JP2000258894A - 表面保護フィルム - Google Patents
表面保護フィルムInfo
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- JP2000258894A JP2000258894A JP6506799A JP6506799A JP2000258894A JP 2000258894 A JP2000258894 A JP 2000258894A JP 6506799 A JP6506799 A JP 6506799A JP 6506799 A JP6506799 A JP 6506799A JP 2000258894 A JP2000258894 A JP 2000258894A
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- adhesive layer
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 表面保護フィルムの生産性を改善すると共
に、表面保護フィルムの巻きズレにより起こるレジスト
付着防止層の傷や表面保護フィルムの巻皺の発生を防止
する。 【解決手段】 透明支持体２の片面に粘着層４を形成し
てセパレーター５と貼り合わせた後、当該貼り合わせ基
材のセパレーター５側の面にサンドブラスト処理等の防
滑処理６を施し、透明支持体２側の面にレジスト付着防
止層３を形成する。
に、表面保護フィルムの巻きズレにより起こるレジスト
付着防止層の傷や表面保護フィルムの巻皺の発生を防止
する。 【解決手段】 透明支持体２の片面に粘着層４を形成し
てセパレーター５と貼り合わせた後、当該貼り合わせ基
材のセパレーター５側の面にサンドブラスト処理等の防
滑処理６を施し、透明支持体２側の面にレジスト付着防
止層３を形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プリント基板用原
稿、印刷物などに用いる表面保護フィルムに関し、特に
プリント基板作製工程などにおいて粘着性を有するフォ
トレジストを露光する際の原稿表面に好適に用いられる
表面保護フィルムに関する。
稿、印刷物などに用いる表面保護フィルムに関し、特に
プリント基板作製工程などにおいて粘着性を有するフォ
トレジストを露光する際の原稿表面に好適に用いられる
表面保護フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】通常、プリント配線板や樹脂凸版は、液
状フォトレジストなどの粘着性のあるフォトレジストに
露光用原稿（フォトマスク）を密着露光して作製され
る。かかる露光用原稿は、フォトレジストに密着して使
用されるので、その表面に何らの処理も施さないと、露
光終了後の原稿を剥がす際にフォトレジストの一部が原
稿表面に転写され、汚れを生じてしまう。このような事
情から、従来より露光用原稿上のフォトレジストに対向
する面に、表面にレジスト付着防止層を有する表面保護
フィルムを設けるようにしている。このようなフォトマ
スク用表面保護フィルムとしては、透明支持体の片面に
粘着層が、他面にレジスト付着防止層が設けられてい
る。
状フォトレジストなどの粘着性のあるフォトレジストに
露光用原稿（フォトマスク）を密着露光して作製され
る。かかる露光用原稿は、フォトレジストに密着して使
用されるので、その表面に何らの処理も施さないと、露
光終了後の原稿を剥がす際にフォトレジストの一部が原
稿表面に転写され、汚れを生じてしまう。このような事
情から、従来より露光用原稿上のフォトレジストに対向
する面に、表面にレジスト付着防止層を有する表面保護
フィルムを設けるようにしている。このようなフォトマ
スク用表面保護フィルムとしては、透明支持体の片面に
粘着層が、他面にレジスト付着防止層が設けられてい
る。
【０００３】ここで、このようなフォトマスク用表面保
護フィルムの製造方法としては、透明支持体の一方の表
面にレジスト付着防止層を、他方の面に粘着層を設け、
当該粘着層を用いてセパレーターを貼り合わせる、又は
予め粘着層を用いてセパレーターと貼り合わせた透明支
持体の表面にレジスト付着防止層を設ける等した後に、
これらをロール状に巻取ることにより行われている。
護フィルムの製造方法としては、透明支持体の一方の表
面にレジスト付着防止層を、他方の面に粘着層を設け、
当該粘着層を用いてセパレーターを貼り合わせる、又は
予め粘着層を用いてセパレーターと貼り合わせた透明支
持体の表面にレジスト付着防止層を設ける等した後に、
これらをロール状に巻取ることにより行われている。
【０００４】そして、このようなレジスト付着防止層
は、離型性付与剤（以下、「離型剤」という）を含有す
る組成物から構成されており、この離型剤としては低分
子量のシリコーン系添加剤、シリコーン系樹脂が一般に
用いられている。
は、離型性付与剤（以下、「離型剤」という）を含有す
る組成物から構成されており、この離型剤としては低分
子量のシリコーン系添加剤、シリコーン系樹脂が一般に
用いられている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような離
型剤を含有する組成物からなるレジスト付着防止層は、
一般にその表面エネルギーが低くなることにより離型性
が得られると共に摩擦抵抗も低くなるため、表面保護フ
ィルムを製造してロール状に巻取る際に、巻きズレが生
じ易くなり、レジスト付着防止層表面に傷が入ってしま
ったり、表面保護フィルムに巻皺が入ってしまう等の問
題が起こり、その生産スピードの向上が図れないという
生産性の難点を有していた。
型剤を含有する組成物からなるレジスト付着防止層は、
一般にその表面エネルギーが低くなることにより離型性
が得られると共に摩擦抵抗も低くなるため、表面保護フ
ィルムを製造してロール状に巻取る際に、巻きズレが生
じ易くなり、レジスト付着防止層表面に傷が入ってしま
ったり、表面保護フィルムに巻皺が入ってしまう等の問
題が起こり、その生産スピードの向上が図れないという
生産性の難点を有していた。
【０００６】また、一般に製造時に巻き取った表面保護
フィルムは更に小巻ロールに巻き直して取り扱うことが
多く、そのような際にも巻きズレを生じてレジスト付着
防止層表面に傷が生じてしまうことがある。このように
して傷が生じた表面保護フィルムを用いてフォトレジス
トを密着露光すると、傷部分の光散乱によって露光障害
を引き起こすという問題点を有していた。
フィルムは更に小巻ロールに巻き直して取り扱うことが
多く、そのような際にも巻きズレを生じてレジスト付着
防止層表面に傷が生じてしまうことがある。このように
して傷が生じた表面保護フィルムを用いてフォトレジス
トを密着露光すると、傷部分の光散乱によって露光障害
を引き起こすという問題点を有していた。
【０００７】そこで本発明は、上記の課題を解決するた
めになされたものであって、表面保護フィルムの生産性
を改善し、且つ表面保護フィルムの巻きズレにより起こ
るレジスト付着防止層の傷や表面保護フィルムの巻皺の
発生を防止する表面保護フィルムを提供することを目的
とする。
めになされたものであって、表面保護フィルムの生産性
を改善し、且つ表面保護フィルムの巻きズレにより起こ
るレジスト付着防止層の傷や表面保護フィルムの巻皺の
発生を防止する表面保護フィルムを提供することを目的
とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明の表面保護フィルムとしては、透明支持体上の一方の
面にレジスト付着防止層が設けられ、反対面に粘着層及
びセパレーターがこの順に設けられてなる表面保護フィ
ルムであって、前記セパレーターの前記粘着層と接する
面とは反対の面に防滑処理が施されてなることを特徴と
するものである。
明の表面保護フィルムとしては、透明支持体上の一方の
面にレジスト付着防止層が設けられ、反対面に粘着層及
びセパレーターがこの順に設けられてなる表面保護フィ
ルムであって、前記セパレーターの前記粘着層と接する
面とは反対の面に防滑処理が施されてなることを特徴と
するものである。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図１及び図２を用
いて詳述する。
いて詳述する。
【００１０】表面保護フィルム１の透明支持体２として
は、露光の際に使われる紫外線の透過率の高いもので有
れば良く、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネ
ート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリエチレンナフタレート、ポリスチレン等の透明
なプラスチックフィルムが用いられる。特に二軸延伸さ
れたポリエチレンテレフタレートフィルムが強度、耐熱
性、寸法安定性に優れているために好適に使用される。
透明支持体２の厚みは、解像度に影響するため薄い方が
好ましいが、取扱性も考慮して、１〜１００μｍ、好ま
しくは２〜２５μｍ、さらに好ましくは４〜１２μｍ程
度である。
は、露光の際に使われる紫外線の透過率の高いもので有
れば良く、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネ
ート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリエチレンナフタレート、ポリスチレン等の透明
なプラスチックフィルムが用いられる。特に二軸延伸さ
れたポリエチレンテレフタレートフィルムが強度、耐熱
性、寸法安定性に優れているために好適に使用される。
透明支持体２の厚みは、解像度に影響するため薄い方が
好ましいが、取扱性も考慮して、１〜１００μｍ、好ま
しくは２〜２５μｍ、さらに好ましくは４〜１２μｍ程
度である。
【００１１】透明支持体２上の一方の面に設けられるレ
ジスト付着防止層３は、その表面エネルギーが低いため
にレジストの付着が防止される、若しくは、仮に付着し
た場合においても容易に離型されるような性質を有する
ものであれば特に限定されず、従来公知の、離型性を有
する樹脂や、バインダー樹脂に離型剤を混合したものが
使用できる。
ジスト付着防止層３は、その表面エネルギーが低いため
にレジストの付着が防止される、若しくは、仮に付着し
た場合においても容易に離型されるような性質を有する
ものであれば特に限定されず、従来公知の、離型性を有
する樹脂や、バインダー樹脂に離型剤を混合したものが
使用できる。
【００１２】離型性を有する樹脂としては、シロキサン
結合を有する有機化合物から誘導される単位若しくはフ
ッ素原子含有単量体から誘導される単位を成分として有
する樹脂が用いられる。
結合を有する有機化合物から誘導される単位若しくはフ
ッ素原子含有単量体から誘導される単位を成分として有
する樹脂が用いられる。
【００１３】このようなシロキサン結合を有する有機化
合物から誘導される単位若しくはフッ素原子含有単量体
から誘導される単位を成分として有する樹脂としては、
シリコーンモノマー若しくはパーフルオロアルキルモノ
マー等とアクリル系、ウレタン系、ポリエステル系モノ
マー等とを共重合により合成した樹脂が好適に用いられ
る。
合物から誘導される単位若しくはフッ素原子含有単量体
から誘導される単位を成分として有する樹脂としては、
シリコーンモノマー若しくはパーフルオロアルキルモノ
マー等とアクリル系、ウレタン系、ポリエステル系モノ
マー等とを共重合により合成した樹脂が好適に用いられ
る。
【００１４】バインダー樹脂としては、熱可塑性樹脂、
熱硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂等の従来公知の樹
脂が使用できる。
熱硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂等の従来公知の樹
脂が使用できる。
【００１５】熱可塑性樹脂としては、アセチルセルロー
ス、ニトロセルロース、アセチルブチルセルロース、エ
チルセルロース、メチルセルロース等のセルロース誘導
体、酢酸ビニル及びその共重合体、塩化ビニル及びその
共重合体、塩化ビニリデン及びその共重合体等のビニル
樹脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等
のアセタール樹脂、アクリル樹脂及びその共重合体、メ
タクリル樹脂及びその共重合体等のアクリル樹脂、ポリ
スチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポ
リカーボネート樹脂等が挙げられる。
ス、ニトロセルロース、アセチルブチルセルロース、エ
チルセルロース、メチルセルロース等のセルロース誘導
体、酢酸ビニル及びその共重合体、塩化ビニル及びその
共重合体、塩化ビニリデン及びその共重合体等のビニル
樹脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等
のアセタール樹脂、アクリル樹脂及びその共重合体、メ
タクリル樹脂及びその共重合体等のアクリル樹脂、ポリ
スチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポ
リカーボネート樹脂等が挙げられる。
【００１６】熱硬化型樹脂としては、メラミン樹脂、エ
ポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、ウレタン系、アク
リル系、ポリエステル系、フェノール系等の架橋性樹脂
が挙げられる。
ポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、ウレタン系、アク
リル系、ポリエステル系、フェノール系等の架橋性樹脂
が挙げられる。
【００１７】電離放射線硬化型樹脂としては、電離放射
線（紫外線若しくは電子線）の照射によって架橋硬化す
ることができるエポキシ系アクリレート、ポリエステル
系アクリレート、ポリウレタン系アクリレート、多価ア
ルコール系アクリレート等のアクリル基を有する樹脂、
ポリチオールポリエン樹脂等の光重合性プレポリマーを
用いることができる。これらは単独でも使用可能である
が、光重合性モノマーを加えることもできるほか、光重
合性開始剤や紫外線増感剤等も添加可能である。
線（紫外線若しくは電子線）の照射によって架橋硬化す
ることができるエポキシ系アクリレート、ポリエステル
系アクリレート、ポリウレタン系アクリレート、多価ア
ルコール系アクリレート等のアクリル基を有する樹脂、
ポリチオールポリエン樹脂等の光重合性プレポリマーを
用いることができる。これらは単独でも使用可能である
が、光重合性モノマーを加えることもできるほか、光重
合性開始剤や紫外線増感剤等も添加可能である。
【００１８】離型剤としては、ジメチルシロキサン等の
比較的低重合度のシリコーン系添加剤等が用いられる
他、上記離型性を有する樹脂等も使用可能である。
比較的低重合度のシリコーン系添加剤等が用いられる
他、上記離型性を有する樹脂等も使用可能である。
【００１９】また、レジスト付着防止層３には真空プリ
ンターでレジスト付着防止層３をフォトレジストに密着
させ露光する際の密着性を良好にするため、透明性及び
光を乱反射させない範囲で顔料などを添加しても良い。
ンターでレジスト付着防止層３をフォトレジストに密着
させ露光する際の密着性を良好にするため、透明性及び
光を乱反射させない範囲で顔料などを添加しても良い。
【００２０】レジスト付着防止層３の厚みとしては、透
明性（解像度）を維持しつつ、必要とされる離型性を得
るため、０．０５〜５μｍ、好ましくは０．１〜２μｍ
の範囲が採用される。
明性（解像度）を維持しつつ、必要とされる離型性を得
るため、０．０５〜５μｍ、好ましくは０．１〜２μｍ
の範囲が採用される。
【００２１】透明支持体２のレジスト付着防止層３が設
けられる反対面に設けられる粘着層４は、一般に使用さ
れるアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤などが使用され
る。また、帯電防止などの性能を持つ粘着剤を使用して
も良い。粘着層４の厚みとしては、透明性（解像度）を
阻害せず、適度な粘着性が得られるよう、０．５〜２０
μｍ、好ましくは１〜１０μｍ、さらに好ましくは２〜
４μｍの範囲が採用される。
けられる反対面に設けられる粘着層４は、一般に使用さ
れるアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤などが使用され
る。また、帯電防止などの性能を持つ粘着剤を使用して
も良い。粘着層４の厚みとしては、透明性（解像度）を
阻害せず、適度な粘着性が得られるよう、０．５〜２０
μｍ、好ましくは１〜１０μｍ、さらに好ましくは２〜
４μｍの範囲が採用される。
【００２２】本発明におけるセパレーター５としては、
本発明の表面保護フィルム１がプリント基板作製工程な
どにおいて粘着性を有するフォトレジストを露光する際
の原稿表面に好適に用いられるために、異物などの混入
する恐れの少ないクリーンな環境を維持する必要がある
観点から、紙基材を用いたタイプのものよりは例えばポ
リエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン等のプラス
チックフィルムが好適に使用される。
本発明の表面保護フィルム１がプリント基板作製工程な
どにおいて粘着性を有するフォトレジストを露光する際
の原稿表面に好適に用いられるために、異物などの混入
する恐れの少ないクリーンな環境を維持する必要がある
観点から、紙基材を用いたタイプのものよりは例えばポ
リエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン等のプラス
チックフィルムが好適に使用される。
【００２３】そもそもセパレーター５は粘着層４の粘着
性によって作業性を低下させないためのものであり、粘
着層４と接する面には離型性を向上させるために前記離
型剤等により離型処理が施されていることが好ましい。
また、セパレーター５の粘着層４と接する面は平滑性を
有していることが望ましい。セパレーター５の粘着層４
と接する面の平滑性が高いことにより、離型性が向上す
ると共に、粘着層４のセパレーター５との接触面も平滑
になり、粘着層４の透明性の維持が図られる。この効果
は、粘着層４が１０μｍ以下、特に４μｍ以下の膜厚の
時に有用である。
性によって作業性を低下させないためのものであり、粘
着層４と接する面には離型性を向上させるために前記離
型剤等により離型処理が施されていることが好ましい。
また、セパレーター５の粘着層４と接する面は平滑性を
有していることが望ましい。セパレーター５の粘着層４
と接する面の平滑性が高いことにより、離型性が向上す
ると共に、粘着層４のセパレーター５との接触面も平滑
になり、粘着層４の透明性の維持が図られる。この効果
は、粘着層４が１０μｍ以下、特に４μｍ以下の膜厚の
時に有用である。
【００２４】しかし、一般にこのような表面の平滑性が
高いプラスチックフィルムのセパレーター５は、粘着層
４と接する側の表面のみが平滑になるわけではなく、も
う一方の表面も平滑となっている。このため、その表面
が滑り易くなり、表面保護フィルム１を製造してロール
状に巻取る際に、そのセパレーター５の表面とレジスト
付着防止層３の表面で滑りが生じてしまい、巻きズレが
生じ易くなるという問題点を発生させてしまう。
高いプラスチックフィルムのセパレーター５は、粘着層
４と接する側の表面のみが平滑になるわけではなく、も
う一方の表面も平滑となっている。このため、その表面
が滑り易くなり、表面保護フィルム１を製造してロール
状に巻取る際に、そのセパレーター５の表面とレジスト
付着防止層３の表面で滑りが生じてしまい、巻きズレが
生じ易くなるという問題点を発生させてしまう。
【００２５】そこで本発明におけるセパレーター５に
は、粘着層４と接する面とは反対の面に防滑処理６を施
すことが有効である。
は、粘着層４と接する面とは反対の面に防滑処理６を施
すことが有効である。
【００２６】このように防滑処理６を施したセパレータ
ー５を用いることで、フォトマスク用の表面保護フィル
ム１の生産性を改善し、かつ、表面保護フィルム１の巻
きズレにより起こるレジスト付着防止層３の傷発生を防
止することができるようになる。
ー５を用いることで、フォトマスク用の表面保護フィル
ム１の生産性を改善し、かつ、表面保護フィルム１の巻
きズレにより起こるレジスト付着防止層３の傷発生を防
止することができるようになる。
【００２７】この防滑処理６を施す方法としては、セパ
レーター表面自体にエンボス処理やサンドブラスト処理
等の表面形状に凹凸を設けるような処理を施す方法（図
１）が採用できるほか、コーティング等により防滑層６
１を設ける方法（図２）が採用できる。
レーター表面自体にエンボス処理やサンドブラスト処理
等の表面形状に凹凸を設けるような処理を施す方法（図
１）が採用できるほか、コーティング等により防滑層６
１を設ける方法（図２）が採用できる。
【００２８】このような防滑層６１としては、上記同様
に表面形状に凹凸を設けて投錨効果による防滑性を付与
する凹凸コーティング層や、弾性変形が復元しようとす
る圧力の効果により防滑性を付与する弾性コーティング
層等が挙げられる。
に表面形状に凹凸を設けて投錨効果による防滑性を付与
する凹凸コーティング層や、弾性変形が復元しようとす
る圧力の効果により防滑性を付与する弾性コーティング
層等が挙げられる。
【００２９】このような投錨効果による防滑性を付与す
る凹凸コーティング層としては、前記レジスト付着防止
層３に使用したような熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電
離放射線硬化型樹脂等のバインダー樹脂に体質顔料及び
／又は合成樹脂粒子を混合して形成する微細な凹凸マッ
トを有する樹脂膜等が挙げられる。
る凹凸コーティング層としては、前記レジスト付着防止
層３に使用したような熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電
離放射線硬化型樹脂等のバインダー樹脂に体質顔料及び
／又は合成樹脂粒子を混合して形成する微細な凹凸マッ
トを有する樹脂膜等が挙げられる。
【００３０】体質顔料としては、炭酸カルシウム、硫酸
バリウム、シリカ、水酸化アルミニウム、カオリンクレ
ー、タルク等が挙げられる。合成樹脂粒子としては、ア
クリル樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、ポリウレ
タン樹脂粒子、ポリエチレン樹脂粒子、ベンゾグアナミ
ン樹脂粒子、エポキシ樹脂粒子等が挙げられる。これら
の体質顔料及び／又は合成樹脂粒子の粒径としては、
０．１〜１０μｍのものが使用できる。
バリウム、シリカ、水酸化アルミニウム、カオリンクレ
ー、タルク等が挙げられる。合成樹脂粒子としては、ア
クリル樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、ポリウレ
タン樹脂粒子、ポリエチレン樹脂粒子、ベンゾグアナミ
ン樹脂粒子、エポキシ樹脂粒子等が挙げられる。これら
の体質顔料及び／又は合成樹脂粒子の粒径としては、
０．１〜１０μｍのものが使用できる。
【００３１】弾性変形が復元しようとする圧力の効果に
より防滑性を付与する弾性コーティング層としては、前
記レジスト付着防止層３に使用したような熱可塑性樹
脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化型樹脂等のバインダ
ー樹脂に発泡性マイクロカプセルを混合して形成する樹
脂膜等が挙げられる。
より防滑性を付与する弾性コーティング層としては、前
記レジスト付着防止層３に使用したような熱可塑性樹
脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化型樹脂等のバインダ
ー樹脂に発泡性マイクロカプセルを混合して形成する樹
脂膜等が挙げられる。
【００３２】このような発泡性マイクロカプセルとして
は、例えば、ｎ−ブタン、ｉ−ブタン、ペンタン、ネオ
ペンタンのような低沸点の炭化水素を内包し、カプセル
の壁膜剤として塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メ
チルメタクリレートのような（メタ）アクリル酸エステ
ル、スチレンのような芳香族ビニル化合物等を主成分と
する熱可塑性樹脂を使用したマイクロカプセル等が挙げ
られる。
は、例えば、ｎ−ブタン、ｉ−ブタン、ペンタン、ネオ
ペンタンのような低沸点の炭化水素を内包し、カプセル
の壁膜剤として塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メ
チルメタクリレートのような（メタ）アクリル酸エステ
ル、スチレンのような芳香族ビニル化合物等を主成分と
する熱可塑性樹脂を使用したマイクロカプセル等が挙げ
られる。
【００３３】以上のようなレジスト付着防止層３、粘着
層４、防滑層６１を透明支持体２やセパレーター５に設
ける際には、適宜必要に応じて希釈溶媒、分散剤、レベ
リング剤、帯電防止剤等を添加した後に、従来公知のコ
ーティング方法により設けることができるほか、各層と
透明支持体２やセパレーター５との間には接着性を向上
させるためにコロナ放電、下引き層等の易接着処理を施
すことも有効である。
層４、防滑層６１を透明支持体２やセパレーター５に設
ける際には、適宜必要に応じて希釈溶媒、分散剤、レベ
リング剤、帯電防止剤等を添加した後に、従来公知のコ
ーティング方法により設けることができるほか、各層と
透明支持体２やセパレーター５との間には接着性を向上
させるためにコロナ放電、下引き層等の易接着処理を施
すことも有効である。
【００３４】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。なお、本
実施例の「％」、「部」とあるのは特に断りのない限り
重量基準である。
実施例の「％」、「部」とあるのは特に断りのない限り
重量基準である。
【００３５】［実施例１］厚み６μｍのポリエチレンテ
レフタレートフィルム２（ルミラー：東レ社）の片面に
下記粘着層用塗布液を塗布し、乾燥することにより乾燥
塗膜厚約２μｍの粘着層４を形成し、片面が離型処理さ
れた厚み２５μｍのポリエチレンテレフタレートセパレ
ーター５（ＭＲＢ：三菱化学ポリエステルフィルム社）
の離型処理面に貼り合わせた。
レフタレートフィルム２（ルミラー：東レ社）の片面に
下記粘着層用塗布液を塗布し、乾燥することにより乾燥
塗膜厚約２μｍの粘着層４を形成し、片面が離型処理さ
れた厚み２５μｍのポリエチレンテレフタレートセパレ
ーター５（ＭＲＢ：三菱化学ポリエステルフィルム社）
の離型処理面に貼り合わせた。
【００３６】次いで、上記貼り合わせ基材のセパレータ
ー５側の面にサンドブラスト処理６を施した後、ポリエ
チレンテレフタレートフィルム２側の面に下記レジスト
付着防止層用塗布液を塗布し、乾燥することにより乾燥
塗膜厚約１μｍのレジスト付着防止層３を形成して、図
１の構造の表面保護フィルム１を作製した。
ー５側の面にサンドブラスト処理６を施した後、ポリエ
チレンテレフタレートフィルム２側の面に下記レジスト
付着防止層用塗布液を塗布し、乾燥することにより乾燥
塗膜厚約１μｍのレジスト付着防止層３を形成して、図
１の構造の表面保護フィルム１を作製した。
【００３７】 〈粘着層用塗布液〉 ・アクリル酸エステル共重合体（固形分４０％） （アロンタック SCL-200：東亞合成化学社） １０部 ・トルエン １０部 ・酢酸エチル １０部
【００３８】
【００３９】［実施例２］実施例１のサンドブラスト処
理６を施す代わりに、下記防滑層用塗布液ａを塗布し、
乾燥することにより乾燥塗膜厚約１μｍの防滑層６１を
形成した以外は、実施例１と同様にして、図２の構造の
表面保護フィルム１を作製した。
理６を施す代わりに、下記防滑層用塗布液ａを塗布し、
乾燥することにより乾燥塗膜厚約１μｍの防滑層６１を
形成した以外は、実施例１と同様にして、図２の構造の
表面保護フィルム１を作製した。
【００４０】
【００４１】［実施例３］実施例１のサンドブラスト処
理６を施す代わりに、下記防滑層用塗布液ｂを塗布し、
乾燥することにより乾燥塗膜厚約１μｍの防滑層６１を
形成した以外は、実施例１と同様にして、図２の構造の
表面保護フィルム１を作製した。
理６を施す代わりに、下記防滑層用塗布液ｂを塗布し、
乾燥することにより乾燥塗膜厚約１μｍの防滑層６１を
形成した以外は、実施例１と同様にして、図２の構造の
表面保護フィルム１を作製した。
【００４２】
【００４３】［比較例１］実施例１のサンドブラスト処
理６を行わなかった以外は、実施例１と同様にして表面
保護フィルムを作製した。
理６を行わなかった以外は、実施例１と同様にして表面
保護フィルムを作製した。
【００４４】比較例１で得られた表面保護フィルムは、
セパレーター５に防滑処理６を施さなかったため、表面
保護フィルムを製造してロール状に巻取る際に、巻きズ
レが生じ易くなり、生産スピードの向上が図れなかっ
た。
セパレーター５に防滑処理６を施さなかったため、表面
保護フィルムを製造してロール状に巻取る際に、巻きズ
レが生じ易くなり、生産スピードの向上が図れなかっ
た。
【００４５】また、露光用原稿上に表面保護フィルムを
設ける前に、表面保護フィルムが巻ズレを起こしてレジ
スト付着防止層に傷を生じてしまった。
設ける前に、表面保護フィルムが巻ズレを起こしてレジ
スト付着防止層に傷を生じてしまった。
【００４６】一方、実施例１乃至３で得られた表面保護
フィルム１は、セパレーター５に防滑処理６（防滑層６
１）を施したことにより、表面保護フィルム１を製造し
てロール状に巻取る際に、巻きズレが生じなくなり、巻
き取りスピードを防滑処理６を設ける前の倍以上に向上
させられるようになった結果、生産スピードを倍以上に
することができた。また、巻ズレを生じないためレジス
ト付着防止層３に傷が入ることがなかった。
フィルム１は、セパレーター５に防滑処理６（防滑層６
１）を施したことにより、表面保護フィルム１を製造し
てロール状に巻取る際に、巻きズレが生じなくなり、巻
き取りスピードを防滑処理６を設ける前の倍以上に向上
させられるようになった結果、生産スピードを倍以上に
することができた。また、巻ズレを生じないためレジス
ト付着防止層３に傷が入ることがなかった。
【００４７】
【発明の効果】本発明の表面保護フィルムは、透明支持
体上の一方の面にレジスト付着防止層が設けられ、反対
面に粘着層及びセパレーターがこの順に設けられてなる
表面保護フィルムであって、前記セパレーターの前記粘
着層と接する面とは反対の面に防滑処理が施されてなる
ことにより、表面保護フィルムの生産性を改善し、且つ
表面保護フィルムの巻きズレにより起こるレジスト付着
防止層の傷や表面保護フィルムの巻皺の発生を防止する
表面保護フィルムを提供することができる。
体上の一方の面にレジスト付着防止層が設けられ、反対
面に粘着層及びセパレーターがこの順に設けられてなる
表面保護フィルムであって、前記セパレーターの前記粘
着層と接する面とは反対の面に防滑処理が施されてなる
ことにより、表面保護フィルムの生産性を改善し、且つ
表面保護フィルムの巻きズレにより起こるレジスト付着
防止層の傷や表面保護フィルムの巻皺の発生を防止する
表面保護フィルムを提供することができる。
【図１】 本発明の表面保護フィルムの一実施例を示す
断面図。
断面図。
【図２】 本発明の表面保護フィルムの他の実施例を示
す断面図。
す断面図。
１・・・・表面保護フィルム ２・・・・透明支持体 ３・・・・レジスト付着防止層 ４・・・・粘着層 ５・・・・セパレーター ６・・・・防滑処理 ６１・・・防滑層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 井後 一也 三重県員弁郡北勢町大字京ヶ野新田字溜尻 73−５ 株式会社きもと三重工場内 Ｆターム(参考） 2H095 AD00
Claims (1)
- 【請求項１】透明支持体上の一方の面にレジスト付着防
止層が設けられ、反対面に粘着層及びセパレーターがこ
の順に設けられてなる表面保護フィルムであって、前記
セパレーターの前記粘着層と接する面とは反対の面に防
滑処理が施されてなることを特徴とする表面保護フィル
ム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6506799A JP4394194B2 (ja) | 1999-03-11 | 1999-03-11 | 表面保護フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6506799A JP4394194B2 (ja) | 1999-03-11 | 1999-03-11 | 表面保護フィルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000258894A true JP2000258894A (ja) | 2000-09-22 |
| JP4394194B2 JP4394194B2 (ja) | 2010-01-06 |
Family
ID=13276247
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6506799A Expired - Fee Related JP4394194B2 (ja) | 1999-03-11 | 1999-03-11 | 表面保護フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4394194B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002173651A (ja) * | 2000-12-05 | 2002-06-21 | Kimoto & Co Ltd | 表面保護フィルム |
| JP2005181931A (ja) * | 2003-12-24 | 2005-07-07 | Kimoto & Co Ltd | 表面保護膜および表面保護フィルム |
| CN110204763A (zh) * | 2019-07-02 | 2019-09-06 | 中山百美科电子材料有限公司 | 一种不脱胶的鞋底防滑保护膜及其制备方法 |
| WO2022044557A1 (ja) * | 2020-08-31 | 2022-03-03 | 富士フイルム株式会社 | フォトマスク、露光方法、樹脂パターンの製造方法及びフォトマスクの製造方法 |
-
1999
- 1999-03-11 JP JP6506799A patent/JP4394194B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002173651A (ja) * | 2000-12-05 | 2002-06-21 | Kimoto & Co Ltd | 表面保護フィルム |
| JP4716557B2 (ja) * | 2000-12-05 | 2011-07-06 | 株式会社きもと | 表面保護フィルム |
| JP2005181931A (ja) * | 2003-12-24 | 2005-07-07 | Kimoto & Co Ltd | 表面保護膜および表面保護フィルム |
| CN110204763A (zh) * | 2019-07-02 | 2019-09-06 | 中山百美科电子材料有限公司 | 一种不脱胶的鞋底防滑保护膜及其制备方法 |
| WO2022044557A1 (ja) * | 2020-08-31 | 2022-03-03 | 富士フイルム株式会社 | フォトマスク、露光方法、樹脂パターンの製造方法及びフォトマスクの製造方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4394194B2 (ja) | 2010-01-06 |
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