例14.図23は第14の発明の一実
施例を示すレーザ加工機を示す構成図であり、図におい
て、加工点からの戻り光の検出方法を、実施例1、2、
3、4、5、8、9、10のいずれかの方法により、実
施例13と同様な被加工物Wの照明機構により加工面を
照らし、撮像素子を用いた光センサ1で検出し、その出
力を光センサ検出信号処理回路25で画像処理すること
により、ノズル穴29とレーザ光の照射による加工点4
5の位置との関係を知ることができる。図24は上記の
一例であり、画像からノズル穴29に対するノズル中心
44を求め、ノズル中心44に対する上記加工点45の
ずれ量を検知し、そのずれ量を補正するための補正量を
芯ずれ補正装置46に入力し、ノズル中心44と加工点
45が一致するように、ノズル4あるいは加工レンズ3
を動かすことにより、従来、手作業により行っていた、
レーザ光に対するノズル及び加工レンズの芯ずれの補正
を自動的に、かつ短時間で行うことができる。また、ノ
ズル穴全体が観察されるため、ノズル穴の変形、詰まり
を検出することが出来る。
【0063】実施例15.図25は第15の発明の一実
施例のレーザ加工機を示す構成図であり、図において、
47はHeNe(ヘリウムネオン)レーザなどの可視の
レーザ光を発生するためのレーザ発振器である。発振さ
れたHeNeレーザ光は、ビームスプリッタ42により
反射され、レーザ発振器12内にレーザ出力光と同軸に
導入され、さらに、導光路を経て被加工物Wに照射され
る。照射されたHeNeレーザ光は、被加工物W面上で
反射され、再び導光路を経由して、レーザ発振器12内
に戻り、さらに、レーザ発振器のリアミラー14、ビー
ムスプリッタ42を経て光センサ1に導入される。この
戻り光の検出方法を、実施例1、2、3、4、5、8、
9、10のいずれかの方法により、光センサ1として撮
像素子を用い、その出力を光センサ検出信号処理回路2
5で画像処理することにより、導光路のベンドミラー1
1や共振器ミラー17a,bなどの傾きによる光軸のず
れに関する情報が得られる。この情報に基づき、導光路
のベンドミラー11や共振器ミラー17a,bなどの傾
きを修正することにより、光軸のずれを補正することが
できる。また、光センサ検出信号処理回路25から出力
された光軸のずれに関する情報を、ミラー傾き修正回路
48に入力し、このミラー傾き修正回路48から、導光
路のベンドミラー11や共振器ミラー17a,bなどに
設けられたミラーの傾きを動力により修正するミラー傾
き修正装置49に修正量指令を送ることにより、ミラー
の傾きによる光軸のずれの補正を自動的に行うことがで
きる。
【0064】実施例16.図26は第16の発明の一実
施例のレーザ加工機を示す構成図であり、図において、
51は実施例1から5及び8から10のいずれかの方法
において、光センサ1の直前に置かれた集光レンズであ
り、レンズ駆動装置50によって光軸方向に動かし焦点
距離を変えることができる。実施例13と同様な照明機
構を設けることにより、被照明物から反射してレーザ発
振器のリアミラー14から出てきた光は、集光レンズ5
1を経て、撮像素子を用いた光センサ1に導かれる。集
光レンズ51を焦点位置をレンズ駆動装置50によりを
移動することにより、その焦点位置を、被加工物Wの表
面から加工レンズ3、ベンドミラー11、レーザ発振器
内の共振器ミラー13、17a,bと、適宜に変えるこ
とにより、これらの面の様子を光センサ1で観察するこ
とが可能となる。その出力を光センサ検出信号処理回路
25で画像処理することにより、加工レンズ、ベンドミ
ラー、共振器ミラーなどの光学部品の汚れや損傷を検知
することができ、レーザ加工機に自己診断機能を持たせ
ることが可能となる。なお、実施例12から15におい
ても、この図26に示す集光レンズ51、レンズ駆動装
置50による焦点移動機能を用いてもよい。
【0065】実施例17.図27は第17の発明の一実
施例のレーザ加工機を示す構成図であり、図において、
52はレーザ、超音波、赤外線などの発生器とセンサと
を一体化して構成された距離センサであり、リアミラー
14の後方から、レーザ発振器12、導光路を経由し
て、被加工物Wまでの距離を測定することができる。こ
れにより、加工レンズから被加工物面まで距離を高速且
つ正確に検出し、被加工物面の凹凸や厚みの変化による
加工レンズ3の焦点位置を加工中も正確にワーク表面に
追従させることが可能になり、高精度で、安定した加工
ができるようになる。
【0066】実施例18.図28は第18の発明の一実
施例のレーザ加工機を示す構成図であり、図において、
53は適当な出力のレーザ光を加工面上に照射すること
により、加工面に発生した光の輝度分布53を、実施例
1、2、3、4、5、8、9、10のいずれかの方法に
おいて、撮像素子を用いた光センサ1で検出し、その出
力を光センサ検出信号処理回路25で画像処理したもの
である。上記輝度分布53は加工面におけるレーザビー
ム断面のエネルギ強度分布54にほぼ対応する。従っ
て、このようにして得られたレーザビームのエネルギ強
度分布から、ビームモードを判定することができる。上
記輝度分布53をNC装置10に伝送、表示し、これを
確認しながらレーザ発振器12の共振器ミラーをアライ
メントすることで、最適なビームモードを維持すること
ができる。あるいは、共振器ミラー13,17a,17
b、14に取り付けられた複数個のアクチュエータで構
成される、共振器ミラーの角度を微調整する能動支持装
置55およびその制御装置56を用いてアライメントを
行うことによっても、最適なビームモードを維持するこ
とができる。
【0067】ところで上記説明においては、レーザ加工
装置の場合について述べたが、これに限らずレーザ光を
被照射体に当てるものに実施しても同様の効果を得るこ
とができる。
【0068】
【発明の効果】この発明は、以上説明したように構成さ
れているので、被加工物上に加工点に発生し、レーザ発
振器内に戻ってきたレーザ光の波長以外の波長の光を、
レーザ共振のための共振器のリアミラー、あるいはその
他の共振器ミラーから共振器外に取り出し、取り出され
た上記光を光センサで検出することにより、光センサや
ミラーを加工ヘッド近傍に設ける必要がなく、操作上邪
魔にならない。
【0069】また、検出系を構成するセンサ、ミラーあ
るいはレンズが、加工時のスパッタやヒュームで汚れた
り、加工用の強いレーザ光で熱せられたりすることがな
くなり、寿命を長くすることができる。また、真上から
加工部を見ることができるため、十分な光量が得られ検
出感度が高く、情報量も多い。さらに加工内容に応じて
交換する加工ヘッドすべてにセンサ機構を設ける必要が
ないため安価になる。
【0070】また、レーザ共振のための複数の共振器ミ
ラーのいずれかの間に、レーザ光を透過し、それ以外の
光を反射するビームスプリッタを設け、レーザ発振器内
に戻ってきたレーザ光の波長以外の波長の光を共振器外
に取り出し、上記光を光センサで検出すると、センサユ
ニットをレーザ発振器内部に設けることができるため、
装置全体を小型化できる。
【0071】また、レーザ共振のための複数の共振器ミ
ラーのいずれか間に、中心部にレーザビームが十分通る
大きさの穴のあいた穴付きミラーを設け、レーザ発振器
内に戻ってきたレーザ光の波長以外の波長の光を共振器
外に取り出し、上記光を光センサで検出すると、レーザ
光の強度やモードに悪影響を与えること無く、戻り光の
検出ができ、また、センサユニットをレーザ発振器内部
に設けることができるため、装置全体を小型化できる。
【0072】また、上記構成に加え、レーザ発振器内に
発生したレーザ光の一部を、レーザ共振のための共振器
のリアミラーから取り出し、取り出されたレーザ光を検
出するレーザ光センサを設ければレーザ出力のモニタも
同時にできる。
【0073】また、レーザ発振器内に戻ってきたレーザ
光の波長以外の波長の光と、レーザ発振器内に発生した
レーザ光の一部とを、レーザ共振のための共振器のリア
ミラーから共振器の外に取り出し、これらの光を均一に
拡散、減光するための積分球と、減光されたレーザ光を
検出するレーザ光センサと、レーザ光以外の光を検出の
レーザ光センサとを設けることにより、レーザ出力のモ
ニタと、加工点からの戻り光の検出が同時にでき、さら
に装置を安価で小形にすることができる。
【0074】また、積分球内部に伝送された光の中から
レーザ光成分とそれ以外の光とを分離するためのビーム
スプリッタを設置し、レーザ光センサは上記ビームスプ
リッタで分離された後、積分球内で拡散、減光されたレ
ーザ光を検出し、光センサは上記ビームスプリッタで分
離されたレーザ光以外の光を検出するように設置するこ
とにより、積分球内のレーザ光の均一性を乱すこと無
く、レーザ光以外の光を効率的に光センサに導くことが
でき、また、加工点の実体像を見ることが可能となる。
【0075】また、積分球内部に伝送された光のうちレ
ーザ光成分はその内面で反射、発散し、それ以外の光は
透過するようなビームスプリッタを積分球内面に設け、
光センサは上記ビームスプリッタを透過した光を検出
し、レーザ光センサは上記積分球内で拡散、減光された
レーザ光を検出するように設置することにより、上記構
成と同様の効果がある。
【0076】また、光センサにより加工点の光の強度ま
たは強度分布または波長の変化を検出し、焦点位置を検
出することにより、被加工物に対する集光光学系の焦点
位置あわせを正確に、かつ簡単に行うことができる。
【0077】また、光センサにより加工点の光の強度ま
たは強度分布または波長の変化を検出し、切断開始点で
のピアス加工の完了及び異常を検出することにより、加
工時間の短縮を図ることができる。
【0078】また、光センサにより加工点の光の強度ま
たは強度分布または波長の変化を検出し、切断、溶接、
焼入れなどのレーザ加工時の加工状況を検知することに
より加工不良の発生を防止することができる。
【0079】また、光センサにより検出した光の強度ま
たは強度分布または波長の変化に基づいて、焦点位置を
検出する回路、ピアス加工の完了またはピアス加工中の
異常を検出する回路、及び加工状況を検出する回路の少
なくとも一つを備え、上記回路の信号に基づき、レーザ
発振器の発振条件、加工ガスの状態、焦点位置、送り速
度、ノズル状態の少なくとも一つを制御することによ
り、加工の自動化ならびに無人運転が実現できる。
【0080】また、レーザ発振器のリアミラー後方か
ら、導光路を介して加工面上に照明を当て、その反射光
をレーザ発振器後方の光センサにより検出し、その像を
画像処理することにより、予め被加工物に施された加工
経路情報を読みとり、それに沿った倣い動作を行うこと
が可能となり、加工形状プログラムを予め入力すること
無くなく形状加工を行えるようになる。
【0081】また、光センサにより検出した光と、加工
ヘッド先端のノズル穴との位置関係に基づき、レーザ光
の光軸ずれを検出する回路と、この回路の信号に基づ
き、レーザ光に対するノズル、及び集光光学系の芯ずれ
を補正する補正手段を設けることにより、加工ヘッドの
ノズル穴に対するレーザ光軸の位置を自動的に調整する
ことができる。
【0082】また、レーザ発振器のリアミラー後方から
可視レーザ光を照射し、被加工物によって反射された上
記可視レーザ光の位置を光センサにより検出することに
より、導光路ミラー及び共振器ミラーの傾きによる光軸
ずれを検出するこができ、導光路ミラー及び共振器ミラ
ーの傾きを自動的に調整することが可能になる。
【0083】また、レーザ発振器のリアミラー後方に可
動焦点の集光レンズと光センサ及び波長選択フィルタと
を設けることにより、導光路上の加工レンズやベンドミ
ラーや共振器ミラーなどの光学部品の汚れや損傷を検知
でき、装置の自己診断が可能となる。
【0084】また、レーザ発振器のリアミラー後方に、
非接触式の距離センサを設け、加工面までの距離を測定
することにより、加工レンズとワーク面の距離を常に最
も加工性能がよいように調整することができ、加工性能
を向上させることができる。
【0085】また、加工面に照射したレーザビームの輝
度分布を、レーザ発振器のリアミラー後方に設けた光セ
ンサによって検出することにより、レーザビームのモー
ドを検出することができ、良好なビーム品質を管理、維
持することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の発明の一実施例におけるレーザ加工機の
構成図である。
【図2】第2の発明の一実施例におけるレーザ加工機の
構成図である。
【図3】図2のセンサの光検出感度の特性図である。
【図4】第3の発明の一実施例におけるレーザ加工機の
構成図である。
【図5】第4の発明の一実施例におけるレーザ加工機の
構成図である。
【図6】第5の発明の一実施例におけるレーザ加工機の
構成図である。
【図7】第6の発明の一実施例におけるレーザ加工機の
構成図である。
【図8】第6の発明の他の実施例におけるレーザ加工機
の構成図である。
【図9】第7の発明の一実施例におけるレーザ加工機の
構成図である。
【図10】第8の発明の一実施例におけるレーザ加工機
の構成図である。
【図11】第8の発明の別の実施例におけるレーザ加工
機の構成図である。
【図12】第8の発明の他の実施例におけるレーザ加工
機の構成図である。
【図13】第9ないし第12の発明の一実施例における
レーザ加工機の構成図である。
【図14】図13の装置における加工レンズ位置と光セ
ンサ検出信号処理出力の関係図である。
【図15】図13の装置におけるピアス加工中の加工点
の検出状況を示す模式図である。
【図16】ピアス加工完了前後における光センサ検出信
号処理出力の変化を示す図である。
【図17】ピアス加工中にブローアップが発生した時の
光センサ検出信号処理出力の波形図である。
【図18】切断加工中の加工点の検出状況を示す模式図
である。
【図19】切断加工中に加工不良が起きた場合の光セン
サ検出信号処理出力の波形図である。
【図20】自動加工不良改善処理のフローチャートであ
る。
【図21】第13の発明の一実施例におけるレーザ加工
機の構成図である。
【図22】第13の発明のレーザ加工機における加工経
路ケガキ線検出動作時の加工面の検出状況を示す模式図
である。
【図23】第14の発明の一実施例におけるレーザ加工
機の構成図である。
【図24】第14の発明のレーザ加工機における芯ずれ
補正動作時の加工面の検出状況を示す模式図である。
【図25】第15の発明の一実施例におけるレーザ加工
機の構成図である。
【図26】第16の発明の一実施例におけるレーザ加工
機の構成図である。
【図27】第17の発明の一実施例におけるレーザ加工
機の構成図である。
【図28】第18の発明の一実施例におけるレーザ加工
機の構成図である。
【図29】従来のレーザ加工機の構成図である。
【符号の説明】
W 被加工物 1 光センサ 2 加工ヘッド 3 加工レンズ 4 ノズル 5 センサミラー 6 窓 7 検出部 8 レーザ光 9 加工面に発生し戻ってきた光 9’加工面に発生し戻ってきたレーザ光以外の光 10 NC装置 11 ベンドミラー 12 レーザ発振器 13 部分透過ミラー 14 リアミラー 15 電極 16 波長選択フィルタ 17a、b ミラー 18 ミラー 19 レーザ光センサ 20 ビームスプリッタ 21 穴付きミラー 22 駆動装置 23 駆動テーブル 24 加工ガス調整装置 25 光センサ検出信号処理回路 26 駆動式ノズル 27 レーザ発振制御回路 28 遠隔表示装置 29 ノズル穴 32 ビームスプリッタ 33 積分球 34 ミラー 35 集光レンズ 36 フィルタ 37 凸レンズ 40 照明装置 41 レンズ 42 ビームスプリッタ 43 加工経路ケガキ線 44 ノズル中心 45 加工点 46 芯ずれ補正装置 47 HeーNeレーザ発振器 48 ミラー傾き修正回路 49 ミラー傾き修正装置 50 レンズ駆動装置 51 集光レンズ 52 距離センサ 53 輝度分布 54 エネルギー強度分布 55 能動支持装置 56 制御装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 船井 潔 兵庫県尼崎市塚口本町8丁目1番1号 三 菱電機株式会社産業システム研究所内 (72)発明者 湯村 敬 兵庫県尼崎市塚口本町8丁目1番1号 三 菱電機株式会社産業システム研究所内 (72)発明者 山本 哲 兵庫県尼崎市塚口本町8丁目1番1号 三 菱電機株式会社産業システム研究所内

Claims (23)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レーザ発振器から伝送されたレーザ光を
    被加工物上に集光光学系にて集光照射して加工を行うレ
    ーザ加工機において、上記被加工物上の加工点で発生
    し、上記レーザ発振器内に戻ってきた、上記レーザ光以
    外の光を、上記発振器を構成する共振器のリアミラーか
    ら上記共振器外に取り出す手段と、この取り出し手段に
    より取り出された上記レーザ光以外の光を検出する光セ
    ンサとを備えたことを特徴とするレーザ加工機。
  2. 【請求項2】 レーザ発振器から伝送されたレーザ光を
    被加工物上に集光光学系にて集光照射して加工を行うレ
    ーザ加工機において、上記発振器を構成する複数の共振
    器ミラーのうち少なくとも1枚の共振器ミラーを、上記
    レーザ光は反射しかつ上記レーザ光以外の光は透過でき
    るようにすることにより、上記被加工物上の加工点で発
    生し上記レーザ発振器内に戻ってきた上記レーザ光以外
    の光を上記共振器の外に取り出す手段と、この取り出し
    手段により取り出された上記レーザ光以外の光を検出す
    る光センサと、上記レーザ発振器内に発生した上記レー
    ザ光の一部を上記共振器のリアミラーから上記共振器の
    外に取り出す手段と、この取り出し手段により取り出さ
    れたレーザ光を検出するレーザ光センサとを備えたこと
    を特徴とするレーザ加工機。
  3. 【請求項3】 レーザ発振器から伝送されたレーザ光を
    被加工物上に集光光学系にて集光照射して加工を行うレ
    ーザ加工機において、上記レーザ発振器の共振器を構成
    する複数の共振器ミラーの間に、上記レーザ光を透過し
    上記レーザ光以外の光を反射するビームスプリッタを設
    けることにより、上記被加工物上の加工点で発生し上記
    レーザ発振器内に戻ってきた上記レーザ光以外の光を上
    記共振器の外に取り出す手段と、この取り出し手段によ
    り取り出された上記レーザ光以外の光を検出する光セン
    サと、上記レーザ発振器内に発生した上記レーザ光の一
    部を、上記共振器のリアミラーから上記共振器の外に取
    り出す手段と、この取り出し手段により取り出されたレ
    ーザ光を検出するレーザ光センサとを備えたことを特徴
    とするレーザ加工機。
  4. 【請求項4】 レーザ発振器から伝送されたレーザ光を
    被加工物上に集光光学系にて集光照射して加工を行うレ
    ーザ加工機において、上記レーザ発振器の共振器を構成
    する複数の共振器ミラーの間に、上記共振器内のレーザ
    光が通る穴を有し且つ上記レーザ光以外の光を反射する
    穴付きミラーを設けることにより、上記被加工物上の加
    工点で発生し上記レーザ発振器内に戻ってきた上記レー
    ザ光以外の光を上記共振器の外に取り出す手段と、この
    取り出し手段により取り出された上記レーザ光以外の光
    を検出する光センサと、上記レーザ発振器内に発生した
    レーザ光の一部を、上記共振器のリアミラーから上記共
    振器の外に取り出す手段と、この取り出し手段により取
    り出されたレーザ光を検出するレーザ光センサとを備え
    たことを特徴とするレーザ加工機。
  5. 【請求項5】 レーザ発振器から伝送されたレーザ光を
    被加工物上に集光光学系にて集光照射して加工を行うレ
    ーザ加工機において、上記被加工物上の加工点で発生し
    上記レーザ発振器内に戻ってきた上記レーザ光以外の光
    と、上記レーザ発振器内に発生したレーザ光の一部と
    を、上記レーザ発振器を構成する共振器のリアミラーか
    ら上記共振器の外に取り出す手段と、この取り出し手段
    により取り出された上記レーザ光の一部と上記レーザ光
    以外の光の中からレーザ光とレーザ光以外の光とを分離
    するためのビームスプリッタと、分離された上記レーザ
    光以外の光を検出する光センサと、上記レーザ光を検出
    するレーザ光センサとを備えたことを特徴とするレーザ
    加工機。
  6. 【請求項6】 レーザ発振器から伝送されたレーザ光を
    被加工物上に集光光学系にて集光照射して加工を行うレ
    ーザ加工機において、上記被加工物上の加工点で発生
    し、上記レーザ発振器内に戻ってきた、上記レーザ光以
    外の光と、上記レーザ発振器内に発生したレーザ光の一
    部とを、上記レーザ発振器を構成する共振器のリアミラ
    ーから上記共振器の外に取り出す手段と、この取り出し
    手段により取り出された上記レーザ光の一部と上記レー
    ザ光以外の光を均一に拡散、減光するための積分球と、
    積分球内部に伝送された光の中からレーザ光以外の光を
    検出する光センサと、積分球内部に伝送された光の中か
    らレーザ光を検出するレーザ光センサとを備えたことを
    特徴とするレーザ加工機。
  7. 【請求項7】 請求項6記載のレーザ加工機において、
    積分球内部に配置されレーザ光成分とそれ以外の光とを
    分離するビームスプリッタと、上記ビームスプリッタで
    分離された後、積分球内で拡散、減光されたレーザ光を
    検出するレーザ光センサと、上記ビームスプリッタで分
    離されたレーザ光以外の光を検出する光センサとを備え
    たことを特徴とするレーザ加工機。
  8. 【請求項8】 請求項6記載のレーザ加工機において、
    積分球の一部を構成し且つ積分球内部に伝送された光の
    うちレーザ光成分はその内面で反射、拡散し、それ以外
    の光は透過するビームスプリッタと、上記ビームスプリ
    ッタを透過した光を検出する光センサと、上記積分球内
    で拡散、減光されたレーザ光を検出するレーザ光センサ
    とを備えたことを特徴とするレーザ加工機。
  9. 【請求項9】 請求項1ないし8記載のレーザ加工機に
    おいて、光センサにより検出した光の強度、強度分布、
    波長の変化のうち少なくとも何れか一つの変化に基づい
    て、集光光学系の焦点位置を検出する検出手段を備えた
    ことを特徴とするレーザ加工機。
  10. 【請求項10】 請求項1ないし9記載のレーザ加工機
    において、光センサにより検出した光の強度、強度分
    布、波長の変化のうち少なくとも何れか一つの変化に基
    づいて、ピアス加工の完了、ピアス加工中の異常の少な
    くとも何れか一つを検出する検出手段を備えたことを特
    徴とするレーザ加工機。
  11. 【請求項11】 請求項1ないし10記載のレーザ加工
    機において、光センサにより検出した光の強度、強度分
    布、波長の変化のうち少なくとも何れか一つの変化に基
    づいて、加工状況を検出する検出手段を備えたことを特
    徴とするレーザ加工機。
  12. 【請求項12】 請求項11記載のレーザ加工機におい
    て、光センサにより検出した光の強度、強度分布、波長
    の変化のうち少なくとも何れか一つの変化を検出し、焦
    点位置を検出する検出手段、ピアス加工の完了またはピ
    アス加工中の異常を検出する検出手段、及び加工状況を
    検出する検出手段の少なくとも一つを備え、上記検出手
    段の信号に基づき、レーザ発振器の発振条件、加工ガス
    の状態、焦点位置、送り速度、ノズル状態の少なくとも
    一つを制御する制御手段を備えたことを特徴とするレー
    ザ加工機。
  13. 【請求項13】 請求項1、2、3、4、5、7、8な
    いし12のいずれか記載のレーザ加工機において、レー
    ザ光と同軸に光を発生する照明装置と、レーザ発振器に
    戻ってきた光の中から、上記照明装置で発生した上記光
    の被加工物の加工面からの反射光とこの反射光以外の光
    を分離するためのビームスプリッタと、光センサの出力
    信号を用いて加工面を検出する検出手段と、被加工物に
    施された加工経路情報を上記検出手段で読みとり、上記
    加工経路に沿って倣い制御する制御手段を備えたことを
    特徴とするレーザ加工機。
  14. 【請求項14】 請求項1、2、3、4、5、7、8な
    いし13のいずれか記載のレーザ加工機において、光セ
    ンサにより検出した光と、加工ヘッド先端のノズル穴と
    の位置関係に基づき、レーザ光の光軸ずれを検出する検
    出手段と、上記検出手段の信号に基づき、上記レーザ光
    に対する上記ノズル穴、及び集光光学系の芯ずれを補正
    する補正手段を備えたことを特徴とするレーザ加工機。
  15. 【請求項15】 請求項1、2、3、4、5、7、8な
    いし14のいずれか記載のレーザ加工機において、レー
    ザ光と同軸にリアミラー後方から可視レーザ光を発生す
    る可視レーザ発振器と、被加工物の加工面から反射さ
    れ、上記レーザ発振器内に戻ってきた上記可視レーザ光
    と上記可視レーザ光以外の光を分離するビームスプリッ
    タと、光センサが受光する可視レーザ光を用いて、共振
    器ミラー、もしくはレーザ光を被加工物に導く導光路ミ
    ラーの光軸ずれまたは傾きを検出する検出手段と、上記
    検出手段の信号に基づき、上記ミラーの傾きを変え、光
    軸ずれを補正する補正手段とを備えたことを特徴とする
    レーザ加工機。
  16. 【請求項16】 請求項1、2、3、4、5、7、8な
    いし15のいずれか記載のレーザ加工機において、レー
    ザ発振器内に戻ってきた光のうちレーザ光以外の光を集
    光し、光センサに入射させるための集光レンズと、上記
    集光レンズを光軸方向に動かして焦点距離を可変にする
    ための駆動手段とを備えたことを特徴とするレーザ加工
    機。
  17. 【請求項17】 請求項1、2、3、4、5、7、8な
    いし16のいずれか記載のレーザ加工機において、レー
    ザ共振のための共振器のリアミラー後方に設けられ、加
    工面までの距離を検出する距離センサと、上記距離セン
    サで検出した距離に基づき、レーザ光を集光する光学集
    光素子を光軸方向に駆動する駆動装置とを備えたことを
    特徴とするレーザ加工機。
  18. 【請求項18】 請求項1、2、3、4、5、7、8な
    いし17のいずれか記載のレーザ加工機において、光セ
    ンサの検出信号に基づきレーザ光のビームモードを検出
    するための検出手段と、共振器ミラーの角度を調整する
    能動支持機構と、上記回路で検出した結果により、上記
    能動支持機構を制御してビームモードを補正する制御手
    段を備えたことを特徴とするレーザ加工機。
  19. 【請求項19】 請求項12記載のレーザ加工機を用い
    たレーザ加工において、(1)光センサの出力信号を用
    いて(a)集光光学系の焦点位置、(b)ピアス加工の
    完了、(c)ピアス異常、(d)加工状況のうち少なく
    とも何れか一つを検出手段にて検出し、(2)この検出
    手段の出力信号を用いて、制御手段が(a)レーザ発振
    器の発振条件、(b)加工ガスの状態、(c)焦点位
    置、(d)送り速度、(e)ノズル状態のうち少なくと
    も何れか一つを制御することを特徴とするレーザ加工方
    法。
  20. 【請求項20】 請求項13記載のレーザ加工機を用い
    たレーザ加工において、(1)光センサの出力信号を用
    いて被加工物上の加工経路情報を検出手段にて検出し、
    (2)この検出手段の出力信号を用いて、制御手段が上
    記レーザ加工機の上記加工経路に沿ったならい制御をす
    ることを特徴とするレーザ加工方法。
  21. 【請求項21】 請求項14記載のレーザ加工機を用い
    たレーザ加工において、(1)光センサの出力信号を用
    いて加工ヘッド先端のノズル穴および集光光学系のレー
    ザ光の光軸からのずれを検出手段にて検出し、(2)こ
    の検出手段の出力信号を用いて、制御手段が上記ノズル
    穴および上記集光光学系の上記レーザ光の光軸からのず
    れを補正することを特徴とするレーザ加工方法。
  22. 【請求項22】 請求項15記載のレーザ加工機を用い
    たレーザ加工において、(1)光センサの出力信号を用
    いて共振機ミラー、導光路ミラーのうち少なくとも何れ
    か一つの傾きを検出手段にて検出し、(2)この検出手
    段の出力信号を用いて、制御手段が上記共振機ミラー、
    上記導光路ミラーのうち少なくとも何れか一つの傾きを
    変え、光軸ずれを補正することを特徴とするレーザ加工
    方法。
  23. 【請求項23】 請求項18記載のレーザ加工機を用い
    たレーザ加工において、(1)光センサの出力信号を用
    いてレーザ光のビームモードを検出手段にて検出し、
    (2)この検出手段の出力信号を用いて、制御手段が能
    動支持機構を制御して上記ビームモードを補正すること
    を特徴とするレーザ加工方法。
JP5025277A 1992-12-28 1993-02-15 レーザ加工機 Expired - Fee Related JP2720744B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5025277A JP2720744B2 (ja) 1992-12-28 1993-02-15 レーザ加工機
TW082106416A TW219906B (en) 1992-12-28 1993-08-11 Laser machining apparatus and method
US08/120,829 US5463202A (en) 1992-12-28 1993-09-15 Laser machining apparatus and method
DE4336136A DE4336136C2 (de) 1992-12-28 1993-10-22 Laserbearbeitungsvorrichtung und -verfahren

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34843892 1992-12-28
JP4-348438 1992-12-28
JP5025277A JP2720744B2 (ja) 1992-12-28 1993-02-15 レーザ加工機

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06252485A true JPH06252485A (ja) 1994-09-09
JP2720744B2 JP2720744B2 (ja) 1998-03-04

Family

ID=26362878

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5025277A Expired - Fee Related JP2720744B2 (ja) 1992-12-28 1993-02-15 レーザ加工機

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5463202A (ja)
JP (1) JP2720744B2 (ja)
DE (1) DE4336136C2 (ja)
TW (1) TW219906B (ja)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2003034555A1 (ja) * 2001-10-16 2005-02-03 株式会社片岡製作所 パルス発振型固体レーザ装置及びレーザ加工装置
JP2005193285A (ja) * 2004-01-09 2005-07-21 Hamamatsu Photonics Kk レーザ加工方法及びレーザ加工装置
JP2006167728A (ja) * 2004-12-13 2006-06-29 Yamazaki Mazak Corp レーザ加工機における集光レンズの汚れ検出方法及び装置
JP2007206550A (ja) * 2006-02-03 2007-08-16 Toshiba Corp 液晶パネルの欠陥画素修正装置
JP2010142846A (ja) * 2008-12-19 2010-07-01 Panasonic Electric Works Co Ltd 3次元走査型レーザ加工機
JP2010186834A (ja) * 2009-02-10 2010-08-26 Fanuc Ltd レーザ共振器内光学部品の損傷診断装置
WO2014064963A1 (ja) * 2012-10-24 2014-05-01 浜松ホトニクス株式会社 光源装置
JP2015013297A (ja) * 2013-07-04 2015-01-22 三菱電機株式会社 レーザ加工機および、レーザ加工機の調整方法
US9352414B2 (en) 2004-01-09 2016-05-31 Hamamatsu Photonics K.K. Laser processing method and device
US9511449B2 (en) 2004-01-09 2016-12-06 Hamamatsu Photonics K.K. Laser processing method and device
JP2017208557A (ja) * 2011-06-13 2017-11-24 ワイ−チャージ リミテッド 空間分布レーザ共振器
JP2019093431A (ja) * 2017-11-24 2019-06-20 ファナック株式会社 レーザ加工前に外部光学系の異常を警告するレーザ加工装置
JP2019171431A (ja) * 2018-03-28 2019-10-10 三菱電機株式会社 レーザ加工装置およびレーザ加工装置の調整方法
JP2021037539A (ja) * 2019-09-05 2021-03-11 株式会社ディスコ 光軸調整ジグおよびレーザー加工装置の光軸確認方法

Families Citing this family (79)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5763853A (en) * 1994-04-20 1998-06-09 Hitachi Construction Machinery Co., Ltd. Laser processing apparatus, laser processing method and dam bar processing method
JP3473268B2 (ja) * 1996-04-24 2003-12-02 三菱電機株式会社 レーザ加工装置
DE19630437C2 (de) * 1996-07-27 2003-04-03 Jurca Optoelektronik Gmbh Detektorvorrichtung
US5961859A (en) * 1997-10-23 1999-10-05 Trw Inc. Method and apparatus for monitoring laser weld quality via plasma size measurements
TW436357B (en) * 1997-12-12 2001-05-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd Laser drilling equipment and control method
SE9801590L (sv) * 1998-05-07 2000-01-21 Permanova Lasersystem Ab Anordning för att bestämma fokalpunktens läge i ett laserbearbetningssystem
DE19822855C1 (de) * 1998-05-22 2001-05-03 Daimler Chrysler Ag Verfahren und Vorrichtung zur Überwachung und/oder Dokumentation eines mit einem Laser vorgenommenen Bearbeitungsvorgangs
JP3198095B2 (ja) * 1998-10-21 2001-08-13 ファナック株式会社 レーザ加工装置
DE19852302A1 (de) * 1998-11-12 2000-05-25 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren und Vorrichtung zum Bearbeiten von Werkstücken mit Hochenergiestrahlung
DE59909654D1 (de) * 1999-11-12 2004-07-08 Werner Kluft Verfahren und Vorrichtung zur Messung von Prozessparametern eines Materialbearbeitungsprozesses
US6476353B2 (en) 2000-01-26 2002-11-05 Js Chamberlain & Assoc. Laser surface finishing apparatus and method
WO2001064591A1 (en) * 2000-03-01 2001-09-07 Heraeus Amersil, Inc. Method, apparatus, and article of manufacture for determining an amount of energy needed to bring a quartz workpiece to a fusion weldable condition
US6947802B2 (en) * 2000-04-10 2005-09-20 Hypertherm, Inc. Centralized control architecture for a laser materials processing system
JP4659300B2 (ja) 2000-09-13 2011-03-30 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法及び半導体チップの製造方法
US6423928B1 (en) 2000-10-12 2002-07-23 Ase Americas, Inc. Gas assisted laser cutting of thin and fragile materials
DE10112445C2 (de) * 2001-03-13 2003-03-20 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zum Schneiden von zu fügenden Bauteilen mit Laserstrahlung
US7767928B2 (en) * 2001-09-05 2010-08-03 Lasertec Gmbh Depth measurement and depth control or automatic depth control for a hollow to be produced by a laser processing device
US6750423B2 (en) 2001-10-25 2004-06-15 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Laser irradiation method, laser irradiation apparatus, and method of manufacturing a semiconductor device
EP1308525A3 (en) * 2001-10-30 2004-01-28 Yamazaki Mazak Kabushiki Kaisha Method of controlling hardening with laser beam and laser beam hardening device
KR100715576B1 (ko) 2002-03-12 2007-05-09 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 기판의 분할 방법
WO2003076119A1 (en) 2002-03-12 2003-09-18 Hamamatsu Photonics K.K. Method of cutting processed object
TWI326626B (en) 2002-03-12 2010-07-01 Hamamatsu Photonics Kk Laser processing method
ATE396820T1 (de) * 2002-08-01 2008-06-15 Trumpf Werkzeugmaschinen Gmbh Laserbearbeitungsmaschine
TWI520269B (zh) 2002-12-03 2016-02-01 Hamamatsu Photonics Kk Cutting method of semiconductor substrate
JP2004243408A (ja) * 2003-02-17 2004-09-02 Yamazaki Mazak Corp レーザ加工機
FR2852250B1 (fr) 2003-03-11 2009-07-24 Jean Luc Jouvin Fourreau de protection pour canule, un ensemble d'injection comportant un tel fourreau et aiguille equipee d'un tel fourreau
EP1609559B1 (en) 2003-03-12 2007-08-08 Hamamatsu Photonics K. K. Laser beam machining method
US7186947B2 (en) * 2003-03-31 2007-03-06 Hypertherm, Inc. Process monitor for laser and plasma materials processing of materials
TWI275439B (en) * 2003-05-19 2007-03-11 Mitsubishi Electric Corp Laser processing apparatus
JP4563097B2 (ja) 2003-09-10 2010-10-13 浜松ホトニクス株式会社 半導体基板の切断方法
US7472831B2 (en) * 2003-11-13 2009-01-06 Metrologic Instruments, Inc. System for detecting image light intensity reflected off an object in a digital imaging-based bar code symbol reading device
JP4533640B2 (ja) * 2004-02-19 2010-09-01 日立ビアメカニクス株式会社 ガルバノスキャナの制御方法およびガルバノスキャナ
EP1568435B1 (de) * 2004-02-28 2009-04-15 Trumpf Laser- und Systemtechnik GmbH Laserbearbeitungsmaschine
JP2005262299A (ja) * 2004-03-22 2005-09-29 Disco Abrasive Syst Ltd レーザー加工装置
US7486705B2 (en) 2004-03-31 2009-02-03 Imra America, Inc. Femtosecond laser processing system with process parameters, controls and feedback
EP1632305A1 (de) * 2004-09-04 2006-03-08 Trumpf Werkzeugmaschinen GmbH + Co. KG Verfahren zur Ermittlung und Verfahren zur Einstellung der gegenseitigen Lage der Achse eines Laserbearbeitungsstrahls und der Achse eines Prozessgasstrahls an einer Laserbearbeitungsmaschine sowie Laserbearbeitungsmaschine mit Einrichtungen zur Umsetzung der Verfahren
US7438468B2 (en) * 2004-11-12 2008-10-21 Applied Materials, Inc. Multiple band pass filtering for pyrometry in laser based annealing systems
US7910499B2 (en) * 2004-11-12 2011-03-22 Applied Materials, Inc. Autofocus for high power laser diode based annealing system
US7129440B2 (en) * 2004-11-12 2006-10-31 Applied Materials, Inc. Single axis light pipe for homogenizing slow axis of illumination systems based on laser diodes
US7422988B2 (en) * 2004-11-12 2008-09-09 Applied Materials, Inc. Rapid detection of imminent failure in laser thermal processing of a substrate
US20060163220A1 (en) * 2005-01-27 2006-07-27 Brandt Aaron D Automatic gas control for a plasma arc torch
JP2006305608A (ja) * 2005-04-28 2006-11-09 Toshiba Corp レーザ加工装置、及びレーザ加工方法
EP1728581B1 (de) * 2005-05-31 2009-10-21 Trumpf Werkzeugmaschinen GmbH + Co. KG Laserbearbeitungsmaschine mit Laserbearbeitungsdüsenjustierung zum Ausrichten des Laserstrahles mit der Laserbearbeitungsdüsenbohrung
US7135392B1 (en) 2005-07-20 2006-11-14 Applied Materials, Inc. Thermal flux laser annealing for ion implantation of semiconductor P-N junctions
EP1859895A1 (en) * 2006-05-24 2007-11-28 Yamazaki Mazak Corporation Method and device for detecting contaminant on condenser lens in laser processing machine
US8168917B2 (en) * 2006-05-30 2012-05-01 Caterpillar Inc. System and method for laser-encoding information on hydraulic rods
EP1886757B1 (en) * 2006-08-07 2009-07-01 LVD Company NV Arrangement and method for the on-line monitoring of the quality of a laser process exerted on a workpiece using a heat detection camera and a tilted mirror
US7674999B2 (en) * 2006-08-23 2010-03-09 Applied Materials, Inc. Fast axis beam profile shaping by collimation lenslets for high power laser diode based annealing system
US7659187B2 (en) * 2006-11-03 2010-02-09 Applied Materials, Inc. Method of forming PN junctions including a post-ion implant dynamic surface anneal process with minimum interface trap density at the gate insulator-silicon interface
US7778799B2 (en) * 2007-01-02 2010-08-17 Hypertherm, Inc. Automated self test for a thermal processing system
GB2460648A (en) * 2008-06-03 2009-12-09 M Solv Ltd Method and apparatus for laser focal spot size control
DE112009001200B4 (de) * 2008-06-04 2016-03-10 Mitsubishi Electric Corp. Laserbearbeitungsverfahren und Laserbearbeitungsvorrichtung hierfür
DE102008030783B3 (de) * 2008-06-28 2009-08-13 Trumpf Werkzeugmaschinen Gmbh + Co. Kg Verfahren zum Laserstrahlschrägschneiden und Laserbearbeitungsmaschine
DE102010020183B4 (de) * 2010-05-11 2013-07-11 Precitec Kg Laserschneidkopf und Verfahren zum Schneiden eines Werkstücks mittels eines Laserschneidkopfes
EP2409808A1 (de) * 2010-07-22 2012-01-25 Bystronic Laser AG Laserbearbeitungsmaschine
US9289852B2 (en) * 2011-01-27 2016-03-22 Bystronic Laser Ag Laser processing machine, laser cutting machine, and method for adjusting a focused laser beam
DE102011003717A1 (de) 2011-02-07 2012-08-09 Trumpf Werkzeugmaschinen Gmbh + Co. Kg Vorrichtung und Verfahren zur Überwachung und insbesondere zur Regelung eines Laserschneidprozesses
FR2973725A1 (fr) * 2011-04-06 2012-10-12 Air Liquide Welding France Procede de percage et coupage d'un materiau metallique par un faisceau laser
JP5269260B1 (ja) * 2011-07-28 2013-08-21 三菱電機株式会社 レーザ加工装置およびレーザ加工制御装置
JP5276699B2 (ja) * 2011-07-29 2013-08-28 ファナック株式会社 ピアシングを行うレーザ加工方法及びレーザ加工装置
US9403238B2 (en) * 2011-09-21 2016-08-02 Align Technology, Inc. Laser cutting
WO2013057935A1 (ja) * 2011-10-17 2013-04-25 株式会社 東芝 レーザ照射装置及びレーザ照射ヘッドの健全性診断方法
DE102012219196B3 (de) * 2012-10-22 2014-02-06 Trumpf Werkzeugmaschinen Gmbh + Co. Kg Verfahren und Bearbeitungsmaschine zum Einstechen, Bohren oder Schneiden metallischer Werkstücke
DE102013209526B4 (de) * 2013-05-23 2015-04-30 Trumpf Werkzeugmaschinen Gmbh + Co. Kg Verfahren, Computerprogrammprodukt und Vorrichtung zum Erkennen eines Schnittabrisses
EP2999568B1 (de) * 2013-05-23 2018-07-04 Trumpf Werkzeugmaschinen GmbH + Co. KG Laserbearbeitungsdüse für eine laserbearbeitungseinrichtung und laserbearbeitungseinrichtung
US11440135B2 (en) 2013-05-23 2022-09-13 Trumpf Werkzeugmaschinen Gmbh + Co. Kg Laser machining nozzle for a laser machining device, and laser machining device
TW201446386A (zh) * 2013-06-14 2014-12-16 Hon Hai Prec Ind Co Ltd 雷射加工系統
EP2883647B1 (de) 2013-12-12 2019-05-29 Bystronic Laser AG Verfahren zur Konfiguration einer Laserbearbeitungsvorrichtung
DE102014000330B3 (de) * 2014-01-14 2015-03-12 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zur Überwachung und Regelung der Fokuslage eines Bearbeitungslaserstrahls beim Laserschneiden
DE102014202176B4 (de) 2014-02-06 2015-10-22 Trumpf Werkzeugmaschinen Gmbh + Co. Kg Verfahren zum Identifizieren einer Randkontur einer an einem Bearbeitungskopf gebildeten Öffnung und Bearbeitungsmaschine
DE102014203645B4 (de) * 2014-02-28 2016-06-02 Trumpf Werkzeugmaschinen Gmbh + Co. Kg Verfahren und Vorrichtung zum optischen Bestimmen eines Abstandes
WO2015146591A1 (ja) * 2014-03-27 2015-10-01 プライムアースEvエナジー 株式会社 レーザ溶接装置、レーザ溶接方法及び電池ケース
US20160059363A1 (en) * 2014-06-25 2016-03-03 Pittsburgh Portable Laser Company, Llc Portable computer numerically controlled cutting machine with folding arm
CN104400227B (zh) * 2014-09-26 2016-02-17 四川汉能光伏有限公司 一种用于激光刻划fto玻璃的加工方法
KR102435765B1 (ko) * 2015-09-14 2022-08-24 삼성디스플레이 주식회사 레이저 결정화 장치
TWI593494B (zh) * 2015-12-15 2017-08-01 新代科技股份有限公司 雷射加工控制系統及其控制方法
DE102016208264A1 (de) 2016-05-13 2017-11-16 Trumpf Werkzeugmaschinen Gmbh + Co. Kg Verfahren und Vorrichtung zur Überwachung, insbesondere zur Regelung, eines Schneidprozesses
DE102017109186B4 (de) * 2017-04-28 2019-10-10 Jenoptik Automatisierungstechnik Gmbh Verfahren zum überwachten Ausschneiden eines Schneidbutzens aus einem metallischen Werkstück
TW202411000A (zh) * 2022-06-02 2024-03-16 美商伊雷克托科學工業股份有限公司 包括雷射感測器系統的雷射加工設備和測量光束特性的方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02165886A (ja) * 1988-12-19 1990-06-26 Mitsubishi Electric Corp レーザ加工装置

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5267595A (en) * 1975-12-02 1977-06-04 Nec Corp Laser output stabilizing device
CH658753A5 (de) * 1980-03-31 1986-11-28 Konstantin Ivanovich Zemskov Verfahren zur behandlung bei gleichzeitiger beobachtung und registrierung eines objektes mit hilfe eines lasermediums und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens.
JPS58205689A (ja) * 1982-05-24 1983-11-30 Hitachi Ltd レ−ザビ−ムの反射光量検出方法
JPS61219489A (ja) * 1985-03-25 1986-09-29 Mitsubishi Electric Corp レ−ザ出力制御装置
JPH01152783A (ja) * 1987-12-10 1989-06-15 Fanuc Ltd レーザのビームモード制御方式
JP2771569B2 (ja) * 1988-12-29 1998-07-02 ファナック 株式会社 レーザ加工装置
DE3926859A1 (de) * 1988-12-30 1990-07-05 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren und vorrichtung zum bearbeiten von werkstuecken mit laserstrahlung
JPH0323092A (ja) * 1989-06-20 1991-01-31 Komatsu Ltd レーザ加工機の焦点位置測定方法
JPH04105780A (ja) * 1990-08-28 1992-04-07 Amada Co Ltd レーザ加工における不良切断検出装置
JP2837748B2 (ja) * 1990-08-07 1998-12-16 株式会社アマダ レーザ加工機のピアス完了検出装置
DE4106008A1 (de) * 1991-02-26 1992-08-27 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zur on-line-ueberwachung bei der werkstueckbearbeitung mit laserstrahlung
DE4106007A1 (de) * 1991-02-26 1992-09-03 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren und vorrichtung zum bearbeiten von werkstuecken mit laserstrahlung

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02165886A (ja) * 1988-12-19 1990-06-26 Mitsubishi Electric Corp レーザ加工装置

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2003034555A1 (ja) * 2001-10-16 2005-02-03 株式会社片岡製作所 パルス発振型固体レーザ装置及びレーザ加工装置
JP2005193285A (ja) * 2004-01-09 2005-07-21 Hamamatsu Photonics Kk レーザ加工方法及びレーザ加工装置
JP4601965B2 (ja) * 2004-01-09 2010-12-22 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法及びレーザ加工装置
US11241757B2 (en) 2004-01-09 2022-02-08 Hamamatsu Photonics K.K. Laser processing method and device
US10293433B2 (en) 2004-01-09 2019-05-21 Hamamatsu Photonics K.K. Laser processing method and device
US8993922B2 (en) 2004-01-09 2015-03-31 Hamamatsu Photonics K.K. Laser processing method and device
US9352414B2 (en) 2004-01-09 2016-05-31 Hamamatsu Photonics K.K. Laser processing method and device
US9511449B2 (en) 2004-01-09 2016-12-06 Hamamatsu Photonics K.K. Laser processing method and device
JP2006167728A (ja) * 2004-12-13 2006-06-29 Yamazaki Mazak Corp レーザ加工機における集光レンズの汚れ検出方法及び装置
JP2007206550A (ja) * 2006-02-03 2007-08-16 Toshiba Corp 液晶パネルの欠陥画素修正装置
JP2010142846A (ja) * 2008-12-19 2010-07-01 Panasonic Electric Works Co Ltd 3次元走査型レーザ加工機
JP2010186834A (ja) * 2009-02-10 2010-08-26 Fanuc Ltd レーザ共振器内光学部品の損傷診断装置
JP2017208557A (ja) * 2011-06-13 2017-11-24 ワイ−チャージ リミテッド 空間分布レーザ共振器
WO2014064963A1 (ja) * 2012-10-24 2014-05-01 浜松ホトニクス株式会社 光源装置
JP2015013297A (ja) * 2013-07-04 2015-01-22 三菱電機株式会社 レーザ加工機および、レーザ加工機の調整方法
JP2019093431A (ja) * 2017-11-24 2019-06-20 ファナック株式会社 レーザ加工前に外部光学系の異常を警告するレーザ加工装置
US11007608B2 (en) 2017-11-24 2021-05-18 Fanuc Corporation Laser machining device warning of anomaly in external optical system before laser machining
JP2019171431A (ja) * 2018-03-28 2019-10-10 三菱電機株式会社 レーザ加工装置およびレーザ加工装置の調整方法
JP2021037539A (ja) * 2019-09-05 2021-03-11 株式会社ディスコ 光軸調整ジグおよびレーザー加工装置の光軸確認方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2720744B2 (ja) 1998-03-04
DE4336136A1 (de) 1994-07-07
TW219906B (en) 1994-02-01
US5463202A (en) 1995-10-31
DE4336136C2 (de) 2001-03-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2720744B2 (ja) レーザ加工機
KR100197050B1 (ko) 레이저가공장치
US6303903B1 (en) Method and apparatus for determining focus position of a laser
US7570407B2 (en) Scanning mechanism, method of machining workpiece, and machine tool
US20070000889A1 (en) Method and device for detecting contaminant on condenser lens in laser processing machine
JP2008119716A (ja) レーザ加工装置およびレーザ加工装置における焦点維持方法
US20230121254A1 (en) Laser welding device and laser welding method
Kratzsch et al. Coaxial process control during laser beam welding of tailored blanks
JP2728358B2 (ja) レーザ加工機のノズルのセンタリング方法及び装置
CN113305418A (zh) 一种激光加工同轴寻焦装置及激光加工方法
JPS63278692A (ja) レ−ザ−加工装置に於ける自動焦点機構
KR100660111B1 (ko) 광센서부 및 빔 제어수단을 구비한 레이저 가공장치
US20210370438A1 (en) Laser processing device
JP2019155402A (ja) レーザ光の芯出し方法及びレーザ加工装置
Duflou et al. Development of a real time monitoring and adaptive control system for laser flame cutting
JPH1147970A (ja) 自動焦点調節機構付きレーザ溶接装置
JP2002239767A (ja) レーザ加工モニタリング装置および照明装置
JPH07214357A (ja) レーザ加工機
US8093540B2 (en) Method of focus and automatic focusing apparatus and detecting module thereof
JP2705485B2 (ja) レーザ加工機
JP4155095B2 (ja) 光加工装置
JP2785637B2 (ja) レーザ加工装置
US20220331911A1 (en) Method for comparing laser processing systems and method for monitoring a laser processing process and associated laser processing system
KR100398422B1 (ko) 레이져 출력가변을 이용한 비젼센서의 보호창 교환 경고시스템
JPH04113305A (ja) 焦点合わせ装置

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071121

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081121

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081121

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091121

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091121

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101121

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111121

Year of fee payment: 14

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121121

Year of fee payment: 15

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees