JPH06215592A - 不揮発性半導体記憶装置 - Google Patents
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Abstract
リに関し、アドレス信号の変化及び電源投入を検出して
ビット線のチャージアップ等の動作を行うことで動作速
度を改善した場合でも、電源投入時にも記憶されたデー
タが正常に読み出せる不揮発性メモリの提供を目的とす
る。 【構成】 書き込み動作又は消去動作後確認読出動作を
通常読出動作時の印加電圧より低い第一確認レベルV2
又は印加電圧V1より高い第二確認レベルV3で読出動
作を行う不揮発性半導体記憶装置において、アドレス信
号の変化を検出してアドレス遷移信号を発生するアドレ
ス遷移検出回路1と、電源電圧の立ち上げ時に電源電圧
が第一確認レベルV2より高い第一電源遷移判定レベル
V4に達した時に初期化遷移信号を発生する電源検出回
路3と、アドレス遷移信号及び初期化遷移信号に応じて
ビット線のチャージアップ等の動作を行う遷移動作回路
2とを備えるように構成する。
Description
リ等の電気的に書換え可能な不揮発性半導体記憶装置
(以下、単に不揮発性メモリ)に関し、特に動作速度を
向上させた不揮発性メモリ及び電源投入時にも正確な読
出が行える不揮発性メモリに関する。
してE2PROMがあり、そのうち特に一括消去又は部分的な
一括消去可能なものとしてフラッシュメモリがあり、高
集積化可能なために近年注目されている。本発明はすべ
ての電気的に書換え可能な不揮発性メモリに適用可能で
あるが、ここではフラッシュメモリを例として説明を行
う。
構造例を示す図である。図示のように、ゲートはコント
ロールゲート(CG)201とフローティングゲート
(FG)202の二層構造であり、コントロールゲート
201、ドレイン(D)204及びソース(S)203
に所定の電圧を印加した時に、ドレイン204とソース
203間に流れる電流が、フローティングゲート202
に電荷が注入されているかいないかで変わることを利用
して記憶を行う。フラッシュメモリでは、一般に消去し
た状態、すなわちフローティングゲート202に電荷が
注入されていない状態に論理値「H」を対応させ、フロ
ーティングゲート202に電荷が注入されている状態に
論理値「L」を対応させ、フローティングゲート202
に電荷を注入することを書き込みと称している。
対して情報の書き込み、読出及び消去を行う方法を説明
する。図11はフラッシュメモリのメモリセルに情報の
書き込み、読出及び消去を行う場合に各部に印加する電
圧条件の例を示す図であり、(1)が書き込み時を、
(2)が読出時を、(3)が消去時を示す。書き込み時
には、コントロールゲート(CG)に高電圧VPP(約1
2V)を、ドレイン(D)に約6Vを、ソース(S)に
0Vを印加する。この時、メモリセルを流れる電子の一
部はドレイン(D)付近の高電界により加速されてエネ
ルギを獲得し、ゲート絶縁膜のエネルギ障壁を越えてフ
ローティングゲート(FG)に注入される。フローティ
ングゲート(FG)は他の回路部分と電気的に絶縁され
ているため、電荷を半永久的に蓄えることができる。
に電源電圧VCC(約5V)を、ドレイン(D)に約1V
を、ソース(S)に0Vを印加する。フローティングゲ
ート(FG)に蓄えられた電荷の有無によってセルトラ
ンジスタの閾値が変化し、選択されたメモリセルに流れ
る電流が変化する。この電流を検出して増幅することで
情報が外部によみだされる。
に0Vを、ドレイン(D)に約6Vを、ソース(S)に
高電圧VPP(約12V)を印加する。これにより、フロ
ーティングゲート(FG)から電荷がソース(S)に抜
き取られる。図12はフラッシュメモリの一つのセルブ
ロックとその周辺回路部を示す図である。なお図におい
ては、従来技術の説明及び本発明の実施例の説明を含め
て、同一の機能部分には同一の参照番号を付して表すこ
ととする。
を選択的に制御するロウデコーダであり、14はコラム
デコーダであり、15はソース電源回路であり、16は
セルマトリックスであり、17はコラムデコーダ14か
らのビット線選択信号で駆動されるトランジスタQK で
構成されるコラムゲートであり、18はセンスアンプで
あり、19はライトアンプである。QIJはマトリックス
状に配列されたメモリセルであり、トランジスタQK は
ビット線とセンスアンプ18の接続を制御する。各メモ
リセルのコントロールゲート201はロウデコーダ13
からのワード線に接続され、ドレイン204はビット線
に接続され、ソース203はソース電源回路15に接続
される。実際のフラッシュメモリでは、このようなセル
ブロックが複数個設けられている。
ドしてワード線に選択的にロウアドレス信号を印加し、
コラムデコーダ14はアドレス信号をデコードしてビッ
ト線選択信号を出力してトランジスタQK を選択的に導
通させる。このようにして選択されたワード線とビット
線に接続されたメモリセルがアクセスされる。消去は各
メモリセルに共通に接続されたソース線にソース電源回
路15から高電圧を印加することによって行われる。従
ってソース線に共通に接続されたメモリセルが一括して
消去される。
換え時、すなわち書き込み及び消去時には、書換え動作
の確実性を高めるため書換え動作後書換えたデータを読
出して確認するベリファイと呼ばれる確認動作が行われ
る。書き込み時には、論理値「L」の書き込みを行った
後、読出しを行って論理値が「L」であることを確認す
る。消去時には、論理値「H」の書き込み、すなわち消
去動作後、一括して消去されたすべてのメモリセルに対
して読出しを行って論理値が「H」であることを確認す
る。そしてこの確認動作が満足された時には書換え動作
が完了したものとし、満足されない時には更に書換え動
作を行った後、再度ベリファイ動作を行う。このような
ベリファイ動作は、外部よりの制御で行われる場合と、
フラッシュメモリの内部に設けた内部回路で自動的に行
われる場合とがある。
される電源電圧の変動範囲等の規格が定められており、
一旦書換えたデータが確実に維持されることを保証する
期間や動作時間も定められている。規格に定められた変
動範囲内で確実に動作するには、最悪条件下で読み出し
た時にも正常であるように、データが余裕(マージン)
を有することが必要である。また書き換えたデータが長
期間確実に維持されることを保証するにも、何らかの原
因でフローティングゲートから電荷が抜けたりフローテ
ィングゲートに電荷が注入されるといった経時変化が最
悪の状態で発生した場合でも論理値の判定に影響しない
だけの余裕(マージン)を有することが必要である。
動の影響とそのためのマージンの必要性を説明する図で
ある。フラッシュメモリにおいては、図11の(2)に
示した読出時の条件でコントロールゲート(CG)に印
加する電圧を変化させて、そのメモリセルに対するコン
トロールゲート電圧の閾値電圧を求めると、その閾値電
圧がフローティングゲートに蓄えられた電荷と一定の関
係を有する。そのためメモリセルに対するコントロール
ゲート電圧の閾値電圧でフローティングゲートに蓄えら
れた電荷を表すことができるといえる。
加されて読出が行われる。図13に示すように、電源電
圧の規格変動範囲が破線で示した範囲である時に、メモ
リセルの閾値電圧がS1で示したレベルであるとする
と、電源電圧の規格変動範囲の中心値の電圧を印加して
読み出せば論理値「H」が出力されるが、規格変動範囲
の下限値の電圧を印加して読み出せば論理値「L」が出
力されることになる。また経時変化によりメモリセルの
閾値電圧がS2からS3で示したレベルに変化した場
合、初めは電源電圧の下限値の電圧を印加して読み出し
ても「H」が出力されるが、経時変化後には電源電圧の
規格変動範囲の中心値の電圧を印加して読み出しても
「L」が出力されることになる。
フラッシュメモリではベリファイ動作時にコントロール
ゲートに印加する電圧を通常動作時に比べて厳しくする
ことで、書き換えた状態がマージンを有する状態にある
ことを確認している。すなわち、書き込みのベリファイ
動作時にはコントロールゲートに印加する電圧を通常よ
り高い6.5V程度とし、それでも論理値「L」が出力
されることを確認している。消去時のベリファイ動作時
にはコントロールゲートに印加する電圧を通常より低い
3.5V程度とし、それでも論理値「H」が出力される
ことを確認している。ベリファイ動作時にコントロール
ゲートに印加する電圧をベリファイ電圧と呼んでおり、
ここでもこの名称を使用する。
印加等の一連のベリファイ動作は、通常内部回路によっ
て自動的に行われる。
いては、高集積化が進められており、それに伴ってメモ
リセルが微細化されメモリセルの駆動能力は低下する傾
向にある。その一方動作速度は高速化が求められてい
る。そこで非同期式メモリで広く用いられるアドレス信
号の変化を検出してビット線のチャージアップ等の高速
化のための動作を行うことが考えられる。アドレス信号
の変化を検出するためには、アドレス遷移検出回路(以
下、ATD回路と称する。)が使用される。
では、メモリの特性上電源投入時にもその時点で設定さ
れている入力条件に対応した正常なデータの読出が行え
る必要があり、電源投入を検出してアドレス信号が変化
した時と同様な動作を行うことも必要である。ATD回
路を搭載し電源投入を検出した時にアドレス信号が変化
した時と同様な動作を行うようにしたフラッシュメモリ
を製作した場合、フラッシュメモリは消去可能であるた
め特有な問題が発生する。一般に、電源が投入されたこ
とを検出する時の電源電圧の判定レベルは3V程度であ
る。それに対して、消去時のベリファイ電圧は3.5V
程度である。そのためベリファイ動作では消去されてい
ると確認されたメモリセルでも、閾値電圧が3Vと3.
5Vの間にある場合には、電源投入時にデータ「L」が
出力されることになる。すなわちそのメモリセルは消去
されているのに、既に書き込まれていると判定されると
いう問題が生じる。このような誤った出力を行うこと
は、メモリ素子の信頼性を損なうため非常に大きな問題
である。
であり、アドレス信号の変化及び電源投入を検出して、
ビット線のチャージアップ等の所定の動作を行うように
したフラッシュメモリにおいて、電源投入時にも記憶さ
れたデータが正常に読み出せるようにすることを目的と
する。
半導体記憶装置の原理構成図である。図1において、参
照番号100は従来の不揮発性半導体記憶装置と同様の
部分であり、アドレスバッファ11、ロウデコーダ1
3、コラムデコーダ14、セルマリックス16、コラム
ゲート17、センスアンプ18、ライトアンプ19及び
入出力回路20等を有する。更に、この不揮発性半導体
記憶装置は、書き込み動作又は消去動作後、その動作が
正常に行われたかを確認するための確認読出動作を行
い、確認読出動作時に所定部分に印加される印加電圧
が、通常読出動作時の印加電圧である電源電圧より低い
第一確認レベル又は電源電圧より高い第二確認レベルで
読出動作を行うことで、書き込み動作又は消去動作を深
いレベルまで行った時に正常と判定されるように設定さ
れている。そして上記目的を実現するため、本発明の不
揮発性半導体記憶装置は、図1に示すように、アドレス
信号の変化を検出してアドレス遷移信号を発生するアド
レス遷移検出回路1と、電源電圧の立ち上げ時に電源電
圧が第一確認レベルより高い第一電源遷移判定レベルに
達した時に初期化遷移パルスを発生する電源検出回路3
と、アドレス遷移信号及び初期化遷移信号に応じてビッ
ト線のチャージアップ等の所定動作を行う遷移動作回路
2とを備えることを特徴とする。
示す図である。図2に示すように、各電圧レベルは高い
方から、第二確認レベルV3、電源電圧V1、電源遷移
判定レベルV4、第一確認レベルV2の順番である。通
常のフラッシュメモリでは、第一確認レベルV2が消去
時のベリファイ電圧に対応し、第二確認レベルV3が書
き込み時のベリファイ電圧に対応する。従って、消去時
のベリファイ電圧が電源遷移判定レベルV4より低く設
定されており、電源投入時に電源遷移判定レベルV4の
電圧がコントロールゲートに印加されて読出が行われて
も、より低いレベルのベリファイ電圧で消去が確認され
ているため、消去されたメモリセルは電源投入時にも確
実に消去されていると判定され、論理値「H」が出力さ
れる。
ある。図3において、参照番号11はアドレス信号が入
力されるアドレスバッファ及びラッチであり、12はブ
ロックデコーダであり、複数のブロックで構成されるセ
ルマトリックス毎にアドレス信号をデコードする。13
はロウデコーダであり、14はコラムデコーダであり、
15はソース制御部であり、16は複数のブロックで構
成されるセルマトリックスであり、17はコラムゲート
であり、18はセンスアンプであり、19はライトアン
プであり、20は入出力回路である。21は、外部より
供給される電源電圧VCCと高電圧VPPの印加する部分を
動作に応じて切り換えるVPP/VCC切換回路である。図
11に示したように、書き込み時及び消去時には所定部
分に高電圧を印加する必要があり、書き込み時及び消去
時には外部より高電圧VPPが供給される。22は制御回
路であり、外部からの制御信号/CE(チップ選択信
号)、/OE(読出信号)及び/WE(書き込み信号)
に応じて素子各部の制御を行う。23はベリファイ電圧
発生回路であり、書き込み時及び消去時に外部より供給
される高電圧VPPからベリファイ電圧を発生すると共
に、ベリファイ動作時とそれ以外の動作時でデコーダ部
分及びセンスアンプに印加する電圧を切り換える。25
は自動書込/消去回路であり、書込/消去の書換え動作
後自動的にベリファイ動作を行って、書換えたデータを
確認する。26はコマンドレジスタであり、各動作に必
要なコマンドを記憶している。以上の構成は、従来のフ
ラッシュメモリの構成と同様である。
路)であり、アドレス信号の変化を検出してパルス状の
アドレス遷移信号を発生する。33は電源電圧VCCの投
入を検出するVCC検出回路であり、電源電圧VCCが電源
遷移判定レベルに達した時に立ち上がる電源遷移検出信
号を出力する。32はATD合成回路であり、アドレス
遷移信号及び電源遷移検出信号のいずれに対してもAT
D信号をセンスアンプ18に出力し、センスアンプ18
はこのATD信号に応じてビット線のチャージアップ動
作を行う。
路)の例を示す図である。ATD回路は、メモリ素子で
広く使用されており、その構成も広く知られている。4
0はアドレス信号の各ビット線の信号が変化した時にパ
ルス状の信号を発生する。41は複数個配列されたイン
バータであり、信号を遅延させる。この遅延された信号
と遅延されていない信号を比較して、同じであれば信号
は変化しておらず、異なれば変化していることになる。
そこで、両方の信号の一致具合をEXNORゲート42
で検出すれば、信号が変化したかどうかが検出できる。
このような回路40がアドレス信号のビット数分設けら
れており、その出力をNAND回路43に入力すればア
ドレス信号が変化した時にアドレス遷移信号が得られ
る。
る。図5において、51、52、55、57はNチャン
ネルトランジスタであり、53、54、56はデプリー
ション型のNチャンネルトランジスタである。58、5
9はインバータゲートである。501は第一電源遷移検
出回路であり、502は第二電源遷移検出回路である。
源投入時の変化を検出して行う動作を、センスアンプ1
8が行うビット線のチャージアップ動作とそれ以外の動
作に分けており、第一電源遷移検出回路501がビット
線のチャージアップ動作を起動する信号/INTATD
を出力し、第二電源遷移検出回路502がそれ以外の動
作を起動する信号/INTを出力し、それぞれの動作を
起動する電源遷移判定レベルを異ならせている。図示の
ように、第一電源遷移検出回路501と第二電源遷移検
出回路502は同じ回路構成を有しているが、トランジ
スタ55と57の閾値電圧のみが異なる。図6は図5の
電源検出回路の動作のタイムチャートであり、この図に
従って図5の電源検出回路の動作を説明する。
と、図5のAで示したノードの電圧は図示のように変化
する。いま第一電源遷移検出回路501のトランジスタ
55の閾値電圧をVth1とし、第二電源遷移検出回路5
02のトランジスタ57の閾値電圧をVth2とし、Vth
1はVth2より高いとする。すると第二電源遷移検出回
路502の出力/INTはAノードの電圧がVth2に達
した時、すなわち電源電圧VCCが電圧レベルV5になっ
た時点から立ち上がり、第一電源遷移検出回路501の
出力/INTATDはAノードの電圧がVth1に達した
時、すなわち電源電圧VCCが電圧レベルV4になった時
点から立ち上がる。電圧レベルV5は消去時のベリファ
イ電圧V2より低く設定されており、電圧レベルV4は
消去時のベリファイ電圧V2より高く設定されている。
電源投入時の読出は信号/INTATDを受けて行われ
るため、電源投入時の読出が行われる時点の電源電圧は
ベリファイ電圧より高く、データは正常に読みだされ
る。また電源投入時の読出が行われる時点よりまえに信
号/INTが出力されて各部をスタンバイ状態にするた
め、電源投入時の読出がより正確に行われると共に、誤
ったデータを書き込むといった誤書き込みも生じにくく
なる。
を示す図である。ベリファイ電圧発生回路は従来のフラ
ッシュメモリにも使用されており、詳しい説明は省略す
るが、この回路においては書き込み時及び消去時に供給
される高電圧VPPを抵抗65乃至70で分圧してベリフ
ァイ電圧を得ており、ベリファイ時にはベリファイ電圧
を出力し、それ以外の時には出力部分に印加される電源
電圧VCCを出力する。
ベリファイ時に「H」となり、信号WVDは書き込みの
ベリファイ時に「H」となり、信号VRは消去又は書き
込みのベリファイ時に「H」となり、/RWVCは通常
の読出時に「L」となる。出力PSSAは、ベリファイ
時にはベリファイ電圧となり、それ以外の時には電源電
圧VCCとなる。出力RVPCは、ベリファイ時にはベリ
ファイ電圧となり、通常の読出時には電源電圧VCCとな
る。RVPCとPSSAは、それぞれロウデコーダ13
とセンスアンプ18に供給される。
デコーダ14、セルマトリックス16、コラムゲート1
7及びセンスアンプ18の部分の構成を示す図である。
この回路の大部分は従来のフラッシュメモリでも同様で
あり、従来と異なる部分についてのみ説明する。図示の
ように、ロウデコーダ13の電源には電圧RVPCが印
加される。センスアンプ18の電源の一部には電圧PS
SAが印加される。またセンスアンプ18の図示の部分
にATD合成回路32からのATD信号が印加される。
このATD信号が印加されると、ビット線はチャージア
ップされる。これにより、読出時の振幅変化に要する時
間が短縮され、動作速度が高速化される。
ートである。以下、このタイムチャートに従って本実施
例における読出動作を説明する。通常の読出動作はコン
トロールゲートに印加する電圧がことなる以外ベリファ
イ読出動作と同様であり、ここではベリファイ読出動作
について説明する。ベリファイ読出動作時には、電源電
圧VCC、高電圧VPPは一定である。従って電源検出回路
33から出力される信号/INT及び/INTATDは
「H」のままである。ベリファイ読出動作が開始される
と、図7に示したEVD及びWVDのいずれかが動作内
容に応じて立ち上がる。そしてこれに応じて、ベリファ
イ電圧RVPC及びPSSAが出力され、ロウデコーダ
13及びセンスアンプ18の所定部分に印加される。こ
の状態でアドレス信号が変化すると、ATD回路31が
アドレス遷移検出信号を出力し、ATD合成回路32が
ATD信号を出力する。これに応じて、ビット線のチャ
ージアップが行われた後、アクセスしたメモリセルから
データの読出が行われる。。
高電圧VPPが図示のように変化する。これに応じて、そ
れ以外の信号も変化する。EVD及びWVDは「L」の
ままである。アドレス信号は設定されている値になるよ
うに、電源電圧VCCの変化に応じて変化する。この時ベ
リファイ電圧として出力されるのは電源電圧VCCであ
り、ベリファイ電圧及びロウデコーダとセンスアンプに
印加される電圧も電源電圧VCCと同様に変化する。/I
NT及び/INTATDは図6に示したように変化し、
それに応じてATD信号は図示のように変化する。そし
てATD信号の立ち下がりに応じて読出が行われる。前
述のように、この時の電源電圧は消去時のベリファイ電
圧より高いため、正常な読出が行える。
て電源検出回路が/INTATDを出力するまでは正常
な読出が行えないので、出力が誤って読み取られるのを
防止するためにも、出力は高インピーダンス状態である
ことが望ましい。またこれまでは、フラッシュメモリが
ATD回路を備え、その出力に応じてビット線のチャー
ジアップ等の処理が行われる場合を説明したが、たとえ
ATD回路を備えないフラッシュメモリでも、電源の立
ち上げを検出して読出を行うことがあり、その場合にも
電源電圧がベリファイ電圧より高い電源遷移判定レベル
に達して電源検出回路が電源の立ち上がりを示す信号を
出力するまでは、読出動作を禁止することにより、電源
投入時に誤ったデータが出力されることがなくなる。ま
たその場合にも、読出したデータを出力するまでは、出
力を高インピーダンス状態にすることが望ましい。
書換え時のベリファイ動作を通常より厳しい条件で行う
ことにより書換えデータにマージンを持たせるようにし
たフラッシュメモリにおいて、アドレス信号の変化及び
電源投入を検出して、ビット線のチャージアップ等の所
定の動作を行うようにした場合でも、電源投入時にも記
憶されたデータが正常に読み出せるようになるという効
果がある。
成図である。
係を示す図である。
ある。
る。
る。
イムチャートである。
る。
示す図である。
る。
図である。
の方法を示す図である。
である。
示す図である。
Claims (5)
- 【請求項1】 電気的に情報の書換えが可能で、書き込
み動作又は消去動作後、当該動作が正常に行われたかを
確認するための確認読出動作を行い、該確認読出動作時
に所定部分に印加される印加電圧が、通常読出動作時の
印加電圧(V1)である電源電圧より低い第一確認レベ
ル(V2)又は前記印加電圧(V1)より高い第二確認
レベル(V3)で読出動作を行うことで、書き込み動作
又は消去動作を深いレベルまで行った時に正常と判定さ
れるように設定されている不揮発性半導体記憶装置にお
いて、 アドレス信号の変化を検出してアドレス遷移信号を発生
するアドレス遷移検出回路(1)と、 前記電源電圧の立ち上げ時に、該電源電圧が前記第一確
認レベル(V2)より高い第一電源遷移判定レベル(V
4)に達した時に初期化遷移信号を発生する電源検出回
路(3)と、 前記アドレス遷移信号及び初期化遷移信号に応じてビッ
ト線のチャージアップ等の所定動作を行う遷移動作回路
(2)とを備えることを特徴とする不揮発性半導体記憶
装置。 - 【請求項2】 前記電源検出回路(3)は、電源電圧の
立ち上げ時に前記第一電源遷移判定レベル(V4)に達
した時に初期化遷移信号(/INTATD)を発生する
第一電源遷移検出回路(501)と、前記電源電圧(V
1)が前記第一電源遷移判定レベル(V4)より低い第
二電源遷移判定レベル(V5)に達した時に初期化信号
(/INT)を発生する第二電源遷移検出回路(50
2)とを備え、前記第一確認レベル(V2)は前記第一
電源遷移判定レベル(V4)と前記第二電源遷移判定レ
ベル(V5)との間に設定されていることを特徴とする
請求項1に記載の不揮発性半導体記憶装置。 - 【請求項3】 前記第一電源遷移検出回路(501)と
前記第二電源遷移検出回路(502)は論理閾値電圧の
異なる論理回路を有することを特徴とする請求項2に記
載の不揮発性半導体記憶装置。 - 【請求項4】 電気的に情報の書換えが可能で、書き込
み動作又は消去動作後、当該動作が正常に行われたかを
確認するための確認読出動作を行い、該確認読出動作時
に所定部分に印加される印加電圧が、通常読出動作時の
印加電圧(V1)である電源電圧より低い第一確認レベ
ル(V2)又は前記印加電圧(V1)より高い第二確認
レベル(V3)で読出動作を行うことで、書き込み動作
又は消去動作を深いレベルまで行った時に正常と判定さ
れるように設定されている不揮発性半導体記憶装置にお
いて、 前記電源電圧の立ち上げ時に、該電源電圧が前記第一確
認レベル(V2)より高い第一電源遷移判定レベル(V
4)以下であるかを検出し、前記電源電圧が前記第一電
源遷移判定レベル(V4)以下の時には、当該不揮発性
半導体記憶装置の読出動作を禁止する電源検出回路を備
えることを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。 - 【請求項5】 前記電源電圧(V1)が前記第一電源遷
移判定レベル(V4)以下の時には、当該不揮発性半導
体記憶装置の出力が高インピーダンス状態になることを
特徴とする請求項1又は4に記載の不揮発性半導体記憶
装置。
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- 1993-12-29 EP EP93310585A patent/EP0606769B1/en not_active Expired - Lifetime
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