JPH0620601Y2 - 転写可能な保護膜形成用多層シ−ト - Google Patents
転写可能な保護膜形成用多層シ−トInfo
- Publication number
- JPH0620601Y2 JPH0620601Y2 JP1987090042U JP9004287U JPH0620601Y2 JP H0620601 Y2 JPH0620601 Y2 JP H0620601Y2 JP 1987090042 U JP1987090042 U JP 1987090042U JP 9004287 U JP9004287 U JP 9004287U JP H0620601 Y2 JPH0620601 Y2 JP H0620601Y2
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- Japan
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- film
- protective film
- transferable protective
- abrasion
- sheet
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- Adhesive Tapes (AREA)
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Description
【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本考案は転写可能な保護膜形成用多層シートに関するも
のであり、特に表面が傷付き易い印刷物、写真製版用原
稿、或いはプリント配線基板用原稿等の被保護材を保護
するに好適な転写可能な保護膜形成用多層シートに関す
るものである。
のであり、特に表面が傷付き易い印刷物、写真製版用原
稿、或いはプリント配線基板用原稿等の被保護材を保護
するに好適な転写可能な保護膜形成用多層シートに関す
るものである。
（従来の技術） 従来、表面が傷付き易い印刷物、写真製版用原稿、或い
はプリント配線基板用原稿等の写真製品を保護するに
は、ポリエチレンテレフタレート等の薄いプラスチック
フィルムを支持体とし、該プラスチックフィルム上に粘
着剤或いは接着剤を積層し、該粘着剤或いは接着剤上に
離型フィルムを積層してなる表面保護フィルムが使用さ
れている。
はプリント配線基板用原稿等の写真製品を保護するに
は、ポリエチレンテレフタレート等の薄いプラスチック
フィルムを支持体とし、該プラスチックフィルム上に粘
着剤或いは接着剤を積層し、該粘着剤或いは接着剤上に
離型フィルムを積層してなる表面保護フィルムが使用さ
れている。
この表面保護フィルムの使用方法としては、まず離型フ
ィルムを剥離し、粘着剤或いは接着剤を露出させ、該粘
着剤或いは接着剤面を保護すべきものの表面に積層して
使用する。
ィルムを剥離し、粘着剤或いは接着剤を露出させ、該粘
着剤或いは接着剤面を保護すべきものの表面に積層して
使用する。
（考案が解決しようとする課題） ところで、最近写真製版やプリント配線基板に用いる原
稿は、作成するパターンが複雑化し、高い解像力が要求
されるようになってきた。このため、保護膜の膜厚は更
に薄いものが要求されている。
稿は、作成するパターンが複雑化し、高い解像力が要求
されるようになってきた。このため、保護膜の膜厚は更
に薄いものが要求されている。
しかしながら、前記のような構造を有する表面保護フィ
ルムでは、保護膜であるプラスチックフィルムを更に薄
くすると、保護すべきものに積層する際の作業性が悪く
なり、シワ、気泡等が発生し易くなるという問題があっ
た。
ルムでは、保護膜であるプラスチックフィルムを更に薄
くすると、保護すべきものに積層する際の作業性が悪く
なり、シワ、気泡等が発生し易くなるという問題があっ
た。
このような問題を改善するものとして、例えば、剥離可
能なキャリヤー支持体上に、耐摩耗性皮膜、感圧接着
剤、低接着性バックサイズを有するライナー支持体から
なる剥離可能な離型シートを順次積層した多層シート
（特開昭５７−３１５６２号公報）が開示されており、
薄い耐引掻性の保護被覆について記述されている。
能なキャリヤー支持体上に、耐摩耗性皮膜、感圧接着
剤、低接着性バックサイズを有するライナー支持体から
なる剥離可能な離型シートを順次積層した多層シート
（特開昭５７−３１５６２号公報）が開示されており、
薄い耐引掻性の保護被覆について記述されている。
前記構造の多層シートを写真製版原稿或いはプリント配
線基板原稿の表面保護フィルムとして使用した場合、積
層時のシワ、気泡等の発生は改善されたが、密着露光の
際、保護被覆表面が平滑なために真空の引きが悪く、エ
アーポケットが生じる等の密着性に問題があり、高い解
像力が要求される場合或いは多重露光を行なう場合に於
いて作業性が悪くなる欠点があった。
線基板原稿の表面保護フィルムとして使用した場合、積
層時のシワ、気泡等の発生は改善されたが、密着露光の
際、保護被覆表面が平滑なために真空の引きが悪く、エ
アーポケットが生じる等の密着性に問題があり、高い解
像力が要求される場合或いは多重露光を行なう場合に於
いて作業性が悪くなる欠点があった。
また、印刷物等の表面保護用として用いた場合、表面の
平滑性からくる照明光等の反射が強く、見づらいという
問題があった。
平滑性からくる照明光等の反射が強く、見づらいという
問題があった。
本考案は、前記従来の問題点を解消するためになされた
もので、密着性、滑性、反射性の改善された転写可能な
保護膜形成用多層シートを提供することを目的とする。
もので、密着性、滑性、反射性の改善された転写可能な
保護膜形成用多層シートを提供することを目的とする。
（課題を解決するための手段） 本考案者等は、前記従来の問題点を解消すべく、鋭意研
究を重ねた結果、耐摩耗性皮膜の表面を凹凸面にするこ
とにより、密着性、滑性、反射性が改善されることを知
見して本考案に到達した。
究を重ねた結果、耐摩耗性皮膜の表面を凹凸面にするこ
とにより、密着性、滑性、反射性が改善されることを知
見して本考案に到達した。
即ち、本考案の転写可能な保護膜形成用多層シートは、
剥離可能で、且つサンドブラスト法により或いは顔料を
練り込み含有せしめて、表面に中心線粗さ値が０．１〜
０．５μｍの凹凸を有するようにしたプラスチックフィ
ルムの前記凹凸面上に、厚さ１９μｍ以下の耐摩耗性皮
膜を設け、更に前記耐摩耗性皮膜上に粘着剤層と離型処
理層を設けた易剥離性シートとを順次積層したことを特
徴とするものである。
剥離可能で、且つサンドブラスト法により或いは顔料を
練り込み含有せしめて、表面に中心線粗さ値が０．１〜
０．５μｍの凹凸を有するようにしたプラスチックフィ
ルムの前記凹凸面上に、厚さ１９μｍ以下の耐摩耗性皮
膜を設け、更に前記耐摩耗性皮膜上に粘着剤層と離型処
理層を設けた易剥離性シートとを順次積層したことを特
徴とするものである。
本考案のプラスチックフィルムとしては、表面にサンド
ブラスト法により施された中心線粗さ値が０．１〜０．
５μｍの凹凸面を有するポリエチレンテレフタレートフ
ィルム又はポリプロピレンフィルムを採択したこと、或
いは表面の中心線粗さ値が０．１〜０．５μｍになるよ
うに顔料を練り込み含有せしめたポリエチレンテレフタ
レートフィルム又はポリプロピレンフィルムを採択した
ことを特徴とし、耐摩耗性皮膜がポリビニルブチラー
ル、ポリビニルホルマール、塩化ビニル、酢酸ビニル、
フェノキシ、ナイロン、セルロース系あるいはポリウレ
タン樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種類の樹
脂で構成したことを特徴とし、耐摩耗性皮膜が紫外線硬
化型樹脂からなり、粘着剤層の積層前に紫外線にて硬化
させられていることを特徴とし、耐摩耗性皮膜の厚さが
１９μｍ以下であることを特徴とし、粘着剤層の厚さが
１８μｍ以下であることを特徴とするものである。
ブラスト法により施された中心線粗さ値が０．１〜０．
５μｍの凹凸面を有するポリエチレンテレフタレートフ
ィルム又はポリプロピレンフィルムを採択したこと、或
いは表面の中心線粗さ値が０．１〜０．５μｍになるよ
うに顔料を練り込み含有せしめたポリエチレンテレフタ
レートフィルム又はポリプロピレンフィルムを採択した
ことを特徴とし、耐摩耗性皮膜がポリビニルブチラー
ル、ポリビニルホルマール、塩化ビニル、酢酸ビニル、
フェノキシ、ナイロン、セルロース系あるいはポリウレ
タン樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種類の樹
脂で構成したことを特徴とし、耐摩耗性皮膜が紫外線硬
化型樹脂からなり、粘着剤層の積層前に紫外線にて硬化
させられていることを特徴とし、耐摩耗性皮膜の厚さが
１９μｍ以下であることを特徴とし、粘着剤層の厚さが
１８μｍ以下であることを特徴とするものである。
（実施例） 以下、本考案を図面に基づいて更に詳細に説明する。
第１図は本考案の転写可能な保護膜形成用多層シートの
部分拡大断面図、第２図は本考案の転写可能な保護膜形
成用多層シートを被保護材に転写した状態の部分拡大断
面図である。
部分拡大断面図、第２図は本考案の転写可能な保護膜形
成用多層シートを被保護材に転写した状態の部分拡大断
面図である。
剥離可能で、且つ表面に凹凸面１１を形成したプラスチ
ックフィルム１上には、耐摩耗性皮膜２が積層されてい
る。
ックフィルム１上には、耐摩耗性皮膜２が積層されてい
る。
プラスチックフィルム１は、ポリエチレンテレフタレー
トフィルム或いはポリエチレンフィルム及びポリプロピ
レンフィルム等であり、その表面にサンドブラスト法に
より凹凸を施したもの、或いは該プラスチックフィルム
に二酸化チタン、二酸化ケイ素等の無機顔料、又はポリ
プロピレン、ポリエチレン、シリコン、ベンゾグアナミ
ン樹脂、アクリル樹脂等の有機顔料を練り込み含有せし
めて凹凸を施したもので、その中心線粗さ値が０．１〜
０．５μｍに設定されている。
トフィルム或いはポリエチレンフィルム及びポリプロピ
レンフィルム等であり、その表面にサンドブラスト法に
より凹凸を施したもの、或いは該プラスチックフィルム
に二酸化チタン、二酸化ケイ素等の無機顔料、又はポリ
プロピレン、ポリエチレン、シリコン、ベンゾグアナミ
ン樹脂、アクリル樹脂等の有機顔料を練り込み含有せし
めて凹凸を施したもので、その中心線粗さ値が０．１〜
０．５μｍに設定されている。
プラスチックフィルムに練り込む顔料とは、透明性を保
ち、且つプラスチックフィルム表面を粗面にする目的で
含有させるので、前記条件を満たすことができれば、他
の顔料でも使用することができる。
ち、且つプラスチックフィルム表面を粗面にする目的で
含有させるので、前記条件を満たすことができれば、他
の顔料でも使用することができる。
ここで、サンドブラスト法により凹凸を施した前者、及
び顔料を練り込み含有させ凹凸を施した後者とともに、
その中心線粗さ値は０．１〜０．５μｍの範囲が好まし
い。
び顔料を練り込み含有させ凹凸を施した後者とともに、
その中心線粗さ値は０．１〜０．５μｍの範囲が好まし
い。
即ち、中心線粗さ値が０．１μｍ未満では滑り性を改善
することができず、０．５μｍより大きくなると密着露
光時の解像力が低下するため好ましくない。また表面反
射を防ぐためには表面の粗さはより大きい方が良いが、
あまり大きくし過ぎると乱反射が多くなり、透明度が低
下してしまうので、好ましくない。
することができず、０．５μｍより大きくなると密着露
光時の解像力が低下するため好ましくない。また表面反
射を防ぐためには表面の粗さはより大きい方が良いが、
あまり大きくし過ぎると乱反射が多くなり、透明度が低
下してしまうので、好ましくない。
耐摩耗性皮膜２は、皮膜形成高分子で構成されており、
ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、塩化ビ
ニル、酢酸ビニル、フェノキシ、ナイロン、セルロース
系、ポリウレタンの各樹脂の群から選ばれた少なくとも
一種類の樹脂が使用できる。
ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、塩化ビ
ニル、酢酸ビニル、フェノキシ、ナイロン、セルロース
系、ポリウレタンの各樹脂の群から選ばれた少なくとも
一種類の樹脂が使用できる。
また耐摩耗性が要求される場合には、上記樹脂に適合す
る架橋剤或いは硬化剤を用いることもできる。
る架橋剤或いは硬化剤を用いることもできる。
更に、皮膜強度が要求される場合には、紫外線硬化型樹
脂を用いることができる。
脂を用いることができる。
形成した保護膜が、ゴミ、埃等の付着を嫌う場合には、
帯電防止剤の添加も可能である。
帯電防止剤の添加も可能である。
耐摩耗性皮膜２の厚さは、各性能を維持するために０．
２μｍ〜１９μｍが好ましい。
２μｍ〜１９μｍが好ましい。
透明性については、原稿としての使用目的から、全光線
透過率が、４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長域で７０％以
上、３５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長域で６０％以上ある
ことが好ましい。
透過率が、４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長域で７０％以
上、３５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長域で６０％以上ある
ことが好ましい。
耐摩耗性皮膜２上には、粘着剤層３が設けられており、
該粘着剤層３上には、離型処理層４１を設けた易剥離性
離型シート４が順次積層されている。
該粘着剤層３上には、離型処理層４１を設けた易剥離性
離型シート４が順次積層されている。
粘着剤層３に用いる粘着剤としては、アクリル系、ゴム
系等の公知のものが使用できるが、耐候性の良いものが
好ましく、また着色の少ないものが好ましい。
系等の公知のものが使用できるが、耐候性の良いものが
好ましく、また着色の少ないものが好ましい。
粘着剤層３の厚さは、性能を維持するために１μｍ〜１
８μｍが好ましい。
８μｍが好ましい。
透明性或いは全光線透過率から、耐摩耗性皮膜２と粘着
剤層３との合計の厚さは３０μｍ以下、好ましくは２０
μｍ以下であり、使用目的により耐摩耗性皮膜２と粘着
剤層３との厚さは、この範囲で任意に変えることができ
る。
剤層３との合計の厚さは３０μｍ以下、好ましくは２０
μｍ以下であり、使用目的により耐摩耗性皮膜２と粘着
剤層３との厚さは、この範囲で任意に変えることができ
る。
離型処理層４１を設けた易剥離性離型シート４として
は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリ
プロピレン等のフィルム表面をシリコン等で離型処理を
施したフィルムが使用できる。
は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリ
プロピレン等のフィルム表面をシリコン等で離型処理を
施したフィルムが使用できる。
また、剥離可能でかつ表面に凹凸面１１を持つプラスチ
ックフィルム１と耐摩耗性皮膜２との間の接着力は、使
用目的から考えて、粘着剤層３と離型処理層４１を設け
た易剥離性離型シート４の間の接着力より、強いことが
必要であり、好ましくは５倍程度強いことが望ましい。
ックフィルム１と耐摩耗性皮膜２との間の接着力は、使
用目的から考えて、粘着剤層３と離型処理層４１を設け
た易剥離性離型シート４の間の接着力より、強いことが
必要であり、好ましくは５倍程度強いことが望ましい。
更に、最終的には、剥離可能でかつ表面に凹凸面１１を
持つプラスチックフィルム１を耐摩耗性皮膜２から剥離
するので、該支持体と該耐摩耗性皮膜２との間の接着力
は、１８０°剥離強度が５０ｇ／inch以下が好ましく、
粘着剤層３と離型処理層４１を設けた易剥離性離型シー
ト４の間の接着力は、１０ｇ／inch以下が好ましい。
持つプラスチックフィルム１を耐摩耗性皮膜２から剥離
するので、該支持体と該耐摩耗性皮膜２との間の接着力
は、１８０°剥離強度が５０ｇ／inch以下が好ましく、
粘着剤層３と離型処理層４１を設けた易剥離性離型シー
ト４の間の接着力は、１０ｇ／inch以下が好ましい。
本考案の転写可能な保護膜形成用多層シートは、まず、
離型処理層４１を設けた易剥離性離型シート４を剥離し
粘着剤層３を露出させ、この粘着剤層３を保護すべき被
保護材５の表面に貼着し、最後に剥離可能でかつ表面に
凹凸面１１を持つプラスチックフィルム１を剥離して使
用する。
離型処理層４１を設けた易剥離性離型シート４を剥離し
粘着剤層３を露出させ、この粘着剤層３を保護すべき被
保護材５の表面に貼着し、最後に剥離可能でかつ表面に
凹凸面１１を持つプラスチックフィルム１を剥離して使
用する。
このようにして被保護材５上に形成された耐摩耗性皮膜
２は、極めて薄い膜であるにもかかわらず、表面にプラ
スチックフィルム１から転写形成された中心線粗さ値が
０．１〜０．５μｍの凹凸面２１を有し、密着性、滑
性、反射性が改善されたものである。
２は、極めて薄い膜であるにもかかわらず、表面にプラ
スチックフィルム１から転写形成された中心線粗さ値が
０．１〜０．５μｍの凹凸面２１を有し、密着性、滑
性、反射性が改善されたものである。
実施例１ サンドブラスト法にて、中心線粗さ値が０．５μｍの凹
凸を有するようにしたポリプロピレンフィルム（トレフ
ァン６０μｍ 東レ社製）上に、下記に示す皮膜形成性
高分子溶液をメイヤーバー＃３０にて塗布し、６０℃で
２分間乾燥し、５μｍの耐摩耗性皮膜を得た。
凸を有するようにしたポリプロピレンフィルム（トレフ
ァン６０μｍ 東レ社製）上に、下記に示す皮膜形成性
高分子溶液をメイヤーバー＃３０にて塗布し、６０℃で
２分間乾燥し、５μｍの耐摩耗性皮膜を得た。
・ポリビニルホルマール １０．０ｇ １０％溶液 （ビニレックＦ（Ｋ） チッソ社製） ・帯電防止剤 ０．０３ｇ （スタティサイド） 更に、前記耐摩耗性皮膜上に粘着剤１０％溶液（ポリシ
ック３１０Ｓ 三洋化成社製）をメイヤーバー＃２０に
て塗布し、６０℃で２分間乾燥後離型シート（セラピー
ル 東洋メタライジング社製）とラミネートして、本考
案の転写可能な保護膜形成用多層シートを得た。
ック３１０Ｓ 三洋化成社製）をメイヤーバー＃２０に
て塗布し、６０℃で２分間乾燥後離型シート（セラピー
ル 東洋メタライジング社製）とラミネートして、本考
案の転写可能な保護膜形成用多層シートを得た。
次に、この転写可能な保護膜形成用多層シートの離型シ
ートを剥離し、露出した粘着剤層を銀塩写真フィルムの
乳剤面にラミネーターを用いて積層し、ポリプロピレン
フィルムを剥離し、銀塩写真フィルムの乳剤面上に、表
面に凹凸を有する厚さ８μｍの耐摩耗性皮膜を形成し
た。
ートを剥離し、露出した粘着剤層を銀塩写真フィルムの
乳剤面にラミネーターを用いて積層し、ポリプロピレン
フィルムを剥離し、銀塩写真フィルムの乳剤面上に、表
面に凹凸を有する厚さ８μｍの耐摩耗性皮膜を形成し
た。
この銀塩フィルムを密着反転作業に用いた場合、従来の
ポリエステルフィルムに粘着剤を積層したものに比べ、
真空時間は１／２に低減された。
ポリエステルフィルムに粘着剤を積層したものに比べ、
真空時間は１／２に低減された。
また、この時の静止摩擦係数は０．３０であり、ポリエ
ステルフィルムの静止摩擦係数の約１／２であった。
ステルフィルムの静止摩擦係数の約１／２であった。
実施例２ サンドブラスト法にて、中心線粗さ値が０．５μｍの凹
凸を有するようにしたポリエステルフィルム（ルミラー
７５μｍ 東レ社製）上に、下記組成の紫外線硬化型樹
脂組成物をメイヤーバー＃１０にて塗布し、１００℃で
１分間乾燥後、１００ｗ／cmの紫外線硬化装置にて、１
０cmの距離から２秒間紫外線を照射して、５μｍの耐摩
耗性皮膜を得た。
凸を有するようにしたポリエステルフィルム（ルミラー
７５μｍ 東レ社製）上に、下記組成の紫外線硬化型樹
脂組成物をメイヤーバー＃１０にて塗布し、１００℃で
１分間乾燥後、１００ｗ／cmの紫外線硬化装置にて、１
０cmの距離から２秒間紫外線を照射して、５μｍの耐摩
耗性皮膜を得た。
・ポリビニルブチラール ０．８ｇ （エスレックＢＬ−Ｓ 積水化学工業社製） ・紫外線硬化型樹脂 １４．０ｇ （ユニディック17-806 大日本インキ化学工業社製） ・ベンゾインエチルエ−テル ０．４５ｇ （試薬特級） ・イソプロピルアルコール ８．０ｇ ・トリオール ４．８ｇ ・酢酸エチル ３．７ｇ ・エチルセロソルブ １．３ｇ 更に、前記耐摩耗性皮膜上に粘着剤（アロンタックＳＣ
Ｌ−２００ １２％溶液 東亜合成化学社製）をメイヤ
ーバー＃１０にて塗布し、９０℃で１分間乾燥後、離型
シート（セラピール 東洋メタライジング社製）とラミ
ネートして、本考案の転写可能な保護膜形成用多層シー
トを得た。
Ｌ−２００ １２％溶液 東亜合成化学社製）をメイヤ
ーバー＃１０にて塗布し、９０℃で１分間乾燥後、離型
シート（セラピール 東洋メタライジング社製）とラミ
ネートして、本考案の転写可能な保護膜形成用多層シー
トを得た。
次に、この転写可能な保護膜形成用多層シートの離型シ
ートを剥離し、露出した粘着剤層を写真印画紙に積層し
た後、ポリエステルフィルムを剥離して、印画紙表面
に、凹凸面を有する耐摩耗性皮膜を形成した。
ートを剥離し、露出した粘着剤層を写真印画紙に積層し
た後、ポリエステルフィルムを剥離して、印画紙表面
に、凹凸面を有する耐摩耗性皮膜を形成した。
この時の表面硬度は、鉛筆硬度で４Ｈであり、表面の反
射も極めて弱く、写真画像を鮮明に見ることができた。
射も極めて弱く、写真画像を鮮明に見ることができた。
実施例３ 実施例１で用いたポリプロピレンフィルムの代りに、表
面に中心線粗さ値が０．３μｍである顔料含有ポリエス
テルフィルム（ルミラーＸ４５ ２６μｍ 東レ株式会
社製）を使用した他は、実施例１と同様にして、本考案
の転写可能な保護膜形成用多層シートを得た。
面に中心線粗さ値が０．３μｍである顔料含有ポリエス
テルフィルム（ルミラーＸ４５ ２６μｍ 東レ株式会
社製）を使用した他は、実施例１と同様にして、本考案
の転写可能な保護膜形成用多層シートを得た。
この転写可能な保護膜形成用多層シートをクリーンルー
ム内で必要とする大きさに裁断したところ、裁断による
切り屑等の発生もなく、クリーンルーム内での作業に好
適であった。
ム内で必要とする大きさに裁断したところ、裁断による
切り屑等の発生もなく、クリーンルーム内での作業に好
適であった。
そしてまた、この転写可能な保護膜形成用多層シートを
実施例１と同様に、銀塩写真フィルムに積層したとこ
ろ、同様の効果が得られた。
実施例１と同様に、銀塩写真フィルムに積層したとこ
ろ、同様の効果が得られた。
（考案の効果） 上述したように、本考案によれば特定の表面粗さの凹凸
面を有するプラスチックフィルムの該凹凸面上に、非常
に薄い耐摩耗性皮膜を積層したので、被保護材上に形成
された耐摩耗性皮膜の表面には、支持体の表面凹凸が転
写される。これらの凹凸により、密着露光時の真空時間
を短縮することができ且つ真空密着性をも向上させるこ
とができる。
面を有するプラスチックフィルムの該凹凸面上に、非常
に薄い耐摩耗性皮膜を積層したので、被保護材上に形成
された耐摩耗性皮膜の表面には、支持体の表面凹凸が転
写される。これらの凹凸により、密着露光時の真空時間
を短縮することができ且つ真空密着性をも向上させるこ
とができる。
耐摩耗性皮膜が１９μｍ以下と非常に薄いため、高い解
像力を実現でき、従来のものと比べて、剥離する支持体
の分厚いため、貼着作業性がよい。
像力を実現でき、従来のものと比べて、剥離する支持体
の分厚いため、貼着作業性がよい。
また、耐摩耗性皮膜の表面に形成された凹凸面により、
被保護材を確実に保護するとともに見やすくすることも
できる。
被保護材を確実に保護するとともに見やすくすることも
できる。
更に、顔料を練り込み含有せしめたプラスチックフィル
ムを使用した場合には、クリーンルーム内での断裁時に
切り屑或いは粉じん等の発生がなく、クリーンルーム内
で埃等を出すことがない等多くの優れた効果を有するも
のである。
ムを使用した場合には、クリーンルーム内での断裁時に
切り屑或いは粉じん等の発生がなく、クリーンルーム内
で埃等を出すことがない等多くの優れた効果を有するも
のである。
図面に於いて、第１図は本考案の転写可能な保護膜形成
用多層シートの部分拡大断面図、第２図は本考案の転写
可能な保護膜形成用多層シートを被保護材に転写した状
態の部分拡大断面図である。 １……プラスチックフィルム ２……耐摩耗性皮膜 ３……粘着剤層 ４……易剥離性離型シート ５……被保護材 １１、２１……凹凸面 ４１……離型処理層
用多層シートの部分拡大断面図、第２図は本考案の転写
可能な保護膜形成用多層シートを被保護材に転写した状
態の部分拡大断面図である。 １……プラスチックフィルム ２……耐摩耗性皮膜 ３……粘着剤層 ４……易剥離性離型シート ５……被保護材 １１、２１……凹凸面 ４１……離型処理層
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０９Ｊ 7/02 ＪＬＦ 6770−4Ｊ
Claims (5)
- 【請求項１】剥離可能で、且つサンドブラスト法により
或いは顔料を練り込み含有せしめて、表面に中心線粗さ
値が０．１〜０．５μｍの凹凸を有するようにしたプラ
スチックフィルムの前記凹凸面上に、厚さ１９μｍ以下
の耐摩耗性皮膜を設け、更に前記耐摩耗性皮膜上に粘着
剤層と離型処理層を設けた易剥離性シートとを順次積層
したことを特徴とする転写可能な保護膜形成用多層シー
ト。 - 【請求項２】プラスチックフィルムが、ポリエチレンテ
レフタレートフィルム又はポリプロピレンフィルムであ
る実用新案登録請求の範囲第（１）項記載の転写可能な
保護膜形成用多層シート。 - 【請求項３】耐摩耗性皮膜がポリビニルブチラール、ポ
リビニルホルマール、塩化ビニル、酢酸ビニル、フェノ
キシ、ナイロン、セルロース系あるいはポリウレタン樹
脂からなる群から選ばれた少なくとも一種類の樹脂で構
成したことを特徴とする実用新案登録請求の範囲第
（１）項記載の転写可能な保護膜形成用多層シート。 - 【請求項４】耐摩耗性皮膜が紫外線硬化型樹脂からな
り、粘着剤層の積層前に紫外線にて硬化させられている
ことを特徴とする実用新案登録請求の範囲第（１）項記
載の転写可能な保護膜形成用多層シート。 - 【請求項５】粘着剤層の厚さが１８μｍ以下であること
を特徴とする実用新案登録請求の範囲第（１）項記載の
転写可能な保護膜形成用多層シート。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987090042U JPH0620601Y2 (ja) | 1986-06-13 | 1987-06-11 | 転写可能な保護膜形成用多層シ−ト |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61-90282 | 1986-06-13 | ||
| JP9028286 | 1986-06-13 | ||
| JP1987090042U JPH0620601Y2 (ja) | 1986-06-13 | 1987-06-11 | 転写可能な保護膜形成用多層シ−ト |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6384335U JPS6384335U (ja) | 1988-06-02 |
| JPH0620601Y2 true JPH0620601Y2 (ja) | 1994-06-01 |
Family
ID=33031562
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1987090042U Expired - Lifetime JPH0620601Y2 (ja) | 1986-06-13 | 1987-06-11 | 転写可能な保護膜形成用多層シ−ト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0620601Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2017145938A1 (ja) * | 2016-02-22 | 2018-12-13 | リンテック株式会社 | 保護膜形成用シート、保護膜形成用シートの製造方法及び半導体装置の製造方法 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2626801B2 (ja) * | 1988-08-17 | 1997-07-02 | 大日本印刷株式会社 | 転写箔 |
| JP2002084083A (ja) * | 2000-07-06 | 2002-03-22 | Fuji Kobunshi Kogyo Kk | 放熱シート製品 |
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| JP4688431B2 (ja) * | 2004-04-21 | 2011-05-25 | 日東電工株式会社 | フラットパネルディスプレイ用マザーガラス保護フィルムおよびその用途 |
| JP2005320474A (ja) * | 2004-05-11 | 2005-11-17 | Oji Tac Hanbai Kk | 積層用保護シートおよびその使用方法、積層体 |
| JP5647593B2 (ja) * | 2011-11-17 | 2015-01-07 | 株式会社有沢製作所 | キャリアフィルム付き保護フィルム |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4337107A (en) * | 1980-06-16 | 1982-06-29 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasion-resistant transfer laminating sheet material |
| JPS60175003A (ja) * | 1984-02-21 | 1985-09-09 | Seiko Epson Corp | 防眩処理方法 |
-
1987
- 1987-06-11 JP JP1987090042U patent/JPH0620601Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2017145938A1 (ja) * | 2016-02-22 | 2018-12-13 | リンテック株式会社 | 保護膜形成用シート、保護膜形成用シートの製造方法及び半導体装置の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6384335U (ja) | 1988-06-02 |
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