JP2589276Y2 - 表面保護フィルム - Google Patents
表面保護フィルムInfo
- Publication number
- JP2589276Y2 JP2589276Y2 JP1990023024U JP2302490U JP2589276Y2 JP 2589276 Y2 JP2589276 Y2 JP 2589276Y2 JP 1990023024 U JP1990023024 U JP 1990023024U JP 2302490 U JP2302490 U JP 2302490U JP 2589276 Y2 JP2589276 Y2 JP 2589276Y2
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- Japan
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- film
- exposure
- photoresist
- layer
- original
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Description
【考案の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本考案は、製版において粘着性を有するフォトレジス
トを露光する際に用いる原稿の表面保護フィルムに関す
る。
トを露光する際に用いる原稿の表面保護フィルムに関す
る。
［従来の技術及び考案が解決すべき課題］ 従来から、プリント配線基板あるいは樹脂凸版を作製
する際に液状フォトレジストあるいはフィルム状のフォ
トレジストいわゆるドライフィルムが使用されている
が、これらのフォトレジストは本来粘着性を持ってい
る。
する際に液状フォトレジストあるいはフィルム状のフォ
トレジストいわゆるドライフィルムが使用されている
が、これらのフォトレジストは本来粘着性を持ってい
る。
例えば、プリント配線板は、銅の薄膜上にフォトレジ
スト層が積層されたプリント配線板上に、配線パターン
を形成した露光用原稿であるリスフィルムを原稿とし
て、真空密着プリンターで露光後不必要な部分を現像除
去し、その後エッチング処理により不要部分の銅を除去
して所望の配線パターンを製造している。
スト層が積層されたプリント配線板上に、配線パターン
を形成した露光用原稿であるリスフィルムを原稿とし
て、真空密着プリンターで露光後不必要な部分を現像除
去し、その後エッチング処理により不要部分の銅を除去
して所望の配線パターンを製造している。
例えば、ネガポジタイプの液状フォトレジストを用い
る方法としては、第２図に示すように基板１に所定の配
線パターンに作製された乳剤層２を設けたリスフィルム
原稿３を作成する。一方、基板４に銅の薄膜５を張った
積層体上に液状フォトレジストを所定の厚さに塗布し、
乾燥しフォトレジスト層６を設けてプリント配線板基材
７を作製する。そしてプリント配線板基材７のフォトレ
ジスト層６にリスフィルム原稿３の乳剤層２を重ね、真
空密着させたリスフィルム原稿３側より紫外線露光し
て、露光部を硬化させ、未露光部を現像除去し、その後
露出した銅薄膜をエッチングし除去、水洗後、硬化した
フォトレジストを剥離等により除去し、プリント配線基
板を作製するものである。
る方法としては、第２図に示すように基板１に所定の配
線パターンに作製された乳剤層２を設けたリスフィルム
原稿３を作成する。一方、基板４に銅の薄膜５を張った
積層体上に液状フォトレジストを所定の厚さに塗布し、
乾燥しフォトレジスト層６を設けてプリント配線板基材
７を作製する。そしてプリント配線板基材７のフォトレ
ジスト層６にリスフィルム原稿３の乳剤層２を重ね、真
空密着させたリスフィルム原稿３側より紫外線露光し
て、露光部を硬化させ、未露光部を現像除去し、その後
露出した銅薄膜をエッチングし除去、水洗後、硬化した
フォトレジストを剥離等により除去し、プリント配線基
板を作製するものである。
リスフィルム原稿３の乳剤層２のバインダーはゼラチ
ンが使用されているため、銅張りされた基板の端部のバ
リ等で傷が付やすく、繰り返しての使用が困難なため、
従来より保護フィルム８をリスフィルム原稿３の乳剤層
２に接着剤８′を介して貼合して用いている。この保護
フィルム８は光の透過性がよいものでなければならず、
通常ポリエチレンテレフタレートフィルムが使用されて
いる。
ンが使用されているため、銅張りされた基板の端部のバ
リ等で傷が付やすく、繰り返しての使用が困難なため、
従来より保護フィルム８をリスフィルム原稿３の乳剤層
２に接着剤８′を介して貼合して用いている。この保護
フィルム８は光の透過性がよいものでなければならず、
通常ポリエチレンテレフタレートフィルムが使用されて
いる。
しかし、プリント配線基板を液状フォトレジストを使
用して作成する場合、プリント配線板基材７の液状フォ
トレジスト層６は乾燥後も粘着性があるが、乾燥不足の
場合はさらに粘着性が上ってしまうため、露光の際にリ
スフィルム原稿３の保護フィルム８と真空密着されると
保護フィルム８に液状フォトレジストが付着して保護フ
ィルム８が汚れてしまう。このため煩雑なクリーニング
作業や保護フィルム８の貼りかえ作業が必要となるとい
う欠点があった。
用して作成する場合、プリント配線板基材７の液状フォ
トレジスト層６は乾燥後も粘着性があるが、乾燥不足の
場合はさらに粘着性が上ってしまうため、露光の際にリ
スフィルム原稿３の保護フィルム８と真空密着されると
保護フィルム８に液状フォトレジストが付着して保護フ
ィルム８が汚れてしまう。このため煩雑なクリーニング
作業や保護フィルム８の貼りかえ作業が必要となるとい
う欠点があった。
また、樹脂凸板を製版する場合も液状フォトレジスト
あるいはフィルム状のフォトレジストを使用するため、
使用するフォトレジストと原稿の間にフォトレジストと
原稿との付着を防止するポリエチレンフィルム等のスペ
ーサーを挿入しなければならなかった。
あるいはフィルム状のフォトレジストを使用するため、
使用するフォトレジストと原稿の間にフォトレジストと
原稿との付着を防止するポリエチレンフィルム等のスペ
ーサーを挿入しなければならなかった。
本考案は上記の欠点を解消するためになされたもので
あって、粘着性のフォトレジストが付着しない保護フィ
ルムを提供することを目的とする。
あって、粘着性のフォトレジストが付着しない保護フィ
ルムを提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］ 上記の目的を達成するため本考案の表面保護フィルム
は、露光用原稿にフォトレジスト層を備えた製版材を真
空密着して露光する際前記露光用原稿を保護する表面保
護フィルムであって、薄い透明支持体の片面に前記露光
用原稿に貼着される粘着層を設け、該粘着層の反対面
に、樹脂とシリコーン系離型剤を含む離型層を設けたも
のである。
は、露光用原稿にフォトレジスト層を備えた製版材を真
空密着して露光する際前記露光用原稿を保護する表面保
護フィルムであって、薄い透明支持体の片面に前記露光
用原稿に貼着される粘着層を設け、該粘着層の反対面
に、樹脂とシリコーン系離型剤を含む離型層を設けたも
のである。
以下、第１図に示す表面保護フィルムを構成する各層
について説明する。
について説明する。
表面保護フィルムの透明支持体である基材10は、露光
の際に使われる紫外線の透過率の高いものが好ましく、
ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリエ
チレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリカーボネ
ート、トリアセテート、ポリイミド等の透明なプラスチ
ックフィルムから選択される。特に二軸延伸されたポリ
エチレンテレフタレートフィルムが強度、耐熱性、寸法
安定性に優れているため好適に使用される。基材10の厚
さはフォトレジストの解像度に影響するため薄いほうが
よく、３〜25μｍが使用可能であるが、取扱上６〜12μ
ｍが好適である。
の際に使われる紫外線の透過率の高いものが好ましく、
ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリエ
チレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリカーボネ
ート、トリアセテート、ポリイミド等の透明なプラスチ
ックフィルムから選択される。特に二軸延伸されたポリ
エチレンテレフタレートフィルムが強度、耐熱性、寸法
安定性に優れているため好適に使用される。基材10の厚
さはフォトレジストの解像度に影響するため薄いほうが
よく、３〜25μｍが使用可能であるが、取扱上６〜12μ
ｍが好適である。
基材10に塗布されて表面保護フィルム80の表面に形成
される離型層９は樹脂及び離型性付与剤の混合物から成
る。樹脂としては、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、
塩化ビニル系樹脂、塩化ビニリデン系樹脂、塩化ゴム、
塩化ポリオレフィン、アルキッド樹脂、ポリエステル樹
脂、アミノ系樹脂、メラミン系樹脂等が用いられ、これ
らを単独あるいは混合して使用できる。離型性付与剤と
しては、シリコーン系離型剤を用いる。樹脂とシリコー
ン系離型剤の、混合比は樹脂に対するシリコーン系離型
剤の割合が２〜15％が好ましい。２％以下であると離型
効果が低く、数回の使用で液状フォトレジストの付着が
発生してしまい、15％以上添加すると離型効果は良好で
あるが、離型層９が白濁し透明性が低下するので好まし
くない。また、離型層９に帯電防止機能を付与するため
帯電防止剤を添加してもよい。帯電防止剤としては界面
活性剤、導電性樹脂、金属微粉末等、使用する樹脂との
相溶性、透明性等で適宜選択すればよい。尚、真空プリ
ンターで離型層９をフォトレジストに密着させ露光する
際に、プリント配線基材が大きいものに対しても密着性
を良好にするため、透明性及び光を乱反射させない範囲
で顔料を添加してもよい。離型層９の膜厚は基材10と同
じく、フォトレジストの解像度に影響があるため薄い方
がよいが、離型性の効果を得るためには0.1〜1.5μが好
適である。
される離型層９は樹脂及び離型性付与剤の混合物から成
る。樹脂としては、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、
塩化ビニル系樹脂、塩化ビニリデン系樹脂、塩化ゴム、
塩化ポリオレフィン、アルキッド樹脂、ポリエステル樹
脂、アミノ系樹脂、メラミン系樹脂等が用いられ、これ
らを単独あるいは混合して使用できる。離型性付与剤と
しては、シリコーン系離型剤を用いる。樹脂とシリコー
ン系離型剤の、混合比は樹脂に対するシリコーン系離型
剤の割合が２〜15％が好ましい。２％以下であると離型
効果が低く、数回の使用で液状フォトレジストの付着が
発生してしまい、15％以上添加すると離型効果は良好で
あるが、離型層９が白濁し透明性が低下するので好まし
くない。また、離型層９に帯電防止機能を付与するため
帯電防止剤を添加してもよい。帯電防止剤としては界面
活性剤、導電性樹脂、金属微粉末等、使用する樹脂との
相溶性、透明性等で適宜選択すればよい。尚、真空プリ
ンターで離型層９をフォトレジストに密着させ露光する
際に、プリント配線基材が大きいものに対しても密着性
を良好にするため、透明性及び光を乱反射させない範囲
で顔料を添加してもよい。離型層９の膜厚は基材10と同
じく、フォトレジストの解像度に影響があるため薄い方
がよいが、離型性の効果を得るためには0.1〜1.5μが好
適である。
基材10の離型層９と反対面に設けられ表面保護フィル
ム80の配線パターンに形成した露光用原稿（リスフィル
ム原稿）30に接着する粘着層11は一般に使用されるアク
リル系粘着剤、ゴム系粘着剤等が採用されうる。尚、基
材10と離型層９の接着を強力にするため基材10の表面に
コロナ放電処理あるいは下引き処理を施してもよい。
ム80の配線パターンに形成した露光用原稿（リスフィル
ム原稿）30に接着する粘着層11は一般に使用されるアク
リル系粘着剤、ゴム系粘着剤等が採用されうる。尚、基
材10と離型層９の接着を強力にするため基材10の表面に
コロナ放電処理あるいは下引き処理を施してもよい。
［実施例］ 以下、本考案の実施例を説明する。
膜厚６μのポリエチレンテレフタレートフィルム（商
品名ルミラー：東レ（株）社製）の片面に以下の組成の
離型層形成液を、他方の面に以下の組成の粘着層形成液
を順次マイヤーバーにて塗布し、100℃１分間乾燥して
塗膜を形成した。
品名ルミラー：東レ（株）社製）の片面に以下の組成の
離型層形成液を、他方の面に以下の組成の粘着層形成液
を順次マイヤーバーにて塗布し、100℃１分間乾燥して
塗膜を形成した。
離型層形成液 アクリルポリオール（固形分濃度50％） （商品名アクリディックA-801: 大日本インキ化学工業（株）社製） 16部 イソシアネートプレポリマー（固形分濃度75％） （商品名バーノックD-750: 大日本インキ化学工業（株）社製） 1.5部 シリコーン系離型剤（固形分濃度10％） （商品名ペインタッド53: ダウコーニング（株）社製） ３部 トルエン 15部 メチルエチルケトン ６部 粘着層形成液 アクリル酸エステル共重合体（固形分濃度40％） （商品名アロンタックSCL-200: 東亜合成化学（株）社製） 10部 トルエン 10部 酢酸エチル 10部 成形された膜厚は離型層約１μｍ、粘着層約２μｍで
あり、粘着層に取扱い上のため厚さ25μｍのポリエチレ
ンテレフタレート離型フィルム（商品名セラペール：東
洋メタライジング（株）社製）を貼合して保護フィルム
を作製した。
あり、粘着層に取扱い上のため厚さ25μｍのポリエチレ
ンテレフタレート離型フィルム（商品名セラペール：東
洋メタライジング（株）社製）を貼合して保護フィルム
を作製した。
得られた上記保護フィルムのポリエチレンテレフタレ
ート離型フィルムを剥がし粘着層を、露出し、所定のパ
ターンを作成した露光用原稿の乳剤層に重ねローラで押
圧し貼合した。銅貼積層板表面に液状フォトレジスト
（商品名フォトファイナ−PSR-4000:太陽インキ製造
（株）社製）を塗布し、乾燥（80℃10分間加温）したプ
リント配線板基材面に上記露光用原稿の保護フィルム面
を重ね、真空プリンターで露光を行った。露光後、保護
フィルムを貼合した原稿を剥がしたところ、液状フォト
レジストは保護フィルムの離型層には付着せずクリーニ
ングを行う必要はなかった。
ート離型フィルムを剥がし粘着層を、露出し、所定のパ
ターンを作成した露光用原稿の乳剤層に重ねローラで押
圧し貼合した。銅貼積層板表面に液状フォトレジスト
（商品名フォトファイナ−PSR-4000:太陽インキ製造
（株）社製）を塗布し、乾燥（80℃10分間加温）したプ
リント配線板基材面に上記露光用原稿の保護フィルム面
を重ね、真空プリンターで露光を行った。露光後、保護
フィルムを貼合した原稿を剥がしたところ、液状フォト
レジストは保護フィルムの離型層には付着せずクリーニ
ングを行う必要はなかった。
上記の操作を同一露光用原稿20回反復し、20枚のプリ
ント配線基板を作成したところ、保護フィルム離型層へ
の液状フォトレジストの付着は見られなかった。また、
保護フィルムを貼合したことによる露光時間の増加及び
解像力の低下等の製版への影響はなかった。又、本来の
目的である露光用原稿の乳剤層の保護の性能は十分に有
していた。
ント配線基板を作成したところ、保護フィルム離型層へ
の液状フォトレジストの付着は見られなかった。また、
保護フィルムを貼合したことによる露光時間の増加及び
解像力の低下等の製版への影響はなかった。又、本来の
目的である露光用原稿の乳剤層の保護の性能は十分に有
していた。
［考案の効果］ 以上の説明からも明らかなように本考案の表面保護フ
ィルムによれば、フォトレジストの付着を防止する離型
層を設けたため、露光用原稿の表面を保護すると共に、
複写を反復してもフォトレジストが露光用原稿に付着す
ることなく効率よく複写を行うことができる。
ィルムによれば、フォトレジストの付着を防止する離型
層を設けたため、露光用原稿の表面を保護すると共に、
複写を反復してもフォトレジストが露光用原稿に付着す
ることなく効率よく複写を行うことができる。
第１図は本考案の表面保護フィルムの一実施例を示す
図、第２図は従来例を示す図である。 30……露光用原稿 ９……離型層 10……基材 11……粘着層 80……表面保護フィルム
図、第２図は従来例を示す図である。 30……露光用原稿 ９……離型層 10……基材 11……粘着層 80……表面保護フィルム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−67548（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−29238（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−88550（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−173040（ＪＰ，Ａ) 実開 昭61−153049（ＪＰ，Ｕ) 特公 昭58−4338（ＪＰ，Ｂ２) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G03F 1/00
Claims (1)
- 【請求項１】露光用原稿にフォトレジスト層を備えた製
版材を真空密着して露光する際前記露光用原稿を保護す
る表面保護フィルムであって、薄い透明支持体の片面に
前記露光用原稿に貼着される粘着層を設け、該粘着層の
反対面に、樹脂とシリコーン系離型剤を含む離型層を設
けたことを特徴とする表面保護フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1990023024U JP2589276Y2 (ja) | 1990-03-07 | 1990-03-07 | 表面保護フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1990023024U JP2589276Y2 (ja) | 1990-03-07 | 1990-03-07 | 表面保護フィルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03114845U JPH03114845U (ja) | 1991-11-26 |
| JP2589276Y2 true JP2589276Y2 (ja) | 1999-01-27 |
Family
ID=31526027
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1990023024U Expired - Lifetime JP2589276Y2 (ja) | 1990-03-07 | 1990-03-07 | 表面保護フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2589276Y2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4716557B2 (ja) * | 2000-12-05 | 2011-07-06 | 株式会社きもと | 表面保護フィルム |
| TWI504935B (zh) * | 2010-01-22 | 2015-10-21 | Lg Chemical Ltd | 光學濾光片以及含有此光學濾光片的立體影像顯示裝置 |
| JP5635642B2 (ja) * | 2013-04-22 | 2014-12-03 | 日東電工株式会社 | ロール保護用粘着シート |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60171B2 (ja) * | 1981-06-26 | 1985-01-07 | 株式会社三栄製作所 | 切削屑の押圧装置 |
| JPS61153049A (ja) * | 1984-12-25 | 1986-07-11 | Takeshi Teragaki | 磁気回転伝達装置 |
| JPS61153049U (ja) * | 1985-03-15 | 1986-09-22 | ||
| JPS6488550A (en) * | 1987-09-30 | 1989-04-03 | Sharp Kk | Photomask |
| JP2558304B2 (ja) * | 1987-12-28 | 1996-11-27 | 大日本印刷株式会社 | 製版用ガラスパターン |
-
1990
- 1990-03-07 JP JP1990023024U patent/JP2589276Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03114845U (ja) | 1991-11-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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| EXPY | Cancellation because of completion of term |