JPH06211936A - 放射線硬化性樹脂組成物、光学材料用樹脂組成物及びその硬化物 - Google Patents
放射線硬化性樹脂組成物、光学材料用樹脂組成物及びその硬化物Info
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- JPH06211936A JPH06211936A JP5023204A JP2320493A JPH06211936A JP H06211936 A JPH06211936 A JP H06211936A JP 5023204 A JP5023204 A JP 5023204A JP 2320493 A JP2320493 A JP 2320493A JP H06211936 A JPH06211936 A JP H06211936A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】光ディスク用基板及び金属薄膜層との接着性、
耐湿性に優れ、光ディスクの金属薄膜層の腐食を長期間
に亘って防止することができる光学材料用樹脂組成物を
提供する。 【構成】フルオレン構造を有するジ（メタ）アクリレー
ト化合物（Ａ）、希釈剤として反応性単量体及び／又は
溶剤（Ｂ）並びに任意成分として光重合開始剤（Ｃ）を
含有することを特徴とする光学材料用樹脂組成物。
耐湿性に優れ、光ディスクの金属薄膜層の腐食を長期間
に亘って防止することができる光学材料用樹脂組成物を
提供する。 【構成】フルオレン構造を有するジ（メタ）アクリレー
ト化合物（Ａ）、希釈剤として反応性単量体及び／又は
溶剤（Ｂ）並びに任意成分として光重合開始剤（Ｃ）を
含有することを特徴とする光学材料用樹脂組成物。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光信号を高速・高密度
に記録再生する光ディスク記録媒体用オーバーコート
剤、ハードコート剤、溝材等の光学材料として有用な紫
外線或は電子線等により硬化し、記録媒体に対する接着
性、耐湿性の良好な放射線硬化性樹脂組成物、光学材料
用樹脂組成物及びその硬化物に関する。
に記録再生する光ディスク記録媒体用オーバーコート
剤、ハードコート剤、溝材等の光学材料として有用な紫
外線或は電子線等により硬化し、記録媒体に対する接着
性、耐湿性の良好な放射線硬化性樹脂組成物、光学材料
用樹脂組成物及びその硬化物に関する。
【０００２】
【従来の技術】コンパクトディスク、光磁気記録ディス
ク等をはじめとする光ディスクはポリカーボネート等の
透明基板上に蒸着又はスパックリングにより形成された
金属薄膜層を有する構造を持っている。この金属薄膜層
は大気中に酸素や水分の影響を受け、その特性が劣化し
やすいため、従来、熱可塑性樹脂やアクリル酸エステル
を主成分とする紫外線硬化型樹脂がオーバーコート剤と
して使用されているが、接着性、耐湿性で不十分であ
り、耐環境試験において金属薄膜層に腐食が見られる。
ク等をはじめとする光ディスクはポリカーボネート等の
透明基板上に蒸着又はスパックリングにより形成された
金属薄膜層を有する構造を持っている。この金属薄膜層
は大気中に酸素や水分の影響を受け、その特性が劣化し
やすいため、従来、熱可塑性樹脂やアクリル酸エステル
を主成分とする紫外線硬化型樹脂がオーバーコート剤と
して使用されているが、接着性、耐湿性で不十分であ
り、耐環境試験において金属薄膜層に腐食が見られる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】接着性及び耐湿性に優
れ、耐環境試験において光ディスクの金属薄膜層に腐食
がみられない硬化膜が形成可能な放射線硬化性樹脂組成
物を提供する。
れ、耐環境試験において光ディスクの金属薄膜層に腐食
がみられない硬化膜が形成可能な放射線硬化性樹脂組成
物を提供する。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するため、鋭意研究した結果、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明は、式（１）
を解決するため、鋭意研究した結果、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明は、式（１）
【０００５】
【化２】
【０００６】（式中、Ｒ1 は水素原子、メチル基又はエ
チル基、Ｒ2 は水素原子又はメチル基、ａ、ｂはそれぞ
れ０〜１０の数、ａ＋ｂの平均値は１〜２０である。）
で表される化合物（Ａ）、希釈剤として反応性単量体及
び／又は溶剤（Ｂ）並びに任意成分としての光重合開始
剤（Ｃ）を含有することを特徴とする放射線硬化性樹脂
組成物、光学材料用樹脂組成物及びその硬化物に関す
る。本発明で使用する式（１）で表される化合物（Ａ）
は、式（２）、
チル基、Ｒ2 は水素原子又はメチル基、ａ、ｂはそれぞ
れ０〜１０の数、ａ＋ｂの平均値は１〜２０である。）
で表される化合物（Ａ）、希釈剤として反応性単量体及
び／又は溶剤（Ｂ）並びに任意成分としての光重合開始
剤（Ｃ）を含有することを特徴とする放射線硬化性樹脂
組成物、光学材料用樹脂組成物及びその硬化物に関す
る。本発明で使用する式（１）で表される化合物（Ａ）
は、式（２）、
【０００７】
【化３】
【０００８】（式中、Ｒ1 及びａ、ｂは式（１）と同一
である。）で表される化合物と（メタ）アクリル酸を溶
剤（例えば、トルエン、ベンゼン、シクロヘキサン、ｎ
−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等）中で脱水反応を行うこと
により得ることができる。反応を促進させるために酸触
媒（例えば、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンス
ルホン酸等）を使用するのが好ましい。反応中、重合を
防止するために重合禁止剤（例えば、ハイドロキノン、
ｐ−メトキシフェノール、メチルハイドロキノン等）を
使用するのが好ましい。式（２）で表される化合物と
（メタ）アクリル酸の使用割合は、式（２）で表される
化合物の水酸基１当量に対して、（メタ）アクリル酸１
〜２当量を使用するのが好ましい。反応温度は７０〜１
５０℃が好ましく、反応時間は３〜２０時間が好まし
い。
である。）で表される化合物と（メタ）アクリル酸を溶
剤（例えば、トルエン、ベンゼン、シクロヘキサン、ｎ
−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等）中で脱水反応を行うこと
により得ることができる。反応を促進させるために酸触
媒（例えば、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンス
ルホン酸等）を使用するのが好ましい。反応中、重合を
防止するために重合禁止剤（例えば、ハイドロキノン、
ｐ−メトキシフェノール、メチルハイドロキノン等）を
使用するのが好ましい。式（２）で表される化合物と
（メタ）アクリル酸の使用割合は、式（２）で表される
化合物の水酸基１当量に対して、（メタ）アクリル酸１
〜２当量を使用するのが好ましい。反応温度は７０〜１
５０℃が好ましく、反応時間は３〜２０時間が好まし
い。
【０００９】式（２）で表される化合物は、下記構造式
のフルオレン化合物とε−カプロラクトンを反応させる
ことにより得ることができる。
のフルオレン化合物とε−カプロラクトンを反応させる
ことにより得ることができる。
【００１０】
【化４】
【００１１】
【化５】
【００１２】
【化６】
【００１３】前記フルオレン化合物の水酸基１当量あた
り、ε−カプロラクトンを１〜１０モルを反応させる。
反応を促進させるために触媒として、塩化第一スズ、テ
トラプロピルチタネート等を使用するのが好ましい。触
媒の使用量は反応混合液に対して５０〜５０００ｐｐｍ
が好ましい。反応温度は７０〜２００℃が好ましく、特
に好ましくは８０〜１５０℃である。反応時間は１〜２
０時間が好ましい。
り、ε−カプロラクトンを１〜１０モルを反応させる。
反応を促進させるために触媒として、塩化第一スズ、テ
トラプロピルチタネート等を使用するのが好ましい。触
媒の使用量は反応混合液に対して５０〜５０００ｐｐｍ
が好ましい。反応温度は７０〜２００℃が好ましく、特
に好ましくは８０〜１５０℃である。反応時間は１〜２
０時間が好ましい。
【００１４】本発明の組成物中の式（１）で表される化
合物（Ａ）の使用割合は５〜９５重量％の範囲が好まし
く、特に好ましくは１０〜５０重量％である。
合物（Ａ）の使用割合は５〜９５重量％の範囲が好まし
く、特に好ましくは１０〜５０重量％である。
【００１５】本発明で使用する希釈剤としての反応性単
量体及び／又は溶剤（Ｂ）の具体例としては、反応性単
量体は、例えば、カルビト−ル（メタ）アクリレート、
テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ジシク
ロペンテニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエ
チル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、
Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクトン、ト
リプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリ
シクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネ
オペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ノナン
ジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロ
パントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール
トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテ
トラ（メタ）アクリレート等を挙げることだできる。溶
剤は、例えば、メチルリチルケトン、カルビトールアセ
テート、ブチルセロソルブアセテート、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメ
チルエーテル、ソルベントナフサ等を挙げることができ
る。本発明の組成物中の希釈剤としての反応性単量体及
び／又は溶剤（Ｂ）の使用割合は５〜９５重量％の範囲
が好ましく、特に好ましくは５０〜９０重量％である。
量体及び／又は溶剤（Ｂ）の具体例としては、反応性単
量体は、例えば、カルビト−ル（メタ）アクリレート、
テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ジシク
ロペンテニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエ
チル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、
Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクトン、ト
リプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリ
シクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネ
オペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ノナン
ジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロ
パントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール
トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテ
トラ（メタ）アクリレート等を挙げることだできる。溶
剤は、例えば、メチルリチルケトン、カルビトールアセ
テート、ブチルセロソルブアセテート、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメ
チルエーテル、ソルベントナフサ等を挙げることができ
る。本発明の組成物中の希釈剤としての反応性単量体及
び／又は溶剤（Ｂ）の使用割合は５〜９５重量％の範囲
が好ましく、特に好ましくは５０〜９０重量％である。
【００１６】本発明で任意成分として使用する光重合開
始剤（Ｃ）としては、一般の紫外線硬化型樹脂に使用さ
れている各種の光重合開始剤が使用できる。例えば、ベ
ンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチ
ルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、２−メチルベ
ンゾイン、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、ベンジ
ルジメチルケタール、２，２−ジエトキシアセトフェノ
ン、ベンゾイル安息香酸、４−ベンゾイル−４′−メチ
ルジフェニルサルファイド、３，３′−ジメチル−４−
メトキシベンゾフェノン、１−（４−ドデシルフェニ
ル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オ
ン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２
−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１
−オン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオフェニ
ル）〕−２−モルホリノプロパン−１、２−クロロチオ
キサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４
−ジイソプロピルチオキサントン、２，４，６−トリメ
チルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等をそ
の例として挙げることができる。更にこれらの光重合開
始剤には、アミン類等の光重合促進剤を併用することが
できる。
始剤（Ｃ）としては、一般の紫外線硬化型樹脂に使用さ
れている各種の光重合開始剤が使用できる。例えば、ベ
ンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチ
ルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、２−メチルベ
ンゾイン、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、ベンジ
ルジメチルケタール、２，２−ジエトキシアセトフェノ
ン、ベンゾイル安息香酸、４−ベンゾイル−４′−メチ
ルジフェニルサルファイド、３，３′−ジメチル−４−
メトキシベンゾフェノン、１−（４−ドデシルフェニ
ル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オ
ン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２
−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１
−オン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオフェニ
ル）〕−２−モルホリノプロパン−１、２−クロロチオ
キサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４
−ジイソプロピルチオキサントン、２，４，６−トリメ
チルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等をそ
の例として挙げることができる。更にこれらの光重合開
始剤には、アミン類等の光重合促進剤を併用することが
できる。
【００１７】光重合開始剤の本発明の組成物中の使用割
合は、０〜１５重量％の範囲が好ましく、特に好ましく
は３〜７重量％である。アミン類等の光重合促進剤とし
ては、例えば、２−ジメチルアミノエチルベンゾエー
ト、ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミ
ノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソア
ミル等がその例として挙げられる。これらの光重合促進
剤の使用割合は、光重合開始剤、１００重量部に対し
て、０〜１００重量部が好ましい。本発明の樹脂組成物
（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）成分を加熱、混合、溶解する
方法により得ることができる。本発明の組成物には、上
記の成分で十分所期の目的を達成できるが、さらに性能
改良のため、本来の特性を変えない範囲で、シランカッ
プリング剤、重合禁止剤、レベリング剤等の添加物を添
加することができる。
合は、０〜１５重量％の範囲が好ましく、特に好ましく
は３〜７重量％である。アミン類等の光重合促進剤とし
ては、例えば、２−ジメチルアミノエチルベンゾエー
ト、ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミ
ノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソア
ミル等がその例として挙げられる。これらの光重合促進
剤の使用割合は、光重合開始剤、１００重量部に対し
て、０〜１００重量部が好ましい。本発明の樹脂組成物
（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）成分を加熱、混合、溶解する
方法により得ることができる。本発明の組成物には、上
記の成分で十分所期の目的を達成できるが、さらに性能
改良のため、本来の特性を変えない範囲で、シランカッ
プリング剤、重合禁止剤、レベリング剤等の添加物を添
加することができる。
【００１８】使用しうるシランカップリング剤の例とし
ては、例えば、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルト
リメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン等が挙げられる。
ては、例えば、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルト
リメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン等が挙げられる。
【００１９】使用しうる重合禁止剤の例としては、例え
ば、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ｔ−ブチルカ
テコール、ｐ−ベンゾキノン、２，５−ｔ−ブチル−ハ
イドロキノン、フェノチアジン等が挙げられる。レベリ
ング剤としては、例えば、モンサント社製の「モダフロ
ー」等が挙げられる。
ば、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ｔ−ブチルカ
テコール、ｐ−ベンゾキノン、２，５−ｔ−ブチル−ハ
イドロキノン、フェノチアジン等が挙げられる。レベリ
ング剤としては、例えば、モンサント社製の「モダフロ
ー」等が挙げられる。
【００２０】これらの添加剤の使用量は本発明の組成物
の０〜５重量％の範囲が好ましい。本発明でいう放射線
とは、電子線、α線、β線、γ線、Ｘ線、中性子線又は
紫外線の如き、電離性放射線や光等を総称するものであ
る。本発明の放射線硬化性樹脂組成物の硬化物は常法に
従い、上記した放射線を照射することにより硬化して得
ることができる。本発明の樹脂組成物は、光ディスク記
録媒体用オーバーコート剤、ハードコート剤、溝材等の
光学材料として有用であるが、その他、金属、プラスチ
ック、ゴム、紙、木材及びセラミック用コーティング
剤、塗料、インキ、レジストレンズ等に使用できる。
の０〜５重量％の範囲が好ましい。本発明でいう放射線
とは、電子線、α線、β線、γ線、Ｘ線、中性子線又は
紫外線の如き、電離性放射線や光等を総称するものであ
る。本発明の放射線硬化性樹脂組成物の硬化物は常法に
従い、上記した放射線を照射することにより硬化して得
ることができる。本発明の樹脂組成物は、光ディスク記
録媒体用オーバーコート剤、ハードコート剤、溝材等の
光学材料として有用であるが、その他、金属、プラスチ
ック、ゴム、紙、木材及びセラミック用コーティング
剤、塗料、インキ、レジストレンズ等に使用できる。
【００２１】本発明の光学材料樹脂組成物を光ディスク
記録媒体用オーバーコート剤として使用する場合には、
光ディスクの金属薄膜層上に、スピコーター等塗布装置
を用いて乾燥塗膜厚が２〜１０μｍとなるような本発明
の組成物が塗布され、更に、紫外線の如き放射線を照射
することによって、金属膜上にオーバーコート（保護）
層が形成される。
記録媒体用オーバーコート剤として使用する場合には、
光ディスクの金属薄膜層上に、スピコーター等塗布装置
を用いて乾燥塗膜厚が２〜１０μｍとなるような本発明
の組成物が塗布され、更に、紫外線の如き放射線を照射
することによって、金属膜上にオーバーコート（保護）
層が形成される。
【００２２】
【実施例】以下、実施例及び比較例により本発明を更に
詳細に説明する。なお、以下において、部は特に断りの
ない限りすべて重量基準である。
詳細に説明する。なお、以下において、部は特に断りの
ない限りすべて重量基準である。
【００２３】化合物（Ａ）の合成例 合成例１ 前記式（３）で表される化合物（新日鉄化学（株）製、
商品名「ＢＰＨＥ」）４３８部、ε−カプロラクトン１
１４部、塩化第一スズ０．１７部を仕込み、１３０℃に
加熱し、約１０時間反応し、未反応のε−カプロラクト
ンが１重量％以下になったので６０℃まで冷却し、次い
でトルエン６００部、アクリル酸１７３部、ｐ−トルエ
ンスルホン酸７０部、ハイドロキノン１０部を仕込み、
加熱し脱水反応を行い、留出水が３６部になるまで反応
を行う。反応温度は１０５〜１２５℃であった。次いで
反応液を冷却し、トルエン２０００部及び２０％苛性ソ
ーダ水溶液２５０部を仕込み、中和し、次いで２０％塩
化ナトリウム水溶液５００部を用いて洗浄し、トルエン
を除去し透明淡黄色の固体を得た。屈折率（２５℃）は
１．５９であった。
商品名「ＢＰＨＥ」）４３８部、ε−カプロラクトン１
１４部、塩化第一スズ０．１７部を仕込み、１３０℃に
加熱し、約１０時間反応し、未反応のε−カプロラクト
ンが１重量％以下になったので６０℃まで冷却し、次い
でトルエン６００部、アクリル酸１７３部、ｐ−トルエ
ンスルホン酸７０部、ハイドロキノン１０部を仕込み、
加熱し脱水反応を行い、留出水が３６部になるまで反応
を行う。反応温度は１０５〜１２５℃であった。次いで
反応液を冷却し、トルエン２０００部及び２０％苛性ソ
ーダ水溶液２５０部を仕込み、中和し、次いで２０％塩
化ナトリウム水溶液５００部を用いて洗浄し、トルエン
を除去し透明淡黄色の固体を得た。屈折率（２５℃）は
１．５９であった。
【００２４】合成例２ 前記式（３）で表される化合物４３８部、ε−カプロラ
クトン３４２部、塩化第一スズ０．２３部を仕込み、１
３０℃に加熱し、約１０時間反応し、未反応のε−カプ
ロラクトンが１重量％以下になったので６０℃まで冷却
し、次いでトルエン８００部、アクリル酸１７３部、ｐ
−トルエンスルホン酸８０部、ハイドロキノン１０部を
仕込み、加熱し脱水反応を行い、留出水が３６部になる
まで反応を行う。反応温度は１１０〜１２５℃であっ
た。次いで反応液を冷却し、トルエン、２５００部及び
２０％苛性ソーダ水溶液２５０部を仕込み、中和し、次
いで２０％塩化エトリウム水溶液７００部を用いて洗浄
し、トルエンを除去し、淡黄色透明液状物を得た。屈折
率（２５℃）は１．５４であった。
クトン３４２部、塩化第一スズ０．２３部を仕込み、１
３０℃に加熱し、約１０時間反応し、未反応のε−カプ
ロラクトンが１重量％以下になったので６０℃まで冷却
し、次いでトルエン８００部、アクリル酸１７３部、ｐ
−トルエンスルホン酸８０部、ハイドロキノン１０部を
仕込み、加熱し脱水反応を行い、留出水が３６部になる
まで反応を行う。反応温度は１１０〜１２５℃であっ
た。次いで反応液を冷却し、トルエン、２５００部及び
２０％苛性ソーダ水溶液２５０部を仕込み、中和し、次
いで２０％塩化エトリウム水溶液７００部を用いて洗浄
し、トルエンを除去し、淡黄色透明液状物を得た。屈折
率（２５℃）は１．５４であった。
【００２５】実施例１ 合成例１で得た化合物３０部、トリメチロールプロパン
トリアクリレート３０部、１，６−ヘキサンジオールジ
アクリレート２５部、テトラヒドロフルフリルアクリレ
ート１０部及びイルガキュアー１８４（チバ・ガイギー
社製、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン）
５部を混合、溶解し、本発明の樹脂組成物を得た。次
に、ポリカーボネート基板にアルミニウムを蒸着した光
ディスクの記録膜の上に、上記で得られた樹脂組成物を
スピンコーターを用いて５μｍによるように塗布し、メ
タルハライドランプ（１２０ｗ／cm) により照射して、
塗膜を硬化させた。得られたオーバーコートされた光デ
ィスクを７５℃、８５ＲＨ％の恒温恒湿槽中に２０００
時間放置した後、記録膜を観察した結果、異常は認めら
れなかった。
トリアクリレート３０部、１，６−ヘキサンジオールジ
アクリレート２５部、テトラヒドロフルフリルアクリレ
ート１０部及びイルガキュアー１８４（チバ・ガイギー
社製、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン）
５部を混合、溶解し、本発明の樹脂組成物を得た。次
に、ポリカーボネート基板にアルミニウムを蒸着した光
ディスクの記録膜の上に、上記で得られた樹脂組成物を
スピンコーターを用いて５μｍによるように塗布し、メ
タルハライドランプ（１２０ｗ／cm) により照射して、
塗膜を硬化させた。得られたオーバーコートされた光デ
ィスクを７５℃、８５ＲＨ％の恒温恒湿槽中に２０００
時間放置した後、記録膜を観察した結果、異常は認めら
れなかった。
【００２６】実施例２ 合成例２で得た化合物４０部、ホオペンチルグリコール
ジアクリレート２０部、ジシクロペンテニルアクリレー
ト３５部及びイルガキュアー１８４、５部を混合溶解
し、本発明の樹脂組成物を得た。次いで実施例１と同様
にしてオーバーコートされた光ディスクを得た。実施例
１と同様にして、恒温恒湿槽中に２０００時間放置後、
記録膜表面を観察した結果、異常は認められなかった。
ジアクリレート２０部、ジシクロペンテニルアクリレー
ト３５部及びイルガキュアー１８４、５部を混合溶解
し、本発明の樹脂組成物を得た。次いで実施例１と同様
にしてオーバーコートされた光ディスクを得た。実施例
１と同様にして、恒温恒湿槽中に２０００時間放置後、
記録膜表面を観察した結果、異常は認められなかった。
【００２７】比較例１ 実施例１において、合成例１で得た化合物３０部に代え
てトリメチロールプロパントリアクリレート３０部を用
いた以外は、実施例１と同様にして、樹脂組成物を調製
し、オーバーコートされた光ディスクを得た。実施例１
と同様にして、恒温恒湿槽中に５０時間放置した後、記
録膜表面を観察した結果、記録膜全面が腐食していた。
てトリメチロールプロパントリアクリレート３０部を用
いた以外は、実施例１と同様にして、樹脂組成物を調製
し、オーバーコートされた光ディスクを得た。実施例１
と同様にして、恒温恒湿槽中に５０時間放置した後、記
録膜表面を観察した結果、記録膜全面が腐食していた。
【００２８】
【発明の効果】本発明の樹脂組成物は、硬化塗膜の記録
媒体に対する接着性、耐湿性が良好であり、光ディスク
の金属層、薄膜層の腐食を長期間に亘って効果的に防止
することができる。従って、本発明の樹脂組成物は特に
光ディスクのオーバーコート剤等の光学材料として極め
て有用である。
媒体に対する接着性、耐湿性が良好であり、光ディスク
の金属層、薄膜層の腐食を長期間に亘って効果的に防止
することができる。従って、本発明の樹脂組成物は特に
光ディスクのオーバーコート剤等の光学材料として極め
て有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０９Ｄ 4/02 ＰＤＸ 7921−4Ｊ Ｇ０３Ｆ 7/027 Ｇ１１Ｂ 7/24 Ｂ 7215−5Ｄ
Claims (3)
- 【請求項１】式（１） 【化１】 （式中、Ｒ1 は水素原子、メチル基又はエチル基、Ｒ2
は水素原子又はメチル基、ａ、ｂはそれぞれ０〜１０の
数、ａ＋ｂの平均値は１〜２０である。）で表される化
合物（Ａ）、希釈剤として反応性単量体及び／又は溶剤
（Ｂ）並びに任意成分として光重合開始剤（Ｃ）を含有
することを特徴とする放射線硬化性樹脂組成物。 - 【請求項２】請求項１記載の式（１）で表される化合物
（Ａ）、希釈剤として反応性単量体及び／又は溶剤
（Ｂ）並びに任意成分として光重合開始剤（Ｃ）を含有
することを特徴とする光学材料用樹脂組成物。 - 【請求項３】請求項１又は請求項２記載の樹脂組成物の
硬化物。
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|---|---|---|---|
| JP02320493A JP3293924B2 (ja) | 1993-01-19 | 1993-01-19 | 放射線硬化性樹脂組成物、光学材料用樹脂組成物及びその硬化物 |
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|---|---|---|---|
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| JP3293924B2 JP3293924B2 (ja) | 2002-06-17 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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1993
- 1993-01-19 JP JP02320493A patent/JP3293924B2/ja not_active Expired - Fee Related
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