JPS61219489A - レ−ザ出力制御装置 - Google Patents
レ−ザ出力制御装置Info
- Publication number
- JPS61219489A JPS61219489A JP60058286A JP5828685A JPS61219489A JP S61219489 A JPS61219489 A JP S61219489A JP 60058286 A JP60058286 A JP 60058286A JP 5828685 A JP5828685 A JP 5828685A JP S61219489 A JPS61219489 A JP S61219489A
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- JP
- Japan
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- laser
- mirror
- laser beam
- light
- bend
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- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、レーザ加工装置におけるレーザ光の出力制
御装置に関するものである。
御装置に関するものである。
第３図は従来のレーザ出力制御装置を示す構成図であり
、容器（１）内にレーザ媒質ガス（２）を満し、電源（
４）の出力電圧により電極（３Ａ）、（３Ｂ）間に放心
をさせてレーザ媒質ガス（２）を励起し、全反射鏡（５
）と部分透過鏡（６）間でレーザ発振を起して部分透過
鏡（６）からレーザ光（７）を出力させる。
、容器（１）内にレーザ媒質ガス（２）を満し、電源（
４）の出力電圧により電極（３Ａ）、（３Ｂ）間に放心
をさせてレーザ媒質ガス（２）を励起し、全反射鏡（５
）と部分透過鏡（６）間でレーザ発振を起して部分透過
鏡（６）からレーザ光（７）を出力させる。
このレーザ光（力はベンドミラー（８Ａ、） 、 （８
Ｂ） 、 （８Ｃ）により任意の位置に仕送され、加工
ヘット責９）に取付けたレンズα０）により集光し、焦
点位置近傍で被加工物（１１）を加工する。この場合、
レーザ光（力の光路に部分透過鏡（２）を挿入し、レー
ザ光（７）の一部を取り出して積分球（１：１に入射さ
せる。この積分球１国は内面が反射材料でできており、
ビームが内部で反射をくり返すことにより均一になるの
で、レーザ光検出器（１４）により均一に減光されたレ
ーザ光（力の一部を検出してレーザ出力設定器（１５１
の出力信号と比較し、その偏差を増幅器（Ｉｔこより増
幅して電源（４）に信号を送り、レーザ光（力の強度を
一定に保つようにフィードバック制御を行っている。
Ｂ） 、 （８Ｃ）により任意の位置に仕送され、加工
ヘット責９）に取付けたレンズα０）により集光し、焦
点位置近傍で被加工物（１１）を加工する。この場合、
レーザ光（力の光路に部分透過鏡（２）を挿入し、レー
ザ光（７）の一部を取り出して積分球（１：１に入射さ
せる。この積分球１国は内面が反射材料でできており、
ビームが内部で反射をくり返すことにより均一になるの
で、レーザ光検出器（１４）により均一に減光されたレ
ーザ光（力の一部を検出してレーザ出力設定器（１５１
の出力信号と比較し、その偏差を増幅器（Ｉｔこより増
幅して電源（４）に信号を送り、レーザ光（力の強度を
一定に保つようにフィードバック制御を行っている。
従来のレーザ出力制御装置は以上のように構成されてい
るので、第４図に示すようｌこ部分透過錬θカの反射光
（１７）は積分球（ｌ濠に入射して内部で反射をくり返
すが、光取入口θＱが太きいとαＣのように外部へもれ
て行くので、レーザ検出器（１４）は正確なレーザ強度
を測定できない。また、モニター以後のベンドミラー（
８Ａ） 、 （８Ｂ） 、 （８Ｃ）が汚れた場合にレ
ーザ光α力の減衰が生じても、部分透過鏡（１２１以後
の光路１こおけるレーザ光（力の減衰は検出できない等
の問題があった。
るので、第４図に示すようｌこ部分透過錬θカの反射光
（１７）は積分球（ｌ濠に入射して内部で反射をくり返
すが、光取入口θＱが太きいとαＣのように外部へもれ
て行くので、レーザ検出器（１４）は正確なレーザ強度
を測定できない。また、モニター以後のベンドミラー（
８Ａ） 、 （８Ｂ） 、 （８Ｃ）が汚れた場合にレ
ーザ光α力の減衰が生じても、部分透過鏡（１２１以後
の光路１こおけるレーザ光（力の減衰は検出できない等
の問題があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、積分球の取入口からの光のもれが無く、ベン
ドミラーの汚れ等による仕送時の減衰があっても正確な
レーザ出力で加工することができるレーザ出力制御装置
を得ることを目的とする。
たもので、積分球の取入口からの光のもれが無く、ベン
ドミラーの汚れ等による仕送時の減衰があっても正確な
レーザ出力で加工することができるレーザ出力制御装置
を得ることを目的とする。
この発明に係るレーザ出力制御装置は、複数のベンドミ
ラーで光を仕送するものにおいて、加工レンズに近いベ
ンドミラーを部分透過鏡とし、積分球の光取入口をベン
ドミラーの透過側に密着させたもので、レーザ光の強度
を検出してレーザ出力設定器の出力と比較し、その偏差
−信号をフィードバックしてレーザ出力を制御するよう
にしたものである。
ラーで光を仕送するものにおいて、加工レンズに近いベ
ンドミラーを部分透過鏡とし、積分球の光取入口をベン
ドミラーの透過側に密着させたもので、レーザ光の強度
を検出してレーザ出力設定器の出力と比較し、その偏差
−信号をフィードバックしてレーザ出力を制御するよう
にしたものである。
この発明は、加工レンズに最も近いベンドミラーの透過
側に積分球の光取入口を密着して取り何けたので、積分
球取入口からのレーザ光のもれがなく、途中のベンドミ
ラーが汚れても影響がナレ）ため、加工に使用されるレ
ーザノくワーを正確１こ検出、制御する。
側に積分球の光取入口を密着して取り何けたので、積分
球取入口からのレーザ光のもれがなく、途中のベンドミ
ラーが汚れても影響がナレ）ため、加工に使用されるレ
ーザノくワーを正確１こ検出、制御する。
以下、この発明の一火施例を図番こつυ１て説明する。
第１図（こおいて、（１）〜（６）は従来例を示した第
６図における同名）号のものと同−才１こは相当部分で
あり、加工レンズ（１０に最も近いベンドミラーを部分
透過鏡（２（１）とし、レーザノくワーの一部を透過す
るよう船こなってＱする。
６図における同名）号のものと同−才１こは相当部分で
あり、加工レンズ（１０に最も近いベンドミラーを部分
透過鏡（２（１）とし、レーザノくワーの一部を透過す
るよう船こなってＱする。
第２図は検出部を拡大した図であり、（２０は部分反射
鏡で、積分球（１３）の光取入口が透過側に密着して取
付けられている。（２υは積分球（１３）内での反射光
。
鏡で、積分球（１３）の光取入口が透過側に密着して取
付けられている。（２υは積分球（１３）内での反射光
。
（２功は入射レーザ光、（２■は全反射コーティングで
ある。
ある。
次に動作について説明する。第２図において、入射レー
ザ光（２つは部分透過鏡（２０）の全反射コーティング
（２３）ではとんど反射されるが１〜２％透過される。
ザ光（２つは部分透過鏡（２０）の全反射コーティング
（２３）ではとんど反射されるが１〜２％透過される。
透過したレーザ光は積分球（１３）の内面ｌこ当り、内
面は金等の反射材で構成されているので反射をくり返す
。才だ、部分透過鏡（２０）の部分は積分球（ｌ■の光
取入口になるが、反射光（２１）のようｆこ外へもれよ
うとする光は、部分透過鏡（２（１１の全反射コーティ
ング（ハ）で反射されるため外へもれない。このため、
積分球（１３）の内面に当るレーザ光の強度は平均化さ
れ、レーザ光検出器により均一に減光されたレーザ光の
一部を正確ｌこ検出できる。
面は金等の反射材で構成されているので反射をくり返す
。才だ、部分透過鏡（２０）の部分は積分球（ｌ■の光
取入口になるが、反射光（２１）のようｆこ外へもれよ
うとする光は、部分透過鏡（２（１１の全反射コーティ
ング（ハ）で反射されるため外へもれない。このため、
積分球（１３）の内面に当るレーザ光の強度は平均化さ
れ、レーザ光検出器により均一に減光されたレーザ光の
一部を正確ｌこ検出できる。
正確に検出されたレーザ出力信号は、レーザ出力設定器
ａつの信号との偏差を増幅器（１１こより増幅し、電源
（４）へフィードバックすることにより電極（３Ａ）
、 （３Ｂ）間の放電強度を変え、励起強度を変えるこ
とによりレーザ発振強度を制御することができる。もし
、レーザ発振効率が下がったり、ベンドミラー（８Ａ、
） 、 （８Ｂ）が汚れても、検出部におけるレーザ強
度が一定になるように制御されているため、電源（４）
の励起出力を高くして、検出部では常蚤こ正確なレーザ
パワーにすることができ、安定なレーザ加工ができるよ
うニナっている。
ａつの信号との偏差を増幅器（１１こより増幅し、電源
（４）へフィードバックすることにより電極（３Ａ）
、 （３Ｂ）間の放電強度を変え、励起強度を変えるこ
とによりレーザ発振強度を制御することができる。もし
、レーザ発振効率が下がったり、ベンドミラー（８Ａ、
） 、 （８Ｂ）が汚れても、検出部におけるレーザ強
度が一定になるように制御されているため、電源（４）
の励起出力を高くして、検出部では常蚤こ正確なレーザ
パワーにすることができ、安定なレーザ加工ができるよ
うニナっている。
なお上記実施例では、レンズに最も近いベンドミラーに
積分球による検出機構を設けたが、他のベンドミラーで
あってもよく、上記実施例と同様の効果を奏する。
積分球による検出機構を設けたが、他のベンドミラーで
あってもよく、上記実施例と同様の効果を奏する。
以上のよう番こ、この発明によれば加工レンズに剋いベ
ンドミラーに積分球を′＆ｉｙ＝して取り付け、レーザ
パワーを検出しでレーザ出力を制御するよう憂こ構成し
たので、途中のベンドミラーの汚れやレーザ発振効率の
鎚動に影響がなく、安定したレーザ加工を行なうことが
できる。
ンドミラーに積分球を′＆ｉｙ＝して取り付け、レーザ
パワーを検出しでレーザ出力を制御するよう憂こ構成し
たので、途中のベンドミラーの汚れやレーザ発振効率の
鎚動に影響がなく、安定したレーザ加工を行なうことが
できる。
第１図はこの発明の一拠施列による積分球型レーザ出力
制御装置の構成図、第２図（ば第１１瘉こおける構出部
分の拡大図、第６図は従来のレーザ出力制御装置の構成
図、第４図は第３図における検出部分の拡大図である。 図において、（２）はレーザ媒質ガス、（５）は全反射
鏡、（６）は部分透過鏡、（力はレーザ光、（８Ａ／）
、 （８Ｂ）はベンドミラー、００）はレンズ、（１
３）は積分球、（２０）は部分透過鏡である。 なお、図中同一符号は同−才たは相当部分を示す。
制御装置の構成図、第２図（ば第１１瘉こおける構出部
分の拡大図、第６図は従来のレーザ出力制御装置の構成
図、第４図は第３図における検出部分の拡大図である。 図において、（２）はレーザ媒質ガス、（５）は全反射
鏡、（６）は部分透過鏡、（力はレーザ光、（８Ａ／）
、 （８Ｂ）はベンドミラー、００）はレンズ、（１
３）は積分球、（２０）は部分透過鏡である。 なお、図中同一符号は同−才たは相当部分を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 レーザ発振器より出力するレーザ光をベンドミラーによ
り任意の位置へ仕送してレンズにより集光し、焦点位置
近傍でレーザ加工を行う装置において、 上記レンズに近いベンドミラーを部分透過鏡とし、レー
ザ出力設定器の出力と比較するレーザ光を出力する積分
球の光取入口をこのベンドミラーの透過側に密着させた
ことを特徴とするレーザ出力制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60058286A JPS61219489A (ja) | 1985-03-25 | 1985-03-25 | レ−ザ出力制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60058286A JPS61219489A (ja) | 1985-03-25 | 1985-03-25 | レ−ザ出力制御装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61219489A true JPS61219489A (ja) | 1986-09-29 |
| JPH0411315B2 JPH0411315B2 (ja) | 1992-02-28 |
Family
ID=13079953
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60058286A Granted JPS61219489A (ja) | 1985-03-25 | 1985-03-25 | レ−ザ出力制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61219489A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03107806A (ja) * | 1989-09-22 | 1991-05-08 | Graphtec Corp | 光分配装置 |
| US5463202A (en) * | 1992-12-28 | 1995-10-31 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laser machining apparatus and method |
| US6538229B1 (en) * | 1996-05-08 | 2003-03-25 | Infineon Technologies Ag | Method for the positionally accurate adjustment and fixing of a microoptical element |
| JP6466036B1 (ja) * | 2018-02-22 | 2019-02-06 | 三菱電機株式会社 | レーザ発振装置 |
-
1985
- 1985-03-25 JP JP60058286A patent/JPS61219489A/ja active Granted
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03107806A (ja) * | 1989-09-22 | 1991-05-08 | Graphtec Corp | 光分配装置 |
| US5463202A (en) * | 1992-12-28 | 1995-10-31 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laser machining apparatus and method |
| DE4336136C2 (de) * | 1992-12-28 | 2001-03-15 | Mitsubishi Electric Corp | Laserbearbeitungsvorrichtung und -verfahren |
| US6538229B1 (en) * | 1996-05-08 | 2003-03-25 | Infineon Technologies Ag | Method for the positionally accurate adjustment and fixing of a microoptical element |
| JP6466036B1 (ja) * | 2018-02-22 | 2019-02-06 | 三菱電機株式会社 | レーザ発振装置 |
| US10998692B2 (en) | 2018-02-22 | 2021-05-04 | Mitsubishi Electric Corporation | Laser oscillation device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0411315B2 (ja) | 1992-02-28 |
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