JPS6052072A - レ−ザ出力制御装置 - Google Patents
レ−ザ出力制御装置Info
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- JPS6052072A JPS6052072A JP16065683A JP16065683A JPS6052072A JP S6052072 A JPS6052072 A JP S6052072A JP 16065683 A JP16065683 A JP 16065683A JP 16065683 A JP16065683 A JP 16065683A JP S6052072 A JPS6052072 A JP S6052072A
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- Japan
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- laser
- output
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- laser beam
- laser light
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/131—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation
- H01S3/134—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation in gas lasers
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- Electromagnetism (AREA)
- Lasers (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、レーザ装置から出力するレーザ光を高速度
応答で制御するレーザ出力制御装置に関するものである
。
応答で制御するレーザ出力制御装置に関するものである
。
従来この種のレーザ装置のレーザ光検出器としては、第
１図に示すものがあった。第１図は従来のレーザ光検出
器を示す概略構成図である。図に示す様なレーザ光検出
器１６において、放熱器１とレーザ光吸収板３との間に
熱電対（サーモパイル）２が密着して配設されており、
レーザ光４をレーザ光吸収板３に当てると、このレーザ
光吸収板３の温度が上昇し、熱電対２を通って放熱器１
に熱が流れる。このため、レーザ光吸収板３と放熱器１
との間には温度差が生じ、熱電対２はこの温度差に比例
した熱起電力を発生することになるので、熱電対２の出
力電圧を増幅器５によって増幅し、レーザ光４の強度を
示す出力信号６を得ることにより、レーザ光４の強度を
測定することができる。
１図に示すものがあった。第１図は従来のレーザ光検出
器を示す概略構成図である。図に示す様なレーザ光検出
器１６において、放熱器１とレーザ光吸収板３との間に
熱電対（サーモパイル）２が密着して配設されており、
レーザ光４をレーザ光吸収板３に当てると、このレーザ
光吸収板３の温度が上昇し、熱電対２を通って放熱器１
に熱が流れる。このため、レーザ光吸収板３と放熱器１
との間には温度差が生じ、熱電対２はこの温度差に比例
した熱起電力を発生することになるので、熱電対２の出
力電圧を増幅器５によって増幅し、レーザ光４の強度を
示す出力信号６を得ることにより、レーザ光４の強度を
測定することができる。
従来のレーザ光検出器１６は以上の様に構成されている
ので、レーザ光４を受けてレーザ光吸収板３の温度が上
昇するのに時間を要し、また、レーザ光吸収板３から熱
電対２を通り放熱４器１に熱が流れる時、熱平衝状態に
なるまでにさらに時間を要していた。したがって、レー
ザ光４がレーザ光吸収板３に当たってから、増幅器５の
出力信号６が安定した一定値に達するのに、通常約１〜
１０秒程度の時間がかかり、その応答速度が遅いもので
あった。
ので、レーザ光４を受けてレーザ光吸収板３の温度が上
昇するのに時間を要し、また、レーザ光吸収板３から熱
電対２を通り放熱４器１に熱が流れる時、熱平衝状態に
なるまでにさらに時間を要していた。したがって、レー
ザ光４がレーザ光吸収板３に当たってから、増幅器５の
出力信号６が安定した一定値に達するのに、通常約１〜
１０秒程度の時間がかかり、その応答速度が遅いもので
あった。
第２図は従来の炭酸ガスレーザ装置におけるレーザ出力
制御装置の一例を示す概略構成図である。
制御装置の一例を示す概略構成図である。
図に示す様に、容器７内には炭酸ガスを含むレーザ媒質
ガス８を満し、１対の電極９Ａ、９Ｂに電源１０より高
電圧を印加し、放ｔ１１を生成してレーザ媒質ガス８を
励起する。また、全反射鏡１２と部分透過鏡１３を放電
１１をはさんで対向して設置することによりレーザ発振
を発生させ、部分透過鏡１３側よりレーザ光１４を外部
に出力する。
ガス８を満し、１対の電極９Ａ、９Ｂに電源１０より高
電圧を印加し、放ｔ１１を生成してレーザ媒質ガス８を
励起する。また、全反射鏡１２と部分透過鏡１３を放電
１１をはさんで対向して設置することによりレーザ発振
を発生させ、部分透過鏡１３側よりレーザ光１４を外部
に出力する。
一方、全反射鏡１２はレーザ光１４のほとんどを反射す
るか、約１％程度は透過する性質を有する。
るか、約１％程度は透過する性質を有する。
そして、全反射鏡１２側より出力される検出レーザ光１
５はレーザ光１４の強度に比例するため。
５はレーザ光１４の強度に比例するため。
検出レーザ光１５をレーザ光検出器１６により電気信号
に変換し、このレーザ光検出器１６の出力と所定のレー
ザ光の出力指令値１７とを比較して、その誤差信号を増
幅器１８により増幅し、を源１０の出力電圧又は出力電
流を制御することにより、レーザ媒質ガス８の励起強度
を制御し、これにより、レーザ光１４の強度をほぼ一定
に保持することができる。
に変換し、このレーザ光検出器１６の出力と所定のレー
ザ光の出力指令値１７とを比較して、その誤差信号を増
幅器１８により増幅し、を源１０の出力電圧又は出力電
流を制御することにより、レーザ媒質ガス８の励起強度
を制御し、これにより、レーザ光１４の強度をほぼ一定
に保持することができる。
上記した従来のレーザ出力制御装置において、レーザ光
１４の出力が約１０００ワツト（Ｗ）のものでは、全反
射鏡１２側の検出レーザ光１５の出力は約２０〜５０ワ
ツト程度である。また、炭酸ガスレーザ装置におけるレ
ーザ光の波長は１０．６μｍの遠赤外光であり、゛この
波長を直接に検出するものとしては、上記第１図に示す
様な熱電対２を使用したレーザ光検出器１６が一般的で
あって、その検出精度も高い。しかるに、上記第１図に
示すレーザ光検出器１６は、熱平衝状態になるまでに約
１〜１０秒程度の時間がかかり、その応答速度が非常に
遅かった。この様な応答速度の遅いレーザ装置では、切
断、焼入れ、溶接などのレーザ加工において、Ｈ［定の
レーザ光の出力指命値１７に対するレーザ光１４の出力
応答性が悪く、このため、加工不良となる事故の発生す
ることが多いという欠点があった。また、所定のレーザ
光の出力指令値１７が急に高くなり、レーザ光１４の出
力が十分に強く増大されても、レーザ光検出器１６の応
答速度が遅いために、レーザ光１４が十分に強く出力さ
れていないと判断し、増幅器１８を通じて電源１０の出
力をさらに高くする様に作用するため、１１Ｃ源ｌＯを
過負荷にしたり、各電極９Ａ。
１４の出力が約１０００ワツト（Ｗ）のものでは、全反
射鏡１２側の検出レーザ光１５の出力は約２０〜５０ワ
ツト程度である。また、炭酸ガスレーザ装置におけるレ
ーザ光の波長は１０．６μｍの遠赤外光であり、゛この
波長を直接に検出するものとしては、上記第１図に示す
様な熱電対２を使用したレーザ光検出器１６が一般的で
あって、その検出精度も高い。しかるに、上記第１図に
示すレーザ光検出器１６は、熱平衝状態になるまでに約
１〜１０秒程度の時間がかかり、その応答速度が非常に
遅かった。この様な応答速度の遅いレーザ装置では、切
断、焼入れ、溶接などのレーザ加工において、Ｈ［定の
レーザ光の出力指命値１７に対するレーザ光１４の出力
応答性が悪く、このため、加工不良となる事故の発生す
ることが多いという欠点があった。また、所定のレーザ
光の出力指令値１７が急に高くなり、レーザ光１４の出
力が十分に強く増大されても、レーザ光検出器１６の応
答速度が遅いために、レーザ光１４が十分に強く出力さ
れていないと判断し、増幅器１８を通じて電源１０の出
力をさらに高くする様に作用するため、１１Ｃ源ｌＯを
過負荷にしたり、各電極９Ａ。
９Ｂを劣化させたり、全反射鏡１２又は部分透過鏡１３
を破損したりするなどの重大な欠点があった。
を破損したりするなどの重大な欠点があった。
この発明は、上記の様な従来のものの欠点を改善する目
的でなされたもので、レーザ媒質を励起することにより
レーザ光を得るレーザ装置において、前記レーザ光の１
部を取り出す手段と、この手段により取り出されたレー
ザ光を均一に減光されたレーザ光とする積分球と、この
積分球からのレーザ光の出力を高速度で検出するレーザ
光検出器を備え、所定のレーザ光の出力指命値と前記レ
ーザ光検出器の出力とを比較し、前記レーザ媒質の励起
強度を制御する様にして成る構成を有し、レーザ光の出
力を高速度で応答制御できるレーザ出力制御装置を提供
するものである。
的でなされたもので、レーザ媒質を励起することにより
レーザ光を得るレーザ装置において、前記レーザ光の１
部を取り出す手段と、この手段により取り出されたレー
ザ光を均一に減光されたレーザ光とする積分球と、この
積分球からのレーザ光の出力を高速度で検出するレーザ
光検出器を備え、所定のレーザ光の出力指命値と前記レ
ーザ光検出器の出力とを比較し、前記レーザ媒質の励起
強度を制御する様にして成る構成を有し、レーザ光の出
力を高速度で応答制御できるレーザ出力制御装置を提供
するものである。
以下、この発明の実施例を図について説明する。
第３図はこの発明の一実施例であるレーザ出力制御装置
に適用されるレーザ光検出器を示す概略構成図である。
に適用されるレーザ光検出器を示す概略構成図である。
図に示す様なレーザ光検出器１９において、放熱器２０
にはレーザ光吸収膜２１を設けた微小な熱電対２２が密
着して配設されている。
にはレーザ光吸収膜２１を設けた微小な熱電対２２が密
着して配設されている。
熱電対２２は微小であるため、レーザ光２３はしンズ２
４により集光してレーザ光吸収膜２１に入射する。レー
ザ光吸収膜２１と放熱器２０との間には温度差が生じ、
熱電対２２はこの温度差に比例した熱起電力を発生する
ことになるので、出力端子２５に信号を出力する。ここ
で、微小な熱電対２２の寸法は、約Ｉ １１ｍ以下の大
きさとすることにより、熱平衝時定数は約１０〜１００
ミＩＪ秒程度にすることができ、このため、高速度で
応答することが可能となる。ただし、許容されるレーザ
光２３の強度は、約１０〜１００ミリワツトと非常に低
い値である。
４により集光してレーザ光吸収膜２１に入射する。レー
ザ光吸収膜２１と放熱器２０との間には温度差が生じ、
熱電対２２はこの温度差に比例した熱起電力を発生する
ことになるので、出力端子２５に信号を出力する。ここ
で、微小な熱電対２２の寸法は、約Ｉ １１ｍ以下の大
きさとすることにより、熱平衝時定数は約１０〜１００
ミＩＪ秒程度にすることができ、このため、高速度で
応答することが可能となる。ただし、許容されるレーザ
光２３の強度は、約１０〜１００ミリワツトと非常に低
い値である。
第４図はこの発明の一実施例であるレーザ出力制御装置
に適用される積分球の動作を示す説明図である。図に示
す様に、レーザ光２７は積分球２６の入力ポート２８か
ら入射される。積分球２６の内面は、入射されたレーザ
光２７を乱反射させる様に凹凸形状に形成されており、
金メッキ等の全反射膜がコーテングされているので、入
射されたレーザ光２７は積分球２６の内面で多数の反射
を繰り返して均一に拡散されるため、積分球２６に微小
な孔の出力ポート２９を設けることにより。
に適用される積分球の動作を示す説明図である。図に示
す様に、レーザ光２７は積分球２６の入力ポート２８か
ら入射される。積分球２６の内面は、入射されたレーザ
光２７を乱反射させる様に凹凸形状に形成されており、
金メッキ等の全反射膜がコーテングされているので、入
射されたレーザ光２７は積分球２６の内面で多数の反射
を繰り返して均一に拡散されるため、積分球２６に微小
な孔の出力ポート２９を設けることにより。
入射されたレーザ光２７に比例し、かつ十分に均一に減
光されたレーザ光３０を外部に出力することができる。
光されたレーザ光３０を外部に出力することができる。
例えば、積分球２６の内径を約１２０鰭、内面の反射率
を約９５％とし、入射されたレーザ光２７のビーム径を
約１２．５ｉｎ、出力ポート２９の径を約Ｉ Ｉｌｌと
すれば、出力ポート２９には入射されたレーザ光２７の
約”／１０００に均一に減光されたレーザ光３０が得ら
れる。この均一に減光されたレーザ光３０は、入射され
たレーザ光２７のビーム径、ビームモード、入射角度、
偏光方向等には無関係であるという特長を有している。
を約９５％とし、入射されたレーザ光２７のビーム径を
約１２．５ｉｎ、出力ポート２９の径を約Ｉ Ｉｌｌと
すれば、出力ポート２９には入射されたレーザ光２７の
約”／１０００に均一に減光されたレーザ光３０が得ら
れる。この均一に減光されたレーザ光３０は、入射され
たレーザ光２７のビーム径、ビームモード、入射角度、
偏光方向等には無関係であるという特長を有している。
第５図はこの発明の一実施例であるレーザ出力制御装置
を示す概略構成図で、第２図と同一部分は同一符号を用
いて表示してあり、その詳細な説明は省略する。図に示
す様に、全反射鏡１２側より出力される検出レーザ光１
５は、積分球２６の入力ポート２８から内部に入射させ
る。また、積分球２６の出力ポート２９にはレーザ光検
出器１９を設置する。この様な構成において、例えば検
出レーザ光１５が約２０〜５０ワツトであるとすると、
レーザ光検出器１９には約１／１ｏｏｏに均一に減光さ
れた約２０〜５０ミリワツトのレーザ光３０が入力され
る。このレーザ光３０の強度は、レーザ光検出器１９に
適したものであるので、レーザ光検出器１９を焼損する
様なことが無い。さて、レーザ光検出器１９の出力と所
定のレーザ光の出力指命値１７とを比較して、その誤差
信号を増幅器１８により増幅し、電源１０の出力電圧又
は出力電流を制御することにより、レーザ媒質ガス８の
励起強度を制御し、これにより、レーザ光１４の強度を
高速度応答によってほぼ一定に保持することができる。
を示す概略構成図で、第２図と同一部分は同一符号を用
いて表示してあり、その詳細な説明は省略する。図に示
す様に、全反射鏡１２側より出力される検出レーザ光１
５は、積分球２６の入力ポート２８から内部に入射させ
る。また、積分球２６の出力ポート２９にはレーザ光検
出器１９を設置する。この様な構成において、例えば検
出レーザ光１５が約２０〜５０ワツトであるとすると、
レーザ光検出器１９には約１／１ｏｏｏに均一に減光さ
れた約２０〜５０ミリワツトのレーザ光３０が入力され
る。このレーザ光３０の強度は、レーザ光検出器１９に
適したものであるので、レーザ光検出器１９を焼損する
様なことが無い。さて、レーザ光検出器１９の出力と所
定のレーザ光の出力指命値１７とを比較して、その誤差
信号を増幅器１８により増幅し、電源１０の出力電圧又
は出力電流を制御することにより、レーザ媒質ガス８の
励起強度を制御し、これにより、レーザ光１４の強度を
高速度応答によってほぼ一定に保持することができる。
第６図はこの発明の他の実施例であるレーザ出力制御装
置の主要部を示す概略構成図である。第６図に示される
レーザ出力制御装置では、部分透過鏡１３側から出力さ
れるレーザ光１４の１部をビームスプリッタ３１により
取り出し、これを積分球２６の入力ボート２８に入射さ
せ、積分球２６の出力ポート２９にはレーザ光検出器１
９を設置する様に構成したものである。その他の構成は
、上記第５図に示されるものと同様に構成されており、
上記実施例と同様の効果を奏する。
置の主要部を示す概略構成図である。第６図に示される
レーザ出力制御装置では、部分透過鏡１３側から出力さ
れるレーザ光１４の１部をビームスプリッタ３１により
取り出し、これを積分球２６の入力ボート２８に入射さ
せ、積分球２６の出力ポート２９にはレーザ光検出器１
９を設置する様に構成したものである。その他の構成は
、上記第５図に示されるものと同様に構成されており、
上記実施例と同様の効果を奏する。
また、上記各実施例のレーザ光検出器１９としては、金
ゲルマ素子、水銀・カドミウム・チルライド素子、焦電
効果素子等の高速度応答素子を使用すれば、さらに高速
度応答で制御することができる。
ゲルマ素子、水銀・カドミウム・チルライド素子、焦電
効果素子等の高速度応答素子を使用すれば、さらに高速
度応答で制御することができる。
この発明は以上説明した様に、レーザ出力制御装置にお
いて、取り出されたレーザ光の１部を均一に減光された
レーザ光とする積分球と、この積分球からのレーザ光の
出力を高速度で検出するレーザ光検出器とを組み合わせ
て成る構成としたので、均一に減光されたレーザ光は、
積分球に入射されたレーザ光のビーム径、ビームモード
、入射角度、偏光方向等に無関係となるため、レーザ光
検出器の光軸合わせ等は不必要で、無調整とすることが
できると共に、レーザ光検出器を焼損させることが無い
効果がある。また、レーザ光の出力を高速度で応答制御
できるので、特に、レーザ加工に好適な高性能なレーザ
装置におけるレーザ出力制御装置が得られるという優れ
た効果を奏するものである。
いて、取り出されたレーザ光の１部を均一に減光された
レーザ光とする積分球と、この積分球からのレーザ光の
出力を高速度で検出するレーザ光検出器とを組み合わせ
て成る構成としたので、均一に減光されたレーザ光は、
積分球に入射されたレーザ光のビーム径、ビームモード
、入射角度、偏光方向等に無関係となるため、レーザ光
検出器の光軸合わせ等は不必要で、無調整とすることが
できると共に、レーザ光検出器を焼損させることが無い
効果がある。また、レーザ光の出力を高速度で応答制御
できるので、特に、レーザ加工に好適な高性能なレーザ
装置におけるレーザ出力制御装置が得られるという優れ
た効果を奏するものである。
第１図は従来のレーザ光検出器を示す概略構成図、第２
図は従来の炭酸ガスレーザ装置におけるレーザ出力制御
装置の一例を示す概略構成図、第３図はこの発明の一実
施例であるレーザ出力制御装置に適用されるレーザ光検
出器を示す概略構成図、第４図はこの発明の一実施例で
あるレーザ出力制御装置に適用される積分球の動作を示
す説明図、第５図はこの発明の一実施例であるレーザ出
力制御装置を示す概略構成図、第６図はこの発明の他の
実施例であるレーザ出力制御装置の主要部を示す概略構
成図である。 図において、１．２０・・・放熱器、２，２２・・・熱
電対、３・・・レーザ光吸収板、４，１４，２３，２７
゜３０・・・レーザ光、５，１８・・・増幅器、６・・
・出力信号、７・・・容器、８・・・レーザ媒質ガス、
９Ａ、９Ｂ・・・電極、１０・・・電源、１１・・・放
電、１２・−・全反射鏡、１３・・・部分透過鏡、１５
・・・検出レーザ光、１６゜１９・・・レーザ光検出器
、１７・・・出力指令値、２１・・・レーザ光吸収膜、
２４・・・レンズ、２５・・・出力端子、２６・・・積
分球、２８・・・入力ポート、２９・・・出力ポート、
３１・・・ビームスプリッタである。 なお、各図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。 代理人 大岩増雄
図は従来の炭酸ガスレーザ装置におけるレーザ出力制御
装置の一例を示す概略構成図、第３図はこの発明の一実
施例であるレーザ出力制御装置に適用されるレーザ光検
出器を示す概略構成図、第４図はこの発明の一実施例で
あるレーザ出力制御装置に適用される積分球の動作を示
す説明図、第５図はこの発明の一実施例であるレーザ出
力制御装置を示す概略構成図、第６図はこの発明の他の
実施例であるレーザ出力制御装置の主要部を示す概略構
成図である。 図において、１．２０・・・放熱器、２，２２・・・熱
電対、３・・・レーザ光吸収板、４，１４，２３，２７
゜３０・・・レーザ光、５，１８・・・増幅器、６・・
・出力信号、７・・・容器、８・・・レーザ媒質ガス、
９Ａ、９Ｂ・・・電極、１０・・・電源、１１・・・放
電、１２・−・全反射鏡、１３・・・部分透過鏡、１５
・・・検出レーザ光、１６゜１９・・・レーザ光検出器
、１７・・・出力指令値、２１・・・レーザ光吸収膜、
２４・・・レンズ、２５・・・出力端子、２６・・・積
分球、２８・・・入力ポート、２９・・・出力ポート、
３１・・・ビームスプリッタである。 なお、各図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。 代理人 大岩増雄
Claims (3)
- （１） レーザ媒質を励起することによりレーザ光を得
るレーザ装置において、前記レーザ光の１部を取り出す
手段と、この手段により取り出されたレーザ光を均一に
減光されたレーザ光とする積分球と、この積分球からの
レーザ光の出力を高速度で検出するレーザ光検出器を備
え、所定のレーザ光の出力指命値と前記レーザ光検出器
の出力とを比較し、前記レーザ媒質の励起強度を制御す
る様にして成ることを特徴とするレーザ出力制御装置。 - （２）前記レーザ装置は、炭酸ガスレーザ装置であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のレーザ出力
制御装置。 - （３）前記レーザ光検出器として、熱平衝時定数が短か
い微小な熱電対を使用したことを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載のレーザ出力制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16065683A JPS6052072A (ja) | 1983-09-01 | 1983-09-01 | レ−ザ出力制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16065683A JPS6052072A (ja) | 1983-09-01 | 1983-09-01 | レ−ザ出力制御装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20314785A Division JPS6175224A (ja) | 1985-09-13 | 1985-09-13 | 輻射熱エネルギー検出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6052072A true JPS6052072A (ja) | 1985-03-23 |
| JPH0456479B2 JPH0456479B2 (ja) | 1992-09-08 |
Family
ID=15719647
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16065683A Granted JPS6052072A (ja) | 1983-09-01 | 1983-09-01 | レ−ザ出力制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6052072A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62226684A (ja) * | 1986-03-28 | 1987-10-05 | Mitsubishi Electric Corp | レ−ザ出力制御装置 |
| JPH02145486U (ja) * | 1989-05-11 | 1990-12-10 | ||
| JP2012016717A (ja) * | 2010-07-07 | 2012-01-26 | Mitsubishi Electric Corp | レーザ加工装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS552012A (en) * | 1978-06-21 | 1980-01-09 | Hitachi Ltd | Printing machine |
| JPS57202794A (en) * | 1981-06-09 | 1982-12-11 | Mitsubishi Electric Corp | Controlling device for laser output |
-
1983
- 1983-09-01 JP JP16065683A patent/JPS6052072A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS552012A (en) * | 1978-06-21 | 1980-01-09 | Hitachi Ltd | Printing machine |
| JPS57202794A (en) * | 1981-06-09 | 1982-12-11 | Mitsubishi Electric Corp | Controlling device for laser output |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62226684A (ja) * | 1986-03-28 | 1987-10-05 | Mitsubishi Electric Corp | レ−ザ出力制御装置 |
| JPH02145486U (ja) * | 1989-05-11 | 1990-12-10 | ||
| JP2012016717A (ja) * | 2010-07-07 | 2012-01-26 | Mitsubishi Electric Corp | レーザ加工装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0456479B2 (ja) | 1992-09-08 |
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